TWI311237B - Positive type dry film photoresist - Google Patents

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Jong-Min Park
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Description

1311237 98.04.10第94143340號申請專利範圍修正本· 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 ； 本發明係關於一種正型乾膜光阻，特別是關於一種具 ' 有較佳之物理性質，例如較高之薄膜速度〔或感光速度〕 、顯影對比度、感光度、解析度及/或對基材的黏著度之正 型光阻樹脂膜。 【先前技術】 # 光阻及光阻膜係使用於高整合度之半導體的製造上 ’例如積體電路〔ICs〕、印刷電路板〔pcBs〕及電子顯示 裝置，例如陰極射線管〔CRTs〕、彩色液晶顯示器〔LCDs 〕及有機電致發光顯示器〔ELs或ELDs〕。該裝置之製程 係使用照相平版印刷〔photolithography〕及金屬餘刻曬版 〔photofabrication〕技術。該光阻膜需要足夠之解析度以 开>成具極細線條之圖案及不超過m〔微米〕之較小空間 區域。 鲁該光阻之物理性質可藉由光阻樹脂或光阻之分子結 構的化學修飾，而改變溶劑之溶解度、色彩、加工等特性 〇 ' β近年來，由於基材尺寸之增加及液態光阻組成物相關 - 得更加顯著’錢液態光阻組成物製造賴電晶體 液晶顯示器〔TFT_LCDs〕的製程係變得更加複雜及困難。 正型液態光阻由於儲存時的沉殿作用產生解析度及感光度 降低之問題，及由於塗覆表面之殘餘物產生較差之圖案設 計之問題等。因此，有必要進一步開發新的光阻以解決上 第9414334«號申請專利範圍修正本。 述問題。 由於傳統液態正型光阻之缺點，使得正型乾膜光阻技 術的需求與日倶增。該缺點導致製程成本之提高。例如， 將一光阻旋轉塗佈至一半導體晶圓導致損失昂貴之光阻材 料。用於旋轉塗佈光阻作業之機械裝置具有實質巨額設備 成本，且旋轉塗佈相關的作業時間與管理產生額外之製程 費用。光阻相關過濾的使用點應用亦耗費成本。旋轉塗佈 製程中之各方面的光阻浪費即佔光阻成本的一大部分。同 樣的，正型液態光阻組成物在儲存時產生不溶物質〔即產 生沉澱作用〕，而導致解析度及感光度之降低。因此，有需 研發一種可實施之乾膜正型光阻技術。 傳統乾膜光阻技術係在I960年***始發展，當時液 L負型光阻係適用於乾膜技術以製造大型、低解析度裝置 ，例如印刷電路板〔PCB〕圖案之製造。然而，負^乾膜 光阻劑不足之騎度抑制了乾紐術在高解析度的應用， 例如積體電路〔ICs〕、液晶顯示器〔LCDs〕等。 正型乾膜光阻劑首先係出現在1980年代，該項技術 的發展係利用熱塑性樹脂的特性。例如，纖維樹脂係用以 作為乾膜正型光阻劑之基本成分〔如美國專利第 號〕。其他乾膜正型光阻劑係由杜邦所研發〔如美國專利第 4，193,797號及第5,〇77，174號〕，其係以丙烯酸〔似灿 〕或甲基丙烯酸〔methacrylate〕為基礎材料。由於利用纖 維樹脂或_酸猶產生較厚的乾縣阻僅軸低解析度 ’因此習用之熱塑性正型乾膜光阻之相·術仍具有負型 13 Π237, 98 〇4.1〇第94143340齡請專利範面修正本 . 光阻劑之缺點。 ' ^由於高階的半導體製造應用需要薄膜之厚度相對較 / $ 之乾駐型光阻存在應用上㈣題。亦即， ' t該光阻層的寬度因應高解析度之助平版印刷而必然的 變薄時，均勻之薄膜的必要需求亦相對增加。例如，一光 阻的薄膜產生更加敏感於外界現象，例如基材粗糙度… 非均勻基材可導致光阻層的缺陷，例如「魚眼〔fisheye〕 因此S用光阻膜非常需要進一步改善，以克服各種 問題，例如塗層厚度誤差、光滑度、變形、凝結、起泡、 塗層損失等。在使用傳統液態正型光叙組成物以形成液晶 顯示器〔LCDs〕或有機電致發光顯示器〔ELDs〕等之微 圖案的必要製程〔例如旋轉塗佈或類似製程〕時常會產生 士述問題。光阻膜經改善後亦將呈現高解析度、絕‘之線 寬可控制性、高熱阻值、高感光度、改善之殘留率、較高 • 之抗乾餘能力及高顯影性質’且可應用在液晶顯示器〔 LCDs〕及有機電致發光顯示器〔ELDs〕等之微細〔 〕製程。 【發明内容】 ' 本發明主要目的係提供一種正型乾膜光阻，其係用以 ' 形成正型光阻樹脂膜，當習知液態光阻組成物在二基材形 成微電路圖案〔例如用於薄膜電晶體液晶顯示器〔 TFT-LCDs〕、有機電致發光顯示器〔ELDs〕等之微電路圖 案〕時，其係可減少在一玻璃基材上之複雜的應用製程〔 —7—— ?Ρ〇4· 10第94143340號申請專利範圍修正本β 例如旋轉塗佈〕，以解決上述問題。本發明之乾膜光阻劑相 對於習知液態光阻成分達成具有實質相同或更佳物理性質 的微電路圖案，其係可適用於增加形成微電路圖案之基材 面積的趨勢。 本發明次要目的係提供一種正型乾膜光阻，其係藉由 提供-光阻樹脂膜，其包含一光滑支撐膜及一正型光阻樹 脂層，該正型光阻樹脂層係積層於該捕膜上。特別是， 該正型光阻樹脂層包含一鹼溶性樹脂、一重氮基感光化合 物及一感光增強劑。 +匕根據本發明之正型乾膜光阻，其係肋形成正型光阻 树月曰膜#包含一支撐膜及一熱固性正型光阻樹脂層，該 正型光阻樹脂層係積層於該支撐膜之上。該正型光阻樹脂 層含有-鹼溶性樹脂、一重氮基感光化合物及一感光增強 ^該支伽具有-表面祕度，以抑制如「魚眼」之缺 形成。本發明可克服製程無效率及旋轉塗佈光阻 技術所造成之缺陷。 【實施方式】 易懂為之上述及其他目的、特徵、優點能更明顯 作詳細說明如下： 心例’並配合所附圖式， 光阻所示’其揭示本發明較佳實施例之正型 積層於該支』= Θ之正縣阻翻旨層之料及運輸的安 1311 9237. •〇4_10第94143340號申請專利範固修正本β 全性’該薄顏-步選擇在該光阻樹闕2()上方設置一保 護層〔未緣示〕。