TWI260723B - Test key having a chain circuit and a Kelvin structure - Google Patents
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1260723 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關於一種半導體基板上的測試鍵,尤指一 種具有鍵狀電路及開爾文結構的測試鍵。 【先前技術】 在半導體製程中’為維持產品品質的穩定’須針對所 生產之半導體元件不斷進行測試。通常在進行各項製程的 同時,亦會採用相同的步驟製作一測試用元件,藉由測量 該測試用元件的各項功能是否正常,以有效控制產品品 質。此外,隨著半導體製程的不斷改進,晶片上所包含的 電晶體數量急速地增加,進而使得用來連接晶片内各層的 介層插塞(via)之數目也急速地增加。為有效地掌控半導 體產品的良率,如何精確地量測介層插塞的電阻值,便成 為一項不可忽視的課題。 請參考第1圖,第1圖為一習知的測試鍵1〇之示意圖。 測試鍵10係採用業界所熟知的開爾文結構(Kelvin structure ),主要是用來量測一介層插塞12之電阻值。測試 鍵10係形成於一半導體基板上,其包含有一第一接觸墊 1260723 第二接觸墊16、-第三接觸墊18 14 9n _ 一第四接觸墊 以及兩料22、24。介層插塞12闕由兩導線22、 :與:個接:墊14、16、18、20連接。當量測介層插塞 之電阻值時’會藉由—探針卡上的探針來接觸四個接觸 Μ、16、18、20。而藉由第一接觸塾14及第二接觸墊 16·’ 一測試電流1會被導人刺試鍵Η)内並流經介層插塞 12,同時,探針卡會藉 二 曰、 ㈢由弟一接觸墊18及第四接觸墊2〇 里測介層插基12兩端的帝网笔,, 、电I至’亚依據所量測得的電壓差 求出介層插塞12的雷阳枯从 J兒阻值。然而,因測試鍵1〇僅包含單 一個介層插塞12,故且 文"各易文到蝕刻負載效應(etching loading effect)的影響。 請參考第2圖及第3 ^ ® 弟2圖為另一習知的測試鍵 之佈線圖’第3圖為第2圖中測試鍵3g之局部剖面圖。 結構’其係形成於—半導體基板 上亚匕㊁有一第一接觸 一— 32、一弟一接觸墊34、複數個電 子組件36、複數個導辦& 、 、 8以及複數個介層插塞40。通常, V體38為金屬導線,而♦ 7 免子組件6是具導電性的擴散區 或疋$體3 8下一金凰風丄 > $中的金屬導線。介層插塞40則用 來將弟一接觸墊32、第〜 〜接觸墊34、電子組件36、導體 38連接在一起。所以, 弟一接觸墊32、電子組件36、導 1260723 體38、介層插塞40以及第二接觸墊34會串聯成一串聯電 路,其中第一接觸墊32與第二接觸墊34分別位於此一串 聯電路的兩端。當測試測試鍵30時,係藉由探針卡上的兩 探針接觸第一接觸墊32、第二接觸墊34,並施加一測試電 壓至第一接觸墊32。正常情形下,會如第3圖所示般,會 有一測試電流I產生,而測試電流I會流經串聯電路中的 電子組件36、介層插塞40、導體38。探針卡會量測所產 生的測試電流I之大小,以計算出第一接觸墊32與第二接 觸墊34之間的等效電阻值,進而估算每一介層插塞40的 電阻值。雖然,測試鍵30的蝕刻負載效應會較小,但因所 求出來的每一介層插塞40的電阻值並非精確’故其應用在 改進及分析半導體製程良率時的功用上有限。 【發明内容】 因此,本發明的目的即在於提供一種新的測試鍵,以 解決上述習知技術的問題。 該測試鍵形成於一半導體基板上,其包含有複數個電 子組件、複數個導體、複數個介層插塞、一第一接觸墊、 一第二接觸墊、一第三接觸墊、一第四接觸墊。該等介層 插塞係用來連接該等電子組件與該等導體。該第一接觸 1260723 墊、該等電子組件、該等導體、料介層插塞以及該第二 接觸墊係串聯成—㈣電路,而該第—接觸塾與該第二接 觸墊分別位於該串聯電路之兩端。該第三接觸塾、該第四 接觸墊、該等導體中之一導體、該等介層插塞中之一介層 插塞以及該等電子組件中之一電子組件構成一開爾文結 構。 