TWI385415B - 用於一光源系統之集光裝置及光源系統 - Google Patents

Description

用於一光源系統之集光裝置及光源系統

此發明係關於一種用於投影顯示之光源系統，更具體而言，係關於一種混合光源系統及其所採用之集光裝置。

隨著科技快速發展，資訊顯示科技日新月異，投影系統的應用也越來越普及，是故使用者對投影系統之成像品質愈益要求。其中，影像亮度是評斷成像品質的重要指標，而影像亮度通常受到光源亮度、集光效率、均光效率、繼光效率等因素影響。當投影系統的光展量限制了光量，增加更亮且更有效的光源便是解決方法之一。然而，這一類的光源往往價格昂貴且生命週期短，再者其體積多半較大，間接增加了系統整體的尺寸。

在高亮度的投影系統中，常使用氙氣燈泡或多個超高壓汞燈(Ultra High Pressure Mercury Lamp, UHP)作為光源。然而，氙氣燈泡有發光壽命短和價格較貴等缺點；另一方面，若以多個超高壓汞燈作為光源，則在系統的設計及運用上會受到光展量(étendue)的限制。此外，以超高壓汞燈的光譜輸出而言，藍光及綠光的光譜範圍內分佈完整且均有較強發光強度之波峰，但是在紅光的光譜輸出範圍就顯得頻譜不完整且強度不足。

在成本考量下，現今多採用超高壓汞燈與LED或雷射光源進行組合，補強超高壓汞燈的紅光頻譜部分，而形成混合光源系統。 與LED相較下，雷射具有較大的可見光光譜範圍，且同樣具有較長的使用壽命。因此若以超高壓汞燈負責藍光及綠光範圍的光譜 輸出，紅光範圍輸出不足的部分由紅光雷射來補足，如此一來在紅光範圍的光譜輸出上，甚至可提供比氙氣燈泡更高的紅光亮度，且整體而言可以達到更高的發光效率。因此，由超高壓汞燈及紅光雷射所組成的混合光源，不但能突破由多個超高壓汞燈光源所能提供亮度限制，更因為紅光雷射的加入，而得到更寬廣的色域顯示。

第1圖所示為一習知混合光源系統1，其包含一超高壓汞燈11、二個雷射光源12、一第一透鏡陣列13、一第二透鏡陣列14、一面板15以及二反射稜鏡16。混合光源系統1之光源係由超高壓汞燈11及雷射光源12所產生之光線混合而成。詳細而言，超高壓汞燈11與面板15間設有第一透鏡陣列13及第二透鏡陣列14，超高壓汞燈11產生之光線係先通過第一透鏡陣列13上之數個小透鏡，再聚焦到第二透鏡陣列14上相應的小透鏡上。通過第二透鏡陣列14上各個小透鏡的光線接著均被折向且投射於面板15上，如此分佈於面板15之光線便重疊在一起。另一方面，雷射光源12所產生的光線聚集後，經由反射稜鏡16反射至第一透鏡陣列13之小透鏡上，同樣地，再由第二透鏡陣列14上相應的小透鏡投射至面板15上，並和超高壓汞燈11產生之光線重疊。雖然上述架構可達到混合光源之功效，然而此種光源系統的最大缺點在於，超高壓汞燈11與雷射光源12具有不同之光展量，亦即需捨棄部分的光線，使其無法成為有效光線，因而降低了系統整體的照明效率。再者，設在兩側的雷射增加了光展量，亦增加體積。

如第2圖所示為另一習知混合光源系統2，其包含一超高壓汞燈 21、一雷射光源22及一雙色分光鏡23。雷射光源22所提供之紅光由雙色分光鏡23反射，而後加入超高壓汞燈21的照明光路中。此種混合光光源的方法可以避免混合光源系統1之相異光源間光展量不同的問題。然而為了使用此種混合光源，在系統最初光路設計時，便需考量增加使用雙色分光鏡23或其他繼光光學元件(Relay Optics)，使得已完成之系統設計缺乏變更的彈性。當欲套用於其他光源系統或需增加其他不同光源時，便往往需要重新設計系統之架構。

綜上所述，習知用於投影顯示之混合光源系統架構，或於相異光源間具有不同光展量而無法達到較高之照明效率，或為了解決不同光源間相異光展量之問題而使得系統設計缺乏變更之彈性。有鑑於此，提供一種無光展量問題、易於套用於現有投影系統或易於增加其他光源之混合光源系統，乃為此一業界所共同企盼達成的目標。

