TWI335842B - Method of applying adhesive to inside surface of pellicle frame - Google Patents

Description

Ϊ335842 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係齡製造半導體㈣、_基板絲晶顯示 器等物件時作為防塵器使用之微影用防護薄膜組件的製造方法， 特別是關於一種對防護薄膜框架内面的粘接劑塗布方法。 【先前技術】 在LSI、、超LSI等半導體或是液晶顯示板等產品的製造中 導體晶圓或液晶用原板以製作形成圖案，惟若此時所 Ϊίΐί 縮遮罩（以下健光罩）有灰塵附著的話，U =塵會吸收光’使光彎曲，故除了會使轉印_雜形臺 緣k粗縫以外’還會使基底污黑，並損質' 保持光罩的乾淨仍是相當^難^⑽’惟即使如此想要經常 ίΐίΚΞΠΓϊ再進行曝光。此時，異物並 驟中將焦點對準光於膜组件上，故只要在微影步 印造成影響。 八σ'專膜組件上的異物就不會對轉 維素、 聚丁 ίΐ腊在的下端設置為 著層樹mmm成的黏 護薄膜組件内部所態下在為了消除防 邛的虱£差，而在防護薄膜框 過小止異物隨著通 後圖案發生缺陷。"表面好，以防止防護_組件貼附 ，部=====巧”麼，’且轉 (專利文獻2)。 故通吊多以贺塗法形成之 塗粒子大小i塗;塗布粘接劑時’若適當選擇嗔 觀=製;在g=造上卻有各種==品質均勻且外 的產^二g r像圖3 量產 會會口2定期忿者 噴塗出去。G兒―過低祐，化’才能變成噴霧 能會產生***的危險。〜稀釋，然隨著溶劑種類的不同可 另一方面，對於該等問題，亦有 而係使雌子狀物件來塗布的方法(專等 1335842 力’很難穩定的對輥子部供給轉劑，社垃卞1 =框架内面溢出，而且未塗布_部不但會從防護 5產，子零件的接觸痕跡而對框架外He又，框架表 =架内面塗布嶋丨’不但品質塗 ^曰本實公昭63-3_號公報 •[專利文獻3]曰日公報 【發明内容】 [發明所欲解決的問題] 根據以上所述，本發明的目 内面塗布粘接劑的塗布方法，其護薄藤架 布品質以及穩定性均良好。 °圍衣境迈成污染，且塗 [解決問題之技術手段] 防護= 方法，保持 媒稀= = 謝 及吐出口在防護薄膜框架上的位置動速度以 護薄孔内編接：若對防 對通氣孔以及防護薄膜(請求項3)的話，便能 產生閉塞薄膜。 、 主布粘接劑而不會在通氣孔内面 %以上t請31)刖!^外形見度宜在防護薄膜框架内面寬度的50 再者，在塗布中吐出口前端與防護薄膜框架表面之間的距離 7 1335842 宜在〇. 2〜2mm的範圍內，日j山 a 的間隙宜填難接劑（請求項f)。㈣，、防護薄膜框架表面之間 [對照先前技術之功效] 則薄膜框架内面塗布繼的塗布方法， 的情二以;防護薄膜框架造成污染 良的塗膜。 有未主布或溢出的情況，能穩定製得外觀優 【實施方式】 點接發明之對防護薄膜框架内面塗布 方法;i發:=面塗布嶋的塗布 釋的枯接劑被充填於注射然、後，經過溶媒稀 ㉝的吐出口滴下‘射器邊沿防護 另一邊保持水平來進行塗布。重向改變，這次將 外，除了-般4角形之外，也可邊都被塗布過。另 布動作。 也了乂對8角形的框架進行同樣的塗 點接劑的吐出機構除了簡便的空氣加壓 土7 、注射泵、導管泵等的各種泵，σ 以利用柱 性質或生產數量等时而適#^之即=應所接劑其 又’枯接劑的粘度（濃度）考詈余右 後的膜厚等因素而適#決定之即可。的大小、乾燥 厚太厚，故基本上宜將枯度（濃度）低 ^劑並不需要膜 會發生未塗布到的情況。然而，絲度降低;㈣ 8 1335842 f，但由於框架會因為本身重量向彎 =央流動(偏塗)，且會因為到乾燥為止的==旁邊 降低、’關於這些問題點都必須考慮到。 、使生產性 塗布針管15宜以如圖1所示的傾斜方彳 直的其他内面不會造成干擾。移動機構宜^例如布面垂 出量宜多一點，4·丨丨田主;C； 2Ε ΑΡ在轉角部附近吐 線邱則絲接劑擴散到垂直的邊上，在直 速度與吐出量宜取得平衡，讓未塗布部分或溢出ti 此時’當防護薄膜框架11上設置有 的不同，有時會發生，健劑形成薄膜而有;孔件 ===設r以在塗布針管=⑽ =，_吐=亭二塗: 面塗布枯接綱，最適當的條件對職孔塗布轉劑。、木内 又塗布針管15以及前端吐出口 μ的形狀若為n, 管22之剖面形狀以及吐出σ f此’塗布針 = 構件23，其可將粘接劑溶液塗布擴; 二施例女裝的疋圓柱狀的構件，惟角 、二J J的 動方向麵直方向的長^的 塗布令之塗布針管22以及宽度 田凋即 架21表面的距離，使其在0:『=== 為毛細管現象而被粘接劑溶液埴滿。 少的比起通!的圓，管而言能以更 短，乾時間以及增進外觀品質的^期夠達•，塗布液、縮 【實施例】 [實，]説明本發日㈣實施例，惟本發明麟僅限於此。 圖1係表示本發明之實施例的概略圖。 1122H以·^械加工製作出外寸1146xl366inm、内寸 並在表面崎長挪齡金㈣賴膜桓架， 水徹底‘2=:框等級1的無塵室中，用中性洗劑與純

Englnee^f ^ IwashHa 射器u的前端錄著sus製針=裝f上未）。又，注 上滴下塗==:管時:5^ 量不會從外表面科，且不會=====件讓滴下的液 1335842 ，著，將針管15移動到防護薄膜框架的轉 不移動’從邊的端部適量塗布到端部。此時，讓針 ίίΐ通氣孔上方，以免滴下_接劑溶液侵入通^ «布落的R形狀朝上方一 像這樣塗布线触接.崎置3分鐘，使1乾 ί ί的程度之後，從塗布*置將防護薄膜框架11 巧i :起拆卸下來，並將其旋轉9Q度，接著重新設置ΐΐί 壬水平’再以同樣的作業流程在防護薄膜框架 ^ 的方式使其乾燥。之後，再以高頻率』⑵ 架η加熱到_，使溶媒完全乾燥，並使枯:==框 作業終了後，測量塗布製程所使用的液量，大約為 而且在作業流程巾並未發生任何對塗 環境=· ° 將該軸_樣品搬送浙如，以光。 素燈，内難接雜布面耕觀以及異^克司的i 、力右ίίϊϊ防制酿架_完全被祕賴蓋，内面以外也 =發現因為刪顧塗布所造成的不 [實施例2 ] “ 構件23形成直㈣麵的圓 11 “·35842 觀察試作之測試樣品’結果發現與實施例1相同，防護薄暝 框架内面完全被粘接劑覆蓋，内面以外沒有粘接劑溢出或滴落的 情況，然而因為粘接劑溶液塗布的比實施例丨更薄，故表面光澤 或均勻感增加，外觀比實施例1更優良。 又，通氣孔附近或轉角部其不均勻（細微凹凸、表面起伏） ，程度也_不少。然後，也絲發現有大小會造成問題（直徑 〇#m以上）的異物存在。另外，用與實施例i相同的方量 厚，推測大約是25#m。 碼 [比較例]

圖3表不以習知喷塗方法對防護薄膜框架内面塗 的剖面概略圖，作為比較範例 牧4 了 淨、例—樣準備防護薄膜框架31，以同樣的順序洗 ί Ϊ J 觸工具32。再者，保持工具32上面安ΐ ^ 2^ 。遮蔽工具34係由不銹鋼薄板與鋁合金製框架所 之四邊全部的形^_膜縣31之端面以及保持工具32 持在未經圖讀 化學以以6 f ___ 的氣塵源^魅从塗麵容H 36加愿 c ^), ，贺塗噴嘴35朝防護薄膜 速度，小心謹慎 大。然後，其他3邊也以=ΪΪ=動’重複 布作業。又’為了防止因為氮氣嘴二 12 13358.42 塗噴射下游設置大型排氣導管（未經圖示）進行減，讓氮氣不 會滯留在周圍。 與上述實施例同樣觀察如是製作之樣品其外觀以及異物附著 狀況三結果，内面完全覆蓋了粘接劑。防護薄膜框架端面可確認 出有若干粘接劑霧靄附著，然而因為被膜粘接劑或光罩粘接 蓋，故不會特別造成問題。 通氣孔在内面側入口附近1〜2mm範圍被枯接劑塗布到，而 面側目視可確認範_未被塗布到。除此之外，制是外 有什麼問題，但有3個直徑左右的異物附著。 队 另外’作業終了後’測量塗布製程工所使㈣液量大 180c. c.。又，遮蔽工具34上面一部份產生厚度〇.丨〜〇 2職 膜，5者，該等試作系統下(床面)所舖的塑膠g 或排軋風扇的導管内也發現有粘接劑霧靄附著。 夕 本發明不會造成枯接劑、溶劑等過剩或 對防護薄膜組件框内面形成粘接劑層的章办問 使用來 ，能=簡便、高效率的方式對防護薄膜組^面添 層’對於微影技術的產業領域有很大的·。$成枯接劑 【圖式簡單說明】 圖3係表示壯細__物（噴麵）的剖面說 之_個實對防護薄膜框架内面触_塗布方法 的説=絲示本發明之轉劑吐出口前端其形狀的-個實施例 明圖 【主要元件符號說明】 Π防護薄膜框架 12保持工具 1335842 13插銷 14注射器 15 塗布針管 16 吐出口 21防護薄膜框架 22 塗布針管 23寬度擴張構件 24 吐出口 31防護薄膜框架 32保持工具 33插鎖 34遮蔽工具 35噴塗喷嘴 36 塗布液容器 37喷塗喷霧

Claims (1)

1. 十、申請專利範圍： 1、一種對防護薄膜框架内面的點 保持防護薄膜框架使其—内面m厂μ為： 口滴下經過溶媒稀釋的點接劑移朝—邊從吐出 粘接劑。 瓊移動土出口，错此方式而塗布 ^巧專利範圍第1項之對防護薄膜框架内面的點接劑塗布方 框架出口移動速度以及吐出口在防護薄膜 % 布方法，其特徵為： 擭薄膜框架内面實施申4塗布枯接劑之後，更對防 ”月專利章巳圍苐1或2項之枯接劑塗布方法。 4、 如申請專利範團 上 粘接劑塗布方法，其中，、中任一項之對防護薄膜框架内面的 吐出口前端切形寬度軸__面寬度的驗 5、 如申請專利範圍 魅接劑塗布方法，至3項中任1之對防護薄膜框架内面的 塗布中之吐“<， 〜^的範圍内，且吐^^«薄_架表面之間的距離在〇· 2 滿點接劑溶液。與防護_框架表面之間的間隙填 十一、圖式： ----- 15