TWI389991B - 可固化之組成物，經固化之層，及疊層物 - Google Patents

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Description

可固化之組成物，經固化之層，及疊層物
本發明係關於一種可固化之組成物，此可固化之組成物的經固化之層，及疊層物。更特別地，本發明係關於一種可固化之組成物，其展現卓越的應用性，且其可形成塗層(膜)而具有高硬度且展現卓越的抗刮性及對相鄰層(如基材或在基材表面上之高折射係數層)的黏合，各種基材例如為塑膠(例如聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯、聚酯、聚烯烴、環氧樹脂、三聚氰胺樹脂、三乙醯基纖維素樹脂、ABS樹脂、AS樹脂、及原冰片烯樹脂)、金屬、木材、紙、玻璃、及石板，且關於一種硬塗層固化膜，其僅顯示少量之捲縮且展現卓越的撓曲性及抗化學性。
近年來，已需要一種可固化之組成物，其具有卓越的應用性且能在各種基材上形成固化膜而具有卓越的硬度、撓曲性、抗刮性、抗磨耗性、低捲縮性質(固化膜顯示少量翹曲)、黏合、透明度、抗化學性、及外觀，可在基材之表面上作為保護塗層材料而用於預防刮痕或沾污；用於基材的膠黏劑或密封材料；及用於油墨之黏著劑材料。
在抗反射膜的各種用途之中，如薄膜型液晶元件、觸控板、或塑膠光學元件，已需要一種能形成具有高折射率的固化膜的可固化之組成物。
在一些抗反射膜用途之中，如用於薄膜型液晶元件、觸控板、或塑膠光學元件，已需要能形成具有高折射率之固化膜的可固化之組成物。
為了滿足該要求，已提出各種組成物。然而，尚未得到一種可固化之組成物，其展現卓越的應用性，且其所製作的固化膜可展現卓越的硬度及撓曲性，且具有低捲縮性質。
例如在已發表PCT國際公告案號58－500251的日本轉譯中，提出採用內含使用甲基丙烯基氧基甲矽烷及丙烯酸酯作為輻射線(光)可固化之塗層材料改良的膠體二氧化矽之表面所得到的微粒之組成物的技藝，由於卓越的應用性及其類似者，此類輻射線可固化之組成物已廣汎地使用(日本專利申請早期公開案No.10－273595、日本專利申請早期公開案No.2000－143924、日本專利申請早期公開案No.2000－281863、日本專利申請早期公開案No.2000－49077、日本專利申請早期公開案No.2001－89535及日本專利申請早期公開案No.2001－200023)。
日本專利申請早期公開案No.2003－313329揭示一種降低硬塗層之捲縮的技藝。然而，因為此技藝須要高達150℃的處理，此技藝不適用於一些膜的用途如三乙醯基纖維素(TAC)膜及針對必須不能保持其加熱史之用途的碟片。此技藝須要熱膨脹膠囊作為必要成分，且不同於本發明的用途及結構。
日本專利申請早期公開案No.2004－141732揭示此組成物之固化產物，其包含具有異氰尿酸酯環結構的化合物。然而，此技藝經由增強膜厚以提供高硬度而未使用微粒。
當在上述組成物之固化產物上施用低折射係數膜，且使用所生成的疊層物作為抗反射膜，其抗反射效應可改進到某些程度。然而，此抗反射膜未能展現良好平衡的硬度、撓曲性、及捲縮性質。
基於上述問題，已達成本發明。本發明的一項目標在提供一種可固化之組成物，其具有卓越的應用性，且能在各種基材之表面上形成塗層(膜)而具有高硬度、高撓曲性、及低捲縮性質，及具有卓越抗化學性的硬塗層固化膜。
依據本發明，在此可提供下列可固化之組成物、固化產物、及疊層物。一種可固化之組成物，其包含：(A)30至80wt%的其上鍵結了內含可聚合的不飽和基團之有機化合物的金屬氧化物微粒；及(B)5至50wt%在分子中具有芳香環結構且內含三或更多(甲基)丙烯醯基基團的胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯，其限制條件為排除有機溶劑的組成物總量為100wt%。
本發明可固化之組成物可展現卓越的應用性，且在基材之表面上所形成的塗層具有高硬度、低捲縮性質、及卓越的撓曲性，且可提供一種包含此組成物之固化產物的固化膜。
如下將詳細記述本發明可固化之組成物、可固化之組成物的固化產物、及疊層物的具體實施例。
I.可固化之組成物本發明可固化之組成物包含(A)30至80wt%的其上鍵結了內含可聚合的不飽和基團之有機化合物的金屬氧化物微粒，與(B)5至50wt%在分子中具有芳香環結構且內含三或更多(甲基)丙烯醯基基團的胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯。
如下將詳細記述本發明可固化之組成物的成分。
1.其上鍵結了內含可聚合的不飽和基團之有機化合物的金屬氧化物微粒(A)使用於本發明中的成分(A)為可經由鍵結(Aa)金屬氧化物微粒與(Ab)內含可聚合的不飽和基團之有機化合物所得到的微粒(以下稱為"反應性微粒")。成分(Aa)與(Ab)可經由共價鍵、或非共價鍵結(如經由物理吸附)而鍵結。
(1)金屬氧化物微粒(Aa)基於所生成的可固化之組成物的固化膜的硬度及無色之觀點，使用於本發明中的金屬氧化物微粒(Aa)宜為至少一個自下列各者所組成族群中選出的元素之金屬氧化物微粒：矽、鋁、鋯、鈦、鋅、鍺、銦、錫、銻、及鈰。
作為金屬氧化物微粒(Aa)之實施例，可提出二氧化矽微粒、氧化鋁微粒、氧化鋯微粒、氧化鈦微粒、氧化鋅微粒、氧化鍺微粒、氧化銦微粒、氧化錫微粒、氧化銻錫(ATO)微粒、氧化銦錫(ITO)微粒、氧化銻微粒、氧化鈰微粒、及其類似者。在此類之中，較佳為二氧化矽微粒、氧化鋁微粒、氧化鋯微粒、及氧化銻微粒，此係基於高硬度之觀點，且以氧化鋯微粒為特別較佳。使用鋯、鈦、或其類似者的氧化物微粒可得到高折射係數固化膜。可經由使用ATO微粒或其類似者而提供固化膜的導電率。此類微粒可個別使用或合併二或更多者而使用。較佳的氧化物微粒(Aa)呈粉末的形式或分散在液體中的形式。當使用的氧化物微粒(Aa)呈液體分散劑的形式，分散介質宜為有機溶劑，基於與其它成分可溶混性及微粒分散性之觀點。作為有機溶劑之實施例，可提出醇類如甲醇、乙醇、異丙醇、丁醇、及辛醇：酮類如丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、及環己酮，酯類如乙酸乙酯、乙酸丁酯、乳酸乙酯、γ－丁內酯、丙二醇單甲基醚乙酸酯、及丙二醇單***乙酸酯；醚類如乙二醇單甲基醚及二甘醇單丁基醚，芳族烴類如苯、甲苯、及二甲苯；醯胺類如二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺、及N－甲基吡咯烷酮；及其類似者。尤其，較佳為甲醇、異丙醇、丁醇、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、乙酸乙酯、乙酸丁酯、甲苯、及二甲苯。