本發明之一目的係為提供一種用於混合光源系統之集光裝置，藉此使運用此混合光源系統之投影系統可同時提供複數光源，並避免各光源間因光展量之差異而造成各光源利用率不一致之情況。再者，藉由集光裝置之特殊設計，投影系統可以混合各式光源，提供具有完整光譜且光線強度適當之光源，且不需變更現有投影系統的原先設計，即可將其輕易替換使用本發明之光源系統。

為達到上述目的，本發明提供一集光裝置及包含此集光裝置之光源系統。光源系統包含集光裝置、一第一光源組與一第二光源 組，第一光源組與第二光源組分別用以提供一第一光線與一第二光線。集光裝置其包含一光線主軸、一第一集光元件、一第二集光元件以及一分光元件。第一光線自第一集光元件之第一端部進入後，分光元件適可將第一光線分出複數類光，複數類光具有一至少一類光，至少一類光適可穿透分光元件，進入第二集光元件；第二光線自第二集光元件之第二入光部進入後，適可自分光元件反射，與至少一類光共同沿光線主軸，自第二集光元件之出光部射出。

為讓本發明之上述目的、技術特徵和優點能更明顯易懂，下文係以較佳實施例配合所附圖式進行詳細說明。

本發明之一實施例係為一光源系統，其示意圖係如第3圖所示。光源系統3係用於一投影系統(圖未示出)，且此光源系統3具有一第一光源組31、一第二光源組32及一集光裝置4。其中，第4圖係為集光裝置4之示意圖。

第一光源組31及第二光源組32適以分別提供一第一光線311及一第二光線321。第一光源組31及第二光源組32分別包含至少一光源。於本實施例中，第一光源組31係為一超高壓汞燈314，第二光源組32係由一雷射陣列基座323及複數雷射單元324所組成，其中第二光線321包含由各該雷射單元324提供之複數子光線321a。需說明的是，第一光源組31及第二光源組32之光源類型、數目及位置並不限於以上所述，熟知此領域技術者亦可推及其他態樣。舉例而言，第二光源組32亦可改採用單一雷射單元以 提供單一雷射光束。

集光裝置4主要包含一第一集光元件41、一第二集光元件42、一分光元件43及一光線主軸44。第一集光元件41具有一第一端部411及一第二端部412，其中第一端部411係與第二端部412相對；第二集光元件42包含一第一稜鏡421、一光線匯聚部422及一延伸部423，其中第二集光元件42定義有一第一入光部421a、與第一入光部421a相對之一出光部422a及一第二入光部421c。分光元件43係設在第一集光元件41及第二集光元件42之間，更詳細而言，分光元件43係為設於第二端部412與第一入光部421a間之一分光鏡。於其他較佳實施態樣中，此分光元件可為多層光學鍍膜。

分光元件43對應不同入射角度有不同之分光光譜，此即為分光偏移(dichroic shift)的現象。而受到光展量的限制，入射光之面積愈小，發散角度則愈大，使得分光偏移的現象愈益明顯。為了避免各第二子光線321a受分光偏移現象所影響而無法被分光元件43所反射，分光元件43之過濾頻帶便須隨之調整擴大，以期光源系統3輸出時能減少第二光線321之光損失進而充分利用第二光線321。然而相對地，第一光源組31所提供的第一光線311中，通過分光元件43的光量便會隨之減少。因此，為能提高第一光線311之利用率，本實施例便將分光元件43之面積擴大，與其鄰接的元件面積亦隨之擴大，藉此減小入射光之發散角度而降低分光偏移，以提高第一光線311之利用率。

請一併參閱第5圖，第一集光元件41、分光元件43、第一稜鏡 421及光線匯聚部422係依序鄰接設置，且第一稜鏡421係呈左右兩側尺寸相同的等腰三角柱體。為因應較大面積之分光元件43，第一集光元件41便呈一錐體，且其右側與分光元件43的左側對應並具有相同的尺寸，而第一稜鏡421的左側亦與分光元件43具有相同的尺寸。另外，光線匯聚部422亦呈一錐體，且其左側與第一稜鏡421的右側對應並具有相同的尺寸。詳細而言，第一集光元件41具有一第一截面積41a，而此第一截面積41a自第一集光元件41之第一端部411往第二端部412遞增。光線匯聚部422具有一第二截面積42a，第二截面積42a係往出光部422a遞減。於本實施例中，第一集光元件41與光線匯聚部422均為錐狀集光柱，但不以此為限。

