TWI235749B - Process for manufacturing an epoxide - Google Patents

Process for manufacturing an epoxide Download PDF

Info

Publication number
TWI235749B
TWI235749B TW088104342A TW88104342A TWI235749B TW I235749 B TWI235749 B TW I235749B TW 088104342 A TW088104342 A TW 088104342A TW 88104342 A TW88104342 A TW 88104342A TW I235749 B TWI235749 B TW I235749B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
patent application
item
peroxide
scope
reactor
Prior art date
Application number
TW088104342A
Other languages
English (en)
Inventor
Jean-Pierre Catinat
Michel Strebelle
Original Assignee
Solvay
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Solvay filed Critical Solvay
Application granted granted Critical
Publication of TWI235749B publication Critical patent/TWI235749B/zh

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D301/00Preparation of oxiranes
    • C07D301/32Separation; Purification
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J19/00Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J19/24Stationary reactors without moving elements inside
    • B01J19/2415Tubular reactors
    • B01J19/2435Loop-type reactors
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J29/00Catalysts comprising molecular sieves
    • B01J29/89Silicates, aluminosilicates or borosilicates of titanium, zirconium or hafnium
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D301/00Preparation of oxiranes
    • C07D301/02Synthesis of the oxirane ring
    • C07D301/03Synthesis of the oxirane ring by oxidation of unsaturated compounds, or of mixtures of unsaturated and saturated compounds
    • C07D301/12Synthesis of the oxirane ring by oxidation of unsaturated compounds, or of mixtures of unsaturated and saturated compounds with hydrogen peroxide or inorganic peroxides or peracids
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D303/00Compounds containing three-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
    • C07D303/02Compounds containing oxirane rings
    • C07D303/04Compounds containing oxirane rings containing only hydrogen and carbon atoms in addition to the ring oxygen atoms

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Epoxy Compounds (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Description

