TWI251580B - Preparation of magnetic metal filled carbon nanocapsules - Google Patents
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Description
1251580 __案號 91117435_年月日__ 五、發明說明(1) 【發明領域】 本發明係有關於一種填充磁性金屬奈米竣球 (magnetic metal filled carbon nanocapsu1es)之製造 方法,且特別有關於一種高純度填充磁性金屬奈米碳球的. 製造方法。 【發明背景】 填充磁性金屬奈米碳球的外層是由多層石墨層以球中 球的結構所組成的多面體竣蔟,其中心部分為由磁性的金 屬、金屬化合物、金屬碳化物或合金材料所組成。所形成_ 的填充磁性金屬奈米碳球其直徑約3〜1 0 0 nm,具有特殊的 富勒烯(f u 1 1 e r e n e )結構與光、電、磁性質,並且由於外 圍石墨層的包圍,可保護内部磁性金屬奈米粒子,避免受 氧化及酸蝕。填充磁性金屬奈米碳球可應用在許多領域, 例如:藥物(醫藥級活性碳);光、熱吸收與磁性記錄;磁 流體;觸媒、感測器;具熱導、特殊電性、磁性之奈米複 材等方向。 然而,文獻上製備填充磁性金屬奈米碳球的方法所得 初產物以單層奈米碳管為主,僅有少量奈来碳球。由於奈 米碳球與奈米碳管間有強的凡得瓦力,在量少的情況下Θ 易將其分離純化,且因單層奈米碳管一端包覆有金屬觸媒 顆粒,與填充磁性金屬奈米碳球同樣具有磁性,也無法利 用磁力加以分離。故傳統方法不易製備高純度的填充磁性 金屬奈米碳球,產物不僅純度低,並含有大量碳灰雜質與 單層奈米碳管等。並由於傳統方法其成本高,導致填充磁 性金屬奈米碳球的相關應用一直限於停頓狀態。 、
1251580 j號 91117435 年 五、發明說明(2) 月 修正 【發明概述】 有鑑於此,本發明的主要目的便是提 純度填充磁性金屬奈米碳球的f ,、 了彳又仔回 奈米碳球為主要產物)。’ “方法(以填充磁性金屬 為達上述目的,本發明的方法包括下列主要步驟. (:)提八供一電弧反應室’含有石墨陰極與複合石墨陽極, =有至:―種磁性金屬或其衍生物,並於 ===反應至中通入一惰性氣體;(b)以—脈衝 加 电壓於上述陰極與陽極之間,藉以產生電弧放 < 及(C )收集於石墨陰極之沉積物。 & ’ 步驟(c)之後還有包括一分離純化步驟, 產物分離純化出填充磁性金屬奈米碳球, 括.(di)以一界面活性劑使上述產物分散於_ 中· 二2十:二““述溶液中之填充磁性金屬 不未石反球之主產物與奈米碳管;以及(d3 蜀 離出填充磁性金屬奈米碳球,並利用酸性 、、吸引么 除去殘留金屬微粒及界面活性劑。. 3 I性/合剖清洗 【發明詳細說明】 · 本發明之技術主要係在高壓的惰性氣 ,),利用脈衝電流(pulse current)來進ς帝放中大氣 = 電極表面溫度、“【屬^ 度與奴瘵軋的岔度,來改善碳球的產率,、π沧 磁性金屬奈米碳球。 、’用以衣造填充 1251580 年 月 修― I號 91117435 五、發明說明(3) m 免弧 對作為電 請參照第1圖,第1圖係顯示一用以實施本發 反應室的示意圖。在電弧反應室1中至少包含 X 弧放電之電極1 〇、1 2。惰性氣體由導入口丨2進入電 室1中,由出口 1 6排出。電弧反應室1之外圍以流^ $反應 包圍,圖中1 6為冷卻水入口 ,;[ 8為冷卻水出口。冷部水 在本發明中,電弧反應係在流動的惰性氣體下進〃 惰性氣體之流速可控制在1 Q〜2 〇 Q mm3 /m i n,較佳者係:, 在3 0〜1 2 0 m m3 / m i η。