TWI399787B - Ultraviolet irradiation unit and ultraviolet radiation treatment device - Google Patents

Description

紫外線照射單元及紫外線照射處理裝置

本發明是關於紫外線照射處理裝置，尤其是，關於在半導體基板或液晶基板等的製程中，使用被利用於半導體基板或液晶基板的洗淨等的準分子燈的紫外線照射單元及紫外線照射處理裝置。

在最近的半導體基板或是液晶基板等的製程中，作為除去附著於半導體基板的矽晶圓或液晶基板的玻璃基板的表面的有機化合物等的污垢的方法，廣泛地被利用著利用紫外線的乾式洗淨方法。尤其是在使用從準分子燈所放射的真空紫外光的臭氧或活性氧氣所致的洗淨方法中，有更有效率且在短時間加以洗淨的各種洗淨裝置被提案，眾知有如專利文獻1。

第13圖是表示揭示於同文獻的習知的紫外線照射處理裝置的構造。依照習知紫外線照射處理裝置，在開放燈罩A的頂部，例如將直徑2mm的孔以3mm間距多數形成於不鏽鋼板成為開口率40%的多孔氣體擴散板B配置成與開放燈罩A的開放面平行。在支撐板C，形成有連續於藉由該氣體擴散板B所區劃的空間的氣體供應口CA，而在支撐板C上從上方覆蓋上述氣體供應口CA般地設有氣體供應導管D。在該氣體供應導管D，連接有未圖示的氮氣體供應源，成為將清淨的氮氣體(惰性氣體)經氣體供應導 管D及氣體供應口CA供應於氣體擴散板B上方的空間，而此些構成為構成氣體供應手段E。在搬運室F內，構成搬運機構G的複數支運送機軸H為朝與被處理體W的搬運方向正交的方向設置成旋轉自如的狀態，而載放於設在此些各運送機軸H的複數個運送滾子而被處理體W被搬運。又，在搬運室F的底部，設有相連於未圖示的排氣裝置的排氣導管I，而作成可排出在內部與被供應於搬運室F內的氮氣體一起所發生的臭氣體等。

如第13圖的箭號所示地，依照上述構成的紫外線照射處理裝置，氮氣體從設於燈罩A內的氣體擴散板B的微細孔朝下方被吐出。被吐出的氮氣體，是首先相撞於準分子燈J的平坦面，在此朝橫方向改變流動，從準分子燈的兩側部朝被處理體W表面筆直地流動掉落。所以，從準分子燈J的周圍一直到被處理體W的紫外線照射空間X，以氮氣體的流動充滿著全體，而被維持在幾乎未存在氧氣的惰性氣體環境。因此，從準分子燈J所放射的紫外光是幾乎不會被氧氣所吸收而到達至紫外線照射空間X，被處理體W表面的紫外線強度是與習知相比較會長足地變高。

專利文獻1：日本特開2005-197291號

可是，依照上述的習知紫外線照射處理裝置，為了快速地進行被處理體W的處理，成為必須從準分子燈J的 周圍一直到準分子燈J與被處理體W之間的紫外線空間X以氮氣快速地充滿的情形。然而，如第13圖所示地，在習知紫外線照射處理裝置中，互相地鄰接的複數準子燈J配置成隔著所定間隔之故，因而不得不增大開放燈罩A的內容積。所以，從配置於開放燈罩A的內部的複數準分子燈J的周圍一直到被處理體W的紫外線照射空間X以惰性氣體的流動所充滿，則成為必須經氣體供應導管D及氣體供應口CA供應多量的惰性氣體，而有成本變高的缺點問題。又，用以將多量的惰性氣體經氣體擴散板B的微細孔，為了將惰性氣體充滿於準分子燈J的周圍充滿惰性氣體需費久時間，而不得不降低被處理體W的搬運速度，而有降低生產量的缺點問題。