藉由。亥開爾文結構可精確地量測單一個介層插塞之電 阻值此外’ m丨試鍵具有多個串聯的介層插塞,故其 姓刻負載效應會較小。 【實施方式】 月^考第4圖及第5圖,第4圖為本發明測試鍵%之 =圖’第5圖為第4圖中測試鍵5()之開_文結構⑹的 =圖1試鍵5G與測試鍵列在結構上非常類似;兩者 取的i別在於測試鍵3〇的串聯電路中的一段被測試鍵 50的—開爾文結構6〇所取代。 _試鍵30相同岐’測試鍵5Q亦形成於 =並包含有-第-接觸㈣、-第二接觸塾34、一 蜀藝56、—第四接觸墊%、複數個電子組件 10 1260723 36〜36’、複數個導體38〜38’,以及複數個介層插塞40。在 本實施例中,導體38、38’為金屬導線,而電子組件36、 36’是導體38、38’下一金屬層中的金屬導線。當然,本發 明並不以此一實施狀況為限,例如:電子組件36、36’亦可 為具導電性的擴散區。介層插塞40則用來將第一接觸墊 32、第二接觸墊34、電子組件36〜36’、導體38〜38’連接在 一起。所以,第一接觸墊32、電子組件36〜36’、導體38〜38’、 介層插塞40,以及第二接觸墊34會串聯成一串聯電路, 其中第一接觸墊32與第二接觸墊34分別位於此一串聯電 路的兩端。 如前所述,測試鍵30的串聯電路中的一段被開爾文結 構60所取代,而構成了測試鍵50。其中,如第5圖所示, 開爾文結構60係由第三接觸墊56、導體38’、電子組件 36’、第四接觸墊構58,以及電子組件36’與導體38’之間 的一介層插塞40所構成。此外,開爾文結構60中的電子 組件36’連接至第三接觸墊56,且其導體38’會連接至第四 接觸墊58,而一特定的介層插塞40則與電子組件36’及導 體38’連接。 當測試測試鍵50時,會藉由一探針卡上的探針來接觸 1260723 四個接觸墊32、34、56、58。此時,探針卡會藉由第一接 觸墊32及第二接觸墊34,輸出一測試電流I至測試鍵50, 以測試測試鍵50各元件間是否正常地連接。若探測卡順利 地將測試電流I輸出至測試鍵50的話,則表示測試鍵50 各元件間正常地連接,而此一測試電流I會由第一接觸墊 ‘ 32,經過各電子組件36〜36’、各導體38〜38’及各介層插塞 40,流至第二接觸墊34 ;然而,若探測卡無法將測試電流 ® I輸出至測試鍵50,則可推斷測試鍵50各元件間有可能連 — 接不正常而造成斷路。除此之外,探針卡會藉由第三接觸 • 墊56及第四接觸墊58來量測電子組件36’及導體38’之間 的介層插塞40兩端之電壓差,並依據所量測得的電壓差求 出此一介層插塞40的電阻值。因此,藉由測試鍵50的結 構設計,不但可以精確地求得單一個介層插塞40的電阻 值,同時又可偵測個元件之間是否正常地連接。 相較於習知技術,本發明之測試鍵因具有一開爾文結 構,故可以精確地求得單一個介層插塞的電阻值,又可避 免受到蝕刻負載效應的影響。此外,因該測試鍵具有多個 串接的介層插塞,故同時又可偵測個元件之間是否正常地 連接。因此在同樣的佈線面積上,本發明之測試鍵可具有 上述多重的功能。 1260723 以上所述僅為本發明之較佳實施例,凡依本發明申請 專利範園所做之均等變化與修飾,皆應屬本發明之涵蓋範 圍。 【圖式簡單說明】 第1圖為一習知的測試鍵之示意圖。 第2圖為另一習知的測試鍵之佈線圖。 第3圖為第2圖中之測試鍵的局部剖面圖。 第4圖為本發明測試鍵之佈線圖。 第5圖為第4圖中測試鍵之_文結構的示意圖。 【主要元件符號說明】 10 、30、 50測試鍵 12, 、40 介層插塞 16、 ‘34 第二接觸墊 20、 58 第四接觸墊 36、 36, 電子組件 60 開爾文結構 14、32 第一接觸墊 18、56 第三接觸墊 22 ' 24 導線 38、38, 導體 13
Claims (1)
1260723 十、申請專利範圍: 1. 一種測試鍵’形成於一半導體基板上,該測試鍵包含有: 複數個電子組件,形成在該半導體基板内; 複數個導體,形成在一導體層内; 複數個介層插塞(via),用來連接該等電子組件與該等 導體; 一第一接觸墊(pad); 一第二接觸墊,其中該第一接觸墊、該等電子組件、 忒等$體、该等介層插塞以及該第二接觸墊係串聯成一串 耳即電路,而該第一接觸墊與該第二接觸墊分別位於該串聯 電路之兩端; 一第三接觸墊;以及 一第四接觸墊; 其:該第三接觸墊、該第四接觸墊、該等導體中_導體、 。亥等介層插塞巾—介層織以及料電子組件巾—電子組 牛構成開爾文結構(Kelvin structure )。 1如申請專利範圍第i項之測試鍵,其中該等電子組 乂成於忒半導體基板内之複數個擴散區。 …、 14 1260723 3.如申請專利範圍第1項之測試鍵,其中該等電子組件為 金屬導線。 ' 4·如申請專利範圍第丨項之測試鍵,其中該等導體為金屬 導線。 、。 5. —種測試鍵’形成於一半導體基板上,該測試鍵包含有: 複數個電子組件,形成在該半導體基板内; 複數個導體,形成在一導體層内; 導體; 稷數個介層插塞(via),用來連接該等電子組件與該等 第一接觸墊(pad); …、第—接觸墊,其中該第-接觸墊、該等電子組件、 °亥等v體、该等介層插塞以及 _ 聯^弟—接觸墊係串聯成一串 : ㈣弟-接觸墊與該第二接觸墊分別 電路之兩端; 以及一第三接觸墊’與該等導體中的-特㈣導體連接; 件連:第=!’與該等電子級件中的-特定的電子組 而雜疋的電子組件藉由該 的介層插塞與該特定的導體連接。胃a-特义 ^60723 ^如申請專利範圍第5項之測試鍵,其中該第三接觸蟄、 44寸疋的導體、該特定的介層插塞、該電子組件以及該第 妾觸塾構成一開爾文結構(Kelvin structure ) 〇 浚申明專利範圍第5項之測試鍵,其中該該第三接觸 墊、该特定的導體、該特定的介層插塞、該電子組件以及 該第四接觸墊係串聯在一起。 8·如申請專利範圍第5項之測試鍵,其中該等電子組件為 形成於該半導體基板内之複數個擴散區。 ” 9·如申請專利範圍第5項之測試鍵,其中該等電 金屬導線。 A組件為 10·如申請專利範圍第5項之測試鍵,其中該箄 導線。 、^體為金屬 十一、圖式·· 16
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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TW94110254A TWI260723B (en) | 2005-03-31 | 2005-03-31 | Test key having a chain circuit and a Kelvin structure |
Publications (2)
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TWI260723B true TWI260723B (en) | 2006-08-21 |
TW200634968A TW200634968A (en) | 2006-10-01 |
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TW (1) | TWI260723B (zh) |
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CN103367323A (zh) * | 2012-03-31 | 2013-10-23 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 检测版图结构及检测方法 |
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---|---|---|---|---|
TWI662678B (zh) * | 2016-01-12 | 2019-06-11 | 聯華電子股份有限公司 | 測試鍵結構 |
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TW200634968A (en) | 2006-10-01 |
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