適用於本發日月的惰性氣體包括作、二制 於··氦氣、氬氣、氮氣等。為製備本發明之填充磁性 奈米碳球,電弧反應室之壓力可控制在〇 ·丨〜5大氣壓,% 佳者可控制在卜2大氣壓之間。 Χ 在電弧反應室1中設有兩個互對之電極1 〇、1 2。此史 所用之電極1 0為石墨材質,一般是以石墨棒作為石墨陰 極;此處所用之電極1 2為含有至少一種磁性金屬或其衍生 物的複合石墨陽極,一般是為由竣粉與至少一種磁性金屬 或其衍生物之粉體混和壓製而成之複合石墨棒,碳粉與磁 性金屬或其衍生物之粉體之莫耳混和比例為介於1 〇 〇 : 1至 1 0 0 : 2 0之間。複合石墨陽極可進一步包含樹脂,混和壓製 並於高溫(4 0 0〜1 5 0 0 °C )無氧下回火、將樹脂石墨化而鐵 成形,樹脂加入之比例為當該碳粉.與磁性金屬或其衍生物 之粉體之總和為1 0 0重量份時,樹脂加入1 0〜3 0重量份。 所用之樹脂可為氰胺樹脂(melamine resin )、環氧樹脂 (epoxy res i η )、酚醛樹脂或可石墨化之樹脂。上述磁 性金屬可為3(:、¥、(:1'46、(:〇、旧、丫、21'、^1〇、1^11、
Rh、Pd、La、Ce、Pr、Nd、Gd、Tb、Dy、H〇、Er、Tm、
第8頁 1251580 __案號 91117435 五、發明說明(4) 年月曰 修正
Lu、Ta、0s、Ir、Pt、AU、Th或ϋ或其組合,其中又以 C〇、Fe、Ni、La、Υ等元素或其組合較佳。上述磁性金屬 之衍生物可為該磁性金屬與其他元素形成之合金、該磁性· 金屬之氧化物或該磁性金屬之碳化物。 衣備填充磁性金屬奈米;5炭球時,從電源2供應電能至 石墨陰極1 0與衩合石墨陽極1 2,所提供之電能需使兩極之 間足以產生電弧放電以在石墨陰極1 〇上形成沈積物。 依知、本發明的主要特徵’在進行電弧放電反應時,係 利用一特定頻率的脈衝電流(pulse current)施加電壓於不 陰極與陽極之間,有別於習知技術所用之直流電或交流鲁 電。依照本發明,脈衝電流的頻率範圍在〇 · 〇丨〜丨〇 〇 〇 Η z之 間。電流的大小可控制在5 0〜8 0 0安培,電極之間的電壓 控制在1 0〜3 0伏特的範圍。 中包含約 及1 0 %〜 下)無碳 ,可得到 先利用d 以管柱層 與奈米碳 球,並利 活性劑, 屬奈米碳 根據上述條件進行電弧放電反應後,在陰極 沈積物的核心部分可得到黑色粉體的初產物,其 90 %〜4 0%以上填充磁性金屬奈米碳球之主產物'' 5 0 %以下中空奈米碳球、奈米碳管與少量(1 〇 %以 層包覆的金屬顆粒。此初產物經過進一步純化後 南純度之填充磁性金屬奈米碳球。純化程序為首 一界面活性劑將初產物分散於一溶·液中;然後, 析法或濾膜分離溶液中之填充磁性金屬奈来碳球 管,並利用磁力吸引分離出填充磁性金屬奈米碳 用酸性或鹼性溶劑清洗除去殘留金屬微粒及界面 最後可得到純度在80%以上,約9 5%之填充磁性金 球0
第9頁 1251580 _案號91117435_ 年 月 日 佟正 五、發明說明(5) 適用於本發明之界面活性劑可為陽離子界面活性劑, 如 /臭化十,、烧基二曱基銨(certyitrimethyl ammonium b r o m i d e )、陰離子界面活性劑,如十二烧基疏酸鈉 、 (sodium dodecyl sulfate)、兩性界面活性劑,如烷基甜 菜素(alkyl betaine)、或非離子型界面活性劑,如月桂 酵S€(lauryl alcohol ether)。其中較佳者為溴化十六烷 基二曱基銨與十二烷基硫酸鈉。上述用來進行管柱層析之 過/慮衣置可利用具有尺寸排除(s i z e 6 X c 1 u s i ο η )功能之層 析管柱,此層析管柱之前端較佳具有一孔徑約〇 · 2微米之 ,膜層。此外,亦可單獨使用濾膜來進行分離,而不使用_ I柱層析。使用濾膜進行分離時,可將濾液重濾數次以期 得到較佳之分離效果。 與既有之技術比較,本發明為目前可獲得高純度之填 充磁性金屬奈米竣球的(以填充磁性金屬奈米碳球為主產 物)最佳方法。 【貫施例】 本實施例乃利用如第1圖所示之電弧反應室來製備填 充磁性金屬奈米碳球,其中石墨棒為陰極,複合石墨棒為 IW極(石墨棒與複合石墨棒直控為〇 · 2 4英忖。陰極較短, 長度約8〜1 〇公分)。複合石墨棒為將莫耳比1 〇 〇 : 5的碳粉 與敍金屬粉體,加入佔粉體總重20%之氰胺樹脂,混和均 勻後利用熱壓機於1 70 t:下壓製成形,再將此複合棒於益 氧下加熱至7 0 0 °C,使其樹脂完全石墨化成形。 在電弧反應室中,以60〜90cm3/min的流速通入氬氣, 反應室的壓力約控制在1 · 2大氣壓。電弧反應室的外圍為
第10頁 1251580 年 月 曰 修_ 案號 91117435 五、發明說明(6) 流動的冷卻水。 的体2約60Hz頻率的脈衝電流,在約20伏特與約10〇安培 後佟卜I進行電弧放電(carb〇n arc)反應。反應約30分鐘-約3Τ〜4 /電反應’於陰極碳棒上可得沈積物(沈積物長度 的奈;::=3t粉的體:初產物’其中含有約7。%填充姑 少量無f的中空奈米碳球、短奈米碳管,以及 化後之埴‘鈷:二:;屬斂粒。請餐照附件-,所示為純 初產物藉顯微鏡⑽)照片。· 碳球,並利用!性:用磁力吸引分離出填充磁性金屬奈米 粒及界面活性;;驗性溶劑與醇類清洗除去殘留金屬微 磁性金屬奈以上的高純度填充 奈米碳球之電子顯微;=:片二。’所示為放大之填充钻
雖然本發明P 限定本發明,饪h佳實施例揭露如上,然其並非用以 和範圍内,當;;:::此2者,在不脫離本發明之精神 範圍當視後附之二與潤飾,因此本發明之保# 甲明專利範圍所界.定者為準。
第11頁 1251580 _案號 91117435_年月日_Μ-_ 圖式簡單說明 為讓本發明之上述和其他目的、特徵、和優點能更明 顯易懂,下文特舉出較佳實施例,並配合所附圖式,作詳 細說明如下: _ 【圖式之簡單說明】 · 第1圖係顯示一用以實施本發明之電弧反應室的示意 圖。 附件一為純化後之填充钻奈米碳球的電子顯微鏡 (ΤΕΜ)照片。 附件二為放大之填充鈷奈米碳球的電子顯微鏡(ΤΕ Μ) φ 照片。 【符號說明】 1〜電弧反應室; 2〜電源; 1 0〜石墨陰極; 1 2〜複合石墨陽極; 1 4〜惰性氣體入口; 1 6〜惰性氣體出口; 1 8〜冷卻水入口; _ 2 0〜冷卻水出口。 ,
第頁
Claims (1)
1251580 案號 91117435_年月日_f|i_ 六、申請專利範圍 1 · 一種填充磁性金屬奈米碳球之製造方法,包括下列 步驟: (a )提供一電弧反應室,含有石墨陰極與複合石墨陽 極,該複合石墨陽極含有至少一種磁性金屬或其衍生物,. 並於該電弧反應室中通入一惰性氣體,該電弧反應室之壓 力係控制在1 - 5大氣壓; (b )以一脈衝電流施加電壓於上述陰極與陽極之間, 措以產生電?瓜放電反應;以及 (c )收集於石墨陰極之沉積物。 φ 2. 如申請專利範圍第1項所述之填充磁性金屬奈米碳 球之製造方法,其中該石墨陰極為石墨棒所構成。 3. 如申請專利範圍第1項所述之填充磁性金屬奈米碳 球之製造方法,其中該複合石墨陽極為由碳粉與至少一種 磁性金屬或其衍生物之粉體混和壓製而成之複合石墨棒。 4. 如申請專利範圍第3項所述之填充磁性金屬奈米碳 球之製造方法,其中該複合石墨陽極為進一步包含可石墨 化樹脂混和壓製而成之複合石墨棒。 