由以上，在本發明中，提供可將惰性氣體快速地充滿於準分子燈的周圍的紫外線照射單元及具備紫外線照射單元的紫外線照射處理裝置作為目的。

本發明的紫外線照射單元，是具備：在被形成於放電容器內的密閉空間封入有放電氣體，而且隔著該密閉空間有一對電極被形成於上述放電容器的外表面的複數準分子燈，及圍繞該複數準分子燈且垂直方向的一方向被開口的燈罩，及用以將惰性氣體供應於該燈罩的內部的氣體供應機構的紫外線照射單元，其特徵為：在上述燈罩內，空間封閉體被配置於藉由上述準分子燈所佔有的空間以外的空間。

又，本發明的紫外線照射單元，是在互相鄰接的上述 準分子燈之間配置有上述空間封閉體，而該空間封閉體的基端部被固定於上述燈罩的頂部，為其特徵者。

本發明的紫外線照射單元，是在近年來，被要求對於大面積的被處理體照射紫外線，隨著此，成為必須增加被收容於燈罩內的準分子燈的發光長度。例如，一面搬運被處理體一面對於被處理體照射紫外線時，準分子燈的發光長度必須作成對於被處理體的搬運方向正交的方向的全長度還要長。

欲增長準分子燈的發光長，則必須增長構成發光管的合成石英玻璃管的長度，欲增長準分子燈1支的全長度，如下所述地，有合成石英玻璃管的製造上的問題，或是設置準分子燈上的問題而較困難。

所謂合成石英玻璃管的製造上的問題，為欲製作全長度較長的合成石英玻璃管，則會變形彎曲，而很難加工成特性穩定的燈。又，隨著合成石英玻璃管的全長度變長，會使作業性降低，而會傷及合成石英玻璃管，會成為高成本的燈。

所謂準分子燈的設置上的問題，是指將全長度長的準分子燈設在燈罩時，使得準分子燈翹曲而準分子燈的中心部接近於工件，會發生紫外線放射的參差不齊而產生基板的處理參差不齊，或者更翹曲時，則準分子燈接觸於工件而摩擦工件表面而對於工件有給予機械性損壞的問題。

所以，如第4圖所示地，準備其全長比被處理體的搬運方向正交的方向的全長度還要短的準分子燈1A,1B，形 成各個準分子燈1A,1B的發光領域SA,SB重疊的領域Q，藉此，一般進行著增長發光長度。然而，如第4圖所示地，與全長較短的準分子燈相比較，則在各個準分子燈1A,1B的中心軸方向形成有多餘的空間。

因此，欲減少被形成於上述的準分子燈1A,1B的中心軸方向的多餘空間，本發明的紫外線照射單元是上述空間封閉體被配置於上述準分子燈的中心軸上，而互相地鄰接的上述準分子燈的各個發光領域，重疊在對於上述準分子燈的中心軸正交的假想直線上，為其特徵者。

又，上述紫外線照射單元是具備用以將上述準分子燈固定在上述燈罩內的支撐體，且對於該支撐體固定有上述準分子燈與上述空間封閉體的雙方，為其特徵者。

又，本發明的紫外線照射處理裝置，其特徵為：具備上述紫外線照射單元，而且具備對於上述準分子燈的中心軸朝正交的方向搬運被處理體的搬運機構。

依照本發明的紫外線照射單元，在燈罩內，空間封閉體被配置於藉由準分子燈所佔有的空間以外的空間，之故，因而準分子燈的周圍空間的容積變少。因此，即使不將多量惰性氣體供應於燈罩內也可將準分子燈的周圍作成惰性氣體環境，而可減低供應惰性氣體所必需的成本。又，如上述所述地，藉由減小準分子燈的周圍空間的容積，可將準分子燈的周圍快速地作成惰性氣體環境之故，因而可提昇生產量。

又，在本發明的紫外線照射單元中，在互相鄰接的上 述準分子燈之間配置有上述空間封閉體，而該空間封閉體的基端部被固定於上述燈罩的頂部之故，因而可將空間封閉體確實地固定在燈罩的內部。

又，在本發明的紫外線照射單元中，上述空間封閉體被配置於上述準分子燈的中心軸上，而互相地鄰接的上述準分子燈的各個發光領域，重疊在對於上述準分子燈的中心軸正交的假想直線上之故，因而使用全長較短的準分子燈之際，藉由空間封閉體來封閉被形成於準分子燈的中心軸方向的空間，在燈罩的內部可減小準分子燈的周圍空間的容積，而且可將紫外線確實地照射在大面積的被處理體。

又，依照本發明的紫外線照射單元，具備用以將上述準分子燈固定在上述燈罩的支撐體，且對於該支撐體固定有上述準分子燈與上述空間封閉體的雙方之故，因而對於其搬運方向的寬度不相同的複數種被處理體使用共通的燈罩來進行紫外線照射處理時，可減低供應惰性氣體所必需的成本，而且可將準分子燈的周圍快速地作成惰性氣體環境。

又，依照本發明的紫外線照射處理裝置，具備對準分子燈的中心軸朝正交的方向搬運被處理體的搬運機構之故，因而可減少被處理體的紫外線照射處理上所必需的準分子燈的支數。

(第1實施形態)

以下，針對於本發明的紫外線照射單元的第1實施形態使用第1圖至第5圖加以說明。第1圖是表示本發明的紫外線照射單元的構成的斷面圖。第2圖是表示準分子燈的構成的斷面圖。第2(a)圖表示朝中心軸方向切斷準分子燈的斷面圖。第2(b)圖是表示朝對中心軸正交的方向切斷準分子燈的斷面圖。第3圖是表示從垂直方向觀看本發明的紫外線照射單元時的圖式。第4圖是概念性地表示準分子燈，空間封閉體及被處理體的配置的圖式。第5圖是表示空間封閉體的構成的圖式。

紫外線照射單元100是在垂直方向的下方側具有開口51的金屬製筐體所成的燈罩5的內部，互相地隔著平行地配置有複數準分子燈1，而且在燈罩5的頂部52設有用以供應氮氣體等的惰性氣體的氣體供應管3，如下述地配置有互相地鄰接的準分子燈1(1B,1D)與塊狀的空間封閉體2(2A,2C)，各個的準分子燈1是為了將自被處理體W的距離作成均等，使得各個光出射面配置於同一平面上。在紫外線照射單元100垂直方向的下方，設有具備用以將液晶基板、半導體基板等的被處理體W朝第1圖中的箭號方向搬運的複數滾子61的搬運機構6。又，在以下中，將具備紫外線照射單元與搬運機械的雙方者作為紫外線照射處理裝置。

如第2圖所示地，準分子燈1是由介質材料的矽玻璃所構成，具有在四隅部具圓味的扁平的方筒形狀的放電容 器10。在形成於放電容器10的內部的密閉空間S，例如氮氣體等的稀有氣體，或是將氯氣體等的鹵素氣體混合於稀有氣體者充填作為放電氣體。藉由放電氣體的種類發生著不相同波長的準分子光。放電氣體一般是以約10~100KPa的壓力被填充。

如第2圖所示地，放電容器10是位於紙面的上方側的平坦壁11與位於紙面的下方側的平坦壁12為互相地隔開而平行地伸展，而且位於紙面的左邊的平坦壁13與位於紙面的右邊的平坦壁14為互相地隔開而平行地伸展，此些平坦壁11至14的各個端部藉由彎曲部15被連結。此種放電容器10是位於紙面上下的平坦壁11,12的任一形成朝被處理體W出射紫外線所用的光出射面，例如在將被處理體W配置於放電容器10下方時，平坦壁12成為光出射面。

在平坦壁11,12，分別配置有電極17,18。電極17,18是例如將金，銀，銅，鎳，鉻等的耐蝕性金屬藉由進行印刷或蒸鍍於平坦壁11,12上，例如厚度形成成為0.1μm~數十10μm，覆蓋者平坦壁11,12的寬度方向的大約全領域。位於下方的電極18，是在平坦壁12成為光出射面時，則將上述金屬藉由進行印刷或蒸鍍成為格子狀俾形成具有透光性。發光領域SA是如第2(a)圖中以虛線所示地，放電容器10內的密閉空間S中以電極17,18所夾入的領域。

如第1,2圖所示地，在對於被處理體W較遠一邊的平坦壁11的內面11a，形成有例如二氧化矽粒子與氧化鋁 粒子所成的紫外線反射膜16。在表示於第2圖的例子，紫外線反射膜16延伸至連續於平坦壁11的兩端的彎曲部15及平坦壁12~14的內面。紫外線反射膜16是二氧化矽粒子的含有比率為30~99質量%，而氧化鋁粒子的含有比率為1~70質量%較佳。

使用第3圖，針對於本發明的紫外線照射單元加以詳細地加以說明。

在燈罩5內，複數(表示於第3圖的例子為4支)的準分子燈1A~1D，及與準分子燈1A~1D同數的空間封閉體2A~2D為各個空間封閉體2A~2D位於各個準分子燈1A~1D的中心軸X上，而且在對於準分子燈1A~1D的中心軸X正交方向，準分子燈1A~1D與空間封閉體2A~2D具體上如下地配置成交互地排列。

準分子燈1A與1B是位於燈罩5的側壁附近的準分子燈1A的一端，是超過延伸鄰接於該準分子燈1A的準分子燈1B的另一端延伸，惟配置成未超過準分子燈1B的一端。準分子燈1A的發光領域SA與準分子燈1B的發光領域SB，是在第3圖中以Q所示的領域互相重疊。在準分子燈1A的一端側，形成有藉由該準分子燈1A未佔有的空間，而在該空間配置有空間封閉體2A。

準分子燈1B與1C，是準分子燈1B的另一端，超過延伸鄰接於該準分子燈1B的準分子燈1C的一端，惟配置成未超過準分子燈1C的另一端。準分子燈1B的發光領域SB與準分子燈1C的發光領域SC，是在第3圖中以Q所示的 領域相重疊。在準分子燈1B的另一端側，形成有藉由該準分子燈1B未佔有的空間，而在該空間配置有空間封閉體2B。

準分子燈1C與1D，是準分子燈1C的一端，超過延伸鄰接於該準分子燈1C的準分子燈1D的另一端，惟配置成未超過準分子燈1D的一端。準分子燈1C的發光領域SC與準分子燈1D的發光領域SD，是在第3圖中以Q所示的領域相重疊。在準分子燈1C的一端側，形成有藉由該準分子燈1C未佔有的空間，而在該空間配置有空間封閉體2C。在位於燈罩5的側壁附近的準分子燈1D的另一端側，形成有藉由該準分子燈1D未佔有的空間，而在該空間配置有空間封閉體2D。

如此地，如第3圖，第4圖所示地，在紫外線照射單元100中，各個準分子燈1A~1D，是各個中心軸X排列於對於被處理體W的搬運方向正交的方向，而且互相地鄰接的準分子燈1A~1D的各個發光領域SA~SD，配置成在對於準分子燈1A~1D的各個中心軸正交的假想直線K上成為重疊。如第4圖所示地，藉由作成如此，即使與各個準分子燈1A~1D的全長度相比較對於被處理體W的搬運方向正交的方向的全長度還長者，也藉由從準分子燈1A~1D所放射的紫外線被照射在對於被處理體W的搬運方向正交的方向全長度全面，可確實地進行被處理體W的表面處理，而且對應於被處理體W全長度不必製作全長度較長的準分子燈之故，因而具有把製造準分子燈作成 簡單的優點。

如第1圖，第3圖所示地，在各個準分子燈1A~1D的垂直方向的上方，配置有用以將惰性氣體供應於該準分子燈1A~1D的周圍。各個氣體供應機構3A~3H。各個氣體供應機構3A~3H，是由斷面呈方筒的管狀構件所構成而用以將惰性氣體予以吹出的複數開口31A~31H互相地隔開而依次排列形成於氣體供應機構3A~3H的長度方向，成為從各個開口31A~31H均等地可吹出惰性氣體。惰性氣體是為了避免藉由存在於燈罩5內的氧氣吸收著從準分子燈1A~1D所放射的紫外光而被供應者，例如使用氮氣體等較佳。

針對於空間封閉體2A~2D的構成說明如下。為了方便，僅針對於空間封閉體2A的構成加以說明，惟針對於空間封閉體2B~2D也與空間封閉體2A相同的構成。

如第5圖所示地，空間封閉體2A是由：被安裝於燈罩5的頂部52的棒狀體21A，及覆蓋該棒狀體周圍的有底筒狀體22A，及固定該棒狀體21A與該有底筒狀體22A的固定構件23A所構成。棒狀體21A是基端側被固定於燈罩5的頂部52，而在位於靠近被處理體W的前端側形成有有底螺孔211A。有底筒狀體22A是抵接於頂部52的基端側被開放，而且在底板部221A的中央形成有用以插通固定構件23A的開口222A。固定構件23A是由：被螺合於棒狀體21A的螺孔211A的棒狀螺旋部231A，及連續於該螺旋部231A而領環狀地擴展的凸緣部232A所構 成。

空間封閉體2A~2D，是如下地被製作。藉由有底筒狀體22A覆蓋棒狀體21A的周圍，而且將有底筒狀體22A的基端部配置成抵接於燈罩5的內面，從有底筒狀體22A的開口222A插通著固定構件23A的螺旋部231A，一直到固定構件23A的凸緣部232A抵接於有底筒狀體22A的前端部為止，對於棒狀體21A的螺旋孔211A藉由螺合螺旋部231A所形成。又，空間封閉體2A的形狀是並未特別加以限制，惟在燈罩5內部，為了減少藉由準分子燈未佔有的領域的容積，具有長方體形狀較佳。又，有底筒狀體及固定構件是露出於燈罩5內的空間之故，因而利用耐紫外光，耐臭氧性上優異的物質所構成較佳，例如SUS，在鋁板施以防蝕鋁處理者，陶瓷等所構成。

在本發明的紫外線照射單元中，各個空間封閉體2A~2D的前端面(有底筒狀體的前端面)，配置於比包含各個準分子燈1A~1D的光出射面的平面還要靠近被處理體W，且比位於燈罩5的垂直方向的下方側的前端面的平面還要靠近垂直方向的上方較佳。藉由作成如此，在燈罩5的內部空間，可減小藉由各個準分子燈1A~1D所佔有的空間以外的空間的容積，而且，對於各個空間封閉體2A~2D不會有被處理體W相撞之顧慮。

依照如以上的本發明的紫外線照射單元，如第1圖，第3圖所示地，在燈罩5的內部藉由準分子燈1A~1D所佔有的空間以外的空間配置有空間封閉體之故，因而在燈 罩5內的多餘的空間的容積變小。因此，藉由供應少量的惰性氣體就可將燈罩5的內部空間作成惰性氣體環境之故，因而可刪減供應惰性氣體所需的成本，而且對於燈罩5的內部空間可快速地充滿惰性氣體。

尤其是，如第1圖所示地，在具備搬運機構的紫外線照射處理裝置中，為了提昇生產量，考量搬運完成處理之被處理體W之後把燈罩5內的環境成為大氣環境，而被處理體位於燈罩5的開口51的正下方之際，必須將燈罩5內的環境快速地作成惰性氣體環境。因此，如本發明地，在燈罩5的內部，藉由減小準分子燈1所佔有的空間以外的空間，藉此，當被處理體W位於燈罩5的開口51的正下方之際，可將惰性氣體快速地充滿於燈罩5內之故，因而與比較例的紫外線照射單元相比較生產量會格外地提高。