金屬氧化物微粒(Aa)經由電子顯微鏡測量的數目平均粒徑宜在0.001至2 μ m，而更佳為0.001至0.2 μ m，且特別宜為0.001至0.1 μ m。若數目平均粒徑超過2 μ m，所生成的固化產物可能會有降低的透明度，或可能會有損生成膜的表面狀態。為改良微粒之分散性，可加入各種界面活性劑或胺類。
作為膠體二氧化矽(二氧化矽微粒)的商購產物，可提出Methanol Silica Sol、IPA－ST、MEK－ST、NBA－ST、XBA－ST、DMAC－ST、ST－UP、ST－OUP、ST－20、ST－40、ST－C、ST－N、ST－O、ST－50、ST－OL(由Nissan Chemical Industries公司製作)、及其類似者。作為粉末狀的二氧化矽的商購產物，可提出Aerosil 130、Aerosil 300、Aerosil 380、Aerosil TT600、Aerosil OX50(由Nippon Aerosil公司製作)，Sildex H31、H32、H51、H52、H121、H122(由Asahi Glass公司製作)，E220A、E220(由Nippon Silics Industrial公司製作)，Sylysia 470(由Fuji Silysia Chemical公司製作)，SG Flake(由Nippon Sheet Glass製作)、及其類似者。
氧化鋁之水溶性分散的產物在商購上有Alumina Sol－100、Alumina Sol－200、Alumina Sol－520(由Nissan Chemical Industries公司製作)；氧化鋁之異丙醇分散產物在商購上有AS－150I(由Sumitomo Osaka Cement公司製作)；氧化鋁之甲苯分散產物在商購上有AS－150T(由Sumitomo Osaka Cement公司製作)；氧化鋯之甲苯分散產物在商購上有HXU－110JC(由Sumitomo Osaka Cement公司製作)；銻酸鋅粉末之水溶性分散產物在商購上有Celnax(由Nissan Chemical Industries公司製作)；氧化鋁、氧化鈦、氧化錫、氧化銦、或氧化鋅的粉末或溶劑分散之產物在商購上有NanoTek(由C.I.Kasei公司製作)；氧化銻錫的水溶性分散溶膠在商購上有SN－100D(由Ishihara Sangyo Kaisha公司製作)；ITO粉末在商業上可購自Mitsubishi Materials Corporation；且氧化鈰水溶性分散之產物在商購上有Needral(由Taki Chemical公司製作)。
金屬氧化物顆粒(Aa)之形狀可為球狀、中空、多孔、桿狀、板狀、纖維狀、或非結晶形的。金屬氧化物顆粒(Aa)宜為球狀。金屬氧化物微粒(Aa)的比表面積(經由BET方法使用氮測定)宜在10至1000 m2 /g，且再更佳為100至500 m2 /g。金屬氧化物微粒(Aa)可呈乾燥粉末形式或分散在水或有機溶劑之中的形式使用。例如可使用在此技藝中已知的細微金屬氧化物微粒的液體分散劑。在針對生成的固化產物需要卓越透明度的用途中，宜使用金屬氧化物微粒的液體分散劑。
(2)有機化合物(Ab)使用於本發明中的有機化合物(Ab)為內含可聚合的不飽和基團之化合物。有機化合物(Ab)宜另外含有由下式(1)所示基團。有機化合物(Ab)宜含有基團〔－O－C(＝O)－NH－〕與〔－O－C(＝S)－NH－〕與〔－S－C(＝O)－NH－〕中至少一個基團。有機化合物(Ab)宜為在分子中含有矽醇基團的化合物或經由水解而形成矽醇基團的化合物。
其中U代表NH、O(氧原子)、或S(硫原子)，且V代表O或S。
(i)可聚合的不飽和基團包含在有機化合物(Ab)中之可聚合的不飽和基團無特定的限制。作為可聚合的不飽和基團之較佳實施例，可提出丙烯醯基基團、甲基丙烯醯基基團、乙烯基基團、丙烯基基團、丁二烯基基團、苯乙烯基基團、乙炔基基團、桂皮醯基基團、順丁烯二酸酯基團、及丙烯醯胺基團。
可聚合的不飽和基團為在活化自由基物種的存在下經歷加成聚合的結構單元。
(ii)由式(1)所示的基團包含在有機化合物中由式(1)所示的基團〔－UC(＝V)－NH－〕為〔－O－C(＝O)－NH－〕、〔－O－C(＝S)－NH－〕、〔－S－C(＝O)－NH－〕、〔－NH－C(O)－NH－〕、〔－NH－C(＝S)－NH－〕，或〔－S－C(＝S)－NH－〕。此等基團可個別使用或合併二或更多者而使用。尤其，基於熱穩定性之觀點，宜將基團〔－O－C(＝O)－NH－〕與至少一個基團〔－O－C(＝S)－NH－〕與〔－S－C(＝O)－NH－〕合併使用。
假定由式(1)所示的基團〔－U－C(＝V)－NH－〕由於氫鍵而導致發生介於分子之間的中等結合力，將提供生成的固化產物一些性質如卓越的機械強度、對基材或相鄰層如高折射係數層優越的黏合、及卓越的耐熱性。
(iii)矽醇基團或經由水解而形成矽醇基團的基團有機化合物(Ab)宜為在分子中含有矽醇基團的化合物或經由水解而形成矽醇基團的化合物。作為可產生矽醇基團的化合物，可提出其中有烷氧基基團、芳氧基基團、乙醯氧基基團、胺基、鹵原子、或其類似者鍵結至矽原子的化合物。尤其，其中有烷氧基基團或芳氧基基團鍵結至矽原子的化合物，尤其是，內含烷氧基矽烷基基團的化合物或內含芳氧基矽烷基基團的化合物為較佳的。
可產生矽醇基團的化合物中矽醇基團或形成矽醇基團的位點為一種結構單元，其可經由縮合或發生於水解之後的縮合而鍵結至氧化物微粒(Aa)。
(iv)較佳的具體實施例作為有機化合物(Ab)的較佳實施例，可提出由以下式(2)所示的化合物。
在式(2)中，R4 與R5 分別地代表氫原子或具有1至8個碳原子的烷基基團或芳基基團，如甲基基團、乙基基團、丙基基團、丁基基團、辛基基團、苯基基團、或二甲苯基基團。j代表1至3之整數。
作為由〔(R4 O)j R5 3 － j S－〕所示基團之實施例，可提出三甲氧基矽烷基基團、三乙氧基矽烷基基團、三苯氧基矽烷基基團、甲基二甲氧基矽烷基基團、二甲基甲氧基矽烷基基團、及其類似者。在此等基團中，以三甲氧基矽烷基基團或三乙氧基矽烷基基團為較佳的。
R6 代表具有帶有1至12個碳原子的脂肪族結構或芳族結構之二價有機基團。且可包括線性、分枝、或環型結構。作為該有機基團的特定實施例，可提出亞甲基、亞乙基、亞丙基、亞丁基、六亞甲基、伸環己基、伸苯基、伸二甲苯基、十二亞甲基、及其類似者。
R7 代表二價有機基團，其係選自分子量為14至10,000的二價有機基團，且宜在76至500。作為該有機基團的特定實施例，可提出線型聚伸烷基基團如六亞甲基、八亞甲基、及十二亞甲基；二價脂環族或多環有機基團如伸環己基及原冰片烯；二價芳族基團如伸苯基、伸萘基、伸聯苯基、及聚伸苯基：及此等基團經烷基取代的產物或芳基取代之產物。此類二價有機基團可包含內含除了碳原子及氫原子之外元素的原子基團，且可包含聚醚鍵結、聚酯鍵結、聚醯胺鍵結、或聚碳酸酯鍵結。
R8 代表價數為”k＋1”的有機基團，且較佳係選自線性、分枝、或環型飽和或不飽和烴基團。
Z代表內含可聚合的不飽和基團之單價有機基團，其在活化自由基物種的存在下會發生分子間交聯反應。在分子中，k代表宜為1至20之整數，再更佳為1至10，且特別宜為1至5。
作為由式(2)所示的化合物之特定實施例，可提出由以下式(4－1)與(4－2)所示的化合物。
其中"Acryl"代表丙烯醯基基團，且"Me"代表甲基基團。
使用於本發明中的有機化合物(Ab)，例如可經由使用揭示於日本專利申請早期公開案No.9－100111中的方法所合成。有機化合物(Ab)的製作，宜在二月桂酸二丁基錫的存在下，將氫硫基丙基三甲氧基甲矽烷與異佛爾酮二異氰酸酯在60至70℃反應數小時，將三丙烯酸季戊四醇酯加入反應產物中，且在60至70℃將混合物反應約數小時。
(3)反應性微粒(A)將內含矽醇基團或經由水解而產生矽醇基團的基團之有機化合物(Ab)，與金屬氧化物微粒(Aa)混合，且水解而鍵結金屬氧化物微粒(Aa)與有機化合物(Ab)。在生成的反應性微粒(A)中有機聚合物成分的含量(即可水解的矽烷之水合物與縮合物)，可經由在空氣中從室溫到800℃作熱重分析至固定的重量損失(%)而測定，例如當在空氣中完全地燃燒乾燥粉末。
鍵結至氧化物微粒(Aa)上的有機化合物(Ab)含量宜在0.01wt%或更多，而更佳為0.1wt%或更多，且特別宜為1wt%或更多，針對100wt%的反應性微粒(A)(金屬氧化物微粒(Aa)與有機化合物(Ab)的總和)中。若鍵結至金屬氧化物微粒(Aa)上的有機化合物(Ab)之含量少於0.01wt%，反應性微粒(A)在組成物中之分散性可能不充分，從而使生成的固化產物可能會有不充分的透明度及抗刮性。當製備反應性微粒(A)時，在生料中金屬氧化物微粒(Aa)含量宜在5至99wt%，且更宜在10至98wt%。
在可固化之組成物中反應性微粒(A)的用量(含量)必須為30至80wt%，且更佳為40至60wt%，針對100wt%的不計有機溶劑的組成物總量。若含量少於30wt%，所生成的固化產物可能會有不充分的硬度或可能具有低折射率。若含量超過80wt%，膜成形能力可能不充分。在此案例中，氧化物微粒(Aa)宜佔反應性微粒(A)的65至95wt%。反應性微粒(A)的含量意指固含量。當反應性微粒(A)呈液體分散劑的形式而使用，反應性微粒(A)含量不計分散介質的含量。
2.在分子中具有芳香環結構且內含三或更多(甲基)丙烯醯基基團的胺基甲酸(甲基)丙烯酸酯(B)成分(B)為在分子中具有芳香環結構且內含三或更多(甲基)丙烯醯基基團之胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯。(甲基)丙烯醯基基團的數目宜為六或更多，且更佳為八或更多。成分(B)可使由本發明可固化之組成物固化所製作的固化產物降低捲縮，而維持固化產物之硬度。
加入成分(B)可增加介於交聯點之間的距離以降低捲縮量。此外，因為具有芳香環結構的胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯具有結晶性，可改進機械強度及韌性，而使得甚至若介於交聯點之間的距離增加時仍可維持硬度。
在作為成分(B)的化合物中之芳香環結構未特別地限制。作為芳香環結構，較佳為苯環、稠苯環如萘環、蒽環、菲環、茚烯環、及芘環，雜芳香環如噻吩環、吡咯環，呋喃環，及吡啶環，及其類似者。
成分(B)中每個(甲基)丙烯醯基基團的分子量宜在400或更低，且再更佳為300或更低。若每個(甲基)丙烯醯基基團的分子量宜在400或更低，可改進抗刮性。
作為較佳地作為成分(B)的化合物，由可提出以下式(3)所示的化合物(以下稱為"PTP")。
在合適的胺基甲酸酯化觸媒的存在下，於60℃將具有芳香環的二異氰酸酯及內含羥基基團的(甲基)丙烯酸化合物攪拌六小時，可得到由式(3)所示的化合物。
作為具有芳香環的二異氰酸酯之實施例，可提出2,4-伸甲苯二異氰酸酯、2,6-伸甲苯二異氰酸酯、1,3-伸二甲苯二異氰酸酯、1,4-伸二甲苯二異氰酸酯、1,5-萘二異氰酸酯、間伸苯基二異氰酸酯、對伸苯基二異氰酸酯、3,3'-二甲基-4,4'-二苯基甲烷二異氰酸酯、4,4'-二苯基甲烷二異氰酸酯、3,3'-二甲基伸苯基二異氰酸酯、4,4'-伸聯苯基二異氰酸酯、6-異丙基-1,3-苯基二異氰酸酯、-二苯基丙烷二異氰酸酯、四甲基伸二甲苯二異氰酸酯、及其類似者。在此類之中，2,4-伸甲苯二異氰酸酯及其類似者係特別較佳的。
作為內含羥基基團的(甲基)丙烯酸化合物的特定實施例，可提出(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸2-羥基-3-苯氧基丙酯、單(甲基)丙烯酸1,4-丁二醇酯、(甲基)丙烯醯基磷酸2-羥烷基酯、(甲基)丙烯酸4-羥基環己酯、單(甲基)丙烯酸1,6-己二醇酯、單(甲基)丙烯酸新戊二醇酯、二(甲基)丙烯酸三羥甲基丙烷酯、二(甲基)丙烯酸三羥甲基乙烷酯、三(甲基)丙烯酸季戊四醇酯、五(甲基)丙烯酸二季戊四醇酯、由下式(6－1)與(6－2)所示的(甲基)丙烯酸酯、由(甲基)丙烯酸與內含甘油基基團的化合物如烷基甘油基醚、烯丙基甘油基醚之加成反應所得到的化合物、或(甲基)丙烯酸甘油酯、及其類似者。
其中R1 代表氫原子或甲基基團，且n代表1至15之整數。在此類之中，三(甲基)丙烯酸季戊四醇酯及其類似者為較佳的。
作為胺基甲酸酯化觸媒的特定實施例，可提環烷酸銅、環烷酸鈷、環烷酸鋅、二月桂酸二丁基錫、三乙胺、1,4－重氮雙環〔2.2.2〕辛烷、2,6,7－三甲基－1,4－重氮雙環〔2.2.2〕辛烷、及其類似者出。在此類之中，二月桂酸二丁基錫及其類似者為較佳的。
在本發明可固化之組成物中成分(B)之含量為5至50wt%，再更佳為10至40wt%，且再更佳為20至40wt%，基於100 wt %排除有機溶劑的組成物總量。若成分(B)之含量少於5wt%，將不能得到加成效應。若成分(B)之含量超過50wt%，所生成的塗層可能會有不充分的機械強度。
3.除了成分(B)之外在分子中含有二或更多可聚合的不飽和基團之化合物(C)選擇性地，除了成分(B)之外，本發明組成物可包含在分子中含有二或更多可聚合的不飽和基團的(C)化合物。成分(C)未特別地限制。成分(C)較佳為多官能性(甲基)丙烯酸酯。
適當地使用化合物(C)，可改良所生成固化膜的撓曲性。
作為化合物(C)的多官能性(甲基)丙烯酸酯化合物，可為在分子中含有二或更多可聚合的不飽和基團之(甲基)丙烯酸酯單體。適當地使用多官能性(甲基)丙烯酸酯化合物，以改良所生成固化膜的可固化性與硬度。在此使用的措辭”多官能性”意指在分子中含有二或更多(甲基)丙烯醯基基團的(甲基)丙烯酸酯化合物。基於膜成形能力與硬度之觀點，三或更高官能性的(甲基)丙烯酸酯化合物為較佳的，具有五或更高官能性的(甲基)丙烯酸酯化合物為更佳的。
作為多官能性(甲基)丙烯酸酯化合物的較佳實施例，可提出三(甲基)丙烯酸三羥甲基丙烷酯、四(甲基)丙烯酸二(三羥甲基丙烷)酯、三(甲基)丙烯酸季戊四醇酯、四(甲基)丙烯酸季戊四醇酯、五(甲基)丙烯酸二季戊四醇酯、六(甲基)丙烯酸二季戊四醇酯、三(甲基)丙烯酸甘油酯、三(2－羥乙基)異氰尿酸酯三(甲基)丙烯酸酯、二(甲基)丙烯酸乙二醇酯、二(甲基)丙烯酸1,3－丁二醇酯、二(甲基)丙烯酸1,4－丁二醇酯、二(甲基)丙烯酸1,6－己二醇酯、二(甲基)丙烯酸新戊二醇酯、二(甲基)丙烯酸二甘醇酯、二(甲基)丙烯酸三甘醇酯、二(甲基)丙烯酸二丙二醇酯、雙(2－羥乙基)異氰尿酸酯二(甲基)丙烯酸酯、此類(甲基)丙烯酸酯起始醇類的環氧乙烷或環氧丙烷之加成產物的聚(甲基)丙烯酸酯、寡酯(甲基)丙烯酸酯、寡醚(甲基)丙烯酸酯、及在分子中具有二或更多(甲基)丙烯醯基基團的寡環氧(甲基)丙烯酸酯，及其類似者。在此類之中，較佳為六(甲基)丙烯酸二季戊四醇酯、五(甲基)丙烯酸二季戊四醇酯、四(甲基)丙烯酸季戊四醇酯、及二(三羥甲基丙烷)四(甲基)丙烯酸酯。
作為多官能性(甲基)丙烯酸酯化合物的商購產物，可提出Nikalac MX－302(由Sanwa Chemical公司製作)；Aronix M－400、M－402、M－403、M－404、M－408、M－450、M－305、M－309、M－310、M－313、M－315、M－320、M－325、M－326、M－327、M－350、M－360、M－208、M－210、M－215、M－220、M－225、M－233、M－240、M－245、M－260、M－270、M－1100、M－1200、M－1210、M－1310、M－1600、M－221、M－203、TO－924、TO－1270、TO－1231、TO－595、TO－756、TO－1343、TO－1382、TO－902、TO－904、TO－905、TO－1330(由Toagosei公司製作)；Kayarad D－310、D－330、DPHA、DPCA－20、DPCA－30、DPCA－60、DPCA－120、DN－0075、DN－2475、SR－295、SR－355、SR－399E、SR－494、SR－9041、SR－368、SR－415、SR－444、SR－454、SR－492、SR－499、SR－502、SR－9020、SR－9035、SR－111、SR－212、SR－213、SR－230、SR－259、SR－268、SR－272、SR－344、SR－349、SR－368、SR－601、SR－602、SR－610、SR－9003、PET－30、T－1420、GPO－303、TC－120S、HDDA、NPGDA、TPGDA、PEG400DA、MANDA、HX－220、HX－620、R－551、R－712、R－167、R－526、R－551、R－712、R－604、R－684、TMPTA、THE－330、TPA－320、TPA－330、KS－HDDA、KS－TPGDA、KS－TMPTA(由Nippon Kayaku公司製作)；Light Acrylate PE－4A、DPE－6A、DTMP－4A(由Kyoeisha Chemical公司製作)；及其類似者。上述化合物可個別使用或合併二或更多者而使用。
作為成分(C)，除上述多官能性(甲基)丙烯酸酯之外，可使用除了成分(B)之外，其中含有至少二個(甲基)丙烯醯基基團的胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯。
基本上，可將(a)聚異氰酸酯化合物及(b)內含羥基基團的內含(甲基)丙烯酸酯單體反應，而得到胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯。胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯可為內含另一寡聚物作為主鏈的胺基甲酸酯化合物。
胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯具有至少二個，較佳四或更多個，且更佳六或更多個(甲基)丙烯醯基基團。該胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯通常具有一種結構，將內含羥基基團的(甲基)丙烯酸酯單體(b)鍵結至具有2至6個異氰酸酯基團的聚異氰酸酯化合物(a)之各個異氰酸酯基團上。
由下式(7)所示的胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯可改良生成的固化膜之撓曲性及抗捲縮性質，而不會大程度影響固化膜之硬度。
其中"Acryl"代表丙烯醯基基團。
作為使用於本發明中的胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯的商購產物，可提出Beamset 102、502H、505A－6、510、550B、551B、575、575CB、EM－90、EM92(由Arakawa Chemical Industries公司製作)，Photomer 6008、6210(由San Nopco公司製作)，NK Oligo U－2PPA、U－4HA、U－6HA、H－15HA、UA－32PA、U－324A、U－4H、U－6H(由Shin－Nakamura Chemical公司製作)，Aronix M－1100、M－1200、M－1210、M－1310、M－1600、M－1960(由Toagosei公司製作)，AH－600、AT606、UA－306H(由Kyoeisha Chemical公司製作)，Kayarad UX－2201、UX－2301、UX－3204、UX－3301、UX－4101、UX－6101、UX－7101(由Nippon Kayaku公司製作)，UV－1700B、UV－3000B、UV－61006、UV－6300B、UV－7000、UV－2010B(由Nippon Synthetic Chemical Industry公司製作)，Art Resin UN－1255、UN－5200、HDP－4T、HMP－2、UN－901T、UN－3320HA、UN－3320HB、UN－3320HC、UN－3320HS、H－61、HDP－M20(由Negami Chemical Industrial公司製作)，Ebecryl 6700、204、205、220、254、1259、1290K、1748、2002、2220、4833、4842、4866、5129、6602、8301(由Daicel UBC公司製作)、及其類似者。在此類之中，U－6HA可較佳地作為內含三或更多(甲基)丙烯酸酯基團之胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯。
使用於本發明中的成分(C)之含量宜在0至40wt%，且更佳為0至35 wt%，針對100 wt%排除有機溶劑的組成物總量。若含量為0至40wt%，所生成的固化膜預期可展現改良的撓曲性及抗捲縮性質。
4.自由基聚合起始劑(D)本發明組成物可選擇性地包含(D)自由基聚合起始劑。
作為自由基聚合起始劑(D)之實施例，可提出於加熱中會產生活化自由基物種的化合物(熱聚合起始劑)，與於照射輻射線(光)會產生活化自由基物種的化合物(輻射線(光)聚合起始劑)。
輻射線(光)聚合起始劑無特定的限制，只要於照射下起始劑會分解且產生自由基而引發聚合。輻射線(光)聚合起始劑之實施例包括乙醯苯酮、乙醯苯酮苄基縮酮、1－羥基環己基苯基酮、2,2－二甲氧基－1,2－二苯基乙－1－酮、氧二苯甲酮、芴酮、苯甲醛、芴、蒽醌、三苯基胺、咔唑、3－甲基乙醯苯酮、4－氯苯甲酮、4,4'－二甲氧基苯甲酮、4,4'二胺基苯甲酮、二苯乙二酮丙基醚、二苯乙二酮***、苄基二甲基縮酮、1－(4－異丙基苯基)－2－羥基－2－甲基丙－1－酮、2－羥基－2－甲基－1－苯基丙－1－酮、硫基黃酸酮、二乙基硫氧二苯甲酮、2－異丙基硫氧二苯甲酮、2－氯硫氧二苯甲酮、2－甲基－1－〔4－(甲基硫)苯基)－2－嗎福啉基－丙－1－酮、2－苄基－2－二甲胺基－1－(4－嗎福啉基苯基)－丁酮－1,4－(2－羥乙氧基)苯基－(2－羥基－2－丙基)酮、2,4,6－三甲基苯甲醯基二苯基膦氧化物、雙(2,6－二甲氧基苯甲醯基)－2,4,4－三甲基戊基膦氧化物、寡(2－羥基－2－甲基－1－(4－(1－甲基乙烯基)苯基)丙酮)、及其類似者。
作為輻射線(光)聚合起始劑的商購產物，可提出Irgacure 184、369、651、500、519、907、784、2959、CGI1700、CGI1750、CGI1850、CG24－61、Darocur 1116、1173(由Ciba Specialty Chemicals公司製作)、Lucirin TPO(由BASF製作)、Ebecryl P36(由UCB製作)、Esacure KIP150、KIP65LT、KIP100F、KT37、KT55、KTO46、KIP75/B(由Lamberti製作)、及其類似者。
使用於本發明中的作為任意成分的自由基聚合起始劑(D)，其含量宜在0.01至10wt%，且更佳為0.1至10wt%，針對100wt%排除有機溶劑的組成物總量。若含量少於0.01wt%，所生成的固化產物可能會有不充分的硬度。若含量超過10wt%，內部(較低層)的固化產物可能會保持未固化。
當固化本發明組成物時，若需要可合併使用光起始劑與熱聚合起始劑。
作為熱聚合起始劑較佳的實施例，可提出過氧化物及偶氮基化合物。特定的實施例包括過氧化二苯甲醯、第三丁基過氧苯甲酸鹽、偶氮基雙異丁腈、及其類似者。
5.有機溶劑(E)本發明組成物可用(E)有機溶劑稀釋以調整經由使用此組成物所形成的塗層之厚度。當此組成物用作為抗反射膜或塗層材料，此組成物的黏度通常為0.1至50,000 mpa．s/25℃，且宜在0.5至10,000 mPa．s/25℃。
作為有機溶劑(E)的特定實施例，可提出醇類如甲醇、乙醇、異丙醇、丁醇、及辛醇；酮類如丙酮、甲基乙基酮(MEK)、甲基異丁基酮(MIRK)、甲基戊基酮(MAK)、及環己酮；酯類如乙酸乙酯、乙酸丁酯、乳酸乙酯、γ－丁內酯、丙二醇單甲基醚乙酸酯、及丙二醇單***乙酸酯；醚類如乙二醇單甲基醚、二甘醇單丁基醚、及丙二醇單甲基醚；芳族烴類如苯、甲苯、及二甲苯；醯胺類如二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺、及N－甲基吡咯烷酮；及其類似者。在此類之中，較佳為高沸點溶劑如甲基乙基酮(MEK)、甲基異丁基酮(MIBK)、環己酮、丙二醇單甲基醚乙酸酯、丙二醇單***乙酸酯、丙二醇單甲基醚、甲苯、及二甲苯。
使用在本發明組成物中的有機溶劑(E)之含量通常佔組成物總量的30至60wt%，且宜在40至60wt%。若有機溶劑(E)含量為30至60wt%，此組成物可展現卓越的應用性。
6.其它成分本發明可固化之組成物可包含光敏劑、聚合抑制劑、聚合輔助劑、平坦劑、濕潤性改質劑、界面活性劑、塑化劑、UV吸收劑、抗氧化劑、抗靜電劑、無機填料、顏料、染料、或其類似者，只要不會損害本發明之效應。
7.製備組成物本發明組成物製備如下。在裝有攪拌器的反應容器中注入反應性顆粒液體分散劑(成分(A))、輻射線(光)聚合起始劑(成分(D))、多官能性(甲基)丙烯酸酯(成分(C))、具有芳香環結構的胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯(成分(B))、及胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯(成分(C))。於35至45℃將此混合物攪拌二小時以得到本發明組成物。
當將溶劑取代為不同於使用在反應性顆粒液體分散劑中的溶劑(A)之溶劑(B)時，也將溶劑(B)加入混合物中，其量與反應性顆粒液體分散劑之溶劑(A)的量相同，且於相同條件之下攪拌混合物。經由使用旋轉蒸發器於減壓之下濃縮此組成物溶液，直到固含量達到50%，而得到本發明組成物。
8.組成物的施用(塗覆)本發明可固化之組成物適合作為抗反射膜或塗層材料。作為施用此組成物的基材之實施例，可提出塑膠(例如聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸酯、聚苯乙烯、聚酯、聚烯烴、環氧樹脂、三聚氰胺樹脂、三乙醯基纖維素樹脂、ABS樹脂、AS樹脂、及原冰片烯樹脂)、金屬、木材、紙、玻璃、石板、及其類似者。此基材可呈板、膜、或三度空間成形產物之形狀。作為塗層方法，可提出一般的塗覆方法如浸塗、噴灑塗覆、流動塗覆、淋灑塗覆、滾筒塗覆、旋轉塗覆、或刷塗。於乾燥及固化之後的塗層之厚度通常0.1至400 μ m，且宜在1至200 μ m。
9.組成物之固化本發明可固化之組成物可經由加熱及/或輻射線(光)而固化。當經由加熱而固化組成物，可用電氣加熱器、紅外線燈、熱風、或其類似者作為熱源。當經由施用輻射線(光)而固化組成物，輻射線來源無特定的限制，只要組成物可在施用後於短時間之內固化。作為紅外線光源之實施例，可提出燈、電阻加熱板、雷射、及其類似者。作為可見光源之實施例，可提出日光、燈、螢光燈、雷射、及其類似者。作為紫外線光源之實施例，可提出汞燈、鹵素燈、雷射、及其類似者。作為電子束來源之實施例，可提出利用產自商購鎢絲的熱電子之系統，經由透過金屬而施用高電壓脈衝產生電子束的冷陰極方法，及使用經由介於離子化氣體分子與金屬電極之間碰撞所產生的二級電子之二級電子方法。作為α－射線、β－射線、及γ－射線的來源之實施例，可提出可***的物質如6 0 Co及其類似者。作為α－射線之來源，可利用會導致加速電子與陽極碰撞的真空管或其類似者。輻射線可個別使用或合併二或更多型態而使用。在後者案例中，可同時施用二或更多類型的輻射線或在特定間隔時間施用。
本發明組成物之固化反應可在空氣中或於厭氧性的條件之下如在氮氣下進行。甚至當本發明組成物於厭氧性的條件之下固化，所生成的固化產物可展現卓越的抗刮性。
II.經固化之層本發明的固化膜，其製作可將可固化之組成物施用至基材如塑膠基材上，且固化此施用的組成物。更詳細地。將此組成物施用於基材上，且於較佳在0至200℃之溫度將揮發成分乾燥。然後，經由如上述之加熱及/或輻射線使此組成物固化以得到塗覆成形產物。當經由加熱而固化此組成物，宜在20至150℃固化此組成物10秒至24小時。當經由施用輻射線而固化此組成物，宜使用紫外線或電子束，在此案例中，紫外線之劑量宜在0.01至10J/cm2 ，且更佳為0.1至2 J/cm2 。電子束宜施用10至300 KV的加速電壓，電子密度為0.02至0.30mA/cm2 ，且劑量為1至10 Mrad。
因為本發明的固化膜所形成的塗層(膜)可具有高硬度，於浸沒在熱水中之後僅顯示少量之捲縮，且展現卓越的抗刮性及卓越的對基材或相鄰層如低折射係數層之黏合，此固化膜特別適合作為用於薄膜型液晶元件、觸控板、塑膠光學元件、及其類似者的抗反射膜。
III.疊層物本發明的固化膜通常層壓在基質上作為硬塗覆層。適合作為抗反射膜之疊層物，可經由在固化膜(硬塗覆層)上層壓高折射係數層與低折射係數層而形成。此抗反射膜可進一步包含另一層。例如可提供成對的高折射係數層與低折射係數層以形成寬波段的抗反射膜，其對寬廣波長範圍的光具有相對均勻的反射特性。或可提供抗靜電層。
針對基材無特定的限制。當使用疊層物作為抗反射膜，可提出塑膠(例如聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯、聚酯、聚烯烴、環氧樹脂、三聚氰胺樹脂、三乙醯基纖維素(TAC)樹脂、ABS樹脂、AS樹脂、及原冰片烯樹脂)及其類似者作為基材之材料。
作為使用於本發明中的高折射係數膜，可提出例如其具有折射率為1.65至2.20且內含金屬氧化物微粒如氧化鋯微粒的塗層材料固化膜。
作為使用於本發明中的低折射係數膜之實施例，可提出折射率為1.38至1.45的膜，如金屬氧化膜或內含氟化鎂或二氧化矽的氟型塗層材料固化膜。
將本發明可固化之組成物施用到基材上且經由施用紫外線而固化此施用的組成物，所得到本發明的固化產物僅顯示少量之捲縮，展現卓越的撓曲性及濁度性質，且具有高硬度。
據估計本發明的經固化之層僅顯示少量之捲縮，因為加入在分子中具有芳香環結構的多官能基胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯(B)，可增大介於交聯點之間的距離以降低捲縮量。此外，因為具有芳香環結構的胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯具有結晶性，甚至若介於交聯點之間的距離增大，可改進機械強度及韌性而可維持硬度。
當形成金屬氧化膜，作為在由固化此可固化之組成物所得到的高折射係數固化膜上形成低折射係數膜之方法，可提出真空沈積、濺射、及其類似者。當形成氟型塗層材料固化膜，可使用上述組成物施用(塗覆)方法。
經由在基材上疊層高折射係數固化膜與低折射係數膜，可有效地預防在基材之表面上的光線反射。
因為本發明的疊層物具有卓越的抗刮性、低反射、及卓越的抗化學性，此疊層物特別適合用作為用於薄膜型液晶元件、觸控板塑膠光學元件、及其類似者的抗反射膜。
 實施例
如下將由實施例詳細記述本發明。然而，本發明之範圍不限於以下實施例。除非另外指出，在各實施例中的”份”意指"重量份”且"%"意指"wt%"。
製備實施例1：製備內含可聚合的不飽和基團之有機化合物(Ab)在乾燥空氣中於50℃在一小時內，於攪拌下，將222份的異佛爾酮二異氰酸酯逐滴加入221份的氫硫基丙基三甲氧基甲矽烷與及1份的二月桂酸二丁基錫之溶液。然後於70℃將此混合物攪拌三小時。於30℃在一小時內，逐滴加入549份的NK Ester A－TMM－3LM－N(由Shin－Nakamura Chemical公司製作；其係由60wt%三丙烯酸季戊四醇酯與40wt%四丙烯酸季戊四醇酯所組成；僅有內含羥基基團的三丙烯酸季戊四醇酯參與反應)之後，於60℃將此混合物攪拌10小時以得到內含可聚合的不飽和基團之有機化合物(Ab)。由FT－IR分析的在產物中殘存的異氰酸酯含量為0.1%或更低。此顯示反應幾乎定量地完成。在產物的紅外線吸收光譜之中，在2550凱塞(kayser)的在生料中之氫硫基基團的特性吸收峰與在2260凱塞之生料中異氰酸酯化合物的吸特性收峰消失，且顯現在1660凱塞的胺基甲酸酯鍵結及S(C＝O)NH－基團之特性吸收峰與在1720凱塞的丙烯醯基基團之吸收峰特性。此顯示生成了丙烯醯基基團改良的內含丙烯醯基基團的烷氧基甲矽烷、－S(C＝O)NH－基團、及胺基甲酸酯鍵結。上述反應產生773份的由式(4－1)與(4－2)所示的化合物。此產物也含有220份的不會參與反應之四丙烯酸季戊四醇酯。
製備實施例2：製備胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯(C－5)(由式(7)所示的化合物)在裝有攪拌器的容器中注入18.8份的異佛爾酮二異氰酸酯與0.2份的二月桂酸二丁基錫之溶液。於10℃在一小時內逐滴加入93份的NK Ester A－TMM－3LM－N(由Shin－Nakamura Chemical公司製作；僅有內含羥基基團的三丙烯酸季戊四醇酯參與反應)之後，於60℃將此混合物攪拌六小時以得到反應液體。
採用如在製備實施例1之中相同方法，經由FT－IR測量的在反應液體中殘存的異氰酸酯含量為0.1wt %或更低。此顯示反應幾乎定量地完成。確定在分子中含有胺基甲酸酯鍵結及丙烯醯基基團(可聚合的不飽和基團)。
上述反應產生75份的由式(7)所示的化合物。此產物也含有37份的不會參與反應之四丙烯酸季戊四醇酯。
製備實施例3：製備細微反應性二氧化矽微粒溶膠(A－1)於60℃，將8.1份的在製備實施例1中製備的內含可聚合的不飽和基團之有機化合物(Ab)與四丙烯酸季戊四醇酯的混合物、91.3份的二氧化矽微粒溶膠(甲基乙基酮二氧化矽溶膠'MEK－ST”由Nissan Chemical Industries公司製作，數目平均粒徑：0.022 μ m，且二氧化矽含量：30%)(27份的二氧化矽微粒)、及0.1份的離子交換水之混合溶液，攪拌三小時。於加入1.4份的原甲酸甲酯之後，於60℃將此混合物攪拌一小時以得到反應性微粒(液體分散劑(A－1))。在鋁盤上稱重2 g的液體分散劑(A－1)，且在熱板上於175℃乾燥一小時。將乾燥產物稱重而指出固含量為35%。
製備實施例4：製備胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯(B－1)(由式(3)所示的化合物)在裝有攪拌器的容器中，注入14.7份的2,4－伸甲苯二異氰酸酯與0.2份的二月桂酸二丁基錫之溶液。於10℃在一小時內，逐滴加入93份的NK Ester A－TMM－3LM－N(由Shin－Nakamura Chemical公司製作)(僅具有羥基基團的三丙烯酸季戊四醇酯參與反應)之後，於60℃將此混合物攪拌六小時以得到反應液體。
採用如在製備實施例1之中相同方法，經由FT－IR測量的在反應液體中殘存的異氰酸酯含量為0.1wt%或更低。此顯示反應幾乎定量地完成。確定在分子中含有胺基甲酸酯鍵結及丙烯醯基基團(可聚合的不飽和基團)。
上述反應產生71份的由式(3)所示的化合物。此產物也含有37份的不會參與反應之四丙烯酸季戊四醇酯。
實施例1
在一遮蔽紫外線的容器中注入169.1份的在製備實施例3中製備的反應性二氧化矽微粒溶膠(A－1)(反應性二氧化矽：54.34份)、6.27份的在製備實施例2中製備的胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯(C－5)、15.06份的四丙烯酸季戊四醇酯(C－3)、20.56份的在製備實施例4中製備的胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯(B－1)、及114.76份的甲基異丁基酮(MIBK)。將此混合物攪拌二小時以得到均質的溶液。於減壓之下濃縮此溶液而去除129.52份的揮發成分。然後，加入2.36份的1－羥基環己基苯基酮(D－1)及1.41份的2－甲基－1－〔4－(甲基硫)苯基〕－2－嗎福啉基丙酮－1(D－2)以得到組成物。四丙烯酸季戊四醇酯(C－3)源自在有機化合物(Ab)中的四丙烯酸季戊四醇酯及胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯(B－1)與(C－5)。採用如在製備實施例3之中相同方法測量的此組成物的固含量為50%。
實施例2至5及比較例1至3
採用如在實施例1中相同方法，除了變化如展示於表1的組成，製備實施例2至5及比較例1至3之組成物。
硬塗覆層之性質評估
經由使用裝有針對適合膜厚的線棒(#40)之塗覆器，將得自實施例1至5及比較例1至3的各組成物施用於TAC膜上，且在烤箱之中於100℃乾燥一分鐘以形成塗層。經由使用高壓汞燈，在空氣中施用紫外線，其劑量為0.3J/cm2 ，將此塗層固化，以形成具有厚20 μ m硬塗層之TAC膜。評估具有硬塗層的TAC膜之以下性質(1)至(4)。
(1)捲縮將所生成的具有硬塗層之TAC膜切為10x10cm尺寸的方形，且放置在水平平面上。由水平平面距離四角落的平均值視為捲縮量。
(2)撓曲性將所生成的具有硬塗層之TAC膜切為10x1cm的尺寸，且纏繞在金屬棒的周圍。肉眼未觀察到發生裂縫的金屬棒最小直徑視為評估值。
(3)模糊(%)經由使用彩色濁度計(由Suga Test Instruments公司製作)，依據JIS K 7105測量具有高折射係數膜的TAC膜之濁度值。
(4)鉛筆硬度經由使用鉛筆硬度測試機，在500g的負載下，將TAC膜擦刮五次。擦刮四次或更多次而未使TAC膜受損的鉛筆硬度即視為評估值。
(5)萬能硬度(Universal hardness)經由使用裝有適合膜厚的線棒塗覆器(#40)之塗覆器，將得自實施例1至5及比較例1至3的各個組成物施用於載玻片上，且在烤箱之中於80℃乾燥一分鐘以形成塗層。經由在空氣中使用高壓汞燈而施用紫外線，其劑量為0.3J/cm2 ，將此塗層固化，以形成具有厚20 μ m的硬塗層之載玻片。經由使用Fischerscope H100微硬度計，於如下提供的條件之下，計測量所生成試樣之萬能硬度。
壓痕儀(Indenter)：維氏(Vickers)方形錐形鑽石壓痕儀最大負載：300mN，荷載速度：300 mN/60sec
在表1中，反應性二氧化矽微粒(A－1)之含量意指細微粉末乾燥重量(排除有機溶劑)。
如下提供展示於表1中的各化合物之細節。
反應性二氧化矽微粒(A－1)：在製備實施例3中得到的反應性二氧化矽微粒PTP(B－1)：由製備實施例4中得到的由式(3)所示的化合物三丙烯酸二季戊四醇酯(C－1)："Aronix M－404”，由Toagosei公司製作異氰尿酸EO改良的三丙烯酸酯(C－2)："Aronix M－315”，由Toagosei公司製作三羥甲基丙烷EO改良的三丙烯酸酯(C－4)："A－TMPT－3EO”，由Shin－Nakamura Chemical公司製作1－羥基環己基苯基酮(D－1)：Irgacure 184，由Ciba Specialty Chemicals公司製作2－甲基－1－〔4－(甲基硫)苯基〕－2－嗎福啉基丙酮－1(D－2)：Irgacure 907，由Ciba Specialty Chemicals公司製作MIBK：甲基異丁基酮MEK：甲基乙基酮
由展示於表1中的結果，實施例的固化膜僅顯示少量之捲縮，且展現撓曲性與硬度的良好平衡。
另一方面，不含本發明成分(B)的比較例1及2之固化膜，顯示大量的捲縮。在比較例1中，當有高的鉛筆硬度及萬能硬度，會降低撓曲性。在比較例中2，當有卓越的撓曲性，鉛筆硬度與萬能硬度會降低。在有少量成分(B)的比較例3中，鉛筆硬度與萬能硬度會小程度降低。
如上所述，本發明的可固化之組成物及固化產物可適合用作保護塗層材料而用於預防在塑膠光學元件、觸控板、薄膜型液晶元件、塑膠容器、及地板材料、壁材料、及用作為建築內部最終塗飾的人造大理石上發生刮痕或沾污；用於薄膜型液晶元件、觸控板、或塑膠光學元件的抗反射膜；各種基材之膠黏劑或密封材料；針對油墨的黏著劑及其類似者。此可固化之組成物及固化產物可特別地適合用作為抗反射膜。
本發明的可固化之組成物及固化產物特別適合作為抗反射膜、用於觸控板的光學膜硬塗層、及光碟硬塗層。

Claims (8)

  1. 一種可固化之組成物，其包含：(A)30至80重量%的金屬氧化物微粒而其上鍵結了內含可聚合的不飽和基團之有機化合物，其中該有機化合物鍵結至該金屬氧化物微粒之量為不低於0.01重量%；及(B)5至50重量%的在分子中具有芳香環結構且包含三或更多(甲基)丙烯醯基基團之胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯，其限制條件為排除有機溶劑的組成物總量為100重量%。
  2. 如申請專利範圍第1項的可固化之組成物，其中在成分(A)的顆粒中之有機化合物除可聚合的不飽和基團之外另含有由下式(1)所示基團， 其中U代表NH、O(氧原子)、或S(硫原子)，且V代表O或S。
  3. 如申請專利範圍第1或2項的可固化之組成物，其中在成分(A)的顆粒中之有機化合物為在分子中含有矽醇基團的化合物或經由水解而形成矽醇基團的化合物。
  4. 如申請專利範圍第1或2項的可固化之組成物，其中成分(B)在每個(甲基)丙烯醯基基團中的分子量為400或更低。
  5. 如申請專利範圍第1或2項的可固化之組成物， 其中在分子中具有芳香環結構且內含三或更多(甲基)丙烯醯基基團之胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯的成分(B)為由以下式(3)所示的化合物 。
  6. 一種經固化之層，其係經由將如申請專利範圍1至5項中任何一項的可固化之組成物固化所製作。
  7. 一種疊層物，其中包含透明基材與提供在透明基材上的如申請專利範圍第6項之經固化之層。
  8. 一種抗反射膜，其包含採用如下順序的疊層：透明基材、如申請專利範圍第6項之經固化之層，與低折射係數層。
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