TWI395026B - 液晶顯示裝置及其製造方法 - Google Patents

液晶顯示裝置及其製造方法 Download PDF

Info

Publication number
TWI395026B
TWI395026B TW096150388A TW96150388A TWI395026B TW I395026 B TWI395026 B TW I395026B TW 096150388 A TW096150388 A TW 096150388A TW 96150388 A TW96150388 A TW 96150388A TW I395026 B TWI395026 B TW I395026B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
substrate
liquid crystal
passivation film
display device
crystal display
Prior art date
Application number
TW096150388A
Other languages
English (en)
Other versions
TW200841096A (en
Inventor
Jin Wuk Kim
Tae Joon Song
Original Assignee
Lg Display Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Lg Display Co Ltd filed Critical Lg Display Co Ltd
Publication of TW200841096A publication Critical patent/TW200841096A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI395026B publication Critical patent/TWI395026B/zh

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
    • G02F1/13394—Gaskets; Spacers; Sealing of cells spacers regularly patterned on the cell subtrate, e.g. walls, pillars
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
    • G02F1/13396—Spacers having different sizes
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362—Active matrix addressed cells
    • G02F1/136227—Through-hole connection of the pixel electrode to the active element through an insulation layer
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F2201/00—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00
    • G02F2201/50—Protective arrangements

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Description

液晶顯示裝置及其製造方法
本發明係關於一種液晶顯示裝置及其製造方法。
近來，不同移動類型的電子裝置，例如移動電話、個人數位助理(PDA)、筆記型電腦等受到廣泛應用，由此，對外形薄及重量輕的平面顯示裝置的需求增加。平面顯示裝置的實例有液晶顯示裝置(LCD)、電漿顯示面板(PDP)、場發射顯示器(Field Emission Display,FED)、以及真空螢光顯示器(Vacuum Fluorescent Display,VFD)。在平面顯示裝置的不同實例中，液晶顯示裝置由於大量製造、簡單驅動方式及高析像度以及影像質量的優點受到更多的關注。
「第1圖」係為習知技術之液晶顯示裝置之橫截面圖。請參閱「第1圖」，習知技術之液晶顯示裝置1包含有一底基板5、一頂基板3、以及一液晶層7，係形成於底基板5與頂基板3之間。
底基板5對應於一薄膜電晶體基板，底基板5包含有複數個畫素區域，其中薄膜電晶體形成於各畫素區域中。
頂基板3對應於一彩色濾光基板，頂基板3包含有一實現彩色的彩色濾光片。
而且，複數個畫素電極及一共同電極分別形成在底基板5及頂基板3上。此外，底及頂基板5及3覆蓋有配向膜，用以排列 包含於液晶層7中的液晶分子。
然後，間隔物9配設於底基板5與頂基板3之間，用以維持這兩個基板之間的一單元間隙。而且，液晶層7形成於底基板5與頂基板3之間。由於包含於液晶層7中的液晶分子被形成於底基板5上的薄膜電晶體驅動，因此穿過液晶層的光線量被控制以致顯示資訊。
液晶顯示裝置使用根據液晶的各向異性及液晶分子之排列而決定的光電效應。因此，液晶顯示裝置之顯示穩定性受到控制液晶分子排列的較大影響。
形成用以排列液晶分子的配向膜及使用一密封圖案形成維持單元間隙的間隔物的過程與液晶單元中之影像質量極大相關。
然而，如果透過習知之方法配設間隔物，間隔物存在於畫素區域中，其中光線通過畫素區域傳送。那樣存在於畫素區域中的間隔物可干擾液晶之配向，並且降低一孔徑比。就這一點而言，間隔物的密度必須控制在一預定之水平之下。而且，需要在全部屏幕上均勻配設間隔物。
假如配設高密度之間隔物，用以維持這兩個基板之間的單元間隙。此種情況下，由於間隔物產生光色散以及周圍環境的排列異常，因此產生黑色顯示功能的劣化而降低對比值。
為了克復這些問題，近來提出一種配設柱狀間隔的方法，其能直接在底或頂基板上形成間隔圖案。柱狀間隔物能透過以下步 驟製成：在一基板上沉積或塗覆有機聚合物材料，並且執行光微影技術而選擇性去除該沉積或塗覆的有機聚合物材料。
然而，光微影技術由塗覆、曝光及開發光阻抗蝕劑之過程組成，因此必需一附加遮罩，由此，致使製造過程複雜且提高製造成本。
因此，鑒於以上的問題，本發明係關於一種液晶顯示裝置及其製造方法，藉以充分消除由於習知技術之限制及缺點所帶來的一個或多個問題。
本發明之目的之一在於提供一種液晶顯示裝置及其製造方法，用以簡化製造過程且降低製造成本。
本發明其他的優點、目的和特徵將在如下的說明書中部分地加以闡述，並且本發明其他的優點、目的和特徵對於本領域的普通技術人員來說，可以透過本發明如下的說明得以部分地理解或者可以從本發明的實踐中得出。本發明的目的和其他優點可以透過本發明所記載的說明書和申請專利範圍中特別指明的結構並結合圖式部份，得以實現和獲得。
為了獲得本發明目的之這些和其他優點，現對本發明作具體化和概括性的描述，本發明的一種液晶顯示裝置包含有具有一彩色濾光片的第一基板，以及具有一薄膜電晶體的第二基板，其中第一基板與第二基板彼此相面對；一第一鈍化膜，係形成於薄膜 電晶體上；以及一第一柱狀間隔物，係與第一鈍化膜作為一體而形成。
此時，第一柱狀間隔物與第一基板相接觸。
此外，該半導體裝置更包含有一第二柱狀間隔物，係與第一鈍化膜作為一體而形成。
而且，第一柱狀間隔物與第二柱狀間隔物具有彼此不同之高度。
而且，第一鈍化膜與第一及第二柱狀間隔物係由一種有機絕緣材料形成，其中此有機絕緣材料由紫外光固化液態預聚物、光起始劑以及界面活性劑組成。
此外，該半導體裝置更包含有一第二鈍化膜，係配設於薄膜電晶體與第一鈍化膜之間。
而且，此半導體裝置更包含有一第三鈍化膜，係配設於第一鈍化膜之上。
而且，第二與第三鈍化膜係由一種無機絕緣材料形成。
而且，第二基板包含有複數個閘極線及資料線，係彼此相交叉，用以在第二基板上定義一畫素區域；以及一畫素電極，係與薄膜電晶體之一預設部份相連接且形成於畫素區域中，以及一液晶層，係形成在第一與第二基板之間。
本發明另一方面在於提供一種半導體裝置之製造方法，係包含以下步驟：準備一第一基板，其中第一基板具有一彩色濾光 片；形成一薄膜電晶體於一第二基板上，第二基板與第一基板相面對；形成一圖案材料層於第二基板上，其中第二基板包含有薄膜電晶體；排列一軟模與第二基板，其中第二基板包含有圖案材料層；形成一接觸孔、一第一鈍化膜以及一第一柱狀間隔物，係透過軟模與圖案材料層相接觸而實現；將軟模從圖案材料層上分離；以及形成一畫素電極於接觸孔中。
而且，圖案材料層係由一種有機絕緣材料形成，其中該有機絕緣材料由紫外光固化液態預聚物、光起始劑以及界面活性劑組成。
而且，軟模配設有複數個凸起圖案，用以形成接觸孔，以及複數個凹進圖案，用以形成柱狀間隔物。
軟模係由聚二甲基矽氧烷(polydimethylsiloxane,DMS)、聚氨基甲酸酯或聚亞醯胺中任何之一所形成。
此外，本發明之液晶顯示裝置之製造方法更包含固化圖案材料層之步驟，係透過在具有圖案材料層的基板與軟模相接觸之情況下，向該基板施加熱或光而實現。
本發明之液晶顯示裝置之製造方法更包含在形成接觸孔、第一鈍化膜以及第一柱狀間隔物時，形成一第二柱狀間隔物之步驟。
而且，第一柱狀間隔物具有一能與第一基板相接觸之高度，並且第二柱狀間隔物之高度與第一柱狀間隔物之高度不相等。
軟模配設有複數個凹進圖案，用以形成第二柱狀間隔物。
本發明之液晶顯示裝置之製造方法更包含在圖案材料層與具有薄膜電晶體的基板之間形成一第二鈍化膜之步驟。
此外，本發明之液晶顯示裝置之製造方法更包含在第一鈍化膜物與畫素電極之間形成一第三鈍化膜之步驟。
可以理解的是，如上所述的本發明之概括說明和隨後所述的本發明之詳細說明均是具有代表性和解釋性的說明，並且是為了進一步揭示本發明之申請專利範圍。
以下，將結合圖式部份對本發明的較佳實施方式作詳細說明。其中在這些圖式部份中所使用的相同的參考標號代表相同或同類部件。
下文中，將參閱圖式部份描述本發明之液晶顯示裝置及其製造方法。
第一實施例
「第2圖」係為本發明之一液晶顯示裝置之平面圖。「第3圖」係為本發明之一液晶顯示裝置沿著「第2圖」中之I-I’及II-II’方向之橫截面圖。
請參閱「第2圖」及「第3圖」，本發明第一實施例之液晶顯示裝置包含有一彩色濾光基板100、一薄膜電晶體(TFT)基板200、以及一液晶層55，係透過將液晶植入於彩色濾光基板100與薄膜電晶體基板200之間的空間形成。
彩色濾光基板100包含有一黑矩陣層31及一配設於基板60上之紅色/綠色/藍色(R/G/B)彩色濾光層32，其中黑矩陣層31防止光線從除了畫素區域之外的其他區域(閘極線、資料線及薄膜電晶體之區域)中洩漏出，並且紅色/綠色/藍色(R/G/B)彩色濾光層32配設於畫素區域中，用以顯示其中之顏色。此外，一保護層(圖未示)形成於黑矩陣層31及紅色/綠色/藍色(R/G/B)彩色濾光層32的全部表面上。
薄膜電晶體基板200與彩色濾光基板100相面對，並且薄膜電晶體基板200包含有一基板70上的複數個閘極線41及複數資料線42，其中各閘極線41與各資料線42相垂直，由此定義各畫素區域。此外，一共同線47與閘極線41相平行而形成，並且共同電極47a從共同線47朝向畫素區域之內部延伸出，其中共同電極47a以固定的間隔形成。在閘極及資料線41及42的各交叉處，配設有一具有源及汲極42a及42b的薄膜電晶體TFT。而且，在畫素區域中畫素電極43與薄膜電晶體之汲極相連接，其中畫素區域中的畫素電極43與共同電極47a相交替配設。
此種情況下，基板60與基板70可由玻璃或塑料形成。而且，一閘極絕緣膜45係形成於閘極線41及資料線42之間。一半導體層44形成於閘極絕緣膜45之上，閘極絕緣膜45配設於閘極41a之上方。然後，一第二鈍化膜46a形成於薄膜電晶體TFT與畫素電極43之間。同時，第一柱狀間隔物46b係由與第二鈍化膜46a 相同之材料形成。
第一柱狀間隔物46b維持這兩個基板之間的一單元間隙，並且第一柱狀間隔物46b與彩色濾光基板100相接觸。此時，第二鈍化膜46a與第一柱狀間隔物46b透過以下步驟作為一體而形成：沉積一紫外光固化液態預聚物之有機絕緣材料於具有薄膜電晶體TFT之基板70上，以及使用一軟模執行一平面印刷過程，其中該軟模配設有第二鈍化膜46a及第一柱狀間隔物46b之反轉形狀之圖案：因此，本發明之第一實施例之液晶顯示裝置包含有第二鈍化膜46a及第一柱狀間隔物46b。它們透過使用軟模而形成。相比較於習知技術透過使用塗覆、曝光及開發光阻抗蝕劑的光微影技術形成柱狀間隔物的過程，使用軟模的平面印刷方法具有更簡化的過程且更多地降低了製造成本。
「第4A圖」至「第4D圖」係為本發明第一實施例之液晶顯示裝置之製造方法之橫截面圖。
在基板70上形成一閘極金屬層之後，請參閱「第4A圖」，閘極金屬層透過一光微影技術形成圖案，因此形成具有閘極線41及閘極41a的閘極圖案。然後，閘極絕緣膜45形成於具有閘極圖案的基板70上。