該正型光阻樹脂層2〇可設有一驗溶性樹 脂、一重氮基感光化合物及一感光增強劑。 上述具有積層結構之正型植樹^係可減少習知 液態光阻樹脂組成物使用時必需將光阻旋轉塗佈於 基材上的製程，藉此可解決其相關問題，例如在塗覆時之 之光滑度、變形、凝結、起泡、溶劑滲出 專。此外，使用乾膜光阻劑亦有利於提高產量。 該支撐膜10係具有一峰苒Γτ?1〇 ^ ^ t 4学同〔Rp〕之特性，該峰高〔 表面平均高度〔麵〕及—最高表面峰部⑷之 曰ί的η么，辨高〔Rp〕係位於—選取區域之高度斷面 L z軸方向〕内。 同時，若不規則峰部係形成於該表面，列表 =Ht〕係指該選取區域之高度斷面〔，方向〕之‘ 的頂峰、底谷及不規則峰部之平均高度。 睛參照第2圖所示，並措干一插士 規則表面。 -知種支標膜！〇具有極不 藉此’可觀察一不規則奪部q。即使該表面在去除該 之區域中具有較低高度之的頂峰及底谷?該 不規料部q之影響仍增加鱗高〔rp〕值。 同時’該不規則峰部q的出現係不利於形成於該 之光阻膜的性#。當該光阻膜之厚度較大時二二 ㈣，較小L ㈣較薄時 X 、自凸錢入該光阻將造成該光阻層20變得不 —9 — 98.04.10第94143340號申請專利範圍修正本· 均勻’而產生「魚眼」現象。亦即，當該光阻膜2〇之厚度 減少至約10/m〔毫求〕時，該支撐臈1〇之大量不規則= 導致產生「魚眼」。因此，該支撐膜10之峰高〔Rp〕不鹿 超過約300nm〔奈米〕。 同時，雖然本發明在峰高〔Rp〕為3〇nm〔即〇 〇3_ 〕仍财效，但是該支撐膜1G的峰高〔Rp〕較佳係大 約在觀rnn或以下。同時，該峰高〔Rp〕較佳係儘可能減 少，甚至減少為10nm〔即或以下。然而，該峰 高〔邱〕之有效範圍係介於15至30nm之間。 凊參照第4圖所示’其揭示一定向聚丙稀〔〇pp〕支 稽膜之表面，其係在原子力顯微術〔AFM〕之攝影下，該 表面係未產生相對較大之不規則。此時，該表面係未產生 相對較大之不規則頂峰，因此在該光阻層上產生缺陷。相 對的，如第5圖所示，其揭示—聚乙烯對苯二甲酸醇醋〔 PET〕薄膜利用原子力顯微術〔afm〕攝影的顯微照相圖 1其揭不該較大峰值高出該表面之平均高度〔應〕。當該 較大1峰=凸伸進入該光阻層時，將產生不狀_。 特別是，本發明之支樓膜較佳係具有-峰高〔Rp〕， 該峰高係一表面平均高度〔_〕及最高表面峰部〔q〕之 =所开/成之w度差。該峰高〔Rp〕係位於該選取區域之 =度斷面〔z㈣向〕内’且該峰高〔Rp〕在原子力顯微 術〔AFM〕之測量下係不超過約3_皿。該峰高⑽〕係 更佳不超過約100nm，其係在使用一定向聚丙稀〔哪〕 或雙向拉伸聚丙烯〔B〇pp〕時，可獲得該峰高〔即〕值 1311237 98.04.10第94143340號申請專利範園修正本 該表面平均高度〔MHt〕料高〔邱〕係藉由美國park SC1_fiC Instrument Company所製造的原子力顯微鏡〔 AFM，型號：Auto Prove M5〕所測量。 f該原子力顯微鏡〔AFM〕在翻定有微探測器之懸 土樑#近該支撐膜之表面時’該原子力顯微鏡係 根據該探測ϋ之原子及樣本表面之原子間的縱長距離 生吸力或斥力。 藉由上述現象，可測量該表面的平均高 峰高〔Rp〕。 更詳言之，量測面積〔樣本尺寸〕係2GX2G /zm2。 該原子力顯微鏡〔AFM〕之探測器係接觸該支樓膜之 f所隨機選擇之十個位置，賴由光電二極體測量該位 置之原.子所產生的力。 ，表_平均高度〔纖〕及峰高〔Rp〕係藉由分析 之原子力而獲得’且該軒力係#由光電二極體所 ^ ’該分析係利用軟體〔如咖聰〇pes p讎an Software Version2 〇〕產生二階曲線近似。 丨估此f峰^⑻〕健十侧量值巾除了最大值及最 小值以外的八個測量值之平均值。 〔Rp〕超過細nm時，在積層該乾膜光阻劑 後’且以基膜自該絲層去除時，將會有—凹穴或魚 層表面之最高表面峰部的高度相等，因而在該 4膜曝光相㈣顧造成缺陷。 1311237 98.04.10第94143340號申請專利範圍修正本β 此外，由於加入顆粒〔例如有機顆粒或無機顆粒〕以 改善薄膜成品之順暢運行〔smo〇th running〕性質，及/或 薄膜生產中所產生的雜質，將形成一高表面峰部。 、聚錯酸 。特別是 乙烯醋〔PVA〕薄膜或聚乙烯醇〔pv〇H〕薄膜等 本發明之支撐膜1〇對該正型光阻樹脂膜具有較佳的 物理性質。本發明較佳實施例之支撐膜材料實施例包含〔 但未限制於〕聚碳酸酯〔PC〕薄膜、聚乙烯〔pE〕薄膜、 聚丙稀〔PP〕薄膜、定向聚_〔qPP〕薄膜、聚對苯二 曱酸乙一醇酯〔PET〕薄膜 '聚二甲酸乙二酯〔pEN〕薄 膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物〔EVA〕薄膜、聚乙烯化合物 薄膜、任何合適的聚稀烴〔p〇〕薄膜、環氧薄膜等。特別 是’該聚烯烴〔p〇〕薄膜較佳係聚丙稀〔pp〕薄膜、聚乙 婦〔PE〕薄膜、乙婦·乙酸乙烯醋共聚物〔EVA〕薄膜等。 聚乙烯化合物薄膜係較佳聚氯乙烯〔pvc〕薄膜、聚 ，該聚苯乙_膜較佳係聚苯乙烯〔PS〕薄膜、丙烯腈/ 丁二烯丙烯/笨乙烯共聚物〔娜〕薄膜等。特別是，該 =較佳係剌，以供光_支制及關該光阻樹
該支樓膜10較佳可具有厚度範圍介 之間’以作為φ授纹π：;丨1 1311237 98.04.10第94143340號申請專利範圍修正本β -賴脂㈣可選自熱龍或_性。孰塑性係 •㈣韻_態，錢可反覆的料魏及冷卻硬化。窄 ：_性瓣或麵係—種材料，㈣可在加熱日幢塑造及 -- 顧彡，而在冷卻時保持其形狀。_性樹脂或塑膠係可藉 ' 由熱量及㈤催化劑進行化學反應，以形成—固體。一旦該 熱固性材料被加熱過後’當再加熱時，其不會恢復至最初 狀態’亦無法因再次加熱而軟化。該驗溶性樹脂係用於調 製本發明之正型光阻樹脂層20’該驗溶性樹脂較佳係包含 〔但未受限制於〕熱固性紛路清漆〔n〇v〇lac〕樹脂，其係 酚類及酸類之聚縮合之產物，且該酚搭清漆樹脂最佳係甲 齡盼搭〔cresolnovolac〕樹脂。 酚搭清漆樹脂係單獨由酚類聚縮合而成或與搭類及 酸性催化劑組合而成。 酚係包含〔但未限制於〕主要酚類及多元酚。該主要 酚類：例如酚〔phenol〕、鄰甲紛〔〇-cres〇i〕、間甲紛〔m_cres〇1 . 〕、對曱酚〔p-cresol〕、2,3-二甲基酚〔2,3-xylenol〕、2,5- 二甲基酚〔2,5-xylenol〕、3,4-二曱基酚〔3,4_xylenol〕、3,5-二曱基酚〔3,5^^11〇1〕、2,3,5-三曱基酚-二曱基酚〔 2,3,5-trimethylphenol-xylenol〕、4-反式-丁盼〔 < 4-t-butylphenol〕、2-反式-丁紛〔2-t-butylphenol〕、3_反式-丁紛〔3-t-butylphenol〕或 4-甲基 _2_ 反式-丁盼〔 4-methyl-2-t-butylphenol〕等。該多元紛：例如 2-苯盼〔 2-naphthol〕、1，3-二經基萘-〔l，3-dihydroxy naphthalene〕、 1，7-二經基萘〔1，7- dihydroxy naphthalene〕、1，5-二經基萘 —13 — 1311237 98.04.10第94143340號申請專利範園修正本。 〔1，5- dihydroxy naphthalene〕、間苯二酚〔resorcinol〕、鄰 苯二酚〔pyrocatechol〕、對苯二酚〔hydroquinone〕、雙酚 A 〔bisphenolA〕、間苯三酚〔phloroglucinol〕或鄰苯三酚〔 pyrogallol〕等，其係可單獨使用或組合使用。特別是，其 較佳係化合間曱酚〔m-cresol〕及對曱酚〔p-Cresol〕。 本發明較佳實施例之酸類〔aldehydes〕係包含〔但未 限制於〕甲醛〔formaldehyde〕、三聚曱醛〔trioxane〕、聚 曱醛〔paraformaldehyde〕、苯曱醛〔benzaldehyde〕、己趁 〔acetaldehyde〕、丙路〔propylaldehyde〕、苯乙輕〔 phenylacetaldehyde〕、α 或召-苯丙醛〔α 或石-phenyl propylaldehyde〕、鄰-，間-，或對-羥基苯曱醛〔〇_，m、，〇r p-hydroxybenzaldehyde〕、戊二醛〔glutaraldehyde〕或鮮笨 二甲醛〔terephthalaldehyde〕等，其係可單獨使用或組合 使用。 本發明之甲紛紛醒〔cresolnovolac〕樹脂較佳係具有 重量平均分子量〔以凝膠液相層析法〔GPC〕為基準〕範 圍介於2000至30000之間。 此外，由於該盼酿〔cresolnovolac〕樹脂之物理性質 ，例如感光速度及薄膜殘留率係隨著間位/對位-曱酚成份 的混合比例而改變，因此本發明之酚醛樹脂較佳係具有間 位/對位-曱紛成份之混合重量比例介於4:6至6:4之間。 若該酚醛樹脂之間位-曱酚成份超過上述範圍時，則感 光速度將升高，同時該薄膜殘留率將急劇降低。另一方面 ，當該對位-曱酚成份超過上述範圍時，則該感光速度係不 1311237 98.04.21第94143340號專利說明書修正頁。 當的減慢。 雖然該酚醛樹脂具有間位/對位-甲酚成份之混合重量 比例範圍介於4:6至6:4之間，其係可單獨使用，但較佳係
組合具有不同分子量之樹脂。據此，該酚醛樹脂較佳係下 述之混合物：〔i〕、甲酚酚醛樹脂具有重量平均分子量〔以 凝膠液相層析法〔GPC〕為基準〕範圍介於8000至30000 之間；及〔ii〕、酚醛樹脂具有重量平均分子量〔以GPC為 基準〕範圍介於2000至8000之間；且其化合比例範圍係 介於7:3至9:1之間。 此處所使用之「重量平均分子量」一詞係關於藉由凝 膠液相層析法〔Gel Permeation Chromatography, GPC〕所 測定之聚苯乙烯〔PS〕當量的換算值。若該重量平均分子 量係低於2000 ’則在該薄膜顯影之後，該光阻樹脂膜在未 曝光之區域的硬度將產生大幅度的降低。另一方面，當該 重量平均分子量超過30000時，則該顯影速度將下降以致 | 降低感光度。在該反應生成物中之低分子量成份移除之後 ’其重量平均分子量範圍係介於2000至30000之間，本發 明之酚類樹脂可達到最佳效果。為了移除該酚醛清漆〔 I novolac〕樹脂内之低分子量成份，可便利的使用習知技術 / ，其包含分級沉澱、分級溶解、管柱層析分離等技術。藉 • 此，可改善該光阻樹脂膜之成果，特別是浮渣或熱阻值^ 該酚醛清漆〔novolac〕樹脂係與鹼溶性樹脂同樣可在 不增加體積的情況下溶解於一鹼性溶液，且當該樹脂用於 一 15 —
1311237 98.04.21第94143340號專利說明書修正頁 蝕刻之光罩時，其係提供高度抗電漿蝕刻能力之圖案。
本發明之重氮基感光化合物係作為一感光材料時。此 外’其係作為一抗溶劑以降低酚醛清漆〔novolac〕樹脂之 鹼溶性。然而，當光線照射於該重氮基感光化合物，其係 轉變成一鹼溶性物質’進而可增加該酚醛清漆樹脂之鹼溶 性。因此，由於該感光化合物之可溶性係隨著光照而改變 ，該感光化合物特別適用於該正型光阻樹脂膜。 該重氮基感光化合物可藉由一多經基〔polyhydrox〕 化合物及一苯二_重氮確〔qUinonediazide sulfonic〕化合 物之酯化反應化合而成。該感光化合物之酯化係包含：將 該多羥基化合物及苯二酮重氮磺化合物溶解於一溶劑，例 如一氧六壞〔dioxane〕、丙酮〔 acetone〕、四氩咲喃〔 tetrahydrofuran〕、曱乙酮〔methylethylketone〕、N-甲基四 虱化 口比格〔 N-methylpyrrolidine〕、三氯甲烧〔chloroform〕 、三氯乙烷〔trichloroethane〕、三氯乙烯〔trichloroethylene 〕或二氯乙烧〔dichloroethane〕；藉由將一驗基催化劑，例 如氫氧化鈉、碳酸鈉、碳酸氫鈉、三乙胺〔triethylamine〕 、N-甲基嗎〔N-methylmorpholine〕、N-甲基哌嗪〔N_methyl piperazine〕或 4-一 曱基胺变〔4-dimethyl aminopyridine〕 加入該溶液中，則可縮合該調製之溶液；清洗、純化及乾 4 爍該成品。就重氮績化合物酯化至一多經基化合物的經基 而s，同分異構物可選擇性的酯化，且並未特別限制該酯 化率〔平均g旨化率〕，但較佳範圍係介於2〇%至1〇〇%的範 圍内，且更佳係介於6〇%至90%的範圍内。當酯化率過低 —16—— 1311237 98.04.10第94143340號申請專利範圍修正本· 時，造成圖案結構及解析度的下降。相對的，當酯化率過 咼時’將造成感光度的降低。 例如’該本一酮重氮續酸鹽〔quinonediazide sulfonic - 〕化合物含有鄰-苯二酮重氮〔o-quinone diazide〕化合物 例 f 1,2-本酉比重氮 _4-績酸〔i,2-benzoquinone diazide-4-sulfonic acid〕、i，2-萘醌重氮 _4·磺酸〔 1,2-naphthoquinone diazide-4-sulfonic acid〕、1，2·苯艦重氮 • 績酸〔l，2-benzoquinone diazide-Ssulfonic acid〕、1，2·萘 醌重氮-5-績酸〔1,2-naphthoquinone diazide-5-sulfonic acid 〕及其他苯二酮重氮磺酸鹽衍生物。 該本一酮重氮確酸鹽〔quinonediazide sulfonic〕化合 物作為一抗溶劑以降低紛駿清漆〔n〇v〇lacresin〕樹脂在驗 性溶液中的溶解度。然而，該化合物在曝光製程中分解產 生鹼溶性樹脂，因此該化合物具有加速該酚醛清漆樹脂在 鹼性溶液中的溶解度之特性。 | 關於多羥基〔P〇lyhydroxy〕化合物，較佳之實施例係 三經基苯酮〔trihydroxybenzophenones〕，例如 2,3,4-三經基 苯酮、2,2’，3-三羥基苯酮、2,3,4，-三羥基苯網；或者四羥基 苯_〔tetrahydroxybenzophenones〕，例如 2,3,4,4-四羥基苯 ' 酮、2,2’，4,4’-四羥基苯酮、2,3,4,5-四經基苯酮；或者五羥 ' 基苯酮〔pentahydroxybenzophenones〕例如 2,2，,3,4,4，-五輕 基苯酮或2,2’，3,4,5-五羥基苯酮；或者六羥基苯酮〔 hexahydroxybenzophenones〕’ 例如 2,3,3，，4,4，，5-六羥基苯酮 或2,2,3,3’，4,5’-六羥基苯酮；或者為沒食子酸烷基酯類〔 —17 — 1311237 98.04.10第94143340號申請專利範圍修正本。 gallic alkylester〕、氧基黃烷類〔oxyflavans〕等。 本發明所使用之重氮基感光化合物較佳係選自以下 組群的至少一個：2,3,4,4-四羥基苯酮_l，2-萘醌重氮-磺酸、 2,3,4-三經基苯酮-1，2-蔡5昆重氮-5-確酸及(ι_[ι_(4_經苯基) 異丙醇]-4-[1，1-雙(4-經苯基)乙基]苯)-ΐ，2·萘酉昆重氮_5_績酸 [ (1 - [ 1 -(4-hydroxypheny)isopropy 1]-4-[ 1,1 -bis(4-hy droxyphen y)ethyl]benzene)-l，2-naphtho quinonediazide-5-sulfonate〕。 同時，可利用聚羥基苯酮〔polyhydroxybenzophenone〕及 一重氮基化合物，例如1,2-萘醌重氮〔 l，2-naphthoquinonediazide〕、2-重氮-1-萘酚 _5_ 續酸〔 2-diazo-l-naphthol-5-sulfonic acid〕之反應調製該重氮基感 光化合物。 該重氮基感光化合物係插述於由Kosar，J.; John Wiley & Sons出版公司於西元1965年在紐約出版之「感光系統 〔Light Sensitive Syterns〕」參考書之第七章。 本發明之重氮基感光化合物〔即感光劑〕係作為該正 型光阻樹脂層之基本成份，其選自置換性萘醌〔 naphthoquinone〕重氮基感光劑’其通常使用於正型光阻樹 脂化合物。例如，其係揭示於美國專利第2,797,213號、第 3，106,465 號、第 3，148,983 號、第 3,201,329 號、第 3,785,825 號及第3,802,885號等。 上述之重氮基感光化合物係單獨使用；或者基於1〇0 份重量之鹼溶性樹脂組合使用30至80份重量之重氮基感 1311237 98.04.10第94143340號申請專利範圍修正本。 光化合物。若使用少於3〇份重量之重氮基感光化合物時， 則該化合物在一顯影溶劑中將不會發生顯影，且造成該光 阻膜之殘留率大幅降低。相反的，若超過80份重量時，則 - 成本過尚而不符經濟效益。此外，在該溶劑中的溶解度將 降低。 根據本發明之步驟，該重氮基感光化合物可控制該正 型光阻樹脂膜的感光速度。例如，該感光化合物之總量的 • 控制，及該多羥基〔P〇lyhydroxy〕化合物〔例如2,3,4-三 羥基苯酮〔trihdroxybenzophenones〕〕與苯二酮重氮磺酸化 合物〔例如2-重氮-1-萘酚_5磺酸〕之間的酯化的控制。 該重氮基感光化合物減少鹼溶性樹脂在一液相鹼性 顯影溶劑中之曝光前的可溶性約1/1〇〇th。然而，在曝光之 後，該化合物係在該鹼性溶劑中轉變成一羧酸〔carb〇xyUc 〕’因此相較於未曝光之正型光阻組成物，將使可溶性提升 大約1_至15GG倍。上述特徵較佳係使用於液晶顯示器 φ 〔LCDs〕、有機電致發光顯示器〔ELDs〕等之微電路圖案 的成形製程中。