1235749 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明(3 ) 3及4被導至反應器。液體在反應中順著箭頭方向循環。 氣體化合物在反應帶1增加且因此輸送在此產生的環氧化 物。氣體化合物及產生的環氧化物的混合物經由管子5離 開反應器。從反應帶1的頂部離開的液體經由熱交換器6 被循環至反應帶的底部。液體的溢流,其藉由汽提在氧化 丙烯中被消耗,經由管子7被實施。包括兩個濃縮帶的反 應器,其中心帶提供如圖1所示的反應器中帶1的功能及 外帶(peripheral zone )提供如圖1所示的反應器中帶6的 功能,亦可被用在依據本發明的方法中。 在依據本發明的方法中,其可能證明在烯類與過氧化 物反應間維持液相的p Η値至少4 . 8,特別是至少5, 的優點。ρ Η低於或等於6 . 5,特別是低於或等於6, 是有利的。當Ρ Η是在4 · 8至6 · 5間,較佳爲5至6 間,可得到一良好的結果。在環氧化反應間液相的Ρ Η可 藉由鹼的添加而被控制。此鹼可選自水溶性的鹼。這些可 爲強鹼。強鹼的例子,可能由N a〇Η及Κ〇Η製備。其 亦可爲弱鹼。弱鹼可爲無機物。弱無機鹼的例子’可由 ΝΗ4〇Η 、 Na2C〇3、 NaHCOs、 Na2HP〇4 、K2C〇3、 L i2C〇3、KHC〇3 、 L iHC〇3 及 K 2 H P〇4製備。弱鹼亦可爲有機物。適合的弱有機驗是 含1至1 0個碳原子羧酸的鹼金屬或鹼土金屬鹽爲較佳白勺 。醋酸鈉可能經由實例而被提到。弱鹼得到良好結果:°弱 有機鹼是較佳的。醋酸鈉特別適合。 用於本發明製法的過氧化物是含活性氧的過氧彳匕物1 ’ 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -----------^裝--------訂---------線# (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 1235749 A7 B7 可佳 是 1 液於 被物% 下較 量對斤低 式化量 件是 的耳公是 形氧重 條氫 用莫 1 別 液過 ο 化化 使 5/ 特 溶的 7 氧氧 被 ·耳, 水 % 過 過過 常 1 莫相 以量超 在。 通少 ο 液 是重不 及用 物至 1 斤 物 ο 括 氫使 化是於公 化 1 包 化被 氧別低 1 氧少常 氧合 過特常 \ 過至通 過適 ,,通耳。,括其 。是 中相量莫相中包。 力物 法液的 5 W 法液% 能化 方的物於iTi方溶量 的氧 的斤化等公的水重 }化過 明公氧或I7明,ο 氧的 發 1 過於 \ 發常 2 0過氫 本對。低耳本通少 明施化 據耳相常莫據。至 說實氧 依莫液通 3 依好是 明有過 在 1的其於在較別 發具生。 少斤.,等 用特 L-其產的 至公相或 使, 五 -----------φ.裝------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 的過氧化物,特別是5 0重量%。 在依據本發明的方法中,烯類在觸媒及溶劑存在下與 過氧化物反應,溫度通常至少0 °C,特別是至少2 0 °C。 溫度通常低於1 5 0 °C ;其通常低於或等於7 〇 °C,特別 是低於或等於4 0 t。 在依據本發明的方法中,烯類與過氧化物的反應可發 生在大氣壓下。通常此壓力不超過4 0巴。2 〇巴的壓力 是適合的。 在依據本發明的方法中使用的觸媒包括沸石,例如, 含具有微孔性結晶結構的矽石的固體。沸石以不含鋁較好 。其較佳包括鈦。 用在依據本發明的方法中的沸石可具有Z s Μ — 5、 Z SM - 1 1、Z SM - 4 1型式及b —沸石型式的結晶 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 訂 線 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1235749 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7____ 五、發明說明(5 ) 結構。Z S Μ - 5型式的沸石是適合被使用。那些紅外光 吸收帶在9 5 0 - 9 6 0 c m — 1的沸石是較佳的。 特別適合的沸石是矽酸鈦。相對應的式X T 1 0 2 ( 1 —X) S ι〇2的沸石,其中X是從0 . 0〇〇1至〇· 5 ,較佳從0 · 0 0 1至〇 · 0 5,得到良好結果。此型式 的物質,已知在名爲T S - 1及具有結晶結構的Z S Μ -5型式,得到特佳的結果。 藉由依據本發明方法製得的環氧化物是包括一相對應 通式: \ / -c_c_ \/ . 0 基團的有機化合物。 環氧化物通常包括2至2 0個碳原子,較佳是3至 1 0個碳原子。藉由依據本發明方法較佳製得的環氧化物 是1,2 -環氧丙烷。 適合在本發明方法中使用的烯類是包括3至1 0個碳 原子。丙烯爲較佳的。 可用在本發明方法中的溶劑可爲含1至4個碳原子的 脂族有機衍生物。甲醇可能經由實例而被提到。 在液相中過氧化物的起始含量通常介於〇 . 1及1 0 莫耳/公斤間◦其較佳是介在1 . 5及3莫耳/公斤間。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) ^ ' -----------裝--------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 1235749 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明(7 ) 連續供應過氧化氫時實施。甲醇的用量是1 6莫耳/ 1莫 耳H2〇2〇120 l/h(s.t.p·)的丙烯及 14 0 1 / h ( s · t · p ·)的氮被注入。 反應1小時後,對氧化丙烯的選擇性是8 9 % ’ Η 2〇2的轉化率是6 0 %。 1例4 氧化丙烯是在如圖1所示的氣泡虹吸反應器中被製造 的,係藉由在甲醇及5·25克TS—1觸媒(直徑 〇.5 m m珠狀)的存在下反應丙燏及4 0 %過氧化氫。 試驗是在溫度爲5 6 ° C且以流速爲0 · 5 7莫耳/小 時連續供應過氧化氫時實施。丙烯的流速爲2 5 0 1 / h ( s . t · p )。 在第一次試驗中,在反應介質中Η 2〇2的起始濃度( 例如未反應)是設定爲2莫耳/ 1公斤液相,考慮到 C Η 3 Ο Η的汽提,其在未反應時在反應介質中相對應 〇^13〇11/112〇2的比等於13莫耳/莫耳。 在第二次試驗中,在反應介質中Η 2 Ο 2的起始濃度( 例如未反應)是藉由簡單地減低相對於第一次試驗使用的 甲醇流速,從7 5 9至3 7 5毫升/小時,而回復至 6 · 5莫耳/1公斤液相。在未反應時及考慮到CH3〇Η 的汽提,在此條件下反應介質中相對應CH3〇H/H2〇2的比近 似2 . 9莫耳/莫耳。 在第三次試驗中’甲醇的流速減低至2 1 0毫升/小 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -----------裝--------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 1235749 Α7 Β7 五、發明説明(8 ) 時。考慮到c Η 3〇Η的汽提,因此Η 2〇2的起始濃度爲 11.4莫耳/1公斤液相及在未反應時在反應介質中相對 應匸1^〇^1/112〇2的比爲1.3莫耳/莫耳。 反應6小時後,第一次試驗,第二次試驗及第三次試驗 的Η 2〇2的轉化率分別是6 9,7 3及7 0 %。對氧化丙 輝的選擇性分別是8 3,8 5及8 9 %。 圖式簡單說明 圖1表示本發明之方法所用的反應器之一例。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210Χ297公t )

Claims (1)

  1. A8 B8 C8 D8 暴 1235749 丨公% .象: ~~1-zl 六、申請專利1圍 附件四A:第881(M342號修正後無劃 中文申請專利範圍替換本民國94年3月22日呈 1 . 一種環氧化物的連續製法,依據該方法,在反應器 液相中’燃類在以沸石爲基礎的觸媒及溶劑中與過氧化物反 應’及以足以輸送至少部分所得的環氧化物的流速將氣相化 合物連續地導至反應器中,而所形成的環氧化物與氣相化合 物在離開反應器時回收。 2 ·如申請專利範圍第1項之製法,其中烯類是以過量 的氣體形式被導至反應器中,且其中烯類充當氣體化合物。 3 ·如申請專利範圍第1或2項之製法,其中反應器是 環型反應器。 4 ·如申請專利範圍第3項之製法,其中氣態化合物的 流速足以循環在環型反應器中的液相。 5 .如申請專利範圍第1或 2項之製法,其中氣相化合 物的流速對過氧化物的供應流速的比値是大於或等於5。 6 ·如申請專利範圍第5項之製法,其中氣相化合物, 其中氣相化合物的流速對過氧化物的供應流速的比値是大於 或等於1 0。 7 .如申請專利範圍第1或2項之製法,其中反應器是 氣泡虹吸環型(bubble-siphon loop)。 8 ·如申請專利範圍第1或2項之製法,其中液相的 P Η藉由添加鹼至液相以維持在從4 · 8至6 · 5。 9 ·如申請專利範圍第1或2項之製法,其中過氧化物 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210Χ 297公釐) 裝------訂-----^線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1235749 Α8 Β8 C8 D8 六、申請專利範圍 的使用量爲1至1 0莫耳(以每公斤液相計),及其中過氧 化物是以含有1 0至7 0 %過氧化物的水溶液形式被使用。 1 〇 ·如申請專利範圍第9項之製法,其中過氧化物 的使用量爲1 . 5至5莫耳(以每公斤液相計),及其中過 氧化物是以含有2 0至5 〇 %過氧化物的水溶液形式被使用 C 1 1 ·如申請專利範圍第1或2項之製法,其中在觸媒 及溶劑的存在下烯類與過氧化物的反應溫度是從〇至丄5 〇 V。 1 2 ·如申請專利範圍第1 1項之製法,其中該反應 溫度是0至7 0 °C。 1 3 ·如申請專利範圍第1 2項之製法,其中該反應 溫度是2 0至4 0 °C。 1 4 ·如申請專利範圍第1或2項之製法,其中沸石是 矽酸鈦。 1 5 ·如申請專利範圍第1 4項之製法,其中沸石是 具Z S Μ — 5型結晶結構的T S — 1型。 1 6 ·如申請專利範圍第1或2項之製法,其中環氧化 物是1 ,2 -環氧丙烷,烯類是丙烯,過氧化物是過氧化氫 ,溶劑是甲醇及氣態化合物是丙烯。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ^i^n m ϋϋ mu - _ Is -- ^ V ml m 、T 丨•線 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) Μ規格(210Χ297公釐) -2 -
TW088104342A 1998-03-24 1999-03-19 Process for manufacturing an epoxide TWI235749B (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
BE9800232A BE1011852A3 (fr) 1998-03-24 1998-03-24 Procede de fabrication d'un oxiranne.

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TWI235749B true TWI235749B (en) 2005-07-11

Family

ID=3891171

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW088104342A TWI235749B (en) 1998-03-24 1999-03-19 Process for manufacturing an epoxide

Country Status (22)

Country Link
US (1) US6380407B1 (zh)
EP (1) EP1066275B1 (zh)
JP (1) JP2002507608A (zh)
KR (1) KR100565964B1 (zh)
CN (1) CN100343242C (zh)
AR (1) AR018803A1 (zh)
AT (1) ATE223393T1 (zh)
AU (1) AU3520899A (zh)
BE (1) BE1011852A3 (zh)
BR (1) BR9909050A (zh)
CA (1) CA2323000C (zh)
DE (1) DE69902764T2 (zh)
ES (1) ES2184437T3 (zh)
HU (1) HUP0101893A3 (zh)
ID (1) ID27111A (zh)
NO (1) NO20004738L (zh)
PL (1) PL196937B1 (zh)
SA (1) SA99191302B1 (zh)
SK (1) SK14222000A3 (zh)
TW (1) TWI235749B (zh)
WO (1) WO1999048883A1 (zh)
ZA (1) ZA200004992B (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8586415B2 (en) 2002-10-15 2013-11-19 Nitto Denko Corporation Dicing/die-bonding film, method of fixing chipped work and semiconductor device

Families Citing this family (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE1011581A3 (fr) * 1997-12-01 1999-11-09 Solvay Catalyseur a base de zeolite, son utilisation et procede d'epoxydation en presence de ce catalyseur.
EP1122249A1 (fr) 2000-02-02 2001-08-08 SOLVAY (Société Anonyme) Procédé de fabrication d'un oxiranne
FR2806084A1 (fr) * 2000-03-10 2001-09-14 Solvay Procede de fabrication d'un oxiranne
FR2810982B1 (fr) * 2000-06-28 2002-09-27 Solvay Procede de fabrication d'oxiranne comprenant la separation de l'oxiranne du milieu reactionnel
FR2810981B1 (fr) * 2000-06-28 2002-12-20 Solvay Procede continu de fabrication d'oxiranne comprenant des etapes de purification
FR2810980B1 (fr) 2000-06-28 2004-05-21 Solvay Procede de fabrication d'oxiranne en presence d'un catalyseur sous forme de particules
FR2810983B1 (fr) * 2000-06-28 2004-05-21 Solvay Procede de fabrication d'oxiranne au moyen d'un compose peroxyde
FR2824558B1 (fr) * 2001-05-14 2005-05-06 Solvay Procede de fabrication d'un oxiranne
JP2004525073A (ja) * 2001-08-13 2004-08-19 ダウ グローバル テクノロジーズ インコーポレイティド オレフィンオキシドの連続製造方法
JP5397368B2 (ja) 2007-04-05 2014-01-22 ソルヴェイ(ソシエテ アノニム) 過酸化水素水溶液、その製造方法およびその使用
CN101085763B (zh) * 2007-05-11 2010-10-13 湖南长岭石化科技开发有限公司 一种合成1,2-环氧丁烷的方法
EP2103604A1 (de) * 2008-03-17 2009-09-23 Evonik Degussa GmbH Verfahren zur Herstellung von Epichlorhydrin
FR2930725B1 (fr) * 2008-04-30 2010-08-13 Oreal Compositions a base de complexes polymere-peroxyde d'hydrogene et leurs utilisations
EP2149570A1 (en) * 2008-08-01 2010-02-03 Hexion Specialty Chemicals Research Belgium S.A. Process for the manufacture of epichlorohydrin using hydrogen peroxide and a manganese komplex
EP2149569A1 (en) * 2008-08-01 2010-02-03 Hexion Specialty Chemicals Research Belgium S.A. Process for the manufacture of a 1,2-Epoxide
EP2668172A1 (en) 2011-01-27 2013-12-04 Solvay SA Process for the manufacture of 1,2-epoxy-3-chloropropane
WO2012101175A1 (en) 2011-01-27 2012-08-02 Solvay Sa Process for the manufacture of 1,2-epoxy-3-chloropropane
MY178061A (en) * 2013-10-02 2020-09-30 Solvay Process for manufacturing a purified aqueous hydrogen peroxide solution
CN104815689B (zh) * 2015-03-17 2018-03-06 河南中宏清洁能源股份有限公司 一种hppo催化剂生产工艺流程
CN111978273A (zh) * 2020-09-21 2020-11-24 江苏扬农化工集团有限公司 一种双氧水法环氧氯丙烷连续化合成工艺

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0230949B1 (en) * 1986-01-28 1992-07-22 ENIRICERCHE S.p.A. A process for the epoxydation of olefinic compounds
RU2140819C1 (ru) * 1993-12-23 1999-11-10 Арко Кемикал Текнолоджи, Л.П. Титансодержащий цеолит, способ его получения (варианты), способ эпоксидирования олефинов и дичетвертичное аммониевое соединение для получения титансодержащего цеолита

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8586415B2 (en) 2002-10-15 2013-11-19 Nitto Denko Corporation Dicing/die-bonding film, method of fixing chipped work and semiconductor device

Also Published As

Publication number Publication date
HUP0101893A2 (hu) 2001-09-28
EP1066275A1 (fr) 2001-01-10
WO1999048883A1 (fr) 1999-09-30
SK14222000A3 (sk) 2002-01-07
DE69902764T2 (de) 2003-04-30
ID27111A (id) 2001-03-01
CA2323000A1 (fr) 1999-09-30
CA2323000C (fr) 2009-09-22
HUP0101893A3 (en) 2002-10-28
US6380407B1 (en) 2002-04-30
ES2184437T3 (es) 2003-04-01
KR20010042088A (ko) 2001-05-25
AR018803A1 (es) 2001-12-12
BR9909050A (pt) 2000-12-05
EP1066275B1 (fr) 2002-09-04
DE69902764D1 (de) 2002-10-10
PL343066A1 (en) 2001-07-30
CN100343242C (zh) 2007-10-17
JP2002507608A (ja) 2002-03-12
KR100565964B1 (ko) 2006-03-30
BE1011852A3 (fr) 2000-02-01
ZA200004992B (en) 2001-12-19
ATE223393T1 (de) 2002-09-15
PL196937B1 (pl) 2008-02-29
NO20004738D0 (no) 2000-09-22
CN1294585A (zh) 2001-05-09
AU3520899A (en) 1999-10-18
NO20004738L (no) 2000-10-12
SA99191302B1 (ar) 2006-06-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI235749B (en) Process for manufacturing an epoxide
TW574218B (en) Process for the epoxidation of olefins
TWI317734B (en) Process for manufacturing an oxirane
TW426641B (en) Epoxidation process and catalyst therefore
US4336239A (en) Synthesis of hydrogen peroxide
TW574134B (en) Catalyst and process for the direct synthesis of hydrogen peroxide
JP2004506627A (ja) 酸化オレフィン類の一体化製造方法
ES2339110T3 (es) Procedimiento integrado para la oxidacion selectiva de compuestos organicos.
JP2013049726A (ja) 反応媒体からオキシランを分離する事を含むオキシランの製造方法
CN104557630B (zh) 一种二甲基亚砜的制备方法
TW539673B (en) Process for manufacturing an epoxide
JP2000506772A (ja) 貴金属不含の触媒組成物
EA033968B1 (ru) Способ эпоксидирования олефина
JP2002532483A (ja) オレフィンからのエポキシドの連続的製造法
WO1999048884A1 (es) Procedimiento de epoxidacion de compuestos olefinicos con peroxido de hidrogeno
US6677467B2 (en) Oxirane production using peroxidized compound
JP2002507607A5 (zh)
CZ114495A3 (en) Oxidation catalyst, process of its preparation and its use
BRPI0112056B1 (pt) processo contínuo de fabricação de óxido de propileno
JP2004501907A5 (zh)
JP2004508285A (ja) オキシラン化合物の製造方法
JPH0354656B2 (zh)
CN105439921A (zh) 一种生产二甲基亚砜的方法
JPH09208511A (ja) 芳香族ヒドロキシ化合物の製造方法
JP4301814B2 (ja) オレフィンをエポキシ化するための方法

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees