TWI400496B - 導光板與背光模組 - Google Patents

Description

導光板與背光模組

本發明是有關於一種導光板與背光模組，且特別是有關於一種在出光面與反射面上設有多個延伸方向相同之凹槽的導光板，以及應用此導光板的背光模組。

習知之導光板的設計通常包括有入光面、出光面以及反射面。光源所提供之光線由導光板之入光面進入導光板中，經過導光板之混光後，由導光板之出光面提供均勻的面光源，其中為了使得經過導光板內部之光源能夠更均勻地混合，通常會在導光板之入光面、出光面或反射面設置有許許多多的微結構。而在諸多的設計中，為了使得光源具有較佳的導向性，故在導光板之出光面以及反射面設置有多個微溝槽，而導光板出光面距離光源的遠近，則會影響出光面射出之光線的強度，通常出光面上距離光源越遠的區域射出之光線的強度越弱，故為了調整出光面射出之光線強度的一致性，通常設置於出光面之微溝槽的延伸方向係不同於設置在反射面之微溝槽的延伸方向，一般出光面以及反射面上之微溝槽的延伸方向係互相垂直。

上述之設計雖然具有較佳之光源導向性，但是卻無法有效的將入射至導光板內部之光源均勻化。光源所提供之光線由導光板之入光面進入導光板，假設光線與反射面設置之微溝槽作用後，係沿著X軸方向擴散，由於設置在出光面之微溝槽延伸方向與設置在反射面之微溝槽互相垂直，故由反射面擴散至出光面之光線係沿著Y軸方向擴散。由於上述之理由，光源提供至導光板的光線在X軸向以及Y軸向均只經過一次的擴散，故無法有效的將入射至導光板內部之光源均勻化。

因此需要提供一種新穎之導光板，可提供較均勻的面光源至應用此導光板的背光模組。

因此，本發明之目的是在提供一種導光板及採用此導光板之背光模組，利用導光板之出光面與反射面設置同向延伸的凹槽，並利用凹槽中多個不同深度的特性，使導光板可提供較均勻的面光源，而採用此導光板之背光模組則具有較佳之光學均齊度。

根據本發明之一實施例，提供一種包括出光面、反射面以及多個微結構之導光板。出光面上設有直線延伸的多個第一凹槽，其中多個第一凹槽的剖面輪廓係彼此相似，且多個第一凹槽具有實質相同的延伸方向。反射面係與出光面相對，其中反射面上設有直線延伸的多個第二凹槽，且多個第二凹槽的剖面輪廓係彼此相似，多個第二凹槽具有實質相同的延伸方向，而第二凹槽的延伸方向實質相同於第一凹槽的延伸方向。每個第一或第二凹槽具有多個不同的深度。多個微結構係設置在出光面或設置在反射面。

根據本發明之另一實施例，提供一種背光模組。此背光模組包括：殼體、設置於殼體中之導光板與一光源。導光板包括出光面、反射面、入光面以及多個微結構。出光面上設有直線延伸的多個第一凹槽，其中多個第一凹槽的剖面輪廓係彼此相似，且多個第一凹槽具有實質相同的延伸方向。反射面係與出光面相對，反射面上設有直線延伸的多個第二凹槽，其中多個第二凹槽的剖面輪廓係彼此相似，且多個第二凹槽具有實質相同的延伸方向，而第二凹槽的延伸方向實質相同於第一凹槽的延伸方向，其中每個第一或第二凹槽具有多個不同的深度。入光面係鄰設於出光面與反射面。而多個微結構設置在導光板的出光面或反射面上。光源設置於殼體中且鄰設於導光板的入光面。

本發明之優點在於：利用既有之生產技術，藉由簡單的結構設計變更，使得導光板可提供較均勻的面光源，同時可避免增加額外的生產成本。

請參照第1圖，其係繪示根據本發明之第一實施例之背光模組的示意圖。背光模組100包括殼體200、導光板300與至少一光源400。殼體200係用以容設導光板300與光源400，並提供保護之功能，因此殼體200可由金屬材質製造而成，利用金屬具有較佳強度的機械材料特性來達到保護之目的，另外，殼體200亦可由其他如強化塑膠等材料製造而成，藉此減少背光模組100整體的重量。

在第一實施例中，背光模組100係屬於側光式入光(Edge Lighting)之背光模組，而導光板300為平板形結構，並設置於殼體200中。在其他特定之實施例中，本發明之背光模組亦可為直下式入光(Bottom Lighting)之背光模組，而導光板之幾何形狀可為楔形板結構。

請同時參照第2A至2C圖，其係分別繪示第一實施例中導光板的立體示意圖、側視示意圖以及俯視示意圖。在本實施例中，第2A圖繪示有後續即將說明之微結構307，而為了圖式之清晰起見，故微結構307並未繪示於第2B以及2C圖中。導光板300的之出光面302設有多個直線延伸的第一凹槽308，此些第一凹槽308的剖面輪廓均為V字型(參見第2B圖)且具有相同的夾角角度，故此些第一凹槽308的剖面輪廓彼此相似，另外，多個第一凹槽308具有實質相同的延伸方向。反射面304則設置於導光板300之底面而與出光面302相對，其中反射面304上設有多個直線延伸的第二凹槽310，此些第二凹槽310的剖面輪廓均為V字型(參見第2B圖)且具有相同的夾角角度，故此些第二凹槽310的剖面輪廓彼此相似，此外，多個第二凹槽310具有實質相同的延伸方向，而第二凹槽310的延伸方向更實質相同於第一凹槽308的延伸方向。在第一實施例中，第一凹槽308與第二凹槽310係以實質垂直於入光面306之延伸方向，由入光面306朝相對於入光面306之另一側面延伸，但第一凹槽308與第二凹槽310之延伸方向並不以垂直於入光面306為限。

為了使得導光板300能夠將來自於光源400之光線充分混合，藉以產生均勻之面光源，故在第一實施例中，設置於出光面302之每個第一凹槽308具有多個不同的深度，如第2D圖所示之深度308a以及深度308b，其中第2D圖係繪示沿著第2C圖中線AA’的剖面示意圖。而在特定實施例中，本發明之第二凹槽(例如第2A與2B圖所示之第二凹槽310)亦可包括如上所述之多個不同深度。由於每個第一凹槽308的剖面輪廓相似，故當深度308a與深度308b不同時，第一凹槽308將在導光板300之出光面302形成不同的凹槽寬度(參見第2C圖)。此設計之優點在於：由於凹槽寬度的變化使得第一凹槽308形成有如第2C圖所示之弧線，具有弧線之第一凹槽308可將與其作用之入射光線擴散至如箭號所示之多個方向，使得光線之混合更佳均勻。反觀第2A至2C圖所示另一凹槽312，雖同樣為V字型凹槽，但是凹槽312之各點的深度相同，故於導光板300之出光面302形成寬度一致之凹槽312(參見第2C圖)，故與其作用之入射光線僅能如箭號所示依單一方向擴散。

在第一實施例中，導光板300之入光面306係與出光面302與反射面304相鄰，且光源400除設置於殼體中，更設置在與入光面306相鄰之位置上。另外，通常導光板出光面上距離光源越遠的區域射出之光線的強度越弱，故為了調整出光面射出之光線強度的一致性，在本實施例中，導光板300於出光面302上設置有多個凸起且大小一致之微結構307，利用微結構307由導光板300之入光面306朝相對之另一側面漸密之排列，來使得導光板出光面射出之光線強度能夠一致。而在特定實施例中，本發明之導光板亦可將多個微結構設置於反射面，例如第2A圖所示之反射面304，另外，微結構可設計成凹陷且大小不同之結構，利用微結構之排列疏密以及微結構大小不同之設計，來達到出光面射出之光線強度一致的目的。導光板微結構製造技術一般可以分成兩大類：印刷式及非印刷式。印刷式係利用網印方式將油墨印在導光板上，製作微結構形狀及分佈。非印刷式則直接以射出成型技術，將微結構設計在模具內，在製成上較為簡化，而且精密度高，係目前導光板技術主流。另外，非印刷式製作方法更包括有精密機械加工。

在第一實施例中，由第一凹槽308或第二凹槽310的縱向視之，每個第一凹槽308與第二凹槽310的橫切面均為V字型凹槽。請參照第3A圖，其係繪示根據本發明之第二實施例之導光板的側視示意圖。在第二實施例中，由第一凹槽308’或第二凹槽310’的縱向視之，每個第一凹槽308’與第二凹槽310’的橫切面係實質為U字型(類U字型)凹槽。而在第3B圖，其係繪示根據本發明之第三實施例之導光板的側視示意圖。在第三實施例中，由第一凹槽308’’或第二凹槽310’’的縱向視之，每個第一凹槽308’’與第二凹槽310’’的橫切面亦為類U字型凹槽，其中此類U字型凹槽之輪廓係由直線314、弧線316與直線318依序接合所形成。在第一、第二及第三實施例中，出光面之第一凹槽與反射面之第二凹槽的剖面輪廓均相同，亦即第一凹槽與第二凹槽均為V字型或類U字型，但並不以此為限，例如在特定之實施例中，出光面之第一凹槽與反射面之第二凹槽的的橫切面可分別為V字型與類U字型。在第一實施例中，出光面之第一凹槽均為V字型，而在特定之實施例中，第一凹槽可包括兩種不同型式之凹槽，例如同時包括V字型凹槽與類U字型凹槽。

請參照第4A以及4B圖，其係分別繪示根據本發明之第四實施例之導光板出光面以及反射面的上視圖。在第四實施例中，導光板500包括有出光面502、反射面504以及鄰設於出光面502與反射面504之入光面506。在出光面502及反射面504上分別具有第一區域512及第二區域514，其中第二區域514與第一區域512之設置位置互相對應，亦即第二區域514與第一區域512均鄰設於入光面506。在本實施例中，第一區域512與第二區域514之面積更實質分別佔據出光面502與反射面504之面積的一半，但在其他特定實施例中，第一區域與第二區域佔據出光面與反射面之面積的比例並不相同，例如第一區域係佔據出光面之面積的三分之一，而第二區域則佔據反射面之面積的二分之一。

在第四實施例中，第一凹槽508係直線延伸於出光面502之第一區域512，且第二凹槽510直線延伸於反射面504之第二區域514，另外，根據上述之理由，為了使得導光板出光面射出之光線強度能夠一致，故於第一區域512或第二區域514上設置多個微結構(未繪示)。在第四實施例中，導光板500之第一區域512之面積小於出光面502之面積，第二區域514之面積小於反射面504之面積。而根據上述第一區域以及第二區域係分別用以設置第一凹槽與第二凹槽的定義，在前述第2A至2D圖所示之第一實施例中，導光板300之第一區域之面積即為出光面302之面積，且第二區域之面積為反射面304之面積。

由於本發明出光面之第一凹槽與反射面之第二凹槽具有相同之變化，故為了說明方便起見，以下僅以出光面之第一凹槽為例來說明凹槽幾何形狀以及配置之變化。而每個第一凹槽之變化亦具有有相同之變化，故以下僅以單一第一凹槽來說明凹槽幾何形狀之變化，第一凹槽設置之數量與位置可視導光板所需之光學特性加以調整變化。

請參照第5A圖，其係繪示根據本發明第五實施例之第一凹槽之縱切面的剖面示意圖，其中第五實施例之剖切方向係相同於第2D圖所示之剖切方向。在第五實施例之第一凹槽602之中，第一凹槽602之深度呈週期性變化。第一凹槽602包括有四個相對低陷的凹陷區，此四個凹陷區之深度依序分別為深度602a、深度602b、深度602a以及深度602b，故第一凹槽602之深度係由第5A圖之一側朝另一側做週期性變化。在第五實施例之第一凹槽602中，分別具有深度602a及深度602b之相鄰二凹陷區之間，第一凹槽602之深度係呈現平滑地變化，且由於深度的變化，第一凹槽602之底部形成如第5A圖所示之曲線，其中此曲線包括有弧線602c。

請參照第5B圖，其係繪示根據本發明第六實施例之第一凹槽之縱切面的剖面示意圖，其中第六實施例之剖切方向係相同於第2D圖所示之剖切方向。在第5B圖所示之在第六實施例的第一凹槽604中，其深度由第5B圖之一側朝另一側做非週期性變化。而在第一凹槽604之中，包括有相對低陷的凹陷區604a、凹陷區604b以及凹陷區604c。在相鄰之凹陷區604a與凹陷區604b之間，第一凹槽604之深度呈現平滑地變化，且位在此一區間之第一凹槽604之底部形成如第5B圖所示的曲線，此一曲線包括互相鄰接的弧線604d與直線604e。另外，在凹陷區604b與凹陷區604c之間，第一凹槽604之深度則呈現非平滑地變化，且第一凹槽604之底部所形成之曲線包括互相鄰接之直線604f與直線604g。