特別是，塗覆在一石夕晶圓或一玻璃基材之 光阻’其係透過-具有電路形狀之半導體遮罩並受一紫外 . 絲射。接著’ _顯影溶劑處理而在财晶圓或玻璃基 ' 材上產生預定之電路圖案。 * —感糾強劑可用以改善該正型光阻樹脂膜之感光 度。該感光增強劑可選自一多經基〔polyhydroxy〕化合物 ’其係包含2至7個·㈣能基，且該多絲化合物相 對聚苯乙稀〔Ps〕具有重量平均分子量低於1000。該感光 1311237 98-04.10第94143340號申請專利範圍修正本。 增強劑較佳實施例係選自下列組群的至少一個：2,3,4-三經 基苯酮、2,3,4,4_四羥基苯酮、（1·[1·(4-經苯基）異丙醇 ]-4-[1，1-雙(4-羥苯基)乙基]苯）。 該多羥基〔polyhtdrox〕化合物做為該感光增強劑，其 重罝較佳係基於100份重量之驗溶性樹脂使用3份重量至 15份。若該多羥基化合物之重量少於3份時，將造成不足 的感光效果及不符預期之解析度與感光度。當總數超過15 伤重里B守，將造成咼感光度，但縮小顯影窗口之處理邊緣 此外，該樹脂成份可包含其他成份或添加劑，其包含 整平劑、填料、顏料、染料、抗氧化劑等。 本發明之正型光阻樹脂層2〇可藉由混合上述之驗溶 性樹脂、重氮基感光化合物及感光增強劑，再加上固定數 量之溶劑_製喊。舰合物係在較撐膜1()上塗覆約 5"m至2〇em之厚度。 將該正型光阻樹脂層形成於該支撐膜上之製程係包 含：藉由-般習知塗覆方法如彻滾筒、喊塗佈機、凹 板印刷、平版印糊之meyel氏桿、喷難等，將本發明 之組成物及溶_混合物塗覆_切膜；及乾燥該塗覆 二：該ί劑。必要時，上述塗覆之組成物可藉由加 熱及固化加以處理。 通常係藉由積層而_於一基材 表面，及在去除該切叙前較細，接著再去除咳支 撐膜。或者，在制就㈣脂财杨 之後， 1311237 98.04.Ί0第94143340號申請專利範圍修正本· 紅㈣輯脂財射絲。料， 除該支撐膜之前或之後進行。 F泵了在去 - ^卜該製狀正型光阻觸财另包含-保護声， :該保護層係形成於該正型光阻樹脂層之上方。該保護^係 =阻止空氣滲透及保護該正型光阻樹脂層免於雜質：污 染物，且魏制健錄W … 甲，〔航〕膜、_〔pp〕膜^較本: 係具有1厚度朗介於15_至、m之間。 入.同時’姻本發明之光阻樹腊卿成職之製程係包 含· ⑴、形成該光阻樹脂膜之步驟，其係藉由在—玻璃 基材上，將-光阻樹脂層塗覆於一支樓膜，及可選擇將該 支撐臈從該光阻樹脂膜去除。 Μ ⑺、_紫外線經過-光罩照射該製成之塗層 不、左過光罩直接照射該製成之塗層，以產生預定之圖 案。 〕、形成-光_案塗層，其係包含在去除該支揮 膜之後’在料_射雜藉_f彡时_正型光 脂塗層，此時财伽未從該雜触_除。 本發明較佳之顯影溶劑實施例係2 38%之四甲基 化録〔TMAH〕’以顯影紅㈣阻樹脂膜。 在步驟1令，將該正型光阻樹月旨膜黏結於該基材之— 部位以便敍_脂層靠近該切膜，藉此完成該正型光 阻樹脂塗層之成型。該讀黯需移除。此外，形成於該 —21—— 1311237 98·04·10第94143340號_請專利範面修正本。 基材上之光阻樹脂塗層無需乾燥。 ，因此，預定之光阻劑圖案塗層係藉由步驟卜2及3 而形成。 該製成之正型光阻樹脂膜包含該光 於該支撐膜上，如此解決俤用丄 9 Ί位 紗解絲用S用液'⑮光阻樹脂組成物在 =存= 组成物時所產生之降低解析度或感光度的問題，·或 者，消除傳統將一化合物塗覆於該玻璃基 轉塗佈及/或乾燥製程，使本發明可解決在乾燥二^3 泡的缺點，以增加產品良率，特別是明顯減少 製程成本。 利用本發明之正型光阻樹脂膜所形成的微電路達成2 ，至輪之高騎度’其實質她於或更佳於習 用液態正__驗成物，·可使驗微電路構造， 例如液晶顯示器〔LCDs〕、有機電致發光顯示器〔腳s〕 等。
JtSALL 藉由以下非限制性之實施例，上述特徵及本發明之其 他優點將變得更加凸顯。然而，該實施例係㈣更完整的 說明本發明，而並未限制本發明之領域範圍。 第一i^^ 一溶劑調製成具有重量混合比例為4:6之間位/對位_ 甲酚成份之甲酚酚醛〔 cres〇l n〇v〇iac〕樹脂，且其具有下 列成份：〔i〕、甲酚酚醛樹脂具有重量平均分子量8〇〇()及 〔ii〕酚醛樹脂具有重量平均分子量2〇〇〇，其二者係在鹼 一 22 — 1311237 98.04.1 M_10第94143340號申請專利範圍修正本。 /谷性樹脂中以7:3之比例混合；40份重量之2,3 4 r經某 苯__1，2-萘醌重氮-5-磺酸做為感光成份；5份重量二 2,3,4,4-四羥基苯酮做為感光增強劑；及其餘則為溶劑、染 料及7或整平劑，上述混合比例係以1〇〇份重量之鹼溶性樹 脂為基礎。該調製成之溶液係經由一 〇 2//m之 TEFLON〔聚四氟乙烯〕濾材以移除不溶物質。該成品溶 液係以5 /z m之厚度塗覆於一聚乙烯對苯二甲酸醇^旨〔σρΕτ 〕薄膜〔19 /zm厚〕，以形成一光阻樹脂層，因 正型光阻樹脂膜。 篇一實施例 一正型光阻樹脂膜依照第一實施例之方式調製，除了 該鹼溶性樹脂係一具有重量混合比例為4:6之間位/對位_ 甲紛成份之甲酚酚搭〔cres〇l n〇v〇lac〕樹脂，且其係包含 下列成份：〔Π甲酚酚醛樹脂具有重量平均分子量10000 及〔ii〕曱驗齡酸·樹脂具有重量平均分子量3q〇〇,其二者 係依照7:3之比例混合；且該感光化合物係4〇份重量之 2,3,4’4-四羥基苯酮-U-萘醌重氮磺酸，其係以1〇〇份重量 之鹼溶性樹脂為基礎。 實施你丨 一正型光阻樹脂膜依照第一實施例之方式調製，除了 該驗溶性樹脂係一具有重量混合比例4:6之間位/對位-甲 酚成份之甲酚酚醛樹脂，且其係包含下列成份：〔i〕曱酚 酚醛樹脂具有重量平均分子量12000及〔ii〕甲酚酚醛樹脂 具有一重量平均分子量4000，其二者係依照7:3之比例混 —23 - 1311237 98.04.10第94143340號申請專利範圍修正本。 