於第二集光元件42中，第一稜鏡421具有一第一入射面421b及第二入射面421d，分別設於第一入光部421a及第二入光部421c上，分別用以接收第一光線311與第二光線321。光線匯聚部422具有一出射面422b，設於出光部422a上，此光線匯聚部422係用以匯聚並均勻光線。其中，如前所述，第一稜鏡421較佳地係為等腰三角形稜鏡，更佳地為一正三角形稜鏡，以使第二光線321以特定光路行進，達到最大光線利用效益。

延伸部423包含一鄰設於第二入射面421d之第二稜鏡423a、一凹面透鏡423c、一透鏡陣列423d。第二稜鏡423a具有一第三入射面423b，用以接收第二光線321。凹面透鏡423c用以使各子光線321a以相同角度入射第二稜鏡423a。而透鏡陣列423d則用以使經過凹面透鏡423c之各子光線321a的光束轉變成平行，而後 進入第二稜鏡423a。藉由上述，便可避免各雷射單元324因安裝位置的差異而造成各子光線321a入射第二稜鏡423a之角度不同，而使各子光線321a能集中平行進入集光裝置4。需說明的是，設若第二光源組32改為採用單一雷射單元，則延伸部423可相應地增加一中繼透鏡(圖未示出)，用以使來自雷射單元324之第二光線321集中射入第二稜鏡423a。

光線主軸44適同時通過第一集光元件41、分光元件43、第一稜鏡421及光線匯聚部422之中心，定義出光線主要的前進路徑。第一光源組31及第二光源組32所產生之光線的行進詳細說明如下。

第一光源組31產生之第一光線311係沿光線主軸44行進，由第一集光元件41之第一端部411進入第一集光元件41後，再自第一集光元件41之第二端部412行進至分光元件43。分光元件43將第一光線311分為一第一類光312及一第二類光313。其中，第一類光312穿透分光元件43，經由第一入射面421b進入第一稜鏡421，並沿光線主軸44往出光部422a前進，最後自出射面422b離開集光裝置4。其中，第二類光313係由分光元件43反射而自一光線311分離出。需另說明的是，分光元件43亦可將第一光線311分為複數類光，並非限制於分出二類光。

第二光源組32產生之第二光線321中的各子光線321a，先經凹面透鏡423c及透鏡陣列423d調整為一致的平行入射角度後，由第三入射面423b進入第二稜鏡423a，而後經由第二入射面421d進入第一稜鏡421中，並接著往分光元件43前進。分光元件43 將第二光線321分為兩類光，絕大部分為自分光元件43反射之第三類光322，第三類光322會與第一類光312共同沿光線主軸44朝出光部422a前進，並在光線匯聚部422內與第一類光312均勻匯聚，最後由出射面422b離開集光裝置4。

於本實施例中，所設計分光元件43之反射波段範圍較佳地係為600nm至630nm之間，以期能完全利用雷射單元324所提供波段範圍在618nm至621nm之間之雷射光源。藉此，便能以雷射取代超高壓汞燈314於相同紅光波段中亮度不足之光線。是故雷射單元324所提供而被分光元件43所反射之第三類光322係為一紅光，其波段範圍係在618nm至621nm之間。在分光元件43之反射下，超高壓汞燈314所提供而被分光元件43所反射之第二類光313，則為一波段範圍在600nm至630nm之間之紅光。而通過分光元件43之第一類光312係為第二類光313以外波段之色光，例如為藍光、綠光及波段範圍在600nm至630nm之外的紅光等。在其他的實施態樣中，分光元件43之反射波段範圍當然也可以是在618nm至621nm之間，如此，第三類光322之波段範圍係在618nm至621nm之間，而第二類光313同樣在618nm至621nm之間。需另說明的是，本實施例中，第一集光元件41、光線匯聚部422、第一稜鏡421及延伸部423四者之間不存在空氣間隙(air gap)。於其他實施態樣中，亦可選擇性地設置空氣間隙，以配合其他光路設計之需求。

第6A圖為一現有的投影系統6之架構示意圖，而第6B圖則為將第6A圖之投影系統6採用本發明第一實施例光源系統3後之內 部示意圖，用以說明本發明之光源系統可輕易替換其他現有投影系統之光源系統。如第6A圖所示，方框內係為現有投影機之集光柱61，在此現有之投影系統6中，僅需將此集光柱61置換為本發明之集光裝置4後，即可在不改變其他原先之光路設計的情況下，輕易地加入第二光源組32以提供第二光線321並完成光線之整合，得到具有混合光源之投影系統6'，即如第6B圖所示。

