TWI293766B - A method for assembling carbon nanotubes and micro-probe and an apparatus thereof - Google Patents

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    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D13/00Electrophoretic coating characterised by the process
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y30/00Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites

Description

1293766 玖、發明說明·· 【發明所屬之技術領域】 本發明側於-種奈米碳管與探針接合之 結構,尤其是指一種藉由電' β ^ 冤冰原理,使奈米碳管 可又電%驅使而自組接合於探針上之方法及結構。 【先前技術】 。奈米碳管(CarbonNanotubes)是由碳原子所組成的一 種單層或多層壁之纽結構,管㈣為數奈米,長度可達 數微米。由於奈米碳管的特殊結構與特性,使其具^良好 的機械特性、高深寬比、曲饒性等優勢,而可廣泛應^在 光電元件、電子元件、生化醫療、能源材料··等各種不同 領域。此外’更可利用奈米碳管細長金屬與半導電特性及 曲饒性之優點,更可應用於奈米級微探針或微電極。但是, 由於奈米峡官為奈米級之尺寸’當奈米碳管欲與一探針接 合時,將因奈米碳管之尺寸太小而不易處理。 當欲進行奈米碳管與探針接合之製程時,目前習知之 技術都疋採用配合觸媒之塗佈及化學氣相沉積法進行,使 奈米碳管沿著沾有觸媒的地方成長,例如:電漿強化化學 氣相沉積法、常溫化學氣相沉積法、電弧放電等。但是, 上述之製程條件需要真空環境(50〜400T〇rr)或在高溫下進 行,即便是低溫製程也要450〜50(TC,且低溫製程僅限於 MWNTs,對於SWNTs仍需要1000〜1200t高溫製程。此 類習用技術對於大尺寸與低溫平台材料上沉積奈米碳管均 1293766 有很大的限制。此外,由於觸媒通常是由鐵、錄、始等金 屬研磨至奈米等級,不僅價格昂貴,且在沉積碳管的過程 中’常附帶產生不純物,如結晶或非結晶性的碳化物及未 反應元之催化劑等,因此會增加純化之額外製程,且技術 亦相對較困難。有鑒於習知之採用配合觸媒之塗佈及化學 沉積法之缺失及限制,因此本發明其係提供一種奈米碳管 與探針自組裝接合技術,以克服奈米尺寸之材料與巨觀元 件接合所面臨之困難。 【發明内容】 本發明之主要目的係提供一種奈米碳管與探針接合之 製作方法,可在常溫缝下進行奈米碳f與探針接合製程。 本發明之另-目的係提供一種奈米碳管與探針自組接 裝作方法由電泳或介電泳原理,使奈米碳管可在 南壓電場驅使下$組接合於探針尖端之上。 本發明之再-目的係提供一種奈米碳管與探針接合之 =構’其奈米碳管係平行於f場方向排列並附著於探針尖 端之上。 糸絲ίί明之更—目的係提供'"種奈米碳管與探針接合之 ==構’可進行使奈来碳管受高壓 而 於探針尖端的製程。 牛驟本發明之㈣方法’至少包含下列 使該探針暴露於-含有分散奈米碳管電= 1293766 溶液環境中並财-電極;並對該導電層及_之間施加 -預疋電壓’使至少-奈米碳管因電泳效應或是介電泳效 應而朝向·十之失端泳動、並藉由凡得瓦耳力附著於其上。 、為使貴審查委員能對本發明之特徵、目的及功能有 更進一步的認知與瞭解,茲配合圖式詳細說明如後: 【實施方式】 本發明之奈米碳官與探針接合之製作方法係使用簡單 之電泳或介電泳技術。在常溫㈣的狀態下,即可以進行 奈官與微雜針的接合,且製程技誠製程條件均相 對簡單,以下將舉若干實施例詳細說明本發明之技術特徵 及功效。 請參閱圖一,為本發明藉由電泳(或介電泳)原理來 進行奈米碳管與探針自組裝接合之系統架構與方法示意 圖。 如圖一所示,該方法主要是先提供一矽材質之基底 11,於基底11上並藉由半導體製程而製作至少一微米探針 Π (圖中係以四隻探針12為例)。於基底u及探針12表 面覆蓋有一導電層13,例如金、銅、銘或其他金屬或合金 等,其可藉由電鍍或是薄膜沈積方式形成為較佳。於導電 層13上更覆蓋有一非導電物質層14以作為遮蔽層,於本 較佳實施例中係以光阻作為非導電物質層14但亦可選用其 他非導電材質。該非導電物質層14係覆蓋於導電層13上 預定區域處,並使探針12尖端121處之導電層ι31不被非 Ϊ293766 導電物質層14所覆蓋而係暴露於外界。 該基底11連同其上之探針12、導電層13及 質層14 -起被置入-溶液環境2〇中,例如置入一反 等。於該溶液環境20 +分散有懸浮之多數奈米碳管ϋ 溶液環境20中與基底U相隔一預定距離處並設置有二 電極3卜藉由導電膠4卜42與連接線43、44將基底u 上之導電層13與電極31分職_—直流電源45的正負 兩極。該直流電源45可在導電層13與電極31之間提供二 預定強度的直流電壓。由於導電層13僅有探針12尖端 處係暴露於溶液環境20中、其暴露於溶液環境2〇之表面 積,小於電極31。所以,在靠近探針12尖端121處將會有 電場集中強化之效應。在此情形之下,溶液環境2〇中之多 數不米碳g 21將會因為電泳效應或是介電泳效應而朝向探 針12尖端121處泳動,並在探針12尖端121時會被電場 所導引而使奈米碳管21的長度方向與探針12延伸方向呈 現平行於電場整齊排列,並進一步藉由凡得瓦耳力而附著 固定於探針12尖端12卜 於一較佳實施例中,該溶液環境2〇係包括有陰離子界 面活性劑,例如十二烷基硫酸鈉(substantially deereased, fDS)、或是其他種類之界面活性劑等,其可在原本不帶電 何之奈米碳管21表面附著一層負電荷。並且,該導電層13 係為連接直流電源45的正極、而電極31則是連接直流電 源45之負極(如圖一所示)。如此一來,帶著負電荷之奈 米碳管21將會受到電場影響而朝向相反電性(也就是正極) 1293766 之^針12尖端121泳動1後則因凡得瓦耳力而附著固定 =探針12尖端121。這種現象便稱作電泳(Electr〇ph_is, 、於此電/永技術中’奈米碳管21的泳動率將取決於其 分子量,而與原來分子所帶的電荷無關。 〃、 —而在另一較佳實施例中,該溶液環境20係為不帶電之 溶劑,例如異丙醇或其他有機溶劑等。由於奈米碳管21本 身亦不帶電荷,所料會絲朝某1極祕。然而,由 於導電層13僅有在探針12尖端121處係暴露於溶液環境 2〇中、其暴露於溶液環境20之表面積遠小於電極31。所 以,在靠近探針12尖端121處將會有電場集中強化之效應 ,產生不-致的電場強度。在其影響下,未帶電之奈米碳 管21由於極化之誘導,造成側向移動。其原语是^場影 響下,誘發粒予表面受到極化的效應,而產生一耦極距。 如此,即使異丙醇與奈米碳管21兩者都不帶電荷,也將因 不一致之電場環境而仍將奈米碳管21引導朝向電場流密度 大之探針12尖端121泳動,最後則因凡得瓦耳力而附著固 疋於探針12尖端121。這種現象便稱作介電泳動 (Dielectrophoresis )。 於本較佳實施例中,更可設置包括一超音波裝置46, 其可對該溶液環境20提供超音波震盪,不僅避免溶液環境 20中之複數個奈米碳管21凝聚成團、也可使奈米碳管21 均勻分散懸浮於溶液環境20中。 請參閱圖二A至圖二E所示,為如圖一所示之該含有探 針12之基底11的製程步驟的較佳實施例,其包括有下列步 1293766 驟: 首先,如圖二A所示,於矽材質之基底51上(例如矽晶 圓)依序形成一氤化矽層52及一阻障層53 (例如光阻)。 利用黃光微影儀刻等半導體製程技術於該阻障層53預定位 置處開設有若刊口 53卜而使開口531部分之氮化石夕層52 可暴露於外界。 接著,如圖二B所示,對如圖二A所示之裝置進行反 應性離子_機(RIE)侧,並_基底51作為侧終 點,使開口 531部分之氮化矽層52因蝕刻而遭侵蝕,之後 再去除阻障層53,而在基底上留下若干柱狀之氮化矽柱 521 〇 然後,如圖二C所示,對氮化矽柱521進行非等向性 濕蝕刻,而於基底51上形成若干氮化矽材質之圓錐狀探針 522結構。 再來,如圖二D所示,藉由電鍍、濺鍍、物理氣相沈積、 化學氣相沈積、或是其他方式在基底51及探針522上形成一 金屬導電層54,例如金、銅、鋁、鎳或其他金屬或合金等。 於本較佳實施例中,該導電層54係廣泛覆蓋整個基底51與 探針522。然而,於其他實施例中,該導電層54至少需覆蓋 有探針522之尖端。 最後,如圖一E所示,形成一非導電物質層55覆蓋於導 電層54上之預定區域處而僅暴露出探針522尖端處之導電 層541。於本實施例中,該非導電物質55可為光阻或其他不 導電薄膜或南分子材料等。其先將光阻廣泛覆蓋於整個導 1293766 電層54上後、再藉由反應性離子蝕刻掉預定厚度的光阻, 而使除了探針522尖端處之外的其他部分導電層54均被非 導電物質55所遮蔽。如此,便完成圖一所示之具有探針之 基板結構的製作。 值得一提的是,於圖二A至圖二E所示之本發明之該含 有探針12之基底11的製程步驟的實施例中,雖然是以氮化 石夕(SiKO作為製作微米探針的材料,然而,吾人亦可選 用其他氮化梦、氧化⑦、金屬、或高分子聚合物等來在基 底上形成探針者。 如上述之電泳系統/介電泳系統係可在常溫常壓下進行 奈米碳管與探針接合之製作,可以避免習知技術需要在高 溫高壓下進行奈米碳管與探針接合之缺失。並且,本發明 於申請前從未曾見於任何刊物及公開場合中,確實具有新 颖性及南度進步性。 唯以上所述者,僅為本發明之較佳實施例,當不能以之 限制本發明的範圍。即大凡依本發明申請專利範圍所做之 均等變化及修飾,仍料失本_之要義所在,亦不脫離 本發明之精神和範圍,故都應視為本發_進—步實施狀 況。 【圖式簡單說日日1
W 圖一為本發明藉由電泳(或介電泳)原理來進行奈米碳管 與探針自組裝接合之系統架構與方法示意圖。 圖二A至圖二E絲本發明之具有探針之基底的製程步驟 1293766 流程圖。 圖示之圖號說明: 11基底 12探針 121尖端 13導電層 131尖端處導電層 14非導電物質層 20溶液環境 21奈米碳管 31電極 41、42導電膠 43、44連接線 45直流電源 46超音波裝置 51基底 52氮化矽層 521氮化矽柱 522探針 53阻障層 531 開口 55非導電物質 54導電層 13

Claims (1)

  1. _tt委員明示,本索修正後是否變更原實質内會 1293766 (專卿纖削G1GI3 _______ 拾、申請專利範圍: 碳倾探針接合之製作方法,包括下列步驟: ⑻棱供一矽材質的基底; ⑼依序形成—氮化石夕層及—阻障層,並於該 位置處開設若干開σ ’使該開口部分之氮 化石夕層可暴露於外界; (0進行侧,使該開口部分之氮切層賴刻而遭侵 韻,之後再去除該阻障層; ⑼對該氮切層進行非等向性做彳,而於 至少一氮化石夕材質之探針結構; -域 ⑻以魏或_崎方式職基敍贿針表面覆蓋一 導電層; (f) 除該探針尖端處之導電層外,於其餘導 蓋一 非導電物質層; 覆 (g) 將該t有探針、導電層及非導電物質層之基底置入一 含有分散奈米碳管之溶液環境+,並於雜液環境中 另設一電極;以及 (h) 、於該導電層及該電極間施加一預定電壓,使至少一奈 米碳管朝向該探針之尖端泳動,並附著於該探針之尖& 處。 2·如申請專利範圍第丨項所述之奈米碳管與探針接合之製 作方法,其中,該電極暴露於溶液環境之面積 針尖端暴露於溶液環境之面積。 、' 、 3·如申請專利範圍第1項所述之奈米碳管與探針接合之製 14 1293766 G額10Π ________ 成團 ,步驟,以避免該溶 圍第1賴述之奈米碳管絲針接合之製 作方法,其中,該非導電物質為光阻。 …+ ’該减喊係包括有陰料界面活性劑, =在該奈米碳管表騎著—層負電荷,紅,該導 係為所施加預定電壓的正極。 1申請專__〗項所述之奈米翁絲針接合之製 作方法,其中’該溶液環境係包括有異丙醇。 7.如申請專利範圍第!項所述之奈米碳管與探針接合之製 ,方,’其中該奈米碳管係藉凡得瓦力附著於該探針之 W端處。 8.—種奈米碳管與探針接合之結構,包括有: 基底,該基底上並形成有至少一探針丨 一導電層,其敍少於該探針之尖端處,該導電層 上之預定區域處更覆蓋有一非導電物質層,而且該探 =尖端處之導電層並不被該非導電物f層所覆蓋而暴 露於外界,·以及,” 至少-奈米碳管,其細雜該探針的线上,且該太 米碳管係平行於該探針之延伸方向。 不 ^如申請翻翻第8術叙奈錢針接合之处 構,其中,該基底材質係為矽。 1293766 (專利申請第〇93101013號發明專利申請案說明書修正) 10. 如申請專利範圍第8項所述之奈米碳管與探針接合之結 構,其中,探針材質係為氮化矽。 11. 如申請專利範圍第8項所述之奈米碳管與探針接合之結 構,其中,該非導電物質為光阻。 16
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