隨後，一n+型非晶矽層之非晶矽層形成於具有閘極絕緣膜45的基板70上，並且然後透過光微影技術形成圖案，因而形成半導 體層44。此時，半導體層44形成於具有一活性層及一歐姆接觸層的雙層結構中。然後，一源/汲極金屬層形成於具有半導體層44之基板70上，並且然後，透過光微影技術形成圖案，因此形成具有資料線42與源及汲極42a及42b的源極/汲極圖案。然後，一圖案材料層46形成於具有源極/汲極圖案的基板70上。
此時，圖案材料層46由紫外光固化液態預聚物、光起始劑以及界面活性劑組成。通常，紫外光固化液態預聚物由紫外光固化丙烯酸酯預聚物製成，舉例而言，二-羥乙基丙烯酸(2-hydroxyethyl acrylate,HEA)、乙二醇二甲基丙烯酸酯(Ethyleneglycol dimethancrylate,EGDMA)、乙二醇苯基丙烯酸酯(Ethyleneglycol phenyletheracrylate,EGPEA)、乙二醇二甲基丙烯酸酯(Ethyleneglycol dimethancrylate,EGDMA)、羥丙基丙烯酸酯(hydroxypropyl acrylate,HPA)、以及羥基苯氧丙基丙烯酸酯(Hydroxyl phenoxypropyl acrylate,HPPA)。
然後，在具有圖案材料層46的基板上方準備軟模300，其後表面配設有一底板且前表面配設有複數個凸起圖案300b及凹進圖案300a。軟模300可透過固化彈性聚合物，例如聚二甲基矽氧烷(polydimethylsiloxane,PDMS)形成，此種情況下，軟模300配設有凸起圖案300b，用以形成接觸孔，以及凹進圖案300a，用以形成柱狀間隔物。
請參閱「第4B圖」，在排列軟模300及具有圖案材料層46的 基板70之後，軟模300之表面與圖案材料層46相接觸，由此形成第二鈍化膜46a、第一柱狀間隔物46b、以及接觸孔46d，用以暴露圖案材料層46中之汲極42b，其中第一柱狀間隔物46b對應於軟模300的凹進圖案300a。並且接觸孔46d對應於軟模300的凸起圖案300b。此時，在軟模300與圖案材料層46相接觸的狀態中，向其施加熱或光，因此固化圖案材料層46。
請參閱「第4C圖」，軟模300從具有接觸孔46d的第二鈍化膜46a及具有第一柱狀間隔物46b的圖案材料層46上分離。然後，請參閱「第4D圖」，一透明導電膜形成於具有接觸孔46d的第二鈍化膜46a上，並且然後透過光微影技術形成圖案，由此形成與汲極42b相連接的畫素電極43，並且完成此過程。
因此，第二鈍化膜46a及第一柱狀間隔物46b透過使用軟模的平面印刷方法形成。相比較於習知技術透過使用塗覆、曝光及開發光阻抗蝕劑的光微影技術形成柱狀間隔物的過程，使用軟模的平面印刷方法具有更簡化的過程且更多地降低了製造成本。
第二實施例
以下將描述本發明之一種液晶顯示裝置及其製造方法，其中此液晶顯示裝置配設有一雙層結構的鈍化膜及一單元間隙柱狀間隔物。
「第5圖」係為本發明第二實施例之液晶顯示裝置沿著「第2圖」中之I-I’及II-II’方向之橫截面圖。
首先，請參閱「第5圖」，本發明第二實施例之液晶顯示裝置包含有一彩色濾光基板100、一薄膜電晶體基板200、以及一液晶層55，係透過將液晶植入於彩色濾光基板100與薄膜電晶體基板200之間的空間形成。
彩色濾光基板100包含有一基板60、一黑矩陣層31、一紅色/綠色/藍色(R/G/B)彩色濾光層32、以及一保護層(圖未示)。薄膜電晶體基板200與彩色濾光基板100相面對而定位，薄膜電晶體基板200包含有一基板70、一閘極線41、一資料線42、一共同線47、一共同電極47a、源及汲極42a及42b、一畫素電極43、一閘極絕緣膜45、以及一半導體層44。此時，基板60及基板70可由玻璃或塑料形成。
此外，一第一鈍化膜48及一第二鈍化膜46a係形成於薄膜電晶體TFT與畫素電極43之間。同時，一第一柱狀間隔物46b係由與第二鈍化膜46a同樣的材料形成。第一柱狀間隔物46b維持該兩個基板之間的單元間隙，並且第一柱狀間隔物46b與彩色濾光基板100相接觸。此時，第一柱狀間隔物46b以固定的間隔配設於閘極線41之上。
第一鈍化膜48係由一無機絕緣材料，例如氮化矽(SiNx)形成，由此提高有機絕緣材料的第二鈍化膜46a與源及汲極42a及42b/資料線42/閘極絕緣膜45之間的界面穩定性，其中第二鈍化膜46a之有機絕緣材料包含有紫外光固化液態預聚物。此時， 第二鈍化膜46a與第一柱狀間隔物46b透過以下步驟作為一體而形成：沉積一紫外光固化液態預聚物之有機絕緣材料於具有薄膜電晶體TFT之基板70上，以及使用一軟模執行一平面印刷過程，其中該軟模配設有第二鈍化膜46a及第一柱狀間隔物46b之反轉形狀之圖案。
因此，本發明第二實施例之液晶顯示裝置包含有第二鈍化膜46a及第一柱狀間隔物46b，它們係透過使用該軟模的一平面印刷方法形成。相比較於習知技術透過使用塗覆、曝光及開發光阻抗蝕劑的光微影技術形成柱狀間隔物的過程，使用軟模的平面印刷方法具有更簡化的過程且更多地降低了製造成本。而且，由於無機絕緣材料的第一鈍化膜48係形成於第二鈍化膜46a之下，因此，增加了有機絕緣材料的第二鈍化膜46a與該等接觸層之間的界面穩定性。
「第6A圖」至「第6E圖」係為本發明第二實施例之液晶顯示裝置之製造方法之橫截面圖。
請參閱「第6A圖」，一閘極圖案包含有閘極線41及一閘極41a；閘極絕緣膜45；半導體層44；以及源/汲極圖案，係包含有配設於基板70之上的資料線42以及源極42a及汲極42b。然後，由無機絕緣材料，例如氮化矽(SiNx)形成的第一鈍化膜48形成於基板70上。並且一圖案材料層46形成於第一鈍化膜48上。
其後，在具有圖案材料層46的基板70的上方，準備一軟模 300，其後表面配設有一底板，並且其前表面配設有凸起圖案300b及凹進圖案300a。此種情況下，軟模300配設有凸起圖案300b，用以形成接觸孔，以及凹進圖案300a，用以形成柱狀間隔物。
請參閱「第6B圖」，在排列軟模300與具有圖案材料層46的基板70之後，軟模300之表面與圖案材料層46相接觸，因此形成第二鈍化膜46a、第一柱狀間隔物46b及接觸孔46d，接觸孔46d用以暴露圖案材料層46中之汲極42b，其中第一柱狀間隔物46b對應於軟模300之凹進圖案300a，並且接觸孔46d對應於軟模300之凸起圖案300b。此時，在軟模300與圖案材料層46相接觸之情況下，熱或光施加於其中，因而固化圖案材料層46。
然後，請參閱「第6C圖」，軟模300從具有接觸孔46d的第二鈍化膜46a及具有第一柱狀間隔物46b的圖案材料層46上分離。
請參閱「第6D圖」，在使用具有接觸孔46d的第二鈍化膜46a作為一蝕刻遮罩的情況下執行一蝕刻過程，因而形成用以暴露汲極42b的接觸孔46d。
請參閱「第6E圖」，一透明導電膜形成於具有接觸孔46d的基板70上，並且然後透過光微影技術形成圖案，因此形成與汲極42b相連接之畫素電極43且完成此過程。
因此，本發明第二實施例之液晶顯示裝置包含有第二鈍化膜46a及第一柱狀間隔物46b，係透過使用該軟模的平面印刷方法形成。相比較於習知技術透過使用塗覆、曝光及開發光阻抗蝕劑的 光微影技術形成柱狀間隔物的過程，使用軟模的平面印刷方法具有更簡化的過程且能更多地降低製造成本，而且，無機絕緣材料之第一鈍化膜48係形成於有機絕緣材料的第二鈍化膜46a之下，由此，提高了有機絕緣材料的第二鈍化膜46a與該等接觸層之間的界面穩定性。
第三實施例
以下將描述本發明之一種液晶顯示裝置及其製造方法，其中此液晶顯示裝置配設有一三層結構的鈍化膜及一單元間隙柱狀間隔物。
「第7圖」係為本發明第三實施例之液晶顯示裝置沿著「第2圖」中之I-I’及II-II’方向之橫截面圖。
請參閱「第7圖」，本發明第三實施例之液晶顯示裝置包含有一彩色濾光基板100、一薄膜電晶體基板200、以及一液晶層55，係透過將液晶植入於彩色濾光基板100與薄膜電晶體基板200之間的空間形成。
彩色濾光基板100包含有一基板60、一黑矩陣層31、一紅色/綠色/藍色(R/G/B)彩色濾光層32、以及一保護層(圖未示)。薄膜電晶體基板200與彩色濾光基板100相面對而定位，薄膜電晶體基板200包含有一基板70、一閘極線41、一資料線42、一共同線47、一共同電極47a、源及汲極42a及42b、一畫素電極43、一閘極絕緣膜45、以及一半導體層44。此時，基板60及基板70 可由玻璃或塑料形成。
此外，一第一鈍化膜48、一第二鈍化膜46a及一第三鈍化膜49係形成於薄膜電晶體TFT與畫素電極43之間。並且同時，一第一柱狀間隔物46b係由與第二鈍化膜46a同樣的材料形成。第一柱狀間隔物46b維持該兩個基板之間的單元間隙，並且第一柱狀間隔物46b與彩色濾光基板100相接觸。
第一及第三鈍化膜48及49係由一種無機絕緣材料，例如氮化矽(SiNx)形成。因此，第一鈍化膜48配設為用以提高有機絕緣材料的第二鈍化膜46a與源及汲極42a及42b/資料線42/閘極絕緣膜45之間的界面穩定性，其中第二鈍化膜46a之有機絕緣材料包含有紫外光固化液態預聚物。第三鈍化膜49配設為用以提高第二鈍化膜46a與畫素電極43之間的界面穩定性。
第二鈍化膜46a與第一柱狀間隔物46b透過以下步驟作為一體而形成：沉積一紫外光固化液態預聚物之有機絕緣材料於具有薄膜電晶體TFT之基板70上，以及使用一軟模執行一平面印刷過程，其中該軟模配設有第二鈍化膜46a及第一柱狀間隔物46b之反轉形狀之圖案。
因此，本發明第三實施例之液晶顯示裝置包含有第二鈍化膜46a及第一柱狀間隔物46b，它們係透過使用該軟模的一平面印刷方法形成。相比較於習知技術透過使用塗覆、曝光及開發光阻抗蝕劑的光微影技術形成柱狀間隔物的過程，使用軟模的平面印刷 方法具有更簡化的過程且能更多地降低製造成本。而且，由於無機絕緣材料的第一及第三鈍化膜48及49分別形成於第二鈍化膜46a之上及之下，因此，增加了有機絕緣材料的第二鈍化膜46a與該等接觸層之間的界面穩定性。
以下將參閱「第8A圖」及「第8B圖」描述本發明之液晶顯示裝置之製造方法。
直到形成第一柱狀間隔物46b、第二鈍化膜46a及用以暴露汲極42b之接觸孔46d，此過程與「第6A圖」至「第6D圖」之本發明第二實施例之過程相同。其後，請參閱「第8A圖」，由無機絕緣材料，例如氮化矽(SiNx)組成之第三鈍化膜49形成於第二鈍化膜46a之上。
然後，請參閱「第8B圖」，一透明導電膜形成於具有接觸孔46d的基板70上，並且然後透過光微影技術形成圖案，因此形成與汲極42b相連接之畫素電極43且完成此過程。
因此，本發明第三實施例之液晶顯示裝置包含有第二鈍化膜46a及第一柱狀間隔物46b，係透過使用該軟模的平面印刷方法形成。相比較於習知技術透過使用塗覆、曝光及開發光阻抗蝕劑的光微影技術形成柱狀間隔物的過程，使用軟模的平面印刷方法具有更簡化的過程且能更多地降低製造成本，而且，無機絕緣材料之第一及第三鈍化膜48及49分別形成於有機絕緣材料的第二鈍化膜46a之上及之下，由此，提高了有機絕緣材料的第二鈍化膜 46a與該等接觸層之間的界面穩定性。
第四實施例
以下將結合圖式部份描述一種半導體裝置及其製造方法，其中該半導體裝置配設有一壓下防止第二柱狀間隔物46c及單元間隙第一柱狀間隔物46b。
「第9圖」係為本發明之另一液晶顯示裝置之平面圖。「第10圖」係為本發明第四實施例之液晶顯示裝置沿著「第9圖」中之I-I’及II-II’方向之橫截面圖。
請參閱「第9圖」及「第10圖」，本發明第四實施例之液晶顯示裝置包含有一彩色濾光基板100、一薄膜電晶體基板200、以及一液晶層55，係透過將液晶植入於彩色濾光基板100與薄膜電晶體基板200之間的空間形成。
彩色濾光基板100包含有一基板60、一黑矩陣層31、一紅色/綠色/藍色(R/G/B)彩色濾光層32、以及一保護層(圖未示)。薄膜電晶體基板200與彩色濾光基板100相面對而定位，薄膜電晶體基板200包含有一基板70、一閘極線41、一資料線42、一共同線47、一共同電極47a、源及汲極42a及42b、一畫素電極43、一閘極絕緣膜45、以及一半導體層44。此時，基板60及基板70可由玻璃或塑料形成。
此外，一第二鈍化膜46a係形成於薄膜電晶體TFT與畫素電極43之間。同時，第一及第二柱狀間隔物46b及46c係由與第二 鈍化膜46a相同之材料形成。第一柱狀間隔物46b對應於一單元間隙柱狀間隔物，用以保持這兩個基板之間的單元間隙，其中該第一柱狀間隔物46b與彩色濾光基板100相接觸。第二柱狀間隔物46c配設為用以防止液晶面板被壓下。其中第二柱狀間隔物46c具有不能與彩色濾光基板100相接觸之高度。因此，本發明第四實施例之液晶顯示裝置配設有偶數的柱狀間隔物，該柱狀間隔物包含有第一及第二柱狀間隔物46b及46c用以維持單元間隔而防止液晶面板被壓下。
此時，第二鈍化膜46a與第一及第二柱狀間隔物46b及46c透過以下步驟作為一體而形成：沉積一紫外光固化液態預聚物之有機絕緣材料於具有薄膜電晶體TFT之基板70上，以及使用一軟模執行一平面印刷過程，其中該軟模配設有第二鈍化膜46a與第一及第二柱狀間隔物46b及46c之反轉形狀之圖案。
因此，本發明第四實施例之液晶顯示裝置包含有第二鈍化膜46a以及第一及第二柱狀間隔物46b及46c，它們係透過使用該軟模的一平面印刷方法形成。相比較於習知技術透過使用塗覆、曝光及開發光阻抗蝕劑的光微影技術形成柱狀間隔物的過程，使用軟模的平面印刷方法具有更簡化的過程且能更多地降低製造成本。
以下將參閱「第11A圖」至「第11D圖」描述本發明第四實施例之液晶顯示裝置之製造方法。
請參閱「第11A圖」，一閘極圖案包含有閘極線41及一閘極41a；閘極絕緣膜45；半導體層44；以及源/汲極圖案，係包含有形成於基板70之上的資料線42以及源極42a及汲極42b。
其後，在具有圖案材料層46的基板70之上方準備一軟模300，其後表面配設有一底板，並且其前表面配設有凸起圖案300b和凹進圖案300a及300c。此種情況下，軟模300配設有凸起圖案300b，用以形成接觸孔，以及凹進圖案300a及300c，用以形成第一及第二柱狀間隔物46b及46c。
請參閱「第11B圖」，在排列軟模300與具有圖案材料層46的基板70之後，軟模300之表面與圖案材料層46相接觸，因此形成第二鈍化膜46a、第一及第二柱狀間隔物46b及46c、以及接觸孔46d，接觸孔46d用以暴露圖案材料層46中之汲極42b，其中第一及第二柱狀間隔物46b及46c對應於軟模300之凹進圖案300a及300c，並且接觸孔46d對應於軟模300之凸起圖案300b。此時，在軟模300與圖案材料層46相接觸之情況下，熱或光施加於其中，因而固化圖案材料層46。此時，第一柱狀間隔物46b具有一能與彩色濾光基板100相接觸之高度。第二柱狀間隔物46c具有一不能與彩色濾光基板100相接觸之高度，其中第二柱狀間隔物46c防止液晶面板被壓下。
然後，請參閱「第11C圖」，軟模300從具有接觸孔46d的第二鈍化膜46a和具有第一及第二柱狀間隔物46b及46c的圖案材 料層46上分離。
然後，請參閱「第11D圖」，一透明導電膜形成於具有接觸孔46d的第二鈍化膜46a上，並且然後透過光微影技術形成圖案，因此形成與汲極42b相連接之畫素電極43，並且完成此過程。
因此，本發明第四實施例之液晶顯示裝置包含有第二鈍化膜46a及第一及第二柱狀間隔物46b及46c，係透過使用該軟模的平面印刷方法形成。相比較於習知技術透過使用塗覆、曝光及開發光阻抗蝕劑的光微影技術形成柱狀間隔物的過程，使用軟模的平面印刷方法具有更簡化的過程且能更多地降低製造成本。
第五實施例
以下將結合附圖描述本發明之一種液晶顯示裝置及其製造方法，其中此液晶顯示裝置配設有一雙層結構的鈍化膜、一單元間隙第一柱狀間隔物46b及一壓下防止第二柱狀間隔物46c。
「第12圖」係為本發明第五實施例之液晶顯示裝置沿著「第9圖」中之I-I’及II-II’方向之橫截面圖。
首先，請參閱「第12圖」，本發明第五實施例之液晶顯示裝置包含有一彩色濾光基板100、一薄膜電晶體基板200、以及一液晶層55，係透過將液晶植入於彩色濾光基板100與薄膜電晶體基板200之間的空間形成。
彩色濾光基板100包含有一基板60、一黑矩陣層31、一紅色/綠色/藍色(R/G/B)彩色濾光層32、以及一保護層(圖未示)。 薄膜電晶體基板200與彩色濾光基板100相面對而定位，薄膜電晶體基板200包含有一基板70、一閘極線41、一資料線42、一共同線47、一共同電極47a、源及汲極42a及42b、一畫素電極43、一閘極絕緣膜45、以及一半導體層44。此時，基板60及基板70可由玻璃或塑料形成。
此外，第一及第二鈍化膜48及46a係形成於畫素電極43與薄膜電晶體TFT之間。並且同時，第一及第二柱狀間隔物46b及46c係由與第二鈍化膜46a同樣的材料形成。第一柱狀間隔物46b對應於一單元間隙柱狀間隔物，用以維持該兩個基板之間的單元間隙，其中第一柱狀間隔物46b與彩色濾光基板100相接觸。第二柱狀間隔物46c配設為防止液晶面板被壓下，其中第二柱狀間隔物46c具有不能與彩色濾光基板100相接觸之高度。因此，本發明第五實施例之液晶顯示裝置配設有偶數個柱狀間隔物，此柱狀間隔物包含有第一及第二柱狀間隔物46b及46c，用以保持單元間隙且防止液晶面板被壓下。
第一鈍化膜48係由一無機絕緣材料，例如氮化矽(SiNx)形成，由此提高有機絕緣材料的第二鈍化膜46a與源及汲極42a及42b/資料線42/閘極絕緣膜45之間的界面穩定性，其中第二鈍化膜46a之有機絕緣材料包含有紫外光固化液態預聚物。而且，第二鈍化膜46a與第一及第二柱狀間隔物46b及46c透過以下步驟作為一體而形成：沉積一紫外光固化液態預聚物之有機絕緣材 料於具有薄膜電晶體TFT之基板70上，以及使用一軟模執行一平面印刷過程，其中該軟模配設有第二鈍化膜46a與第一及第二柱狀間隔物46b及46c之反轉形狀之圖案。
因此，本發明第五實施例之液晶顯示裝置包含有第二鈍化膜46a及第一及第二柱狀間隔物46b及46c，它們係透過使用該軟模的一平面印刷方法形成。相比較於習知技術透過使用塗覆、曝光及開發光阻抗蝕劑的光微影技術形成柱狀間隔物的過程，使用軟模的平面印刷方法具有更簡化的過程且更多地降低了製造成本。而且，無機絕緣材料的第一鈍化膜48係形成於有機絕緣材料的第二鈍化膜46a之下，因此，增加了有機絕緣材料的第二鈍化膜46a與該等接觸層之間的界面穩定性。
以下將參閱「第13A圖」至「第13E圖」描述本發明第五實施例之液晶顯示裝置之製造方法。
請參閱「第13A圖」，一閘極圖案包含有閘極線41及一閘極41a；閘極絕緣膜45；半導體層44；以及源/汲極圖案，係包含有形成於基板70之上的資料線42以及源極42a及汲極42b。然後，無機絕緣材料，例如氮化矽(SiNx)的第一鈍化膜48形成於具有源極/汲極圖案的基板70上。並且一圖案材料層46形成於第一鈍化膜48上。
其後，在具有圖案材料層46的基板70之上方準備一軟模300，其後表面配設有一底板，並且其前表面配設有凸起圖案300b 及凹進圖案300a及300c。此種情況下，軟模300配設有凸起圖案300b，用以形成接觸孔，以及凹進圖案300a及300c，用以形成第一及第二柱狀間隔物。
請參閱「第13B圖」，在排列軟模300與具有圖案材料層46的基板70之後，軟模300之表面與圖案材料層46相接觸，因此形成第二鈍化膜46a、第一及第二柱狀間隔物46b及46c、以及接觸孔46d，係用以暴露圖案材料層46中之汲極42b，其中第一及第二柱狀間隔物46b及46c對應於軟模300之凹進圖案300a及300c，並且接觸孔46d對應於軟模300之凸起圖案300b。此時，在軟模300與圖案材料層46相接觸之情況下，熱或光施加於其中，因而固化圖案材料層46。
此時，第一柱狀間隔物46b對應於一單元間隙柱狀間隔物，用以維持這兩個基板之間的單元間隙，其中該第一柱狀間隔物46b與彩色濾光基板100相接觸。第二柱狀間隔物46c配設為用以防止液晶面板被壓下。其中第二柱狀間隔物46c具有不能與彩色濾光基板100相接觸之高度。
然後，請參閱「第13C圖」，軟模300從第二鈍化膜46a及圖案材料層46上分離，其中第二鈍化膜46a具有一與接觸孔相對應之孔46d，並且圖案材料層46具有第一及第二柱狀間隔物46b及46c。
請參閱「第13D圖」，在使用第二鈍化膜46a作為一蝕刻遮罩 的情況下執行一蝕刻過程，其中第二鈍化膜46a具有與接觸孔相對應之孔46d，因而形成用以暴露汲極42b的接觸孔46d。
請參閱「第13E圖」，一透明導電膜形成於具有接觸孔46d的第二鈍化膜46a上，並且然後透過光微影技術形成圖案，由此形成與汲極42b相連接之畫素電極43且完成此過程。
因此，本發明第五實施例之液晶顯示裝置包含有第二鈍化膜46a及第一及第二柱狀間隔物46b及46c，係透過使用該軟模的平面印刷方法形成。相比較於習知技術透過使用塗覆、曝光及開發光阻抗蝕劑的光微影技術形成柱狀間隔物的過程，使用軟模的平面印刷方法具有更簡化的過程且能更多地降低製造成本，而且，無機絕緣材料之第一鈍化膜48係形成於有機絕緣材料的第二鈍化膜46a之下，由此，提高了有機絕緣材料的第二鈍化膜46a與該等接觸層之間的界面穩定性。
第六實施例
以下將描述本發明之一種液晶顯示裝置及其製造方法，其中此液晶顯示裝置具有一三層結構的鈍化膜、一第一柱狀間隔物46b以及一第二柱狀間隔物46c。
「第14圖」係為本發明第六實施例之液晶顯示裝置沿著「第9圖」中之I-I’及II-II’方向之橫截面圖。
請參閱「第14圖」，本發明第六實施例之液晶顯示裝置包含有一彩色濾光基板100、一薄膜電晶體基板200、以及一液晶層 55，係透過將液晶植入於彩色濾光基板100與薄膜電晶體基板200之間的空間形成。
彩色濾光基板100包含有一基板60、一黑矩陣層31、一紅色/綠色/藍色(R/G/B)彩色濾光層32、以及一保護層(圖未示)。薄膜電晶體基板200與彩色濾光基板100相面對而定位，薄膜電晶體基板200包含有一基板70、一閘極線41、一資料線42、一共同線47、一共同電極47a、源及汲極42a及42b、一畫素電極43、一閘極絕緣膜45、以及一半導體層44。此時，基板60及基板70可由玻璃或塑料形成。
此外，一第一鈍化膜48、一第二鈍化膜46a及一第三鈍化膜49係形成於畫素電極43與薄膜電晶體TFT之間。並且同時，第一及第二柱狀間隔物46b及46c係由與第二鈍化膜46a同樣的材料形成。第一柱狀間隔物46b對應於一單元間隙柱狀間隔物，用以保特該兩個基板之間的單元間隙，其中第一柱狀間隔物46b與彩色濾光基板100相接觸。第二柱狀間隔物46c配設為防止液晶面板被壓下。其中第二柱狀間隔物46c具有不能與彩色濾光基板100相接觸之高度。
第一及第三鈍化膜48及49係由一種無機絕緣材料，例如氮化矽(SiNx)形成。因此，第一鈍化膜48配設為用以提高有機絕緣材料的第二鈍化膜46a與源及汲極42a及42b/資料線42/閘極絕緣膜45之間的界面穩定性，其中第二鈍化膜46a之有機絕緣 材料包含有紫外光固化液態預聚物。而且，第三鈍化膜49配設為用以提高畫素電極43與第二鈍化膜46a之間的界面穩定性。
此時，第二鈍化膜46a與第一及第二柱狀間隔物46b及46c透過以下步驟作為一體而形成：沉積一紫外光固化液態預聚物之有機絕緣材料於具有薄膜電晶體TFT之基板70上，以及使用一軟模執行一平面印刷過程，其中該軟模配設有第二鈍化膜46a與第一及第二柱狀間隔物46b及46c之反轉形狀之圖案。
因此，本發明第六實施例之液晶顯示裝置包含有第二鈍化膜46a及第一及第二柱狀間隔物46b及46c，它們係透過使用該軟模的一平面印刷方法形成。相比較於習知技術透過使用塗覆、曝光及開發光阻抗蝕劑的光微影技術形成柱狀間隔物的過程，使用軟模的平面印刷方法具有更簡化的過程且能更多地降低製造成本。而且，由於無機絕緣材料的第一及第三鈍化膜48及49分別形成於有機絕緣材料的第二鈍化膜46a之上及之下，因此，提高了第二鈍化膜46a與該等接觸層之間的界面穩定性。
「第15A圖」及「第15B圖」係為本發明第六實施例之液晶顯示裝置之製造方法之橫截面圖。
直到形成第一柱狀間隔物46b、第二鈍化膜46a、第一及第二柱狀間隔物46b及46c以及用以暴露汲極42b之接觸孔46d，此過程與「第13A圖」至「第13D圖」之本發明第五實施例之過程相同。其後，請參閱「第15A圖」，無機絕緣材料，例如氮化矽(SiNx) 之第三鈍化膜49形成於第二鈍化膜46a之上。
然後，請參閱「第15B圖」，一透明導電膜形成於具有接觸孔46d的基板70上，並且然後透過光微影技術形成圖案，因此形成與汲極42b相連接之畫素電極43，並且完成此過程。
因此，本發明第六實施例之液晶顯示裝置包含有第二鈍化膜46a及第一及第二柱狀間隔物46b及46c，係透過使用該軟模的平面印刷方法形成。相比較於習知技術透過使用塗覆、曝光及開發光阻抗蝕劑的光微影技術形成柱狀間隔物的過程，使用軟模的平面印刷方法具有更簡化的過程且能更多地降低製造成本，而且，無機絕緣材料之第一及第三鈍化膜48及49分別形成於有機絕緣材料的第二鈍化膜46a之上及之下，由此，提高了有機絕緣材料的第二鈍化膜46a與該等接觸層之間的界面穩定性。
如上所述，本發明之液晶顯示裝置及其製造方法具有以下優點：本發明之液晶顯示裝置包含有鈍化膜及柱狀間隔物。它們透過使用軟模的平面印刷方法而形成。相比較於透過使用塗覆、曝光且形成光阻抗蝕劑的光微影技術形成一柱狀間隔物的習知方法之過程，使用軟模的平面印刷方法具有更簡化的過程且更多減少了製造成本。
在本發明之液晶顯示裝置中，在有機絕緣材料之鈍化膜與該等接觸層之間配設有一無機絕緣材料之鈍化膜，由此，提高了有 機絕緣材料的鈍化膜與該等接觸層之間的界面穩定性。
本領域之技術人員應當意識到在不脫離本發明所附之申請專利範圍所揭示之本發明之精神和範圍的情況下，所作之更動與潤飾，均屬本發明之專利保護範圍之內。因此，本發明包含不脫離專利保護範圍之界限或等同界限之範圍內的更動與潤飾。
1‧‧‧液晶顯示裝置
3‧‧‧頂基板
5‧‧‧底基板
7‧‧‧液晶層
9‧‧‧間隔物
31‧‧‧黑矩陣層
32‧‧‧彩色濾光層
41‧‧‧閘極線
41a‧‧‧閘極
42‧‧‧資料線
42a‧‧‧源極
42b‧‧‧汲極
43‧‧‧畫素電極
44‧‧‧半導體層
45‧‧‧閘極絕緣膜
46‧‧‧圖案材料層
46a‧‧‧第二鈍化膜
46b‧‧‧第一柱狀間隔物
46c‧‧‧第二柱狀間隔物
46d‧‧‧接觸孔
47‧‧‧共同線
47a‧‧‧共同電極
48‧‧‧第一鈍化膜
49‧‧‧第三鈍化膜
55‧‧‧液晶層
60、70‧‧‧基板
100‧‧‧彩色濾光基板
200‧‧‧薄膜電晶體基板
300‧‧‧軟模
300a、300c‧‧‧凹進圖案
300b‧‧‧凸起圖案
TFT‧‧‧薄膜電晶體
第1圖係為習知技術之液晶顯示裝置之橫截面圖；第2圖係為本發明之一液晶顯示裝置之平面圖；第3圖係為本發明第一實施例之液晶顯示裝置沿著第2圖中之I-I’及II-II’方向之橫截面圖；第4A圖至第4D圖係為本發明第一實施例之液晶顯示裝置之製造方法之橫截面圖；第5圖係為本發明第二實施例之液晶顯示裝置沿著第2圖中之I-I’及II-II’方向之橫截面圖；第6A圖至第6E圖係為本發明第二實施例之液晶顯示裝置之製造方法之橫截面圖；第7圖係為本發明第三實施例之液晶顯示裝置沿著第2圖中之I-I’及II-II’方向之橫截面圖；第8A圖至第8B圖係為本發明第三實施例之液晶顯示裝置之製造方法之橫截面圖；第9圖係為本發明之另一液晶顯示裝置之平面圖； 第10圖係為本發明第四實施例之液晶顯示裝置沿著第9圖中之I-I’及II-II’方向之橫截面圖；第11A圖至第11D圖係為本發明第四實施例之液晶顯示裝置之製造方法之橫截面圖；第12圖係為本發明第五實施例之液晶顯示裝置沿著第9圖中之I-I’及II-II’方向之橫截面圖；第13A圖至第13E圖係為本發明第五實施例之液晶顯示裝置之製造方法之橫截面圖；第14圖係為本發明第六實施例之液晶顯示裝置沿著第9圖中之I-I’及II-II’方向之橫截面圖；以及第15A圖及第15B圖係為本發明第六實施例之液晶顯示裝置之製造方法之橫截面圖。
31‧‧‧黑矩陣層
32‧‧‧彩色濾光層
41‧‧‧閘極線
41a‧‧‧閘極
42‧‧‧資料線
42a‧‧‧源極
42b‧‧‧汲極
43‧‧‧畫素電極
44‧‧‧半導體層
45‧‧‧閘極絕緣膜
46a‧‧‧第二鈍化膜
46b‧‧‧第一柱狀間隔物
55‧‧‧液晶層
60、70‧‧‧基板
100‧‧‧彩色濾光基板
200‧‧‧薄膜電晶體基板

Claims (10)

  1. 一種液晶顯示裝置，係包含有：一第一基板，係具有一彩色濾光片，以及一第二基板，係具有一薄膜電晶體，其中該第一基板與該第二基板彼此相面對而配設；一第一鈍化膜，係形成於該薄膜電晶體上；一第一柱狀間隔物，係與該第一鈍化膜作為一體而形成；以及其中該第一鈍化膜和該第一柱狀間隔物係由一種有機絕緣材料形成，其中該有機絕緣材料由紫外光固化液態預聚物、光起始劑以及界面活性劑組成；以及其中該紫外光固化液態預聚物由紫外光固化丙烯酸酯預聚物製成，該紫外光固化丙烯酸酯預聚物係選自二-羥乙基丙烯酸(2-hydroxyethyl acrylate,HEA)、乙二醇二甲基丙烯酸酯(Ethyleneglycol dimethancrylate,EGDMA)、乙二醇苯基丙烯酸酯(Ethyleneglycol phenyletheracrylate,EGPEA)、乙二醇二甲基丙烯酸酯(Ethyleneglycol dimethancrylate,EGDMA)、羥丙基丙烯酸酯(hydroxypropyl acrylate,HPA)以及羥基苯氧丙基丙烯酸酯(Hydroxyl phenoxypropyl acrylate,HPPA)組成之群組。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之液晶顯示裝置，其中該第一柱狀間隔物與該第一基板相接觸。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之液晶顯示裝置，更包含有一第二 柱狀間隔物，係與該第一鈍化膜作為一體而形成。
  4. 如申請專利範圍第3項所述之液晶顯示裝置，其中該第一柱狀間隔物與該第二柱狀間隔物具有彼此不相同之高度。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之液晶顯示裝置，更包含有一第二鈍化膜，係配設於該薄膜電晶體與該第一鈍化膜之間。
  6. 如申請專利範圍第5項所述之液晶顯示裝置，更包含有一第三鈍化膜，係配設於該第一鈍化膜之上。
  7. 如申請專利範圍第5項或第6項所述之液晶顯示裝置，其中該第二鈍化膜與該第三鈍化膜係由一種無機絕緣材料形成。
  8. 如申請專利範圍第1項所述之液晶顯示裝置，其中該第二基板包含有：複數個閘極線及資料線，係彼此相交叉，用以在該第二基板上定義一畫素區域；以及一畫素電極，係與該薄膜電晶體之一預設部份相連接且形成於該畫素區域中，以及一液晶層，係形成在該第一基板與該第二基板之間。
  9. 一種液晶顯示裝置之製造方法，係包含以下步驟：準備一第一基板，該第一基板具有一彩色濾光片；形成一薄膜電晶體於一第二基板上，其中該第二基板與該第一基板相面對；形成一圖案材料層於該第二基板上，其中該第二基板包含 有該薄膜電晶體；排列一軟模與該第二基板，其中該第二基板包含有該圖案材料層；形成一接觸孔、一第一鈍化膜以及一第一柱狀間隔物，係透過該軟模與該圖案材料層相接觸而實現；將該軟模從該圖案材料層上分離；形成一畫素電極於該接觸孔中；以及其中該圖案材料層係由一種有機絕緣材料形成，其中該有機絕緣材料由紫外光固化液態預聚物、光起始劑以及界面活性劑組成；以及其中該紫外光固化液態預聚物由紫外光固化丙烯酸酯預聚物製成，該紫外光固化丙烯酸酯預聚物係選自二-羥乙基丙烯酸(2-hydroxyethyl acrylate,HEA)、乙二醇二甲基丙烯酸酯(Ethyleneglycol dimethancrylate,EGDMA)、乙二醇苯基丙烯酸酯(Ethyleneglycol phenyletheracrylate,EGPEA)、乙二醇二甲基丙烯酸酯(Ethyleneglycol dimethancrylate,EGDMA)、羥丙基丙烯酸酯(hydroxypropyl acrylate,HPA)以及羥基苯氧丙基丙烯酸酯(Hydroxyl phenoxypropyl acrylate,HPPA)組成之群組。
  10. 如申請專利範圍第9項所述之液晶顯示裝置之製造方法，其中該軟模配設有複數個凸起圖案，用以形成該接觸孔，以及複數個凹進圖案，用以形成該柱狀間隔物。
TW096150388A 2007-04-09 2007-12-26 液晶顯示裝置及其製造方法 TWI395026B (zh)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020070034743A KR101329079B1 (ko) 2007-04-09 2007-04-09 액정표시장치 및 그의 제조방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW200841096A TW200841096A (en) 2008-10-16
TWI395026B true TWI395026B (zh) 2013-05-01

Family

ID=39673343

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW096150388A TWI395026B (zh) 2007-04-09 2007-12-26 液晶顯示裝置及其製造方法

Country Status (5)

Country Link
US (2) US8107048B2 (zh)
EP (1) EP1980903B1 (zh)
KR (1) KR101329079B1 (zh)
CN (1) CN101285970B (zh)
TW (1) TWI395026B (zh)

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7746444B2 (en) * 2006-06-26 2010-06-29 Lg Display Co., Ltd. Array substrate, liquid crystal display device having the same, and manufacturing method thereof
US7838313B2 (en) * 2007-07-31 2010-11-23 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Pixel well electrode
KR20100024751A (ko) * 2008-08-26 2010-03-08 삼성전자주식회사 액정표시장치 및 그 제조방법
KR101481833B1 (ko) * 2008-11-07 2015-01-22 엘지디스플레이 주식회사 액정표시장치 및 그의 제조방법
TWI402581B (zh) * 2009-03-20 2013-07-21 Chunghwa Picture Tubes Ltd 液晶顯示器
DE102009028241A1 (de) * 2009-08-05 2011-02-10 Robert Bosch Gmbh Halbleiteranordnung
KR20110057981A (ko) * 2009-11-25 2011-06-01 삼성전자주식회사 액정 표시 장치 및 그 제조 방법
KR101715849B1 (ko) 2010-07-02 2017-03-14 엘지디스플레이 주식회사 스위처블 입체 전환 수단의 제조 방법
TWI432798B (zh) * 2011-10-03 2014-04-01 Benq Materials Corp 彩色濾光片及其製造方法
JP5851317B2 (ja) * 2012-04-10 2016-02-03 株式会社ジャパンディスプレイ 液晶表示装置
KR101947379B1 (ko) * 2012-09-27 2019-04-25 엘지디스플레이 주식회사 전기영동 표시소자와 이의 제조방법
CN103293776A (zh) * 2013-05-07 2013-09-11 北京京东方光电科技有限公司 一种阵列基板及其制备方法、显示装置
KR102101734B1 (ko) 2013-12-13 2020-04-21 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시 장치 및 이의 제조 방법
US9482905B2 (en) 2014-06-18 2016-11-01 Apple Inc. Display with column spacer structures
CN104317112A (zh) * 2014-10-28 2015-01-28 京东方科技集团股份有限公司 液晶显示面板及其制备方法、液晶显示装置
KR102410039B1 (ko) * 2015-11-30 2022-06-20 엘지디스플레이 주식회사 표시장치의 화소구조 및 이를 포함한 터치스크린 내장형 표시장치
CN107180925B (zh) * 2017-07-20 2019-07-16 京东方科技集团股份有限公司 阵列基板的制作方法及显示装置的制作方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20040126942A1 (en) * 2002-12-27 2004-07-01 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Data pad region of liquid crystal display panel and fabricating method thereof
TW200411260A (en) * 2002-09-26 2004-07-01 Samsung Electronics Co Ltd Liquid crystal display, panel therefor, and manufacturing method thereof
US20060197892A1 (en) * 2005-03-04 2006-09-07 Sharp Kabushiki Kaisha Reflection-type display device and method for producing the same
US20060290025A1 (en) * 2005-06-24 2006-12-28 Lg Philips Lcd Co., Ltd. Soft mold and method for fabricating the same