第7圖所示為本發明光源系統之第二實施例，本實施例之光源系統7具有一第一光源組71、一第二光源組32及一集光裝置8，與第一實施例不同的是，本實施例之第一光源組71係包含複數光源。

第一光源組71包含第一子光源714a、第二子光源714b、第三子光源714c，各個子光源714a、714b、714c係為超高壓汞燈；於其他實施態樣中，此等子光源亦可為LED燈或其他光源。而於此實施例中，第二光源組32係與第一實施例相同，故於此不另贅述。

為配合第一光源組71之數個子光源714a、714b、714c，本實施例之集光裝置8之第一集光元件81具有相應數目之入光機制。詳細而言，如第8圖所示，第一集光元件81包含一第一錐體813及一第二錐體814。第一錐體813包含一第一錐體反射面813a，第二錐體814鄰設於第一錐體813之下，第二錐體814包含一第二錐體入射面814a及一第二錐體反射面814b。於此實施例中，係將第一實施例之第一集光元件81分為上下兩錐體，同時配合光源的數目及位置修改錐體之外形，並對應地設置入射面及/或反射面；而在其他實施態樣中，第一集光元件之外形及入射面與反射面之 設置亦可為其他樣式，並不以上述說明為限。而於此實施例中，第二集光元件42、分光元件43及一光線主軸44係與第一實施例相同，故於此不另贅述。

第一子光源714a之光線經由第二錐體814之側邊進入第一錐體813，並由第一錐體反射面813a反射後，沿光線主軸44行進至分光元件43。第二子光源714b之光線經由第二錐體入射面814a進入第二錐體814，而後沿光線主軸44行進至分光元件43。第三子光源714c之光線經由第二錐體814之側邊進入，經由第二錐體反射面814b反射，而後沿光線主軸44行進至分光元件43。同樣地，各子光源714a、714b、714c所產生之光線同樣由分光元件43分成一第一類光712及一第二類光713，第一類光712繼續進入第二集光元件42，而第二類光713則由分光元件43反射出集光裝置8。

需說明的是，本發明並不限於上述之第一光源組擴增態樣，習知此項技術領域者亦可以其他光源模組代替。藉此，光源系統7可輕易加入多個複數光源，而使輸出光源之亮度更強或色域更為廣闊。

本發明提出之光源系統採用特殊設計之集光裝置，是故採用本發明光源系統之投影系統可在使用複數光源的情況下，避免各光源間因光展量之差異而造成各光源利用效率不一的狀況。此外，藉由集光裝置之特殊設計，投影系統可以混合各式光源，提供具有完整光譜且光線強度適當之光源，且不需變更現有投影系統的原先設計便能輕易替換使用本發明之光源系統。

上述實施例僅為例示性說明本發明之原理及其功效，以及闡釋 本發明之技術特徵，而非用於限制本發明之保護範疇。任何熟悉本技術者之人士均可在不違背本發明之技術原理及精神的情況下，可輕易完成之改變或均等性之安排均屬於本發明所主張之範圍。因此，本發明之權利保護範圍應如後述之申請專利範圍所列。

1‧‧‧混合光源系統

11‧‧‧超高壓汞燈

12‧‧‧雷射光源

13‧‧‧第一透鏡陣列

14‧‧‧第二透鏡陣列

15‧‧‧面板

16‧‧‧反射稜鏡

2‧‧‧混合光源系統

21‧‧‧超高壓汞燈

22‧‧‧雷射光源

23‧‧‧雙色分光鏡

3‧‧‧光源系統

31‧‧‧第一光源組

311‧‧‧第一光線

312‧‧‧第一類光

313‧‧‧第二類光

314‧‧‧超高壓汞燈

32‧‧‧第二光源組

321‧‧‧第二光線

321a‧‧‧子光線

322‧‧‧第三類光

323‧‧‧雷射陣列基座

324‧‧‧雷射單元

4‧‧‧集光裝置

41‧‧‧第一集光元件

41a‧‧‧第一截面積

411‧‧‧第一端部

412‧‧‧第二端部

42‧‧‧第二集光元件

42a‧‧‧第二截面積

421‧‧‧第一稜鏡

421a‧‧‧第一入光部

421b‧‧‧第一入射面

421c‧‧‧第二入光部

421d‧‧‧第二入射面

422‧‧‧光線匯聚部

422a‧‧‧出光部

422b‧‧‧出射面

423‧‧‧延伸部

423a‧‧‧第二稜鏡

423b‧‧‧第三入射面

423c‧‧‧凹面透鏡

423d‧‧‧透鏡陣列

43‧‧‧分光元件

44‧‧‧光線主軸

6‧‧‧投影系統

61‧‧‧集光柱

6'‧‧‧投影系統

7‧‧‧光源系統

71‧‧‧第一光源組

712‧‧‧第一類光

713‧‧‧第二類光

714a‧‧‧第一子光源

714b‧‧‧第二子光源

714c‧‧‧第三子光源

8‧‧‧集光裝置

81‧‧‧第一集光元件

813‧‧‧第一錐體

813a‧‧‧第一錐體反射面

814‧‧‧第二錐體

814a‧‧‧第二錐體入射面

814b‧‧‧第二錐體反射面

第1圖係為習知混合光源系統示意圖；第2圖係為另一習知混合光源系統示意圖；第3圖係為本發明第一實施例之光源系統示意圖；第4圖係為本發明第一實施例之集光裝置示意圖；第5圖係為本發明集光裝置***示意圖；第6A圖係為一現有採用單一光源系統的投影系統架構示意圖；第6B圖係將第6A圖之投影系統改為採用本發明之光源系統之示意圖；第7圖係為本發明第二實施例之光源系統示意圖；以及第8圖係為本發明第二實施例之第一集光元件示意圖。

4‧‧‧集光裝置

41‧‧‧第一集光元件

411‧‧‧第一端部

412‧‧‧第二端部

42‧‧‧第二集光元件

421‧‧‧第一稜鏡

421a‧‧‧第一入光部

421b‧‧‧第一入射面

421c‧‧‧第二入光部

421d‧‧‧第二入射面

422‧‧‧光線匯聚部

422a‧‧‧出光部

422b‧‧‧出射面

423‧‧‧延伸部

423a‧‧‧第二稜鏡

423b‧‧‧第三入射面

423c‧‧‧凹面透鏡

423d‧‧‧透鏡陣列

43‧‧‧分光元件

44‧‧‧光線主軸

Claims (34)

1. 一種用於一光源系統之一集光裝置，該光源系統包含一第一光源組與一第二光源組，分別用以提供一第一光線與一第二光線，該集光裝置包含：一光線主軸(principal axis)；一第一集光元件，具有一第一端部及相對之一第二端部；一第二集光元件，具有一第一入光部、相對之一出光部及一第二入光部，其中該第二集光元件包含一第一稜鏡及一光線匯聚部，且該第一集光元件與該光線匯聚部係對稱於該第一稜鏡設置且分別呈一錐體；以及一分光元件，設於該第二端部與該第一入光部間；其中該第一光線自該第一集光元件之該第一端部進入後，該分光元件適可將該第一光線分出複數類光，該複數類光具有一至少一類光，該至少一類光適可穿透該分光元件，進入該第二集光元件；該第二光線自該第二集光元件之該第二入光部進入後，適可自該分光元件反射，與該至少一類光共同沿該光線主軸，自該第二集光元件之該出光部射出。
2. 如請求項1所述之集光裝置，其中該複數類光具有一第一類光及一第二類光，且該至少一類光實質上為該第一類光；該第二光線具有一第三類光，該第三類光自該分光元件反射後，適可與該第一類光共同沿該光線主軸，自該第二集光元件之該出光部射出。
3. 如請求項2所述之集光裝置，其中該分光元件係使該第二類光反射以自該第一光線分出。
4. 如請求項2所述之集光裝置，其中該第二類光與該第三類光均為一紅光。
5. 如請求項1所述之集光裝置，其中該第一稜鏡具有一第一入射面與一第二入射面，該第一入射面係位於該第一入光部且該第二入射面係位於該第二入光部，分別用以接收該第一光線與該第二光線，以及該光線匯聚部具有一出射面，該出射面係位於該出光部，該光線匯聚部係用以匯聚均勻該第二光線與該至少一類光。
6. 如請求項1所述之集光裝置，其中該第一集光元件具有一第一截面積，該第一截面積係自該第一集光元件之該第一端部至該第一集光元件之該第二端部遞增，該光線匯聚部具有一第二截面積，該第二截面積係自該第二集光元件之該第一入光部至該第二集光元件之該出光部遞減。
7. 如請求項1所述之集光裝置，其中該分光元件係為一鍍膜或一分光鏡。
8. 如請求項5所述之集光裝置，其中該第一稜鏡係為一等腰三角形稜鏡。
9. 如請求項8所述之集光裝置，其中該等腰三角形稜鏡係為一正三角形稜鏡。
10. 如請求項5所述之集光裝置，其中該第二集光元件更包含一延伸部，該延伸部包含一第二稜鏡，鄰設於該第二入射面，該第二稜鏡具有一第三入射面，用以接收該第二光線。
11. 如請求項10所述之集光裝置，該延伸部更包含一凹面透鏡， 用以使該第二光線垂直射入該第三入射面。
12. 如請求項11所述之集光裝置，其中該第二光線包含複數子光線。
13. 如請求項12所述之集光裝置，其中該延伸部更包含一透鏡陣列(Lens Array)，用以使該等子光線各自集中且平行射入該第二稜鏡之該第三入射面。
14. 如請求項10所述之集光裝置，更包含一中繼透鏡(relay lens)，用以使該第二光線集中射入該第二稜鏡。
15. 一種光源系統，包含：一第一光源組，用以提供一第一光線；一第二光源組，用以提供一第二光線；以及一如請求項1所述之集光裝置，用以接收該第一光線及該第二光線，將該第一光線分出複數類光，該複數類光具有一至少一類光，並均勻該至少一類光與該第二光線。
16. 如請求項15所述之光源系統，其中該複數類光具有一第一類光及一第二類光，且該至少一類光實質上為該第一類光；該第二光線具有一第三類光，該第三類光自該分光元件反射後，適可與該第一類光共同沿該光線主軸，自該第二集光元件之該出光部射出。
17. 如請求項16所述之光源系統，其中該分光元件係使該第二類光反射以自該第一光線分出。
18. 如請求項16所述之光源系統，其中該第二類光與該第三類光均為一紅光。
19. 如請求項15所述之光源系統，其中該第二集光元件包含：一第一稜鏡，具有一第一入射面與一第二入射面，該第一入射面係位於該第一入光部且該第二入射面係位於該第二入光部，分別用以接收該第一光線與該第二光線；以及一光線匯聚部，具有一出射面，該出射面係位於該出光部，該光線匯聚部係用以匯聚均勻該第二光線與該至少一類光。
20. 如請求項19所述之光源系統，其中該第一集光元件與該光線匯聚部係對稱於該第一稜鏡設置且分別呈一錐體。
21. 如請求項20所述之光源系統，其中該第一集光元件具有一第一截面積，該第一截面積係自該第一集光元件之該第一端部至該第一集光元件之該第二端部遞增，該光線匯聚部具有一第二截面積，該第二截面積係自該第二集光元件之該第一入光部至該第二集光元件之該出光部遞減。
22. 如請求項15所述之光源系統，其中該分光元件係為一鍍膜或一分光鏡。
23. 如請求項19所述之光源系統，其中該第一稜鏡係為一等腰三角形稜鏡。
24. 如請求項23所述之光源系統，其中該該等腰三角形稜鏡係為一正三角形稜鏡。
25. 如請求項19所述之光源系統，其中該第二集光元件更包含一延伸部，該延伸部包含一第二稜鏡，鄰設於該第二入射面，該第二稜鏡具有一第三入射面，用以接收該第二光線。
26. 如請求項25所述之光源系統，該延伸部更包含一凹面透鏡，用以使該第二光線垂直射入該第三入射面。
27. 如請求項26所述之光源系統，其中該第二光線包含複數子光線。
28. 如請求項27所述之光源系統，其中該延伸部更包含一透鏡陣列，用以使該等子光線各自集中且平行射入該第二稜鏡之該第三入射面。
29. 如請求項25所述之光源系統，其中該延伸部更包含一中繼透鏡，用以使該第二光線集中射入該第二稜鏡。
30. 如請求項15所述之光源系統，其中該第一光源組具有至少一光源，而該至少一光源係為一超高壓汞燈(Ultra-High Pressure Mercury Lamp,UHP Mercury Lamp)。
31. 如請求項15所述之光源系統，其中該第二光源組係為一雷射陣列(Laser Array)或至少一雷射單元。
32. 如請求項15所述之光源系統，其中該第一光源組具有複數光源。
33. 如請求項32所述之光源系統，其中各該光源係為一超高壓汞燈。
34. 一投影系統，包含一如請求項15所述之光源系統。