5. 如申請專利範圍第1或第3項所述之填充磁性金屬奈 米碳球之製造方法,其中該磁性金屬係擇自Sc、V、Cr、籲 Fe 、Co 、Ni 、Y 、Zr 、M〇、Ru 、Rh -、Pd 、La 、Ce 、Pr 、 Nd 、Gd 、Tb 、Dy 、H〇、Er 、Tm 、Lu 、Ta 、0s 、Ir 、Pt 、 A u、T h以及U元素所組成之族群中。 6. 如申請專利範圍第1或第3項所述之填充磁性金屬奈 米碳球之製造方法,其中該磁性金屬之衍生物係擇自該磁
第13頁 1251580 ^_案號 9Π17435 _年月日__ 六、申請專利範圍 性金屬與其他元素形成之合金與該磁性金屬之氧化物與該 磁性金屬之碳化物所組成之族群中。 7. 如申請專利範圍第3項所述之填充磁性金屬奈米碳 ' 球之製造方法,其中該碳粉與磁性金屬或其衍生物之粉體. 之莫耳混和比例為介於1 0 0 : 1至1 0 0 : 2 0之間。 8. 如申請專利範圍第4項所述之填充磁性金屬奈米碳 球之製造方法,其中該可石墨化樹脂係擇自氰胺樹脂 (melamine resin ) 與環氧接f月旨 (epoxy resin ) 及酉分盤 樹脂所組成之族群中。 _ 9. 如申請專利範圍第4或第8項所述之填充磁性金屬奈 米石炭球之製造方法,其中該樹脂加入之比例為當該複粉與 磁性金屬或其衍生物之粉體之總和為1 0 0重量份時,樹脂 加入10〜30重量份。 1 0 .如申請專利範圍第1項所述之填充磁性金屬奈米碳 球之製造方法,其中該惰性氣體之流速係控制在1 0〜2 0 0 mm3 / m i η ° Π .如申請專利範圍第1項所述之填充磁性金屬奈米碳 球之製造方法,其中該電弧反應室之壓力係控制在〜2大 氣壓。 ® 1 2 .如申請專利範圍第1項所述·之填充磁性金屬奈米石炭 球之製造方法,其中該脈衝電流之頻率為0. 1〜1 〇〇〇 Hz。 1 3.如申請專利範圍第1項所述之填充磁性金屬奈米石炭 球之製造方法,其中該電弧放電反應係以0 . 1〜1 0 0 0 Η Z的 脈衝電流,在1 0〜3 0伏特與5 0〜8 0 0安培的條件下進行。
第14頁 1251580 _案號 91117435_年月日__ 六、申請專利範圍 1 4 .如申請專利範圍第1項所述之填充磁性金屬奈米碳 球之製造方法,其中步驟(c )係收集石墨陰極沉積物的核 心部分。 — 1 5 .如申請專利範圍第1 4項所述之填充磁性金屬奈米. 碳球之製造方法,其中於石墨陰極之沉積物包括填充磁性 金屬奈米碳球之主產物、中空奈米碳球與奈米碳管。 1 6 . —種填充磁性金屬奈米碳球之製造方法,包括下 列步驟: (a ) 提供一電弧反應室,含有陰極石墨棒與由碳粉$ 至少一種磁性金屬或其衍生物之粉體與可石墨化樹脂混和 壓製成之陽極複合石墨棒,且於該電弧反應室中通入一惰 性氣體,該電弧反應室之壓力係控制在;1〜5大氣壓; (b)以一脈衝電流施加電壓於上述陰極與陽極之間, 措以產生電孤放電反應, (c )收集於陰極石墨棒之沉積物,其中包括填充磁性 金屬奈米碳球之主產物、中空奈米碳球與奈米碳管;以及 (d )從上述沉積物分離純化出填充磁性金屬奈米碳 球。 1 7.如申請專利範圍第1 6項所述之填充磁性金屬奈米參 碳球之製造方法,其中該磁性金屬·係擇自Sc、V、Cr、 Fe "Co 、Ni 、Y 、Zr 、M〇、Ru 、Rh 、Pd 、La 、Ce 、Pr 、 Nd 、 Gd 、 Tb 、 Dy 、 Ho 、 Er 、 Tm 、 Lu 、 Ta 、〇s 、 Ir 、 Pt 、 A u、T h以及U元素所組成之族群中。 1 8 .如申請專利範圍第1 6項所述之填充磁性金屬奈米