對此，在如第6圖所示的比較例的紫外線照射單元中，在燈罩5的內部，空間封閉體未配置於藉由準分子燈1A~1D所佔有的空間以外的空間TA~TD之故，因而若未將多量的惰性氣體供應於燈罩5內的空間，則無法將燈罩5內的空間作成惰性氣體環境，會把成本變高，或是擬將惰性氣體充滿在燈罩5內的空間需要較久時間之故，因而會降低生產量。

(第2實施形態)

以下，針對於紫外線照射單元的第2實施形態使用第 7圖至第8圖加以說明。該實施形態是適用於對於被處理體的搬運方向正交的方向的全長度較短的情形較佳。第7圖是表示本發明的紫外線照射單元的第2實施形態的構成的斷面圖。第8圖是表示從垂直方向觀看表示於第7圖的紫外線照射單元時的圖式。在第7圖，第8圖中，在與第1圖至第5圖共通的部位給予與第1圖至第5圖相同的符號。

紫外線照射單元200是在垂直方向的下方側的金屬製筐體所成的燈罩5的內部，互相隔離而平行地配置有複數準分子燈1A~1C，而且在燈罩5的頂部52設有用以供應氮氣體等惰性氣體的氣體供應管3A~3F，而在互相鄰接的準分子燈之間配置有塊狀的空間封閉體2A,2B。各個準分子燈1A~1C是為了將來自被處理體的距離作成均等，各個光出射面配置在同一平面上。

空間封閉體2A~2B是作成與第5圖同樣地，被固定在燈罩5的頂部52，而各個空間封閉體2A~2B的前端面(有底筒狀體的前端面)，為比包含各個準分子燈1A~1C的光出射面的平面還靠近被處理體，且配置於比包含位於燈罩5的垂直方向的下方側的前端面的平面還要靠近垂直方向的上方較佳。

如第8圖所示地，在本發明的紫外線照射單元中，複數準分子燈1A~1C配置成以等間隔互相地隔開而把各個中心軸平行地排列。在各個準分子燈1A~1C的垂直方向的上方，配置有用以將惰性氣體供應於該準分子燈1A~ 1C的周圍的氣體供應機構3A~3F。

如第7圖，第8圖所示地，空間封閉體2A~2B是被配置於不可避免地存在於互相地鄰接的準分子燈1A~1C之間的藉由準分子燈1A~1C所佔有的空間以外的空間。如此地，在本發明的紫外線照射單元的第2實施形態中，在對於各個準分子燈1A~1C的中心軸正交的方向，交互地排列配置有各個準分子燈1A~1C與各個空間封閉體2A~2B。

亦即，在紫外線照射單元200中，無法確保自饋電側電極的絕緣距離之故，因而無法極端地接近各個準分子燈1A~1C，而在互相地鄰接的各個準分子燈1A~1C之間不可避免地形成有空間。如此地，藉由將空間封閉體2A~2B配置於不可避免地形成於互相地鄰接的準分子燈1A~1C之間的空間，與上述的本發明的紫外線照射單元的第1實施形態同樣地，可減小在燈罩5內部中藉由1A~1C所佔有的空間以外的空間的容積，因此，藉由供應少量的惰性氣體，就可將燈罩5的內部空間作成惰性氣體環境之故，因而可刪減供應惰性氣體所需的成本，而且對於燈罩5的內部空間快速地可充滿惰性氣體。

(第3實施形態)

以下，針對於本發明的紫外線照射單元的第3實施形態使用第9圖至第11圖加以說明。第9圖是表示紫外線照射單元的斷面圖。第10圖是表示從斜上方觀看紫外線照射 單元的一部分時的立體圖。第9圖，及第10圖中，在與第1圖至第5圖共通的部位給予與第1圖至第5圖同一符號。第11圖是用以說明針對於準分子燈的支撐體的構成的圖式。第12圖是表示用以說明針對於間點亮燈的立體圖。

在紫外線照射單元300中，燈罩5的規格被統一成各種，不管被處理體W的大小，當處理複數種的被處理體W，一般進行著共通使用燈罩5，燈罩5的大小及被收容於該燈罩5內的準分子燈1的支數，是複數種的被處理體W中對應於搬運方向的寬度最大者來決定。因此，被處理體W的搬運方向的寬度與該方向的燈罩的寬度相比較還要小時，則從支撐體7拆下幾個準分子燈1，來進行所謂的間點亮燈。

如第12圖所示地，間點亮燈是在位於準分子燈1C的右方側的支撐體7D,7E作成準分子燈1未被支撐的狀態，而且如第10圖所示地，藉由將具有與各準分子燈1大約相同體積的空間封閉體20A,20B分別固定於支撐體7D,7E所進行。本發明的紫外線照射單元的第3實施形態，是在進行此種間點亮燈時特別有效。

表示於第9圖，第10圖的紫外線照射單元，是在垂直方向的下方側具有開口51的金屬製筐體所成的燈罩5內部，複數紫外線照射單元1A~1C互相地隔離成為平行而分別固定於支撐體7A~7C，而且在燈罩5的頂部52設有用以供應氮氣體等的惰性氣體的氣體供應管3A~3F。在第10圖的紙面位於準分子燈1C的右邊側，塊狀空間封 閉體20A,20B分別固定於支撐體7D,7E成為與準分子燈1A~1C平行。各個準分子燈1A~1C，是為了將來自被處理體W的距離作成均等，各個光出射面被配置於同一平面上。

空間封閉體20A,20B是具有與準分子燈1相同體積，例如金屬、木材等所成的棒狀構件。準分子燈1A~1C與空間封閉體20A,20B，是如第10圖所示地不必分別配置於不相同的區域。例如準分子燈1A~1C與空間封閉體20A,20B，在第10圖的紙面中由左邊依準分子燈1A，空間封閉體20A，準分子燈1B，空間封閉體20B，準分子燈1C的順序配置也可以。

如第11圖所示地，支撐體7A是具備：被安裝於準分子燈1A的一端部10A的第1保持構件71A，及被安裝於準分子燈1A的另一端部10B的第2保持構件72A。第1保持構件71A是具備與準分子燈1A的管軸平行地延伸的固定部711A，及連續於固定部711A而朝對於固定部711A正交的方向延伸的突出部712A，使得斷面形成L形狀，而在固定部711A的前端面713A，形成有用以***準分子燈1A的一端部的有底孔714A。

第2保持構件72A是斷面呈形地藉由連續有柱部722A,723A,724A所形成，而藉由圍繞準分子燈1A的另一端部的方式所配置的框體部721A，及以柱部724A作為中心而成為旋轉自如的方式被連結於框體部721A的推壓部725A所構成。推壓部725A是藉由被連結於柱部724A的 端部的基體部726A，及連續於該基體部726A的垂直方向所延伸的突出部727A所形成，而斷面形成C形狀的板簧728A被固定於突出部727A。

準分子燈1A是對於上述的支撐體7，如下地被固定。將準分子燈1A的一端部10A，***於被設在第1保持構件71A的有底孔714A之後，藉由框體部721A圍繞準分子燈1A的另一端部10B的周圍的方式配置第2保持構件72A，而且朝柱部724A的周方向旋轉推壓部725A而藉由板簧728A來推壓準分子燈1A的另一端部10B的端面。推壓部725A是藉由卡合於將被形成於柱部722A的端部的突起部(未予圖示)設在基體部726A的切除部(未予圖示)，被規制著對於周方向的旋轉，而被固定在框體部721A。準分子燈1A是藉由依板簧728A所發生的相斥力被推向有底孔714A的底部，又，有底孔714A及框體部721A的寬度大約相等於準分子燈1A的寬度，藉由此，確實地被規制著朝管軸方向及管軸正交方向移動。

又，支撐體7B~7E是具有與上述的支撐體7A同一的構成，如上述地，分別固定有準分子燈1B~1C，空間封閉體20A,20B。

紫外線照射單元中，有在支撐體7A~7E全部分別固定有準分子燈1A~1E的狀態下對於被處理體W照射紫外線而實施被處理體W的處理的情形，及從支撐體7A~7E中的任一拆下準分子燈1A~1E的任一的狀態下對於被處理體W來照射紫外線而實施被處理體W的處理的情形。在 後者的情形，依照本發明的紫外線照射單元300，如第10圖所示地，對於未設置有準分子燈1的支撐體7D,7E，固定有空間封閉體20A,20B之故，因而可減低燈罩5內部的多餘空間。因此，依照紫外線照射單元300，則與上述的第1實施形態的紫外線照射單元100,200同樣地，以少量的惰性氣體就可將燈罩5的內部空間作成惰性氣體環境之故，因而可刪減供應惰性氣體所需要的成本。

1‧‧‧準分子燈

2‧‧‧空間封閉體

3‧‧‧氣體供應機構

5‧‧‧燈罩

6‧‧‧搬運機構

7‧‧‧支撐體

20‧‧‧空間封閉體

W‧‧‧被處理體

K‧‧‧假想線

X‧‧‧準分子燈的中心軸

第1圖是表示本發明的紫外線照射單元的構成的斷面圖。

第2(a)圖及第2(b)圖是表示準分子燈的構成的斷面圖。

第3圖是表示從垂直方向觀看紫外線照射單元時的圖式。

第4圖是概念地表示準分子燈，空間封閉體及被處理體的配置的圖式。

第5圖是表示空間封閉體的構成的圖式。

第6圖是概念地表示比較例的紫外線照射單元的圖式。

第7圖是表示本發明的紫外線照射單元的第2實施形態的構成的斷面圖。

第8圖是表示從垂直方向觀看表示於第7圖的紫外線照射單元時的圖式。

第9圖是表示本發明的紫外線照射單元的第3實施形態的構成的斷面圖。

第10圖是表示從斜上方觀看紫外線照射單元的一部分時的立體圖。

第11圖是表示用以說明針對於準分子燈的支撐體的構成的圖式。

第12圖是表示用以說明針對於間點亮燈的立體圖。

第13圖是表示習知的紫外線照射處理裝置的構成的斷面圖。

W‧‧‧被處理體

1B‧‧‧準分子燈

1D‧‧‧準分子燈

2A、2C‧‧‧空間封閉體

3B、3D、3F、3H‧‧‧氣體供應機構

5‧‧‧燈罩

6‧‧‧搬運機構

31B、31D、31F、31H‧‧‧開口

51‧‧‧開口

52‧‧‧頂部

61‧‧‧複數滾子

100‧‧‧紫外線照射單元

Claims (4)

1. 一種紫外線照射單元，是具備：在被形成於放電容器內的密閉空間封入有放電氣體，而且隔著該密閉空間有一對電極被形成於上述放電容器的外表面的複數準分子燈，及圍繞該複數準分子燈且垂直方向的一方向被開口的燈罩，及用以將惰性氣體供應於該燈罩的內部的氣體供應機構；上述紫外線照射單元，其特徵為：在上述燈罩內，空間封閉體被配置於藉由上述準分子燈與氣體供應機構所佔有的空間以外的空間。
2. 如申請專利範圍第1項所述的紫外線照射單元，其中，上述紫外線照射單元是在互相鄰接的上述準分子燈之間配置有上述空間封閉體，而該空間封閉體的基端部被固定於上述燈罩的頂部。
3. 如申請專利範圍第1項所述的紫外線照射單元，其中，上述紫外線照射單元是上述空間封閉體被配置於上述準分子燈的中心軸上，而互相地鄰接的上述準分子燈的各個發光領域，重疊在對於上述準分子燈的中心軸正交的假想直線上。
4. 一種紫外線照射處理裝置，其特徵為：具備申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述的紫外線照射單元，而且具備對上述準分子燈的中心軸朝正交的方向搬運被處理體的搬運機構。