合，且該感光化合物係40份重量之(1_[丨_(4_經苯基)異丙醇 PKU-雙(4-羥苯基)乙基]苯)义孓萘醌重氮_5_磺酸，其係 - 以100份重量之鹼溶丨生樹脂為基礎。 _， 第四實施例 一正型光阻樹脂膜依照第一實施例之方式調製，除了 δ玄驗/谷性樹脂係一具有重量比例5:5之間位/對位_曱盼成 份之甲酚酚醛樹脂，且其係包含下列成份：㈠〕曱酚酚醛 樹脂具有$量平均分子量14_及〔U〕甲__脂具有 -重量平均分子量5000，其二者係依照8:2之比例混合；· 且該感光化合物係20份重量之2,3,4-三羥基苯酮_ι，2-萘醌 重氮酸及2〇份重量之2,3,4,4_四經基苯酮Μ·萘醌重 氮磧酸，其係以100份重量之鹼溶性樹脂為基礎。 第五實施例 一正型光阻樹脂膜依照第一實施例之方式調製，除了 該驗溶性樹脂係-具有重量比例5:5之間位/對位·甲紛成 份之甲紛祕樹脂，且其係包含下列成份：⑴甲紛祕 樹脂具有重量平均分子量18000及㈤甲龄祕樹脂具有# 一重量平均分子量_，其二者係依照8:2之比例混合； 且該感光化合物係20份重量之2,3,4_三經基苯酮山2_萘醌 重氮-5-石黃酸及20份重量之(1仆(4_經笨基)異丙醇[邱上 . 雙(4-經苯基)乙基]苯)_1，2_萘醒重氮如黃酸，其係以刚份. 重量之鹼溶性樹脂為基礎。 第六實施例 一正型光阻樹脂膜依照第一實施例之方式調製，除了 —24 — 1311237 98.04.10第94143340號申請專利範圍修正本· 該鹼溶性樹脂係一具有重量比例5:5之間位/對位_甲酚成 份之甲酚酚醛樹脂，且其係包含下列成份：㈠〕甲酚酚醛 ’： 觸具有«平均分子量1_及〔ii〕甲__脂具有 •- 一重量平均分子量7000，其二者係依照8:2之比例混合； 且該感光增強劑係5份重量之(i-[1-(4_經笨基）異丙醇 ]-4-[1，1-雙(4-羥苯基）乙基]苯），其係以1〇〇份重量之鹼溶 性樹脂為基礎。 ' • 第一至六實施例所獲得之每個正型光阻樹脂膜係以 〇.5m/min〔公尺/分鐘〕至3.5m/min之積層速度積層至一 基材上，其係在100。(：至130 t之溫度及1〇 psi〔磅/平 方英寸〕至90 psi之輥壓壓力下進行積層，且係利用—光 罩接嗳紫外線之曝光，且在去除該支撐膜之後，該正型光 阻樹脂膜係在2.38 %之TMAH〔四曱基氫氧化銨〕中顯影 ，以形成微形圖案。該成型圖案之物理性質係根據下述方 法δ平估’且其結果係揭示於表一： , 物理性皙評仕 第一至六實施例所產生之正型圖案的物理性質係相 據下述方法評估，且其結果係揭示於表一。又 〔1〕感光度 - 在將每個該製成之正型樹脂膜曝光於不同光量之紫 外線下之後’該薄膜係利用2.38 %之ΤΜΑΗ〔四甲基氣氣 化銨〕溶液顯影60秒，再清洗30秒之後乾燥。該成品薄 膜之曝光量係利用一光學顯微鏡檢測。 〔2〕熱阻值 —25 — 1311237 第9414334〇號申請專利範圍修 正本。 /在藉由相同方法形成一絲圖案讀檢測其感光度 =後，該光阻圖案係放置於溫度150 °C之熱板上加熱2分 利用知私式電子顯微鏡〔Scanning Electron Microscope, SEM〕觀察該光阻劑圖案之截面，同時利用&階〔 a-step 〕以觀察該紐劑圖案之表面。 該光阻劑圖案之狀態係評估如下：在加熱之後’該光 ^圖案之外形及表面的變化相對該圖案之厚度不超過 3/^夺„’以符就◎表示；當變化範圍介於3%至5%之間時， 以符號△表TF ;當變化超過⑽時，以符號χ表示。 〔3〕解析度 、在將該製成之正型光阻樹脂膜以公尺/分鐘至3.5 a尺。/刀鐘之積層速度積層至該基材上時，且在⑽t至 溫度及1〇PSi〔碎/平方英寸〕至90psi之輥壓 。力下進行積層’該積層薄_姻—光科受紫外線之
知射，且去除作為支撐膜之該聚乙烯對苯二甲酸醇g旨〔PET 〕，卜接著，該光阻樹脂膜係利用2.38 〇/〇之TMAH〔四甲 基氳氧化銨〕之顯影液顯影，藉此形成一具有未曝光區域 之微電路。該成型圖案之解析度係利用一掃描式電子顯微 鏡加以觀察。 第94143340號申請專利範圍修正本 第94143340號申請專利範圍修正本 〔毫‘耳/S分 [mJ/cm21 熱阻值評估 解析度 〔//m〕 第一實施例 第二實施例 第三實施例
表一、丨感光度值及I解拆唐 第四實施例 第五實施例 第六實施例 如表1所不，按照第-至六實施例之正型光阻樹脂膜 所形成之微電路’每個該微電路含有位於該支撐膜上之該 光阻樹脂層，其產生絕佳之雜，例域光度、熱阻值及 解析度。據此，本發明之光崎脂膜可在—基材^形成一
微電路圖案，以使用於液晶顯示器〔LCDs〕及有機電致 光顯示器〔ELDs〕等裝置。 X 本發明正型光阻層係由一正型光阻組成物製成，其係 按照下述方式製造： 月旨，—溶液調製成含有：—甲盼祕〔cres〇1 n〇v〇lac〕樹 曰，其具有重量混合比例4:6之間位/對位_ :包含下職份⑴㈣祕樹脂具有重量平均分_4 及〔ii〕甲齡紛路樹脂具有一重量平均分子量2〇〇〇， =二者係依照7:3之比例混合’以作為驗溶性樹脂；4〇份 臺之2,3,4-二羥基苯酮_ι，2_萘醌重氮_5_磺酸，以作為感 —27 — 7311237 98.04.10第94143340號申請專利範圍修正本。 光化合物；5份重量之2,3,4,4-四羥基苯酮，以作為减光增 強劑；及其餘成份為溶劑、染料及/或整平劑，其係以1〇〇 份重量之上述的鹼溶性樹脂為基礎。該調製成之溶液係經 過—0.2 // m之Millip〇re TEFLON〔聚四氟乙烯〕濾材，以 去除不浴性物貝。該成品溶液係塗覆於一雙向拉伸聚丙稀 祺〔b卜axially oriented polypr〇pyiene ’ B0PP〕，以形成一正 型光阻層。該雙軸向拉伸聚丙烯膜具有表二及表三所列之 物理性質’其係作為厚度5/zm之支撐膜，藉此產生正型 光随乾膜。 物理性質 定向聚丙烯 [0PP] 每對苯二曱酸乙二醇酯 Γ PFT Ί —___ [ //rn] 熔點rc ]
5主.t對笨一甲酸乙二醇酉旨〔ρΕτ〕之物理性質代表 於第-至六實施例之聚對笨二甲酸乙二醇_〔ρΕΤ〕 主二、該支斤^熱力學性質及機械性質的對照表 表一、第七實施例之雙向拉伸聚丙烯膜〔朦ρ〕之平 測結果 f均高度 峰高 谷深 (MHt) — (Rp) (Rv) 0.0322 ----- 0.0482 -0.0322 0.0343 -- 0.0446 -0.0343 0.0461 0.0737 -0.0461 測試區 峰高-V 粗糙度 (Rp-v) (Rms rough) 0.0804 0.0077 0.0789 0.0080 0.1198 0.0081 平均粗糙 度 0.0061 ------ 0.0063 0.0061 —28 — I311m剛峨娜删修正本。 0PP-4 0.1438 0.0084 0.0063 0.0480 0.0958 -0.0480 0PP-5 0.0650 0.0064 0.0050 0.0272 0.0378 -0.0272 0PP-6 0.1028 0.0099 0.0076 0.0479 0.0549 -0.0479 0PP-7 0.0759 0.0069 0.0054 0.0288 0.0471 -0.0288 0PP-8 0.0728 0.0075 0.0059 0.0321 0.0407 -0.0321 平均值 0.0924 0.0079 0.0061 0.0371 0.0554 -0.0371 表四、第一至六實施例之聚對苯二曱酸乙二醇酯〔PET〕 之平均高度〔MHt〕及峰高〔Rp〕的量測結果〔單位// m 測試區 岭高-V (Rp-v) 均方根值 粗糙度 (Rms rough) 平均粗糖 度 平均高度 (MHt) 峰高 (Rp) 谷深 (Rv) PET-1 0.2322 0.0112 0.0072 0.0732 0.1590 -0.0732 PET-2 0.4342 0.0210 0.0101 0.2584 0.1757 -0.2584 PET-3 0.1724 0.0065 0.0037 ,0.0444 0.1280 -0.0444 PET-4 0.2009 0.0131 0.0088 0.0613 0.1396 -0.0613 PET-5 0.1340 0.0053 0.0034 0.0336 0.1003 -0.0336 PET-6 0.1161 0.0040 0.0025 0.0249 0.0913 -0.0249 PET-7 0.1602 0.0046 0.0024 0.0415 0.1187 -0.0415 PET-8 0.1378 0.0059 0.0030 0.0420 0.0958 -0.0420 平均值 0.1985 0.0089 0.0051 0.0724 0.1260 -0.0724 在表三及表四中，峰值-v〔Rp-v〕係該選取區域之高 —29 — 1311237 98.04.10第94143340號申請專利範圍修正本。 度斷面〔Z軸方向〕的最大峰高及谷底高度之距離。 均方根值粗糙度〔Rms rough〕係具有八個數字之數據 與表面平均高度〔MHt〕之標準差，且平均粗糙度係具有 八個數字之數據與表面平均高度〔MHt〕之平均標準差。 谷深〔Valley ’ Rv〕係該選取區域之高度斷面〔z軸方 向〕的谷底高度及表面平均高度〔MHt〕之間的距離。 峰高〔Rp〕及平均高度〔MHt〕之定義係已於上文描 述。 物理性曹评仕 本發明所使用之支撐膜的物理性質係根據下述方法 評估。 〔熔點〕 調製成之薄膜係使用一熱微差掃描分析儀〔 Differential Scanning Calorimeter〕藉由熱流差異而進行檢 測，以便將相同之溫度程序應用於一樣本材質及惰性參考 材質。 〔突出物之高度〕 。調製成之薄膜係以一原子力顯微鏡〔AFM〕藉由一微 探針進行原子間斥力〔interat〇mic repulsive f〇rce〕分析三 -人，藉此计算出最高表面點及最低表面點的平均值，且決 疋該薄膜的表面粗縫度。 該支撐膜之熱性質及機械性質係彼此比對且其結果 顯示於上述之表二。 八 上述實施例所產生之正型光阻膜的物理性質係根據 1311237 98.04.10第94143340號申請專利範圍修正纟β 下述方法進行評估，且其結果顯示於表三。 • 〔薄膜去除性質〕 •在將該調製成之正型光阻乾膜積層至一玻璃基材上 ； ，且該玻璃基材係以氧化銦錫〔ΙΤΟ〕塗覆2_Α〔埃〕 之深度及100x100 mm2之寬度，且以積層速度2公尺/分鐘 ，在110°c之溫度及i〇psi〔碌/平方英寸〕至9〇psi的熱 ，壓力之下進行積層，隨後將該支撐膜自該紘層撕除、。、、 . 藉由利用通用測試機〔Universal Test Machine，UTM ;
Instron Inc.〕評估該乾膜之去除特性，該測試機可判定該 薄膜撕除時之撕除強度。 人 〔感光度〕 在將該積層基材曝光於不同光量之光線後，該薄膜係 利用2.38 %之ΤΜΑΗ〇Τ基氫氧化銨〕溶液在環境溫度 下顯影60秒，再清洗30秒之後乾燥。該成品薄膜係利用 一光學顯微鏡檢測其曝光量。 | 〔熱阻值〕 在藉由相同方法形成一光阻圖案，以便在檢測其感光 度之後，該光阻圖案係放置於一 15〇它之熱板且加熱2分 , 麵利用知描式電子顯微鏡〔Scanning Electron Microscope SEM〕觀察該光阻圖案之截面，同時利用&階〔a-step〕以 . 觀察該光阻劑圖案之表面。 該光阻圖案之狀態係評估如下：在加熱之後，該光阻 圖案之外形及表面的變化相對該圖案之厚度不超過3%時 ’係視為「佳」；當變化範圍介於3%至5%之間時，係視為 ——31 — 1311237 98.04.10第94143340號申請專利範圍修正本β 「一般」；當變化超過10%時，係視為「 〔解析度〕 在將該調製成之薄膜以2公尺/分鐘之積層速度積層 至該基材’且在l〇〇C之溫度及1〇psi〔碎/平方英寸〕至 卯Psi之輥壓壓力進行積層，該積層薄膜係利用一光罩接 文紫外線之照射’且撕除該作為支撐膜之聚乙稀對苯二甲 ㈣S曰〔PET〕。接著，該處理過之薄膜利用2 38 %之TMAH 〔四甲基氫氧化錢〕之驗性顯影液顯影，藉此形成一具有 未曝光區域之微電路。該成品微電路之解析度係利用一掃 描式電子顯微鏡觀察。 鱼五、正型光阻乾膜之^竺質的對照表 解析度 相較於使用傳統液態光阻樹脂組成物，本發明可達成 物理性質，例域光速度、顯影對比度、解析度、對基材 之黏著度、薄膜殘留率、電路線寬—致性⑽―办 〕等，其係相同於或更佳於液晶顯示器〔LCDs〕及有機電 致發光顯示器〔ELDs〕等裝置_傳統組成物將微電路形 成^-基材上，藉此提供—改良之正型光阻樹脂膜，其用 於薄膜電晶體液晶顯示器〔抓LCDs〕、有機電致發光顯 不器〔ELDs〕等之平板印刷。 —32 — 1311237 98.04.10第94143340號申請專利範圍修正本· 此外，使用該正型光阻樹脂膜可排除使用傳統液態光 阻樹知組成物之微電路圖案的成型製程所需之旋轉塗佈及 ’ · 乾燥製程。因此，本發明可解決上述製成之習用間題，例 • : #厚度偏差、粗劣光滑度、變形、凝結、乾燥時起泡及溶 d之析出等。由於不需旋轉塗佈及乾燥製程，本發明係簡 化製程，因而提高可加工性及符合經濟效益。 另外本發明之iLS光樹脂膜未具有先前技術之液態 • 組成物_存_所造成的解析度及/或感光度降低之^ 關問題。 雖然本發明已利用上述較佳實施例揭示，然其並非用 以限定本發明，任何熟習此技藝者，在不脫離本發明之精 神和範圍之内，當可作各種更動與修改，因此本發明之 護範圍當視_之巾請翻_所界定者鱗。 ’、
—33 — 1311237 紙〇4_1〇第94143340號申請專利範圍修正本。 【囷式簡單說明】 第1圖.本發明較佳實施例正型乾膜光阻所形成之正型 光阻樹脂膜之結構圖。 第2圖.本發明較佳實施例正型乾膜光阻具有較大不規 則之基材之曲線圖。 第3圖：本發明較佳實施例正型乾膜光阻未具有較大不 規則之基材之曲線圖。 第4圖：本發明較佳實施例正型乾膜光阻未具有較大不 規則之基材的原子力顯微術〔AFM〕之顯微照相圖。 第5圖：本發明較佳實施例正型乾膜光阻具有較大不規 則之基材的原子力顯微術〔AFM〕之顯微照相圖。 【主要元件符號說明】 1〇支撐膜 Rp峰高 q 取向表面峰部 20正型光阻樹脂層 MHt平均高度
—34——

Claims (1)

1311237 98.04.10第9414334〇號申請專利範圍修正本· 十、申請專利範圍： ,· 1、一種正型乾臈光阻，其包含： / 一支撐膜；及 ‘ 正型光阻層’其係位於該支樓膜上方，其中該支樓膜 具有-峰高〔Rp〕，該峰高係—選取區域之高度斷面〔 軸方向〕之—表面平均高度〔馳〕及—最高表面峰 局之間的高度差’該峰高不超過3⑻奈米，該光阻層之 φ 厚度係不超過10微米。 2 =申gf專利範圍第丨項所述之正型乾膜光阻，其中該峰 高〔Rp〕係不超過約100奈米。 3、 依中晴專圍第丨項所述之正型乾膜光阻，其中該支 伽之厚度範®係實質介於丨5微米至5〇微求之間。 4、 依中請專利範圍第以所述之正型乾膜光阻，其中該光 阻層係由鹼溶性樹脂組成。 5、 依巾料概圍第4項職之正型乾膜光阻，其中該樹 # 脂係酚醛清漆樹脂。 一 35 — 1311237 98.04.10第94143340號申請專利範圍修正本β 性樹脂為基礎。 9、依申請專利範圍第7項所述之正型乾膜光阻，其中該重 氮基化合物係選自以下組群的至少一個：2,3,4,4-四經 基苯終1，2-萘醌重氮磺酸、2,3,4-三羥基苯酮-1，2-萘醌 重氮-5-磺酸及(1-[1-(4·經苯基)異丙醇雙(4_羥 本基)乙基]笨)·1，2_萘艦重氮_5·續酸。 10、 依申请專利範圍第6項所述之正型乾膜光阻，其中該甲 酚酚醛樹脂根據凝膠液相層析法〔GPC〕具有一重量平 均分子量範圍介於2000至30000之間。 11、 依申請專利範圍第6項所述之正型乾膜光阻，其中該曱 酚酚醛樹脂係具有一間位/對位_曱酚成份，其混合重量 比例係介於4:6至6:4之間。 12 '依申请專利範圍第6項所述之正型乾膜光阻，其中該曱 盼盼搭樹脂係下述之混合物：〔i〕甲酚酚醛樹脂具有重 量平均分子量範圍介於8〇〇〇至30000之間〔以凝膠液 相層析法〔GPC〕為基礎〕；及〔^〕甲酚酚醛樹脂具有 重罝平均分子量範圍介於2000至8000之間〔以凝膠液 相層析法〔GPC〕為基礎〕，且其二者混合比例係介於 7:3至9:1之間。 13、 依申请專利範圍第7項所述之正型乾膜光阻，其中該感 光增強劑係選自以下組群的至少一個：2,3,4_三羥基苯 嗣、2,3,4,4-四羥基苯酮及（1-[1-(4-羥苯基）異丙醇 ]·4-[1，1_雙(4_羥苯基)乙基]笨）。 14、 依申凊專利範圍第1項所述之正型乾膜光阻，其中該支 1311237 98.04.10第94143340號申請專利範圍修正本。 撐膜係由聚對苯二甲酸乙二醇酯〔PET〕、聚二曱酸己 一酯〔PEN〕、聚碳酸酯〔pc〕、乙烯-乙酸乙烯酯共取 物〔EVA〕、乙烯-乙烯醇共聚物〔EVAL〕、聚氣乙歸'〔 PVC〕、聚乙酸乙烯酯〔PVAC〕、聚乙烯醇〔pVAL〕、 聚苯乙烯〔PS〕、丙烯腈/丁二烯/苯乙烯環氧樹脂、聚 烯烴〔PO〕之一組成；其中該聚烯烴選自聚乙烯〔^丘 〕、聚丙烯〔PP〕及定向聚丙烯〔0PP〕所組成之族群 15、依申請專利範圍第1項所述之正型乾膜光阻，其中該乾 膜光阻另包含一保護層，該保護層係形成於該光阻居: 上方。 16 17 依申明專利範圍第15項所述之正型乾膜光阻，其中 保護層係由聚乙烯〔PE〕、聚對苯二甲酸乙二醇醋〔p 〕、聚两烯〔PP〕之一組成。 依申請專鄉圍第15韻述之正型乾膜光阻，其中 保遵層之厚度範圍係實®介於15微米至3G微米之f =請專利範㈣1項所述之正型乾膜光阻，其中該 阻層係包含-熱固性聚合物。 18
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