第15頁 1251580 __案號 91117435_年月日__ 六、申請專利範圍 碳球之製造方法,其中該磁性金屬之衍生物係擇自該磁性 金屬與其他元素形成之合金及該磁性金屬之氧化物與該磁 性金屬之碳化物所組成之族群中。 1 9 ·如申請專利範圍第1 6項所述之填充磁性金屬奈米典 碳球之製造方法,其中該碳粉與磁性金屬或其衍生物之粉 體之莫耳混和比例為介於1 〇 〇: 1至1 〇 〇: 2 0之間。 2 0 ·如申請專利範圍第1 6項所述之填充磁性金屬奈米 碳球之製造方法,其中該可石墨化樹脂係擇自氰胺樹脂 (melamine resin )與環氧樹月旨(epoxy resin )及酴酸· 樹脂所組成之族群中。 2 1 .如申請專利範圍第1 6項所述之填充磁性金屬奈米 碳球之製造方法,其中該樹脂加入之比例為當該碳粉與磁 性金屬或其衍生物之粉體之總和為1 0 0重量份時,樹脂加 入10〜30重量份。 2 2 .如申請專利範圍第1 6項所述之填充磁性金屬奈米 碳球之製造方法,其中該惰性氣體之流速係控制在1 0〜2 0 0 mm3 / m i η ο 2 3 .如申請專利範圍第1 6項所述之填充磁性金屬奈米 碳球之製造方法,其中該電弧反應室之壓力係控制在1〜5 · 大氣壓。 - 2 4.如申請專利範圍第1 6項所述之填充磁性金屬奈米 碳球之製造方法,其中該脈衝電流之頻率範圍為0 . 1〜1 0 0 0 Hz ° 2 5 .如申請專利範圍第1 6項所述之填充磁性金屬奈米
第16頁 1251580 _案號 91117435_年月日__ 六、申請專利範圍 碳球之製造方法,其中該電弧放電反應係以0 . 1〜1 0 0 0 Hz 的脈衝電流,在1 0〜3 0伏特與5 0〜8 0 0安培的條件下進行。 2 6 .如申請專利範圍第1 6項所述之填充磁性金屬奈米’ 碳球之製造方法,其中步驟(c )係收集陰極石墨棒沉積物 . 的核心部分。 2 7 .如申請專利範圍第1 6項所述之填充磁性金屬奈米 碳球之製造方法,其中步驟(d )包括: (d 1 )以一界面活性劑使上述產物分散於一溶液中; (d 2 )以管柱層析法分離上述溶液中之填充磁性金屬奈H 米碳球之主產物與短奈米碳管;以及 (d 3)利用磁力吸引分離出填充磁性金屬奈米碳球,並 利用酸性或鹼性溶劑與醇類清洗除去殘留金屬微粒及界面 活性劑。 2 8 .如申請專利範圍第2 7項所述之填充磁性金屬奈米 碳球之製造方法,其中該界面活性劑為陽離子界面活性 劑、陰離子界面活性劑、兩性界面活性劑、或非離子型界 面活性劑。 2 9 .如申請專利範圍第2 7項所述之填充磁性金屬奈米 碳球之製造方法,其中該界面活性劑為漠化十六院基三曱β 基銨或十二烧基硫酸納。 · 3 0 .如申請專利範圍第2 7項所述之填充磁性金屬奈米 碳球之製造方法,其中步驟(d2)係使用一前端具有濾膜之 層析管柱。 3 1 .如申請專利範圍第3 0項所述之填充磁性金屬奈米
第17頁 1251580 ^_案號 91117435_年月日__ 六、申請專利範圍 碳球之製造方法,其中該濾膜層具有大小約〇 . 2微米之孔 洞° 3 2 .如申請專利範圍第2 7項所述之填充磁性金屬奈米‘ 碳球之製造方法,其中步驟(d 3 )所得之填充磁性金屬奈米· 碳球純度於80〜99. 9%。 3 3 .如申請專利範圍第2 7項所述之填充磁性金屬奈米 碳球之製造方法,其中步驟(d 3 )所得之填充磁性金屬奈米 碳球純度大於9 5 %。 第18頁 1251580 __案號 9Π17435 _年月日_修正 六、指定代表圖
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