請參照第5C圖，其係繪示根據本發明第七實施例之第一凹槽之縱切面的剖面示意圖，其中第七實施例之剖切方向係相同於第2D圖所示之剖切方向。在第七實施例之第一凹槽606中，其深度由一側端朝另一側端做非週期性變化，其中特定之相鄰二凹陷區之間，第一凹槽606之底部形成如第5C圖所示的曲線，此曲線包括依序接合之直線606a、直線606b與直線606c，且直線606b係實質垂直於直線606a與直線606c，形成一非平滑地變化的方形波曲線。而在另外二相鄰凹陷區之間，直線606d並未與直線606c以及直線606e互相垂直，直線606d為一傾斜直線。在以上第5A至5C圖中所述之第五至七實施例之相鄰二凹陷區之間，第一凹槽602、604及606之底部所形成之曲線的各種變化均可應用於深度做週期性變化或非週期性變化的第一凹槽中，而不侷限在相對應之實施例中。

請參照第6A圖，其係繪示根據本發明第八實施例之第一凹槽的俯視示意圖。在第八實施例中，導光板700設置第一凹槽之第一區域的面積等於出光面702之面積，亦即出光面702整體均定義為第一區域。在本實施例中，多個第一凹槽708沿著第一區域上的多條直線704設置，且每條直線704上分布有二第一凹槽708，而反觀第2C圖所示之第一實施例，其中單一第一凹槽308延伸貫穿整個出光面302(第一區域)，亦即在出光面302之一直線上僅設置單一第一凹槽308。

在第八實施例中，沿著相鄰二直線704上所設置的多個第一凹槽708係以一對一方式設置在相對應的位置上，且在此些第一凹槽708中，互相對應的第一凹槽708係實質相同，在第八實施例中，第一凹槽708具有兩種不同之型式，而在特定之實施例中，第一凹槽708可包括更多不同之型式或僅包括單一之型式。

請參照第6B圖，其係繪示根據本發明第九實施例之第一凹槽的俯視示意圖。第九實施例中，導光板700’之多個第一凹槽708’沿著出光面702’(第一區域)之多條直線704’設置，其中分設於第6B圖左右之二直線704’上的第一凹槽708’係以一對一方式設置在相對應的位置，且互相對應之第一凹槽708’係實質相同。在上述第6A及6B圖之第八與第九實施例中，直線之設置數量可視所需加以調整，而不侷限於圖式所繪示之數量。

請參照第7圖，其係繪示根據本發明第十實施例之第一凹槽的俯視示意圖。在導光板800之出光面802上設置有三個第一凹槽808，其中分部於第7圖左邊之二個第一凹槽808彼此中心之間距離較為接近，故形成如虛線所圈示之互相干涉的結構。

請參照第8圖，其係繪示根據本發明第十一實施例之第一凹槽的俯視示意圖。在導光板900之出光面902上設置有二個第一凹槽908，其中分部於第8圖左邊之第一凹槽908之延伸方向係實質垂直於導光板900之入光面906，而分部於第8圖右邊之第一凹槽908之延伸方向則與導光板900之入光面906夾有一夾角θ，其中夾角θ係大於等於45度，且小於等於135度。

在特定之實施例中，本發明之背光模組更包括至少一光學膜片(未繪示)，藉由光學膜的設置來改善背光模組整體的光學特性，其中光學膜片係設置在導光板的出光面之上。而因應不同之光學目的的考量，光學膜片可為擴散片、稜鏡片、增亮膜、反射式增亮膜、非多層膜式反射偏光片或上述之任意組合。

雖然本發明已以實施方式揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何熟習此技藝者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作各種之更動與潤飾，因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。

100．．．背光模組

200．．．殼體

300．．．導光板

302．．．出光面

304．．．反射面

306．．．入光面

307．．．微結構

308．．．第一凹槽

308’．．．第一凹槽

308’’．．．第一凹槽

308a．．．深度

308b．．．深度

310．．．第二凹槽

310’．．．第二凹槽

310”‧‧‧第二凹槽

312‧‧‧凹槽

314‧‧‧直線

316‧‧‧弧線

318‧‧‧直線

400‧‧‧光源

500‧‧‧導光板

502‧‧‧出光面

504‧‧‧反射面

506‧‧‧入光面

508‧‧‧第一凹槽

510‧‧‧第二凹槽

512‧‧‧第一區域

514‧‧‧第一區域

602‧‧‧第一凹槽

602a‧‧‧深度

602b‧‧‧深度

602c‧‧‧弧線

604‧‧‧第一凹槽

604a‧‧‧凹陷部

604b‧‧‧凹陷部

604c‧‧‧凹陷部

604d‧‧‧弧線

604e‧‧‧直線

604f‧‧‧直線

604g‧‧‧直線

606‧‧‧第一凹槽

606a‧‧‧直線

606b‧‧‧直線

606c‧‧‧直線

606d‧‧‧直線

606e‧‧‧直線

700‧‧‧導光板

700’‧‧‧導光板

702‧‧‧出光面

702’‧‧‧出光面

704‧‧‧直線

704’‧‧‧直線

708‧‧‧第一凹槽

708’‧‧‧第一凹槽

800‧‧‧導光板

802‧‧‧出光面

808‧‧‧第一凹槽

900‧‧‧導光板

902‧‧‧出光面

906‧‧‧入光面

908‧‧‧第一凹槽

AA’‧‧‧線

θ‧‧‧夾角

為了能夠對本發明之觀點有較佳之理解，請參照上述之詳細說明並配合相應之圖式。要強調的是，根據工業之標準常規，附圖中之各種特徵並未依比例繪示。事實上，為清楚說明上述實施例，可任意地放大或縮小各種特徵之尺寸。相關圖式內容說明如下：

第1圖係繪示根據本發明之第一實施例之背光模組的示意圖。

第2A圖係繪示第1圖中導光板的立體示意圖。

第2B圖係繪示第1圖中導光板的側視示意圖。

第2C圖係繪示第1圖中導光板的俯視示意圖。

第2D圖係繪示沿著第2C圖中線AA’的剖面示意圖；

第3A圖係繪示根據本發明之第二實施例之導光板的側視示意圖。

第3B圖係繪示根據本發明之第三實施例之導光板的側視示意圖。

第4A及4B圖係分別繪示根據本發明之第四實施例之導光板出光面與反射面的上視圖。

第5A至5C圖係繪示根據本發明第五至第七實施例之第一凹槽之縱向剖切的剖面示意圖。

第6A及6B圖係繪示根據本發明第八與第九實施例之第一凹槽的俯視示意圖。

第7圖係繪示根據本發明第十實施例之第一凹槽的俯視示意圖。

第8圖係繪示根據本發明第十一實施例之第一凹槽的俯視示意圖。

300．．．導光板

302．．．出光面

304．．．反射面

306．．．入光面

307．．．微結構

308．．．第一凹槽

310．．．第二凹槽

312．．．凹槽

Claims (24)

1. 一種導光板，包括：一出光面，其中該出光面上設置有直線延伸之複數個第一凹槽，該些第一凹槽之剖面輪廓係彼此相似，且該些第一凹槽具有實質相同之延伸方向；一反射面，係相對於該出光面，其中該反射面上設置有直線延伸之複數個第二凹槽，該些第二凹槽之剖面輪廓係彼此相似，且該些第二凹槽具有實質相同之延伸方向，該些第二凹槽之延伸方向係實質相同於該些第一凹槽之延伸方向；以及複數個微結構，設置於該出光面或該反射面上；其中每一該些第一凹槽或每一該些第二凹槽具有複數個深度，至少二者互不相同，其中，該些第一凹槽係設置於該出光面之一第一區域中，該第一區域之面積小於該出光面之面積，且該些第二凹槽係設置於該反射面之一第二區域中，該第二區域之面積小於該反射面之面積，該第一區域與該第二區域之設置位置互相對應。
2. 如請求項1項所述之導光板，其中該些第一凹槽或該些第二凹槽之橫切面係實質為V字型或實質為U字型。
3. 如請求項1項所述之導光板，由該些第一凹槽或該些第二凹槽之縱切面觀之，其中該些第一凹槽或該些第二凹槽之該些深度係呈週期性變化。
4. 如請求項1項所述之導光板，其中該些第一凹槽係沿著該出光面之複數條直線設置，且每一該些直線上至少分布有該些第一凹槽之其中二者。
5. 如請求項1項所述之導光板，其中該些第二凹槽係沿著該反射面上之複數條直線設置，且每一該些直線上至少分布有該些第二凹槽之其中二者。
6. 如請求項1項所述之導光板，其中該些第一凹槽係沿著該出光面上之複數條直線設置，沿著相鄰二直線設置之該些第一凹槽係以一對一方式設置在相對應之位置，且沿著相鄰二直線設置之該些第一凹槽中，互相對應之二者係實質相同。
7. 如請求項1項所述之導光板，其中該些第一凹槽係沿著該出光面上之複數條直線設置，沿著部分該些直線設置之該些第一凹槽係以一對一方式設置在相對應之位置，且互相對應之該些第一凹槽係實質相同。
8. 如請求項1項所述之導光板，其中該些第二凹槽係沿著該反射面上之複數條直線設置，沿著相鄰二直線設置之該些第二凹槽係以一對一方式設置在相對應之位置，且沿著相鄰二直線設置之該些第二凹槽中，互相對應之二者係實質相同。
9. 如請求項1項所述之導光板，其中該些第二凹槽係沿著該反射面上之複數條直線設置，沿著部分該些直線設置之該些第二凹槽係以一對一方式設置在相對應之位置，且互相對應之該些第二凹槽係實質相同。
10. 如請求項1項所述之導光板，其中該些微結構係凸起結構或凹陷結構。
11. 如請求項10項所述之導光板，其中該些微結構係以網印方式、射出成型或精密機械加工所形成。
12. 一種背光模組，包括：一殼體；一導光板，設置於該殼體中，其中該導光板包括：一出光面，其中該出光面上設置有直線延伸之複數個第一凹槽，該些第一凹槽之剖面輪廓係彼此相似，且該些第一凹槽具有實質相同之延伸方向；一反射面，係相對於該出光面，其中該反射面上設置有直線延伸之複數個第二凹槽，該些第二凹槽之剖面輪廓係彼此相似，且該些第二凹槽具有實質相同之延伸方向，該些第二凹槽之延伸方向係實質相同於該些第一凹槽之延伸方向；一入光面，其中該入光面係鄰設於該出光面與該 反射面；以及複數個微結構，設置於該出光面或該反射面上；其中，每一該些第一凹槽或每一該些第二凹槽具有複數個深度，至少二者互不相同，其中該導光板之該些第一凹槽係設置於該出光面之一第一區域中，該第一區域之面積小於該出光面之面積，且該些第二凹槽係設置於該反射面之一第二區域中，該第二區域之面積小於該反射面之面積，該第一區域與該第二區域之設置位置互相對應；以及一光源，設置於該殼體中，且鄰設於該導光板之該入光面。
13. 如請求項12項所述之背光模組，更包括至少一光學膜片，其中該光學膜片係設置於該導光板之該出光面之上。
14. 如請求項13項所述之背光模組，其中該光學膜片係為擴散片、稜鏡片、增亮膜、反射式增亮膜、非多層膜式反射偏光片或上述之任意組合。
15. 如請求項12項所述之背光模組，其中該導光板之該些第一凹槽或該些第二凹槽之橫切面係實質為V字型或實質為U字型。
16. 如請求項12項所述之背光模組，由該導光板之該些第一凹槽或該些第二凹槽之縱切面觀之，其中該導光板之該些第一凹槽或該些第二凹槽之該些深度係呈週期性變化。
17. 如請求項12項所述之背光模組，其中該導光板之該些第一凹槽係沿著該出光面之複數條直線設置，且每一該些直線上至少分布有該些第一凹槽之其中二者。
18. 如請求項12項所述之背光模組，其中該導光板之該些第二凹槽係沿著該反射面之複數條直線設置，且每一該些直線上至少分布有該些第二凹槽之其中二者。
19. 如請求項12項所述之背光模組，其中該導光板之該些第一凹槽係沿著之該出光面上之複數條直線設置，沿著相鄰二直線設置之該些第一凹槽係以一對一方式設置在相對應之位置，且沿著相鄰二直線設置之該些第一凹槽中，互相對應之二者係實質相同。
20. 如請求項12項所述之背光模組，其中該導光板之該些第一凹槽係沿著該出光面上之複數條直線設置，沿著部分該些直線設置之該些第一凹槽係以一對一方式設置在相對應之位置，且互相對應之該些第一凹槽係實質相同。
21. 如請求項12項所述之背光模組，其中該導光板之 該些第二凹槽係沿著該反射面上之複數條直線設置，沿著相鄰二直線設置之該些第二凹槽係以一對一方式設置在相對應之位置，且沿著相鄰二直線設置之該些第二凹槽中，互相對應之二者係實質相同。
22. 如請求項12項所述之背光模組，其中該導光板之該些第二凹槽係沿著該反射面上之複數條直線設置，沿著部分該些直線設置之該些第二凹槽係以一對一方式設置在相對應之位置，且互相對應之該些第二凹槽係實質相同。
23. 如請求項12項所述之背光模組，其中該導光板之該些微結構係凸起結構或凹陷結構。
24. 如請求項23項所述之背光模組，其中該導光板之該些微結構係以網印方式、射出成型或精密機械加工所形成。