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW463068B (en) * 1995-10-12 2001-11-11 Toshiba Corp Liquid crystal display device
TWI226470B (en) * 1998-01-19 2005-01-11 Hitachi Ltd LCD device
JP2000180862A (ja) 1998-12-11 2000-06-30 Ricoh Microelectronics Co Ltd 液晶表示装置用スペーサ形成方法、液晶表示装置用スペーサ形成装置、及び、液晶表示装置
JP3525102B2 (ja) * 2000-08-10 2004-05-10 シャープ株式会社 液晶表示パネルの製造方法
JP2002341355A (ja) * 2001-05-16 2002-11-27 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示装置の製造方法およびアレイ基板ならびに液晶表示装置
JP3976544B2 (ja) * 2001-10-29 2007-09-19 Ｎｅｃ液晶テクノロジー株式会社 液晶表示装置及びその製造方法
US7903209B2 (en) * 2001-11-02 2011-03-08 Samsung Electronics Co., Ltd. Reflection-transmission type liquid crystal display device and method for manufacturing the same
JP2003202589A (ja) * 2001-12-28 2003-07-18 Fujitsu Display Technologies Corp 液晶表示装置及びその製造方法
JP4276988B2 (ja) 2003-09-22 2009-06-10 大日本印刷株式会社 液晶表示装置およびその製造方法
KR101074947B1 (ko) * 2003-12-27 2011-10-18 엘지디스플레이 주식회사 박막트랜지스터 어레이 기판 및 그 제조방법
US7561245B2 (en) * 2004-02-25 2009-07-14 Lg Display Co., Ltd. Liquid crystal display device and method of fabricating the same
KR101086476B1 (ko) * 2004-04-14 2011-11-25 엘지디스플레이 주식회사 액정표시패널 및 그 제조방법
KR20070001659A (ko) * 2005-06-29 2007-01-04 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정 표시 장치 및 그 제조 방법
KR20070036286A (ko) 2005-09-29 2007-04-03 삼성전자주식회사 액정 표시 장치 및 그 제조 방법
KR101157966B1 (ko) * 2005-12-29 2012-06-25 엘지디스플레이 주식회사 액정표시소자의 제조방법
KR101224582B1 (ko) * 2006-01-16 2013-01-22 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시 패널 및 그 제조 방법
US7749178B2 (en) 2006-02-01 2010-07-06 Jimmyjane, Inc. Inductively chargeable massager
KR100857521B1 (ko) * 2006-06-13 2008-09-08 엘지디스플레이 주식회사 박막트랜지스터 제조용 몰드의 제조방법 및 그 제조장비
KR101308444B1 (ko) * 2006-12-04 2013-09-16 엘지디스플레이 주식회사 평판표시소자의 제조장치 및 그 제조방법
KR101274048B1 (ko) * 2007-04-19 2013-06-12 엘지디스플레이 주식회사 액정표시패널 및 그 제조방법

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW200411260A (en) * 2002-09-26 2004-07-01 Samsung Electronics Co Ltd Liquid crystal display, panel therefor, and manufacturing method thereof
US20040126942A1 (en) * 2002-12-27 2004-07-01 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Data pad region of liquid crystal display panel and fabricating method thereof
US20060197892A1 (en) * 2005-03-04 2006-09-07 Sharp Kabushiki Kaisha Reflection-type display device and method for producing the same
US20060290025A1 (en) * 2005-06-24 2006-12-28 Lg Philips Lcd Co., Ltd. Soft mold and method for fabricating the same

Also Published As

Publication number Publication date
EP1980903B1 (en) 2012-05-16
EP1980903A2 (en) 2008-10-15
EP1980903A3 (en) 2009-03-04
US20120107980A1 (en) 2012-05-03
CN101285970A (zh) 2008-10-15
US20080246906A1 (en) 2008-10-09
US8107048B2 (en) 2012-01-31
KR101329079B1 (ko) 2013-11-20
CN101285970B (zh) 2011-02-09
KR20080091638A (ko) 2008-10-14
US8773631B2 (en) 2014-07-08
TW200841096A (en) 2008-10-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI395026B (zh) 液晶顯示裝置及其製造方法
US7755737B2 (en) Liquid crystal panel and method of manufacturing the same
KR100798232B1 (ko) 컬러 필터 기판 및 그것을 구비하는 액정 표시 패널
US8477270B2 (en) Liquid crystal display panel and method for fabricating the same
US8755018B2 (en) Liquid crystal display mother panel comprising primary spacers and secondary spacers wherein the primary spacers are surrounded by a primary sealant element
US20050231669A1 (en) Liquid crystal display panel and method of fabricating the same
US9134572B2 (en) Liquid crystal panel and methods for fabricating liquid crystal panel, array substrate, and color filter substrate
WO2011004521A1 (ja) 表示パネル
US7838196B2 (en) Resist for soft mold and method for fabricating liquid crystal display using the same
US9684213B2 (en) BOA liquid crystal panel and manufacturing method thereof
US20080291384A1 (en) Display apparatus and method of manufacturing the same
US8932041B2 (en) Mold structure, patterning method using the same, and method of fabricating liquid crystal display device
KR101351398B1 (ko) 액정표시장치 및 그의 제조방법
US20110221990A1 (en) Display device and method of manufacturing the same
KR20130049108A (ko) 다중 컬럼스페이서를 보유한 액정표시소자
KR101352111B1 (ko) 액정표시장치 및 그의 제조방법
KR20080079141A (ko) 이중 컬럼스페이서구조의 액정표시소자 및 그 제조방법
JP4385899B2 (ja) マイクロレンズアレイ板及びその製造方法、並びに、電気光学装置及び電子機器
KR101481833B1 (ko) 액정표시장치 및 그의 제조방법
KR20080110063A (ko) 액정표시장치 및 그의 제조방법
JP2013125135A (ja) 液晶表示装置及びその製造方法
KR20140005066A (ko) 이중 스페이서구조 액정표시소자
CN102393543A (zh) 彩色滤光片及其制造方法
KR20080110062A (ko) 액정표시장치 및 그의 형성방법

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees