TWI263691B - Sputtering target and method for producing the same - Google Patents
Sputtering target and method for producing the sameInfo
- Publication number
- TWI263691B TWI263691B TW92104304A TW92104304A TWI263691B TW I263691 B TWI263691 B TW I263691B TW 92104304 A TW92104304 A TW 92104304A TW 92104304 A TW92104304 A TW 92104304A TW I263691 B TWI263691 B TW I263691B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- sputtering target
- sintered body
- sputtering
- oxide
- producing
- Prior art date
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Ceramic Products (AREA)
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002054738 | 2002-02-28 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW200303931A TW200303931A (en) | 2003-09-16 |
TWI263691B true TWI263691B (en) | 2006-10-11 |
Family
ID=27784598
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW92104304A TWI263691B (en) | 2002-02-28 | 2003-02-27 | Sputtering target and method for producing the same |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN1441082A (zh) |
TW (1) | TWI263691B (zh) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5651095B2 (ja) * | 2010-11-16 | 2015-01-07 | 株式会社コベルコ科研 | 酸化物焼結体およびスパッタリングターゲット |
JP2013047361A (ja) * | 2011-08-29 | 2013-03-07 | Mitsubishi Materials Corp | スパッタリングターゲット及びその製造方法並びに該ターゲットを用いた薄膜、該薄膜を備える薄膜シート、積層シート |
CN108655403B (zh) * | 2018-06-25 | 2020-08-28 | 河南科技大学 | 一种电子材料用高纯钽靶材的制备方法 |
JP2020041217A (ja) * | 2018-09-07 | 2020-03-19 | 三菱マテリアル株式会社 | 光学機能膜、スパッタリングターゲット、及び、スパッタリングターゲットの製造方法 |
-
2003
- 2003-02-27 CN CN03104948A patent/CN1441082A/zh active Pending
- 2003-02-27 TW TW92104304A patent/TWI263691B/zh not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW200303931A (en) | 2003-09-16 |
CN1441082A (zh) | 2003-09-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3611853B2 (ja) | バインダ相に富んだ表面領域を備え、向上したエッジタフネス強度を有するセメンテッドカーバイド | |
KR100753328B1 (ko) | 스퍼터링 타겟트, 광 정보기록 매체용 박막 및 그 제조방법 | |
JP3934160B2 (ja) | 結合相富化した表面領域を有する超硬合金の製造方法 | |
JP2004514790A (ja) | 被膜付き超硬合金切削工具の製造方法 | |
WO2012086300A1 (ja) | 磁気記録膜用スパッタリングターゲット及びその製造方法 | |
JP2013139065A (ja) | 高速断続切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆切削工具 | |
CN104630590B (zh) | 一种复合硬质合金材料及其制备方法 | |
ATE205888T1 (de) | Verfahren zum herstellung eines sinterkarbidkörpers | |
TWI263691B (en) | Sputtering target and method for producing the same | |
SE9802487D0 (sv) | Cemented carbide insert with binder phase enriched surface zone | |
CN104099580A (zh) | 一种具有增强耐磨性和韧性的纳米柱状晶的刀具涂层 | |
JP2000345207A5 (zh) | ||
JP5080527B2 (ja) | スパッタリングターゲット | |
JPH0222453A (ja) | 切削工具用表面被覆炭化タングステン基超硬合金 | |
JP2006247751A (ja) | ダイヤモンド膜の除去方法およびダイヤモンド膜被覆部材の製造方法 | |
EP1541262A4 (en) | SINTERED PRESSK IRON-BASED PISTON AND MANUFACTURING METHOD DAF R | |
JPS5839764A (ja) | 超硬合金 | |
FR2415668A1 (fr) | Piece d'usure en metal dur et sa preparation | |
EP0399747A3 (en) | Substrate used for magnetic disk and magnetic recording medium using the substrate | |
JPH07150286A (ja) | TiCN基サーメット | |
Jones et al. | Theory of aggregation of nitrogen in diamond | |
GB860563A (en) | Improved method of surface treatment for non-ferrous bodies | |
JP2666853B2 (ja) | 超硬合金の製造方法 | |
JPH08174310A (ja) | サーメット製切削工具 | |
Rie et al. | Effect of carbon on the microstructure of plasma nitrocarburized steels |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM4A | Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees |