TW569214B - Thin film magnetic memory device conducting data read operation without using a reference cell - Google Patents

Thin film magnetic memory device conducting data read operation without using a reference cell Download PDF

Info

Publication number
TW569214B
TW569214B TW091121115A TW91121115A TW569214B TW 569214 B TW569214 B TW 569214B TW 091121115 A TW091121115 A TW 091121115A TW 91121115 A TW91121115 A TW 91121115A TW 569214 B TW569214 B TW 569214B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
data
memory
read
line
voltage
Prior art date
Application number
TW091121115A
Other languages
English (en)
Inventor
Tsukasa Ooishi
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Application granted granted Critical
Publication of TW569214B publication Critical patent/TW569214B/zh

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/02Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements
    • G11C11/14Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements using thin-film elements
    • G11C11/15Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements using thin-film elements using multiple magnetic layers
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/02Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements
    • G11C11/16Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements using elements in which the storage effect is based on magnetic spin effect
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/02Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements
    • G11C11/16Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements using elements in which the storage effect is based on magnetic spin effect
    • G11C11/165Auxiliary circuits
    • G11C11/1673Reading or sensing circuits or methods
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C13/00Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
    • G11C13/0002Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements
    • G11C13/0021Auxiliary circuits
    • G11C13/004Reading or sensing circuits or methods
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C7/00Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
    • G11C7/06Sense amplifiers; Associated circuits, e.g. timing or triggering circuits
    • G11C7/065Differential amplifiers of latching type
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C13/00Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
    • G11C13/0002Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements
    • G11C13/0021Auxiliary circuits
    • G11C13/004Reading or sensing circuits or methods
    • G11C2013/0057Read done in two steps, e.g. wherein the cell is read twice and one of the two read values serving as a reference value
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C13/00Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
    • G11C13/0002Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements
    • G11C13/0021Auxiliary circuits
    • G11C13/0069Writing or programming circuits or methods
    • G11C2013/0076Write operation performed depending on read result
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C27/00Electric analogue stores, e.g. for storing instantaneous values
    • G11C27/02Sample-and-hold arrangements
    • G11C27/024Sample-and-hold arrangements using a capacitive memory element

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Hall/Mr Elements (AREA)
  • Mram Or Spin Memory Techniques (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)

Description

569214 五、發明說明(1) ' '—-- 發明所屬技術領域 本發明係有關於薄膜磁性體記憶裝置,更特定而古, 係有關於包括磁性隧道接面(MTJ :Magnetic Tunnei 。
Junction)之記憶體單元之隨機存取記憶體。 習知技術 在低耗電力可永久性的記憶資料之記憶裝置上, MRAM(Magnetic Random Access Memory)組件受到注目。 MRAM組件係使用在半導體積體電路所形成之薄膜磁性體永 久性的記憶資料後,可對各薄膜磁性體隨機存取之記憶裝 置。 尤其’近年來發表藉著將利用磁性隧道接面(MTj :
Magnetic Tunnel Junction)用作記憶體單元使MRAM組件 之性能飛躍似的進步。關於包括了包括磁性隧道接面之記 憶體單元之MRAM組件,公開於” A 10ns Read and Write Non~Volatile Memory Array Using Magnetic Tunnel Junction and FET Switch in each Cell"ISSCC Digest Technical Papers ,TA7.2,Feb· 2000· &nNon-Volatile RAM based on Magnetic Tunnel Junction Elements", ISSCC Digest Technical Papers ,TA7.2,Feb· 2000·等 技術文獻。 圖1 7係表示包括隧道接面部之記憶體單元(以下只稱 為「MTJ記憶體單元」)之構造之概略圖。 參照圖17,MTJ記憶體單元包括隧道磁阻元件TMR,電
2075-5193-PF(N);ahddub.ptd 第5頁 569214 五、發明說明(2) 阻按照磁性寫入之記憶資料之資料位準變化;及存取用電 晶體ATR。存取用電晶體ATR在寫位元線wbl及讀位元線RBL 之間和隧道磁阻元件TMR串聯。代表上,在存取用電晶體 ATR應用在半導體基板上所形成之電場效應型電晶體阳 對於MTJ記憶體單元,設置在資料寫入時各Z用以使 方向不同之資料寫入電流流動之寫位元線WBL及寫用數位 線W D L、用以指示 > 料項出之字線W L以及接受資^斗讀出電 流之供給之讀位元線RBL。在資料讀出時,響應存取用電 晶體ATR之導通’隨道磁阻元件TMR在設為接地電壓qnd之 寫位元線WBL和讀位元線RBL之間在電氣上連接。 圖1 8係說明對於MTJ記憶體單元之資料寫入動作之概 念圖。 參照圖18,隧道磁阻元件TMR包括固定之磁化方向之 強磁性體層(以下只稱為「固定磁化層」)FL和在按照來自 外部之施加磁場之方向磁化之強磁性體層(以下只稱為 「自由磁化層」)VL。在固定磁化層FL和自由磁化層VL之 間設置以絕緣體膜形成之隧道障壁(隧道膜)TB。自由磁化 層VL按照所寫入之記憶資料之位準在和固定磁化層FL相同 之方向或和固定磁化層FL相反之方向磁化。利用這些固定 磁化層FL、隧道障壁TB以及自由磁化層VL形成磁性隧道接 面。 隧道磁阻元件TMR之電阻按照固定磁化層FL及自由磁 化層VL各自之磁化方向之相對關係變化。具體而言,隧道 磁阻元件TMR之電阻在固定磁化層FL之磁化方向和自由磁
569214 五、發明說明(3) 化層VL之磁化方向係平行之情況變成最小值^匕,在兩者 之磁化方向係相反之方向之情况變成最大值Rmax。 在資料寫入時,字線WL變成非活化,存取用電晶體 ATR變成不導通。在此狀態,用以將自由磁化層VL磁化之 資料寫入電流在寫位元線WBL及寫用數位線WDL各自朝按照 寫入資料之位準之方向流動。 ^ 圖1 9係表示在資料寫入之資料寫入電流和隧道磁阻元 件之磁化方向之關係之概念圖。 參照圖19,橫轴H(EA)表示在隧道磁阻元件TMR内之自 由磁化層VL朝易磁化轴(EA ..Easy Axis)方向施加之磁 場。而,縱軸Η (HA)表示在隧道磁阻元件TMR内之自由磁化 層VL朝難磁化轴(HA :Hard Axis)方向作用之磁場。磁場 H(EA)及H(HA)各自和因各自在寫位元線WBL及寫用數位線 WDL流動之電流而發生之2個磁場之各一方。 “在MTJ記憶體單元,固定磁化層叮之固定之磁化方向 沿著自由磁化層VL之易磁化軸,自由磁化層η按照記 料之位準⑴"及,,0")沿著易磁化軸方向在和固定磁化層叮 平行或反平行(相反)之方向磁化。MTJ記憶體單元可令和 自由磁化層VL之2種磁化方向對應的記憶1位元之資料("r 由磁化層几之磁化方向只在所作用之磁場1^^)及 Η ( Η A)之和達到圖丨9中所示之星形特性線之外側區域之情 況可重新改寫。即,在所作用之資料寫入磁場係相當於星 形特性線之内側區域之強度之情況,自由磁化層vl之磁化
569214
轴方性線所示’藉著對自由磁化層VL施加難磁化 秭乃门之磁% ’可降低改 難磁化 之磁化臨限值。 穷艰化釉之磁化方向所需 俨況,,在t例子所τ ’在設計了資料寫入時之動作點之 i k次料宜貝料寫入對象之MTJ記憶體單元,易磁化軸方 向之貝枓寫人磁場設計成其強度變成Ηη。^轴方 元線WBL或窝用金今μ会台切V, 十在寫位 之切拖所^ WR。一資料寫入磁場‘以磁化方向
換所需之切換磁場Hsw和邊限量ΛΗ之和表示。即, ^wr - Hsw + △ Η 為了改寫MTJ記憶體單元之記憶資料,即隧道磁阻元 件TMR之磁化方向,需要既定位準以上之資料寫入電流流 往寫用數位線WDL和寫位元線WBL雙方。因而,隧道磁阻元 件TMR中之自由磁化層VL按照沿著易磁化軸(EA)之資料寫 入磁場之方向,在和固定磁化層FL平行或相反(反平行)方 向磁化。一度寫入隧道磁阻元件TMR之磁化方向,mMTj記 憶體單元之記憶資料至執行新的資料寫入為止永久的保 持。 ’、 圖20係說明來自MTJ記憶體單元之資料讀出之概念 圖。 參照圖20 ’在資料讀出時,存取用電晶體ATR響應字 線WL之活化而變成導通。又,將寫位元線WB設為接地電壓 GND。因而,隧道磁阻元件TMr在被接地電壓GND拉低之狀
2075-5193-PF(N);ahddub.ptd 第8頁 569214 五、發明說明(5) 態和讀位元線RBL在電氣上連接。 在此狀態’若以既定電壓提升讀位元線RBL,按照隧 道磁阻元件TMR之電阻’即按照MTJ記憶體單元之記憶資料 之位準之記憶體單元電流IceU通過包括讀位元線RBL及隧 道磁阻元件之電流路徑。例如,藉著將該記憶體單元電流 Icell和既定之基準電流比較,可自MTJ記憶體單元讀出記 憶資料。 於是,因隧道磁阻元件TMR之電阻按照利用所作用之 為料寫入磁%可改寫之磁化方向而變,藉著使隨道磁阻元 件T M R之電阻R m a X及R m i η和記憶資料之位準(’,1 ”及"〇")各 自對應,可永久的記憶資料。 於是’在MRAM組件,利用和在隧道磁阻元件之記 憶資料位準之差異對應之接面電阻之差(_Rmin) 記憶資料。 一般,除了用以記憶資料之正式之MTJ記憶體單元以 外,另外設置用以產生和記憶體單元電流丨cen比較之基 準電流之參考單元。利用參考單元產生之基準電流設計成 變成各自和MTJ記憶體單元之2種電阻Rfflax及Rmin對應之2 種記憶體單元電流Ice 11之中間值。基本上,這些參考單 元和正式之MT J記憶體單元一樣的設計及製作。即,參考 單元也包括包括磁性随道接面部之隧道磁阻元件TJfR。 可是’隨道磁阻元件TMR之通過電流受到用作隨道膜 之絕緣膜之膜厚大的影響。因此,若在正式之MT J記憶體 單元及參考單元之間在隧道膜厚實值上發生差異,難將基
2075-5193-PF(N);ahddub.ptd 第9頁 569214 五、發明說明(6) —---- 準電流a又成可偵測如上述之微小電流差之位準, 讀出精度降低。 胃# 尤其’在一般之MTJ記憶體單元,按照記憶資料位準 發生❶之電阻差AR不太大。代表上,電阻Rmin止於之 數十%程度。因而,按照記憶資料位準之記憶體單元電流 IceU之變化也不太大,止於微安培(Ma ·· 10-6A)等級。 因此,需要將在正式之MTJ記憶體單元及參考單元之 膜厚製程南精度化。 可是’若將在製程之隧 良率之降低等所引起之製造 MRAM組件,要求不引起製程 s己憶體單元之依照上述之電 道膜厚精度嚴格化,擔心製造 費用上升。由於這種背景,在 嚴格化而高精度的執行在MTj 阻差AR之資料讀出之構造。
述 明之目 用參考 明係一 料線、 憶體單 料,在 阻。資 中之被 之期間 憶體單 供一種薄膜磁性 資料讀 裝置, 供給電路以及資 包括第一及第二 發明之概 本發 造,不使 本發 單元、資 各記 之記憶資 方向之電 體單元之 氣上連接 照選擇記 的在於提 早兀而南 種薄膜磁 讀出電流 元,寫入 按照記憶 料線在資 選為資料 。讀出電 元之電阻 精度執行 性體記憶 資料之方 料讀出動 讀出對象 流供給電 之電壓。 向磁化 作時, 之選擇 路,令 資料讀 體記憶裝置之;I 出。 包括複數記憶! 料讀出電路。 位準之其中之-包括按照磁4 包括和複數記ί 記憶體單元在1 向資料線產生才 出電路,按照3
569214 一丨' 丨丨丨-— 五、發明說明(7) m隐體單元包括和該資料讀 向之第一狀態之選擇記愔舻留_ 士兩尸 银之磁化方 壓及和在既定之磁埸作L 70氣上連接之資料線電 牙^既疋之磁%作用於該選擇記憶體單元之 也之μ選擇记憶體單元在電氣上連接之 生按照=記憶體翠元之記憶資料之讀出資Γ , 擇記憶體單元存取,即依照二,早兀,只向選 料線等之同一資料讀出路徑 ^ 5己憶體單元及資 料讀出。因此,避免在接士 Γ電壓間之比較可執行資 m ^ ^ ^ ^ 避免在構成資料讀出路徑之各雷肷夕、止 變動所引起之偏置等之影響, ,電路之Ik 化。 了將資科讀出動作高精度 薄膜磁性體記憶裝置還 對該複數記憶體單元之中 寫控制電路較好,用以 體單元在一*之資料讀2二”該記憶資料。選擇記憶 入控制電路寫入既定位 在6亥第一狀態之後利用該寫 態。寫入控制電路在該一 j記憶資料後,變為該第二狀 向該選擇記憶體單元^京-人之資料讀出動作中,執行用以 同之該記憶資料之再寫二S位準和所產生之該讀出資料相 這種薄膜磁性體記憔2 中,在既定位準之資料if,在一次之資料讀出動作 憶體單元之資料讀出後= 及寫入後各自執行對選擇記 元,可執行資料讀出。此i照兩者之比較,不使用參考單 因向選擇記憶體單元再外二在一次之資料讀出動作中, 元之狀態回到資料讀出叙入讀出資料,可使選擇記憶體單 _作前之狀態。 2075-5193.PF(N);ahddub.ptd 第11頁 569214 五、發明說明(8) _寫入控制電路*執行該 元之記憶資料和該所 再寫入之前之^ 況,中止該再_ A &產生之該讀出資钮垓選擇記憶體單 T止系冉寫入動作更好。 十4之位準传相η夕味 結果,省略不雲!好 +係相同之情 作時之耗電流。 之再寫入動作,可读丨 又一 A J减少資料讀出動 讀出動作了用動作包括”之動作 L , , ^ 到和第一狀態之潠嫂勒作較好··起始 ^連接之—貝料線之電壓;第一既_,圮憶體單元在電氣 體單元寫入既定位準之資料;第一乍’向選擇記憶 既定寫人動作後,肖以得到和選擇t 出動作,在第- 接之資料線之電壓;讀出資料確定動^體單元在電氣上連 動作後,依照各自在起始讀出動作及丄在第一既定讀出 到之資料線之電壓確定讀出資料;以及定讀出動作得 出資料確定動作後,向選擇記憶體單元^ =動作,在讀 後之讀出資料相同之記憶資料。 寫入位準和確定 這種薄膜磁性體記憶裝置,在—次之資料讀 中,在既定位準之資料寫入前及寫入後各自執行對 憶體單元之資料讀出後,依照兩者之比較,不使用參考單 元’可執行資料讀出。此外,在一次之資料讀出動^中早 因向選擇記憶體單元再寫入讀出資料,可使選擇記憶體單 元之狀態回到資料讀出動作前之狀態。 各該記憶體單元按照該記憶資料在沿著易磁化軸方向 方向磁化更好。薄膜磁性體記憶裝置還包括偏壓磁場施 部,對該選擇記憶體單元施加包括沿難磁化軸方向之成
2075-5193-PF(N);ahddub.ptd 第12頁 569214 五、發明說明(9) :之既疋之偏壓磁場。 _ 時自該第-狀態變為該第擇早7"在該偏壓磁場作用 這種薄膜磁性體記;… :既定位準之資料寫入對選擇記憶體單元 艘單”取,可使資料讀出:作高=…向選擇記憶 器,^該包之構件更好:感測放大 之電壓;以:=電=持部,保持該第-節點 輸出節點和該第-節點,x而且在;笛連接該感測放大器之 路,在,一節點分開;以及讀出資料產生電 料。^第一狀態,按照該輸出節點之電壓產生該讀出資 格胁,此,使用感測放大器之負回授,可得到按照選擇記 憶體早元之記憶資料之資料線電壓。結果,抑 大器發生之偏置,可使資料讀出更高精度化。^放 較佳之實施例 以下參照圖面詳細說明本發明之實施例。 實施例1 參照圖1,本發明之實施例之MR組件1響應來自外部 之控制信號CMD及位址信號ADD,進行隨機存取,對於被選 為資料讀出或資料寫入對象之記憶體單元(以下也稱為
2075-5193-PF(N);ahddub.ptd 第13頁 569214
厂選擇記憶體單元」),進行輸入資料D丨N之寫入或 料DOUT之讀出。 ’貝 MRAM組件1包括控制電路5,控制MRAM組件1之 作;及記憶體陣列1 〇,包括排列成行列狀之MTJ記 元MC。 整體 憶體 動 單 f記憶體陣列1 0,各自和MTJ記憶體單元之列對應的 配置子線WL及寫用數位線,各自和MT J記憶體單元之行 對應的配置位元線BL及源極線乩。在圖i,表示代表性表 不之一個MTJ記憶體單元Mc及與其對應之字線WL、寫用數 位線WDL、位元線BL以及源極線SL之配置。 MRAM組件1還包括列選擇電路2〇、21,選擇按照位址 信號綱所表示之列位址RA之列;行解碼器25,依照、位址 信巧ADI)所表示之行位址CA選擇在記憶體陣列1 〇之行;以 及項出/寫入控制電路、35。
讀 記憶體 作及資 又 電壓狀 GND)各 參 行列狀 字線WL 配置位 出/寫入控制電路30、35係綜合性的表達用以對在 陣列10所配置之MTJ記憶體單元亂執行資料讀出動 料寫入動作之電路群。 在以下,將信號、信號線以及資料等之二次性; 態(例如電源電壓Vcc)及低電壓狀態(例如接地電々 自也稱為「Η位準」及「L位準」。 - 了®^,在記憶體陣列10將MTJ記憶體單元Mc配置; 2上述所示,各自和記憶體單元之列對應的配】 元狳=數位線WDL,各自和記憶體單元之行對應的 、、、笑儿及源極線SL。MTJ記憶體單元MC各自包括和
569214 五、發明說明(11) 在圖1 7所况明的一樣之構造,包括在對應之位元線BL及源 極線SL之間串接之隧道磁阻元件TMR及存取用電晶體。 隧道磁阻元件TMR如上述所示,包括按照磁化方向之 電阻。即,在資料讀出前,在各MT J記憶體單元,隧道磁 阻元件TMR為了記憶Η位準(”1,,)及[位準("〇")之其中一種 ^ ^ i沿著既定之方向磁化,其電阻設為Rmax &Rmin之其 各源極線SL和接地電壓GND連接。因而,各存取用 士體ATR之源極電壓固定為接地電壓⑽。因而,在對應電 ::活化成H位準之選擇列,隧道磁阻元件TMR在;拉 低至接地電壓GND之狀態,和位元狐連接。 反拉 及=在記憶體陣列1〇之列選擇之列選擇電路 =擇電路2巧21包括在各記憶體單元列所配置之列 礁心a %驅動盗8〇依照表示對應之記憶體單元列之解 信號Rd控制對應之字视及寫用數位線飢 之記:^ t ::上未不之解碼電路得到,在選擇對應 .° " 情況,設為H位準(電源電壓Vcc)。即, 和選擇列對應之節點;N ri 1故H & 外,筋㈣HMT 為準(電源電麼〜),除此以 卜卽點Nd§又為L位準(接地電壓GND)。 =:二次之資料寫入動作中,各記=單元= ‘·,利用圖上未示之閃鎖電路保持在㈣Nd。 列驅動副包括電晶體開關82,設於節點^及寫用數 第15頁 2075-5193-PF(N);ahddub.ptd 569214 五、發明說明(12) 位線WDL之一端側之間;及電晶體開關84 , 字線WL之一端側之間。針雷曰俨門+ 0a又於即點Nd及 w - ^ 對電日日體開關82之閘極,供給在對 MTJ δ己憶體早兀寫入資料時活化位準之 電晶體開關84之閉極,供給在則 。:對 時活化成Η位準之控制信號RE。 貝# 82變I ί、甬在t列驅動器8〇 ’在資料寫入時,電晶體開關 82 k成導通’而且電晶體開關84變成不導通 ::電晶體開關84變成導通’而且電晶體開關以變成不導 μ f Ϊ,:和各記憶體單元列對應的配置電晶體開關90, 匕*料寫入時之資料讀出時以外,用以將字線fL之另 -端側和接地電壓㈣連接;電晶體開關92,用以將寫用 數位線WDL之另一端側和接地電壓GND連接。電晶體開關9〇 及92在各圮憶體單元列隔著記憶體陣列丨〇配置於 8 0之反側。 電晶體開關90在閘極接受控制信號RE之反相信號 /RE,在字線WL和接地電壓GND之間在電氣上連接。電晶體 開關92包括和電源電壓Vcc連接之閘極,在寫用數位線⑺儿 和接地電壓GND之間在電氣上連接。在圖2之構造例,電晶 體開關8=、84、90、92各自由n通道MOS電晶體構成。 在資料寫入時’電晶體開關82響應控制信號WE而變成 導通’依照節點Nd之電壓,即對應之記憶體單元列之解碼 k號Rd ’使對應之寫用數位線變成活化。因活化後之 寫用數位線WDL·和設為Η位準(電源電壓Vcc)之節點Nd連 第16頁 2〇75-5193-PF(N);ahddub.ptd 569214 五、發明說明(13) 接,資料寫入電流I p自列驅動器8 〇流向導通狀態之電晶體 開關92。 ~ ,在資料讀出時,利用電晶體開關9〇將各字線…和接地 電壓G N D分離。此外,電晶體開關§ 4響應控制信號π而變 成導通,按照節點Nd之電壓,即對應之記憶體單元列之解 碼信號Rd,使對應之字線WL變成活化。活化後之字線礼和 設為Η位準(電源電壓Vcc)之節點Nd連接。響應之,和選擇 列對應之存取用電晶體ATR變成導通,在位元線虬和源極 線SL之間將隧道磁阻元件TMR在電氣上連接。照這樣做, 執行在記憶體陣列1 〇之列選擇動作。 , 接1各β己隐體單元列之字線WL及寫用數位線wdl對應的
同:構造。此外,如圖2所示,列驅動』 在各d隐體単7G列配置成鋸齒形。即, A 列交互配置於字線WL和寫用數位線WD 母線 几和寫用數位線WDL之另一端侧。因而,能= 率的配置列驅動器8〇。 積间效 讀出/寫入控制電路3〇還包括寫驅 開關電路16〇。寫驅動器控制電路15。響制電=和 之動作指示’按照傳達至節點f 路5 瑪器25之行選擇結果,對各記憶體單元m來自行解 :號ma、mbe如後述之詳細 ;m用控制 電路1 50除了資料寫入動丁寫驅動is控制 也按照既定之時序執杆、 在貝料讀出動作中, 開關電路丄將V:, 字即點Nr及Nw之-方選擇性的和節賴
2075-5193-PF(N);ahddub.ptd 第17頁 I麵
569214
^。在—般之資料寫入動作 ^ Π5 . ^ t #D t N , , 久Y恃於11 _ , 樣的s貝出/寫入控制電路35包括在 一、:,行配置之寫驅動謂化。在各記憶體單元 =寫驅動器WDVa按照對應之寫人用控制信號_以電源 - i :C及接地電壓GND之其中之一驅動對應之位元線BL之 :w=。一㈣,寫驅動器爾b按照對應t寫入用控制俨 被腿以電源電壓Vcc及接地電壓_之其中之一驅動心 之位元線BL之另一端側。 μ 在資料寫入時,按照寫入資料㉑之位準將和選擇行對 應之寫入用控制信號WDTa &WDTb設為Η位準及L位準之各一 方。例如,在寫入Η位準("i")之資料之情況,為了使資料 寫入電流+Iw自寫用驅動器WDVa流向WDVb,將寫入用控制 信號WDTa設為Η位準,將WDTb設為L位準。相反的,在寫入 L位準("0")之資料之情況,為了使資料寫入電流一 Iw自寫 用驅動HWDVb流向WDVa,將寫入用控制信號WDTb設為Η位 準’將WDTa設為L位準。在以下,將方向不同之資料寫入 電流+ I w及一 I w總稱為資料寫入電流土 I w。 在非選擇行,寫入用控制信號WDTa &WDTb各自設為L 位準。又,在資料寫入動作時以外,將寫入用控制信號 WDTa及WDTb設為L位準。 在資料寫入電流I p及± I w各自流入對應之寫用數位線 WDL及位元線BL之雙方之隧道磁阻元件了^^,在磁性上寫入
2075-5193-PF(N);ahddub.ptd 第18頁 569214 五、發明說明(15) 按照資料寫入電流± I w之方向之資料。 和各記憶體單元行之位元線BL對應的一樣的設置相同 之構造。在圖2之構造,也可將寫用驅動器WDVa及〇几之 驅動電壓設為接地電壓GND及電源電壓Vcc以外之電壓。 其次說明自記憶體陣列1 〇之資料讀出動作。 讀出/寫入控制電路30還包括資料線DI〇,用以傳達按 照選擇記憶體單元之電阻之電壓;及讀出選擇用閘RSG, 没於資料線D 10及各位元線bl之間。在讀出選擇用閘r%之 閘極連接表示對應之記憶體單元行之選擇狀態之讀用行選 擇線RCSL。各讀用行選擇線RCSL在選擇了對應之記憶體單 元行之情況活化成Η位準。和各記憶體單元行對應的設置 一樣之構造。即,利用記憶體陣列丨〇上之位元線BL共用資 料線DIO。 藉著採用這種構造,選擇記憶體單元在資料讀出時, 經由選擇行之位元線BL及對應之讀出選擇用閘rsg和資料 線DIO在電氣上連接。 、 讀出/寫入控制電路3 〇還包括資料讀出電路丨〇 〇和資料 讀出電流供給電路105。 、 資料讀出電流供給電路丨05包括電流供給用電晶體 107,在電源電壓Vcc和資料線〇 1〇之間在電氣上連接。電 流供給用電晶體丨07由接受控制信號/RE(在資料讀出時活 化成L =準)之p通道M〇s電晶體構成。電流供給用電晶體 107在資料讀出時,藉將資料線DI〇和電源電壓Vcc連接, 令產生資料讀出電流I s。
569214
_資=出電流IS通過資料線M〇〜選擇行之讀出選擇用 =〜j擇行之位元線BL〜選擇記憶體單元之隨道磁阻擇元用 件TMR存取用電晶體ATR~源極線儿(接地電壓gn㈧之路 ^電^兩,在資料線DU)產生按照選擇記憶體單元之電阻 此外’在圖2 ’表示構造最簡單之資料讀出電流供給 電路例,#是為了更精密的供給f料讀出電流Is,例如也 可用包括電流鏡構造等之定電流供給電路構成資料 流供給電路1 0 5。 t 資料讀出電路100還包括開關電路11〇、電壓保持用電 容器11卜113、感測放大器120、125、13〇以及閂 140。 開關電路110在一次之資料讀出動作將按照節點N1〜N3 之中之順序所選擇的逐個和資料線D ][ 〇連接。電壓保持用 電谷器11 1〜11 3係為了保持節點n 1〜N 3各自之電壓而設'置。 感測放大器1 2 0將節點N1及N 2之電壓差放大後輸出。 感測放大器1 2 5將節點N1及N 3之電壓差放大後輸出。感測 放大器130將感測放大器120及125各自之輸出間之電^差 放大後輸出。閂鎖電路140將在既定之時序之感測放大器 1 3 0之輸出電壓閂鎖後,向節點n r輸出包括按照選擇記憶 體單元之記憶資料之位準之讀出資料RD。 向節點Nr輸出之讀出資料RD經由輸出緩衝器17〇作為 來自資料輸出端子4a之輸出資料DOUT輸出。而,往資料輸 入端子4b之輸入資料DIN經由輸入緩衝器175傳達至節點
2075-5193-PF(N);ahddub.ptd 第20頁 569214
五、發明說明(17)
Nw 〇 如上述所示,在一般之資料寫入動作時,開 1 6 0將節點N w和節點N 4連接。而,在資料讀出動作日電路 關電路160按照來自控制電路5之指示,為了妝#,時’開
再寫入選擇記憶體單元,將節點ΝΓ和節點N4 貝料RD 連接。 < 間在電氣上 其次,詳細說明如上述構成之讀出/寫入控 按照實施例1之資料讀出動作。 电路之 其次,使用圖3之流程圖說明實施例1 一 ★ · 出動作。 -人之資料讀 動作開 自選擇 作時, 。在此 隹貫狐例1之構这,一久您資 始時(步驟S100),首先,在起始資料讀出動作 記憶體單元讀出記憶資料。即,在起始資料萨 選擇記憶體單元之磁化方向和資料讀出動:一 狀態之資料線DI0之電壓傳達至節點 % s 11 〇)。 次饰符c步 其次’向選擇記憶體單元寫入定 咨也L Β π 干儿两八既疋位準(例如” 1 ”、夕 身科。即,選擇記憶體單元接受 )之 之貝枓寫入磁場之施加(步 疋徂+之貝料 作1上執行自寫入τ既定此外’在既定讀出動 資料讀出。向節®;N9仅姓a貢抖之選擇記憶體單元之 驟S130)。 行任此狀態之資料線DIO之電壓(步 選在既定寫入動作2上
569214 五、發明說明(18) 擇記憶體單元接受用以寫入這種位準之資料之資料寫入磁 場之施加(步驟s 1 4 0 )。還在既定讀出動作2上執行在既定 寫入動作2所寫入之記憶資料("〇")之讀出。向節點〇保持 在此狀態之資料線D I 〇之電壓(步驟S1 5 0 )。 於是’在自起始資料讀出動作至既定讀出動作2為止 終了之時刻’即,在節點“13各自和資料線DI〇連接後, 在節點N1〜N3各自保持和記憶資料對應之資料線電壓、和 資料"1 ”對應之資料線電壓以及和資料"〇”對應之資料線電 壓。在此狀態,依照節點N1〜N3之電壓比較,確定表示來 自選擇記憶體單元之記憶資料之讀出資料RD(步驟sl6〇)。 此外,在讀出資料RD確定後,對於選擇記憶體單元, 再寫入讀出資料RD(步驟S170)。因而,對於在讀出動作順 序内接受既定之資料寫入之選擇記憶體 資料,可重現資料讀出前之狀態。 重兒其-己隐 參照圖4 ’在一次之讀出動作中,和 點Nd保持在H位準。在起始資料嘈屮叙从士俘幻釘應之即 叹為Η位準,控制信號WE設為L位準。此 表示之MTJ記憶體單元传成A存 在圖中以斜線 之愔π,斟少〜&成為存取對象之選擇記憶體單元 準::而ΪίΓΐ讀用行選擇線RCSL活化成Η位 旱因而對應之讀出選擇用閘RSG及選搓V措辦霞一夕 存取用電晶體ATR變成導通,資料$ &擇。己隐體早兀之 憶趙單元之隧道磁Λ=μκ Μ讀出電流1s通過選擇記 因而’在資料線DIO產生按照選擇 資料之電壓。開關電路11〇在 :二己:體早兀之記憶 、^貝科項出動作時,將資 inn 第22頁 2075-5193-PF(N);ahddub.ptd 569214 五、發明說明(19) 料線DIO和節點N1連接。利用電壓保持用電容器ηι保持節 點N1之電壓。因此,在和圖3中之步驟511〇對應之起始資 料讀出動作時,向節點N1傳達按照選擇記憶體單元之' 資料之資料線電壓後保持。 〜 參照圖5,在既定寫入動作!,將控制信號RE設為匕位 準’將控制“號界£設為Η位準。此外,各讀用行選擇線 RCSL非活化成L位準,在各記憶體單元行讀出選擇用問聊 變成不導通。因而,各位元線BL和資料線…^分離。此 外,開關電路110使資料線DI0和節點N1〜N3不連接。自控 制電路5向寫驅動器控制電路1 5 〇指示用以寫入資料"1"之 動作。 因此,選擇列之寫用數位線變成活化,資料寫入 電々IL I P Μ動。又,在選擇行之位元線,用以寫入既定資料 (:=資料寫入電流+卜在選擇行之位元線上朝自寫用驅 動裔WDVa往WDVb之方向流動。 即,寫驅動器控制電路丨50響應來自控制電路5之寫入 指不」將選擇行之寫入用控制信號WDTa設為H位準,將 WDTb設為L位準。此外,#其他之記憶體單元行對應 ^用控,信號WDTa及WDTb都設為L位準。因而,對於;選擇 記憶體單元強迫的寫入既定位準之資料(,,丨")。 參照圖6,在既定讀出動作1,將控制信號RE設為H位 準’將控制信號WE設為L位準。此外’為了再執行自選擇 記憶體單元之資料讀出,對應之字線WL及讀用行選擇線 RCSL活化成Η位準。此外,開關電路11〇將資料線M〇和節 第23頁 2075-5193-PF(N);ahddub.ptd 569214
五、發明說明(20) 點N2連接。利用電壓保持用電容器112保持節點 歐。 · <电 因此,在和圖3中之步驟5丨30對應之既定讀出動 , 自選擇記憶體單元讀出了資料”丨”時之資料線’ 節點N2後保持。 电i得達至 參照圖7,在既定寫入動作2,和既定寫入動作丨時一 樣,將控制信號rE設為L位準,將控制信號WE 而且將位元紙和資料侧分離。此外,開關 =料線DIO和節點N1〜N3都未連接。自控制電路5向寫驅 器控制電路1 50指示用以寫入資料"〇"之動作。·、、、
因此’對應之寫用數位線WDL變成活化,資料寫入電 流Ip流動。又,在選擇行之位元線,用以寫入這種 料寫入電流一^在選擇行之位元線上朝自寫用 驅動aWDVb往WDVa之方向流動。 ^ 即,寫驅動器控制電路1 5 0響應來自控制電路5之寫入 指示’將選擇行之寫入用控制信號WDTa設為L位準,將 WDTb設為Η位準。此外,和其他之記憶體單元行對應之寫 ^用控,信號WDTa及WDTb都設為L位準。因而,對=選擇
^憶體單元強迫的寫入位準和既定寫入動作不同之資料 (’’ 0 丨’)。 參照圖8,在既定讀出動作2,將控制信號RE設為11位 準’將巧制信號WE設為L位準。此外,& 了再執行自選擇 記憶體單元之資料讀出,對應之字線WL及讀用行選擇線 RCSL活化成Η位準。此外,開關電路11〇將資料線di〇和節
569214
利用電壓保持用 電容器11 3保持節點N 3之電 點N 3連接 壓。 因此 在和圖3中之步驟S1 5 0對應之既定讀出動作2, 自選擇記憶體單元讀出了資料"。"時之資料線;至 節點N3後保持。 了貝丁叶深电&得達至 —因而’在既定讀出動作2終了時,利用電壓保 谷姦11卜113在節點N1保持和選擇記憶體單元之記憶資料 對應之電壓,在節點N2保持自選擇記憶體單元讀出資料 "1"時之資料線電壓’在節點N3保持自選擇元 出資料"0"時之資料線電壓。 因此’在感測放大器120及125之其中一方,因 入電壓變成同位準,其輸出幾乎未放大,在另一方' 感測放大器,其輸出電壓大為放大。具體而言,在 憶體單元之記憶資料係”丨”之情況,感測放大器12〇之輸° 幾乎未放大,而感測放大器125之輸出放大至全振幅為 止。相反的,在選擇記憶體單元之記憶資料係"〇 "之^ 況,感測放大器1 2 5之輸出幾乎未放大,而感測放大器 之輸出放大至全振幅為止。 " 第二段之感測放大器130按照來自第一段之感測放大 器1 2 0及1 2 5之輸出電壓之比較,產生按照選擇記憶體一 之記憶資料之電壓。感測放大器130之輸出按照和在圖3 = 之步驟S160所示之讀出資料確定動作對應之時序,保 閂鎖電路140。閂鎖電路140在節點ΝΓ產生按照保持電壓; 讀出資料RD。 、 ^
569214 五、發明說明(22) 參照圖9,在資斜益仓 元再寫入讀出資料f卩寫入動作時,對於選擇記憶體單 之間。又,向芎驅動w >,開關電路〗60連接節點計和N4 路5進行再寫^ 5 以自行控制電 因此,寫驅動器控制電路15〇在 設定對應之寫入用控制信綱Ta謂二之位m 準之資料寫入電流或-Iw。 一樣的,控制信號WE也變成導通,資料 擇列之寫用數位線WDL。 .、、、電机Ip ^向選 因而,因對選擇記憶體單元再寫入和在 前之選擇記憶體單元之記情資料斜麻科讀出動作 兮掩妙II - + U, Γ 枓對應之讀出資料RD,選擇 5己隐體皁7L之狀態回到資料讀出動作前之狀態。 其次,使用圖1 〇說明實施例j之資料讀出動作。 參照圖1 0,構成圖3所示之一次之資料讀出 動作例如可令和時鐘信號CLK同步的執行。 即,在係時鐘信號CLK之活化緣之時刻t0,取 選擇#號CS及讀命令rc後,執行起始資料讀出動作 始資料讀出動作,選擇列之字線WL變成活化,而且供給1 擇行之位元線BL資料讀出電流Is。利用資料讀出電^丨、6選 資料線DI0所產生之電壓,即自選擇記憶體單元讀出^ S在 資料時之資料線電壓傳達至節點N1後保持。 〇t ^ 自和下一時鐘活化緣對應之時刻11執行既定寫 1。與其對應的’資料寫入電流I p流向選擇列之寫用 乍 線WDL,資料寫入電流+Iw流向選擇行之位元線Bl ,對選擇 第26頁 2〇75-5193-PF(N);ahddub.ptd 569214 五、發明說明(23) έ己憶體單元強迫的寫入既定位準之資料(” 1 ”)。 此外’自係下一時鐘活化緣之時刻t2執行既定讀出動 作1。即,在選擇列之字線WL活化之狀態,供給選擇行之 位元線BL資料讀出電流Is。利用資料讀出電流。在資料線 D10所產生之電壓,即自選擇記憶體單元讀出資料”丨"時之 資料線電壓傳達至節點^^2後保持。 自係下一時鐘活化緣之時刻t3執行既定寫入動作2。 因而’資料寫人電流I p流向選擇列之寫用數位線飢,資 料Iw流向選擇行之位元線BL,對選擇記憶體單 疋強迫的寫入位準和既定寫入動作丨不同之資料("〇")。 作9此Β外/·自s?係^ —時釦活化緣之時刻t4執行既定讀出動 作2。即,在選擇列之字線WL活化之狀態,供 位元線BL資料讀出電流Is。自選擇情 禪^之 "〇··時之_資料線電料達至節點持體单几項出資料 執行既定讀出動作2 ’在節點m3,保持和選 :己憶體早…己憶資料、資料”"及資料"〇" 壓。因此,可依照節點N1〜N3之電壓產生讀出資_'電 此外,自相當於下一時鐘活化緣之時刻t5。 出端子4a輸出按照讀出資料RD之輸出資料D〇 ^貝料輸 的執行對於選擇記憶雜單元之資料再寫入動作。° ^其並列 寫入電流Ip流向選擇列之寫用數位線鼠 I7 ’資料 RD之位準’資料寫入電流+ Iw或-Iw流向選擇Γ 5f出資料 BL。因而,對選擇記憶體單元寫入位準和钱仃之位元線 之資料後,選擇記憶體單元回到和資料讀出"=資料RD相同 、^動作前相同之 第27頁 2〇75-5l93-PF(N);ahddub.ptd 569214 五、發明說明(24) 狀態。 一此外,如圖2所示,也可將用以執行丨位元之資料讀出 及貧料寫入之構造設為一個方塊’由複數方塊構成㈣“組 件。在圖1 0組合的表示在這種構造之資料讀出動作。 在包括複數方塊之MRAM組件,對於各方塊,並列的 行按照圖3所示之流程構成之資料讀出動作。即,在包括 和圖2 —樣之構造之別的方塊,也執行一樣之資料讀出動 作,在,刻t4,在各方塊產生來自之讀出資料〇。 在這種構造,例如,自相當於下一時鐘活化緣之時刻 =,可將來自複數方塊之各方塊之讀出資料⑽連續的訊 (Burst)作為輸出資料D〇UT輸出。在圖1〇表示在時刻 t資5料來τΐ:個Γ免之_ 方揄夕祷^次、,’、自係下一時鐘活化緣之時刻16,和在別的 動# 5貝貝料RD對應的將',Γ作為輸出資料DOUT輸出之 動作例。 緣,2〔卜棋在圖1 〇 ’表示各自響應時鐘信號CLK之活化 緣’執仃構成一次之資料啬 本發明之雁田“:1動作之各動作之構造,但是 CLK, A ^ 义疋為這種動作,即,響應時鐘信號 號,在睹错* ^還產生時序控制信號,響應該時序控制信 次之資料之一個時鐘週期内,執行圖3所示之一 動=== 造也關於這種-次之資料讀出 料讀出動作所需之時時知化號CLK),可按照一次之資 率之關係適當的決定 動作時鐘之時鐘信號c L κ之頻
569214 五、發明說明(25) 於是,若依據實施例丨之構造,在 疋之資料讀出動作,不使用參考單、著選擇:憶體早 體單元存取就可讀出資料1,依 ^只對選擇記憶 單元、同一位元蝮、同J用包括同一記憶體 同一資料讀出路徑執行之電壓比較產生放大器專之 要參考單元’令各MTJ記憶體單元執行”資料。因不需 部之MTJ記憶體單元用作有效位元。订貝枓冗憶’可將全 因此’避免由在構成資料讀出路 動所引起之偏置等之影響,可二各電路之製造變 即’與和參考單元等別:記= =動作高精度化。 電路系之I:卜鲂靖Ψ * ώ时·、 或所附加之資料讀出 製造變動等之:響擇記憶體單元之資料,不如排除 表kI動專之衫響,可高精度的讀出資料。 實施例1之變形例 圈3/严圖」I’面在實施例1之變形例之資料讀出動作’和 行資料Α宜入止 #枓之步驟^ 60和執 二=钭再寫入動作之步驟S1 7〇之間還包括判 料再寫入動作之步驟Sl65上不同。 貝 在既作52,所判宜定在步_〇所確定之讀出資獅和 疋寫入動作2所寫入之資料("〇")是否相同。在兩者 =同之情::☆執行資料再寫入動作之前,因選擇記 :之ΐ Ξ(之-V/:之位準已和在後續之步驟si 7〇想再寫 入之二枓(sw出㈣RD)相同,*必執行:.料再寫人動作。 於是,在執行資料再寫入動作之前選擇記憶體單元之
2075.5193.PF(N);ahddub.ptd 第29頁 569214
五、發明說明(26) ^^ =憶資料之位準和已確定之讀出資料RD相同之 貪料再寫入動作(步驟S1 70 )後,結束一次之次二1,祧過 (步驟S180)。結果,省略不必要之再寫入動作枓^出動作 料讀出動作時之耗電流。 可減少資 此外,在實施例1及其變形例,說明了在 作1及既定寫入動作2各自強迫的寫入” i ”及"〇"寫入動 =是在這些動作之資料位準之設定係相反也可。作例, 木=在既定寫入動作1寫入資料” 〇” 、在 二也可 入資料"1”之構造。 疋冩入動作2寫 又,在實施例丨及其變形例,說明了一 入動似既定言賣出動#之構造,•是也可2 =之 无疋寫入動作及既定讀出動作之構造。 … 作之採用依照在起始資料讀出動 料線電壓之間是否發生;讀出動作之; 料RD之構造即可。例如 乂上之電壓差產生璜出資 若省略和節點Ν3對應之電=2姓所示之資料讀出電路1〇0, 器125之配f,而反電壓保持用電容器113及感測放大 中間之之輸入之-方設為 料讀出電路!。。之元件數仃攻種資料讀出。因而,可減少資 要文’可小面積化及低費用化。 實施例2
第30頁 I麵 2075.5193.PF(N);ahddubptd 569214 五、發明說明(27) 在實施例2,說明了使用構造更簡化之資料讀出電 路,和實施例1 一樣的只利用對選擇記憶體單元之存取執 行資料讀出之構造。 在圖1 2表示對MTJ記憶體單元供給之資料寫入電流及 MTJ記憶體單元之電阻之關係(滯後特性)。 參照圖1 2,在橫軸表示在位元線流動之位元線電流 I(BL),在縱軸表示MTJ記憶體單元之電阻Rcell。利用位 元線電流I(BL)產生之磁場在MTJ記憶體單元之自由磁化層 VL包括沿著易磁化軸方向(EA)之方向。而,利用在寫用數 位線WDL流動之數位線電流I(WDL)產生之磁場在自由磁化 層VL包括沿著難磁化轴方向(HA)之方向。 因此’位元線電流I (BL)超過令自由磁化層VL之磁化 方向反轉之臨限值時,自由磁化層VL之磁化方向反轉,記 憶體單元電阻Rcell變化。在圖12,在正方向之位元線電 流I (BL)超過臨限值之情況,MTJ記憶體單元電阻Rcel 1變 成最大值Rmax,而在負方向之位元線電流I (BL)超過臨限 值之情況,MTJ記憶體單元電阻!^611變成最小值Rmin。這 種位元線電流I(BL)之臨限值因在寫用數位線WDL流動之電 流I(WDL)而異。
首先’在圖12中以虛線表示在寫用數位線WDL流動之 數位線電流I (WDL) = 0之情況之記憶體單元電阻Rcel i之滯 後特性。將在此情況之位元線電流丨(BL)之正方向及負方 向之臨限值各自設為11 〇及一110。 而’在電流流向寫用數位線WDL之情況,位元線電流
207$-5193-PF(N);ahddub.ptd 第31頁 569214 '發明說明(28) I (BL)之臨限值降低。在圖丨2以實線表示係數位線電流 i (WDL) = IP之情況之記憶體單元電阻RceU之滯後特性。由 於利用數位線電流I(WDL)產生之難磁化軸方向之磁場之影 響’位元線電流I (BL )之正方向及負方向之臨限值各自變 為 Itl(Itl<ItO)及一Itl(~iti>—It0)。本滯後特性表示 在資料寫入動作時之記憶體單元電&Rce i 1之舉動。因 此’在資料寫入動作時之位元線電流I ( BL ),即資料寫入 電流Iw 及-Iw 設於Itl<+Iw<It〇)及一 It〇< — Iw< _Itl 之 圍0 而’在資料讀出動作時之位元線電流〗(BL),即資料 讀出電流I s,因作為將選擇記憶體單元或寄生電容等作為 RC負載所連接之資料線DI〇之充電電流流動,和在資料寫 入時之位元線電流I (BL ),即資料寫入電流± IW相比,— 般在位準上小2〜3位數。因此,在圖1 2中,可看成資料讀 出電流I s与0。 ° 在資料讀出前之狀態,設定隧道磁阻元件TMR中之自 由磁化層之磁化方向,使得包括在圖12中之(a)或((:)之狀 態’即選擇記憶體單元包括電阻Rm i n或心仏之其中之一。 在圖13表示在圖12所示之各狀態之隧道磁阻元件之;^ 化方向。 圖13中之(a)表示在圖12中之(c)之狀態之磁化方向。 在此狀態,因自由磁化層VL之磁化方向和固定磁化層FL之 磁化方向反向,將記憶體單元電阻Rce 11設為最大值 Rmax °
2075-5193-PF(N);ahddub.ptd
569214 五、發明說明(29) 自此狀態,既定電流(例如資料寫入電流I p )流向寫用 數位線WDL時,雖然自由磁化層VL之磁化方向未至反轉之 狀態,反轉某種程度,隧道磁阻元件TMR之電阻Reel 1變 化。 例如,如圖13中之(b)所示,在自圖13中之(a)之磁化 狀態再施加數位線電流I ( WDL )所引起之難磁化軸(Η A)方向 之既定偏壓磁場之情況,自由磁化層VL之磁化方向稍微轉 動,變成和固定磁化層FL之磁化方向成既定之角度。因 而,在和圖13中之(b)對應之磁化狀態,記憶體單元電阻 Rcell自最小值Rmin上升至RmO 〇 一樣的,自圖13中之(c)之磁化狀態再施加一樣之既 定偏壓磁場之情況,自由磁化層VL之磁化方向稍微轉動, 變成和固定磁化層FL之磁化方向成既定之角度。因而,在 和圖13中之(d)對應之磁化狀態,記憶體單元電阻Rcel 1自 最大值Rmax下降至Rml。 於是’藉著施加難磁化軸(Η A)方向之偏壓磁場,記憶 與最大值Rmax對應之資料之MTJ記憶體單元之記憶體單元 電阻Rcell降低,而記憶與最小值Rmin對應之資料iMTJ記 憶體早元之$己憶體單元電阻R c e 11上升。
於是,若對於寫入了某記憶資料之MTJ記憶體單元施 加難磁化軸方向之偏壓磁場,可令記憶體單元電阻。6 i i 產生極性按照s己憶資料之電阻之變化。即,響應偏壓磁場 之施加而發生之記憶體單元電阻Rce u之變化按照記憶資 料之位準包括不同之極性。在實施例2,執行利用這種MTJ
2075-5193-PF(N);ahddub.ptd 第33頁 569214 五、發明說明(30) 記憶體單元之磁化特性之資料讀出。 參照圖1 4,在實施例2之構造,和圖2所示之實施例1 之構造相比,在讀出/寫入控制電路3 〇句含替代資料讀出 電路100之資料讀出電路200及省略開關電路160之配置上 不同。 資料讀出電路200包括開關電路21〇,設於資料線D 1〇 和節點N1及N 2之間;電壓保持用電容器2 11及2 1 2,各自和 節點N1及N 2對應的設置;感測放大器2 2 〇及2 3 0 ;以及閂鎖 電路240。 開關電路210在一次之資料讀出動作,將在節點N1及 N2之中依次選擇之一個節點逐一和資料線D丨〇連接。為了 保持節點N1及N2而設置電壓保持用電容器211及212。 感測放大器220將節點N1及N2之電壓差放大。第2段之 感測放大器230將感測放大器220之輸出再放 二鎖之電=大;”路240將在既定之時序之感測放大器 括按J選擇-己情體'乂巾田為止:/閂鎖,向節點叶輸出包 按照實施例2之一次之資料=出之動位/之讀出資_。 施例1之起始資料讀出動作之第一讀你由相當於在實 流向選擇列之寫用數位線WDL之狀 動作和在偏壓電流 構成。尤其,也可在資料寫入時在 丁之第二讀出動作 資料寫入電流I p用作該偏壓電流。在位線WDL·流動之 置在資料讀出時供給偏壓電流之電路,^因不必新配 在第一讀出動作,在電流未流 L間化電路構造。 宁應之寫用數位線
569214 五、發明說明(31) ΓΛ狀態(κ飢)喝,即,選擇記憶體單元之磁化方6 ;:料::ΐ前一樣之狀態,執行自選擇記憶體單元之Λ -屮電路210連接資料線dw和節點νι。因而,在第 一項出動作之資料線電壓 u而在第 於節點N1。 ^利用電&保持用電容器211保持 庫$ Ϊ =在ΐ二讀出動作,在偏壓電流流向和選擇列對 :之寫用數位舰之狀態(職),), =: 化轴方向之既定之值厥# 任’口者難磁 態,執盯自選擇記憶體單元之資料讀出。早疋之狀 在第二之資料讀出時, 節點Ν2。因而,在第1f,路210連接資料線DIO和 節謂,利用電出時之資料線電㈣達至 电至保持用電容器212保持。 如上述之說明所示,藉入、 =體單元之記憶體單元電阻心在第Λ場出作動用作時選擇 因而’在第二讀出動作時貝抖位準之極性變化。 動作時上升或下降。 之電壓比第一讀出 記憶資料(例如"1在)選之擇清己:體早憶和電阻1^ 對應之 壓比在第-讀出動作時ρ。$;7 動作時之f料線電 阻Reel 1因數位線電流J :所這疋由於隨著記憶體單元電 變小,在隨道磁阻元 在選擇記憶體單亓。/;,L之電流增加之緣故。而, 心 單凡自己憶和電阻R m i n ff廄+』 ”〇")之情況,第二1_ 對應之屺憶資料(例如 貝出動作時之資料線電壓比在第一讀出 第35頁 2075-5193-PF(N);ahddub.ptd 569214 五、發明說明(32) 動作時的低。這是由於隨著記憶體單元電阻Rce 11因數位 線電流I(WDL)所引起之偏壓磁場之作用而變大,在隧道磁 阻元件TMR流動之電流減少之緣故。 感測放大器2 2 0比較在節點N1及N 2各自所保持之電 壓,即在第一及第二讀出動作各自之資料線電壓。在第二 讀出動作執行後,藉著利用閂鎖電路24〇放大將感測放大 器220之輸出再放大之感測放大器230之輸出及閂鎖後產生 讀出資料RD,讀出資料RD變成銪按照選擇記憶體單元之記 憶資料之位準。 、 於是,在按照實施例2之構造,不需要如實施例丨之構 仏般強迫的寫入既定位準之記憶資料之既定寫入動作及所 伴隨之既定讀出動作。 ㈣γΛ’,道磁.阻元件之磁化方向*會因在寫用數位 i # ffiM之偏壓電流(資料寫入電流〖Ρ)對選擇記憶體單 ::用之磁場而反轉。目此,在令偏壓磁場消滅之時刻, 之ίΓ己Ϊ體T元之磁化方向回到和資料讀出動作前相同 ΪΞ;寫= 資料讀出動作,也不需要如實施例1之 結果’寫驅動器控制電路丨 昭 只按照資料寫人動作 私;控制電路5之指不, 讀出資料RD傳達至穹鯧。又,不需要用以將 寫驅動器控制電路150 Λ ,制電路150之開關電路160, DIN,產生寫入用n彺貝料輸入端子4b之輸入資料 參照圖15,按昭制實即可。 …也例2之一次之資料讀出動作例如
569214 五、發明說明(33) 可令和時鐘信號CLK同步的執行。 選擇二m:信號clk之活化緣之時亥⑴0,取入晶片 執行相當於起始資料讀出動作 化 第5貝出動作,選擇列之字線WL變成 資給選擇行之位元線BL資料讀出電流is。利用 ==仏在資料線Di0產生之電屢,即自選擇記憶 ^早^出了記憶資料時之f料線電壓傳達至節刪後保 自和下一時鐘活化緣對應之時刻tl,執行 =宜:’在和資料讀出電流Is相同之偏a電流流向選擇列 之寫用數位線WDL之狀態,選擇列之字線叽變成活化而 且供給選擇行之位元線BL資料讀出電流h。因而, 線DIO產生之電壓傳達至節謂後保持。在第二讀出動作 以後,可依照節點N1及N2之電壓比較產生讀出資料RD。 此外,自相當於下一時鐘活化緣之時刻t2,自資料輸 出端子4a輸出按照讀出資料RD之輸出資料D〇UT。 此外,在按照實施例2之構造,和在圖1〇所說明的一 樣,也可將圖14所示之用以執行丨位元之資料讀出及資料 寫入之構造設為一個方塊後,由複數方塊構成MRAM組件。 在此情況,也藉著對各方塊並列的執行一樣之資料讀出動 作,利用自時刻11執行之第二讀出動作,可在各方塊產生 來自選擇記憶艘單元之讀出資料。因此,自相當於下一 時鐘活化緣之時刻t2,可將來自複數方塊之各方塊之讀出 資料RD連續的訊衝(Burst)作為輸出資料D〇UT輸出。在圖 第37頁 2〇75-5193-PF(N);ahddub.ptd 569214
五、發明說明(34) 1 5表示,在時刻t 2 ’和來自一個方塊之讀出資料r J)對應的 將” 0”作為輸出資料DOUT輸出,自係下一時鐘活化緣之時 刻13 ’和在別的方塊之讀出資料R d對應的將” 1,·作為輸出 資料D0UT輸出之動作例。 ’ 此外,在圖15 ,也表示各自響應時鐘信號CLK之活化 緣,執行構成一次之資料讀出動作之各動作之構造,但是 本發明之應用未限定為這種動作,即,響靡時鐘作號一 CLK,在内部還產生時序控制信號,響應β該%序$控°制% m:;cLK之一個時鐘週期内,執行按照實關2 動作之構造也可。如上述之說明所示, =?讀!動作所需之時鐘週期數(時鐘信 時鐘之頻率之關係適當:=出動作所需之時間和係動作 於是,若依據實施例2之構造, 用參考單元,#著只對選擇記'7例1 -樣,不使 讀出資料…卜,因減少在資料$::存取就可高精度的 配置個數’而且可令成為比較對象::路之感測放大器之 料讀出電路之元件數減少而小面$電壓數減少,可因資 輕在電壓比較動作之偏 顇:及低費用4匕’而且減 精度化。 Η 可使資料讀出動作更高 此外,因不需要在資料讀出 化。 〈貝枓璜出動作更高速
569214 五、發明說明(35) 實施例2之變形例 參照圖1 6 ’在實施例2之變形例之資料讀出動作,和 圖1 4所示之實施例2之構造相比,在讀出/寫入控制電路在 包括替代資料讀出電路200之資料讀出電路300上不同。關 於其他部分之構造及動作,因和實施例2 —樣,不重複詳 細之說明。 資料讀出電路3 0 0包括感測放大器3 1 0,放大資料線 DIO和節點Nf之電壓差;負回授開關320,將感測放大器 31 0之輸出向節點N f回授;電壓保持用電容器3 2 5,保持節 點Nf之電壓;感測放大器330,將感測放大器310之輸出再 放大;以及閂鎖電路340,按照既定之時序將感測放大器 330之輸出放大及閃鎖後向節點Nf產生讀出資料RD。 在實施例2之變形例之資料讀出動作,數位線電流 I(WDL) = 〇,而且在負回授開關32〇變成導通之狀態,和選 擇記憶體單元對應之字線乳及讀用行選擇線“儿活化成Η 位準。因而,對於選擇記憶體單元,執行和在實施例2之 第一讀出動作一樣之資料讀出。 在第一讀出動作,利用在感測放大器31 〇之負回授, 節點Nf之電壓逐漸接近資料線1)1〇之電壓,即按照選擇記 憶體單元之記憶資料之電壓。節點Nf之電壓達到安定之狀 態時,負回授開關320變成不導通。 在負回授開關3 2 0變成不導通後,在保持和選擇記憶 體單元對應之字線WL及讀用行選擇線RCSL之活化狀態之狀 心偏壓電流再開逐漸流向選擇列之寫用數位線。隨
2075-5193-PF(N);ahddub.ptd 第39頁 569214 五、發明說明(36) ^作對:擇5己憶體單^ ’可執行和在實施例2之第-讀出 動作一樣之資料讀出。 乐一項出 結果,選擇記憶體單元之記 照記憶資料位準之極性變化。^, CeU以按 按照選擇記恃體單元之$揞咨w 貝枓線DIO之電壓也 ”,感測放大器310之輸出也按 記戈降 變成…,而且按照資料寫:電忒流 m後之在既定之時序之感測放大器31。之用 ,擇記,體單元之記憶資料位準對應之位準之讀出和 。於疋,在按照實施例2之變形例之資料接 y 續的執行在實施例2之第一及第二讀出動作:作,連 藉著採用這種構造,和實施例2 —樣,一 ,行資料讀出。此外,在按照實施例2:;:= 造,因使用一個感測放大器3 1 〇之負回授可 構 記憶體單元之記憶資料之資料線電壓,抑于"> 照選擇 之偏置,可使資料讀出更高精度化。制在感測放大器 第40頁 2075-5193-PF(N);ahddub.ptd 5的214 圏式簡單說明 -----—___ 、生圖1係表示按照本發明之實施例之MRAM組件丨敫啤 \之概略方塊圖。 玉肢# 圖2係表示用以對記憶體陣列1 〇執行資料讀 >料寫入動作之讀出/寫入控制電路之實施 略圖。 ^ <構造之電 圖3係說明實施例1之一次之資料讀出動 圖4係說明在起始資料讀出動作時之讀 ^呈圖。 略之動作之說明圖。 貝出/寫入控制電 控制電路 圖5係說明在既定之寫入動作1之讀出/ 之動作之說明圖。 ·、、、入 制電路 八控制電路 圖6係說明在既定之讀出動作1之讀出/ 之動作之說明圖。 、’、入控 圓7係說明在既定之寫入動作2之讀出/ 之動作之說明圖。 馬 圖8係說明在既定之讀出動作2之讀出/ A/c ad ISI ^ 之動作之說明圖。 w ’咼入控制電路 圖9係·說明在資料再寫入動作之讀出 動作之說明圖。 焉入控制電路之 圖1 0係說明按照實施例丨之資料讀 圖。 勒作之動作波形 圓11係說明按照實施例丨之變形例之一— 動作之流程圖。 次之資料讀出 之概念圖 圖1 2係用以說明按照實施例2之資料结 念圖。 $出動 作之原理 569214 圖式簡單說明 圖1 3係說明在圖1 2所示之各狀態之随 化方向之概念圖。 圖 圖 道磁p且 圖1 4係表示按照實施例2之讀出/宜 ® /冩入控制電 圖1 5係說明按照實施例2之資料靖山4 貝了叶碩出動作之動 圖1 6係表示按照實施例2之變形例之妹 欠匡貝出/寫 路之電路圖 電% 作竣形 入控制電 念圖 圖1 7係表示Μ T J記憶體單元之構造 m <概略_ 圖18係說明對於MTJ記憶體單元之資園 。 、、、入動作之概 圖1 9係表示在資料寫入之資料寫入 一 件之磁化方向之關係之概念圖。 a α隨道磁阻元 圖20係說明自MTJ記憶體單元之資料讀出之概念圖。 符號說明 1〜MR AM組件; 5〜控制電路; 10〜記憶體陣列; 20、21〜列選擇電路 30、35〜讀出/寫入控制電路; 8 0〜列驅動器; 100、200、300〜資料讀出電路; I 0 5〜資料讀出電流供給電路; II 0、1 6 0、2 1 0〜開關電路;111、112、113、211、212、325 〜電壓保持用 電容
569214
120、125、130、220、230、3 10、330 〜感測放大器; 140、240、340〜閃鎖電路; 150〜寫驅動器控制電路; 170〜輸出緩衝器;175~輸入緩衝器; 320~負回授開關;ATR〜存取用電^供. BL〜位元線; CA〜行位址; DIN〜輸入資料; D10〜資料線; DOUT〜輸出資料; FL〜固定磁化層; GND:^tM ; &〜資料寫入^流(偏壓電〜
Is〜資料讀出電流、MCMTJ記憶體單元; 电机); RA〜列位址; RCSL〜讀用行選擇 RD〜讀出資料; ' ’
Rcell、Rmax、Rmin〜記憶體單元電P且; SL〜源極線; TMR〜隧道磁阻元i u件; VL〜自由磁化層; Vcc〜電源電壓; ’ WDL〜寫用數位線; WDTa、WDTb〜寫< WDVa、WDVb〜寫用驅動器; 用检制信 WL〜字線。 &〜
2075-5193-PF(N);ahddub.ptd 第43頁

Claims (1)

  1. 569214
    六、申請專利範圍 1 · 一種薄膜磁性體記憶裝置,包括·· 複數記憶體單元,各自包括按照磁化方向之電阻,各 *玄δ己憶體早元寫入包括第一及第二位準之其中之一之記情 資料,在按照該記憶資料之方向磁化; 〜 ^料線’在資料讀出動作時’包括和該複數記憶體單^ 元之中之被選為資料讀出對象之選擇記憶體單元在電氣上 連接之期間; 讀出電流供給電路,為了令向該資料線產生按照該選 擇記憶體單元之電阻之電壓而供給該資料線資料讀出^ 、 流;以及 資 資料讀 體單元 於該選 在電氣 之記憶 2. 中,還 之一寫 該 態之後 變為該 該 以向該 料讀出電 出動作前 在電氣上 擇記憶體 上連接之 資料之讀 如申請專 包括寫入 入該記憶 選擇記憶 利用該寫 第二狀態 寫入控制 選擇記憶 一·〜〇 π不口琢 一樣之磁化方向之第一狀態之該選擇記情 連接之資料線電壓及和在既定之磁場作^ f元之後之第二狀態之該選擇記憶體單元 電壓,產生按照該選擇記憶體單元 Μ料。 利範圍第1項之薄膜磁性體 =電路…對該複數記憶體裝單置元之、中 體單元在一次之資料讀出動作 入控制電路寫入既定位準 ^ ; 半之記憶資料後, 電路在該一次之資料讀 體單元再寫入位準和所產:作中,執灯用 所產生之該讀出資料 569214 --.^ 六、申請專利範圍 相同之該記憶 3·如申請 中,該寫入控 單元之記憶資 情況,中止該 4·如申請 中,該選擇記 路寫入位準和 態; 該資料讀 各狀態之和該 產生該讀出資 5·如申請 中,該資料讀 開關電路 料線之連接對 第一節點 線連接, 第二節點 線連接; 第三節點 線連接; 電壓保持 壓; 資料之再寫入動作。 專利範圍第2項之薄膜磁性體記憶裴置,其 制電路在執行該再寫入之前之該選擇記憶體 料和該所產生之該讀出資料之位準係相同之 再寫入動作。 專利範圍第2項之薄膜磁性體記憶裝置,其 體單元在該第二狀態之後利用該寫入控制電 該既定位準不同之記憶資料後變為第三狀 出電路按照在該第一、第二以及第三狀態之 選擇記憶體單兀在電氣上連接之資料線 料。 專利範圍第4項之薄膜磁性體記憶裝置,其 出電路包括: ' ,在該一次之資料讀出動作中依次切換該資 象; ' ,在該第一狀態,利用該開關電路和該資料 ,在該第二狀態,利用該開關電路和該資料 ,在該第三狀態,利用該開關電路和該資料 部,保持該第一、第二以及第三節點之 電
    2075-5193-PF(N);ahddub.ptd 569214 六、申請專利範圍 第 一 感 測 放 大 器, 將 該 第- -及 第 一 々/Γ -郎 Wh “、、Ο 大 第 二 感 測 放 大 器, 將 該 第一 -及 第 三節 點 大 , 第 三 感 測 放 大 器, 將 該 第- -及 第 二感 測 之 輸出 之 電 壓 差 放 大; 以 及 秦 .閃鎖電路’在第一、第二以及第三節點各自和 連接後,按照該第三感測放大器之輸出產生該讀出資, 6·如申請專利範圍第4項之薄膜磁性體記憶 中,該寫入控制電路在執行該再寫入之前之該選擇’其許 =兀之記憶資料和該所產生之該讀丨f料之位 g 情況,中止該再寫入動作。 +係相同之 *,7該;:= '項之薄膜磁性體記憶裝置,其 複數節點; ίϊίί保資該:复數節點之電壓; ⑩ 選擇之—㈣點和該資料線連接;^ 之順序 該讀料產生電路’按照該複數節點各自之電麼產生 節點:亥::Ϊ路在該第—狀態’將該複數節點之中少 和與该選擇記憶體單元在電氣上連接之讀資:'J:個 麵 麵 2075-5193-PF(N);ahddub.ptd 第46頁 569214 六、申請專利範圍 接; 線 料 中,8各第1項之薄膜磁性體記憶裝置,其 之方向^ i匕了單兀按照該記憶資料在沿著易磁化軸方向 選擇ΐ二:f性體記憶裝置還包括偏壓磁場施加部,對該 ,《隐體单兀施加包括沿難磁化軸方既 偏壓磁場; ^ 該選擇記憶體單元在該偏壓磁場作用時自該第一狀觫 變為該第二狀態。 9·如申請專利範圍第8項之薄膜磁性體記憶裝置·,其 中,該資料讀出電路包括: 開關電路’在一次之資料讀出動作中依次切換該資料 線之連接對象; 、 第一節點,在該第一狀態,利用該開關電路和該資 線連接; ' 第二節點,在該第二狀態,利用該開關電路和該資 線連接; ' 電壓保持部,保持該第一及第二節點之電壓; 及 感測放大器,將該第一及第二節點之電壓差放大;以 門鎖電路,在第一及第二以節點各自和該資料線連接
    2075-5193-PF(N);ahddub.ptd 569214 六、申請專利範圍 後’按照該感測放大器之輸出產生該讀出資料。 10、如申請專利範圍第8項之薄膜磁性體記憶裝置,其 中’在該第:及第二狀態發生之該選擇記憶體單元之電阻 之變化,表=按照該記憶資料之位準而異之極性。 11 ·如申請~專利範圍第8項之薄膜磁性體記憶裝置,其 中,在一次之貧料讀出動作中該選擇記憶體單元自該第一 往第二狀態連續的變化。 1 2 ·如申睛專利範圍第8項之薄膜磁性體記憶裝置,其 中,該資料讀出電路包括: 感測放大器,將與該選擇記憶體單元在電氣上連接之 資料線之電壓和第一節點之電壓差放大; 電壓保持部’保持該第一節點之電壓; …4,電路’在該第一狀態,連接該感測放大器之輸出 卽!ϋ口 ΐ第一郎點,而且在該第二狀態,將該感測放大器 之”亥第一節點分開;以及 夕雪ί 3 ί產生電路,在該第二狀態,按照該輸出節點 之電壓產生遠讀出資料。 1 3 ·如申言杳蚩工丨 巾,# &厭#專利砣圍第8項之薄膜磁性體記憶裝置,其 中…玄偏壓磁場施加部包括: 複數寫用赵^Γ ^ 及 歌位線,各自和記憶體單元列對應的配置; 列驅動器 位線變成活化 在資料寫 ’按照列選擇結果使和選擇列對應 人動作,用以產生沿著該難磁化轴 之寫用數 方向之既
    569214 六、申請專利範圍 定之磁場之電流流向利用該列驅動器變成活化之寫用數位 線; 該列驅動器部在該資料讀出時之前之該第二狀態,和 該資料寫入動作時一樣使和該選擇列對應之寫用數位線變 成活化。 1 4.如申請專利範圍第1項之薄膜磁性體記憶裝置,其 中,該複數記憶體單元全部作為有效位元執行資料記憶。
    2075-5193-PF(N);ahddub.ptd 第49頁
TW091121115A 2001-12-12 2002-09-16 Thin film magnetic memory device conducting data read operation without using a reference cell TW569214B (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001378820A JP4052829B2 (ja) 2001-12-12 2001-12-12 薄膜磁性体記憶装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW569214B true TW569214B (en) 2004-01-01

Family

ID=19186432

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW091121115A TW569214B (en) 2001-12-12 2002-09-16 Thin film magnetic memory device conducting data read operation without using a reference cell

Country Status (6)

Country Link
US (1) US6597601B2 (zh)
JP (1) JP4052829B2 (zh)
KR (1) KR100572744B1 (zh)
CN (1) CN1266704C (zh)
DE (1) DE10244969A1 (zh)
TW (1) TW569214B (zh)

Families Citing this family (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6646911B2 (en) * 2001-10-26 2003-11-11 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Thin film magnetic memory device having data read current tuning function
US6795336B2 (en) * 2001-12-07 2004-09-21 Hynix Semiconductor Inc. Magnetic random access memory
JP4278325B2 (ja) * 2001-12-19 2009-06-10 株式会社ルネサステクノロジ 半導体集積回路装置
JP4208498B2 (ja) * 2002-06-21 2009-01-14 株式会社ルネサステクノロジ 薄膜磁性体記憶装置
JP4266297B2 (ja) * 2002-09-05 2009-05-20 株式会社ルネサステクノロジ 不揮発性記憶装置
US6700814B1 (en) * 2002-10-30 2004-03-02 Motorola, Inc. Sense amplifier bias circuit for a memory having at least two distinct resistance states
JP2004164766A (ja) * 2002-11-14 2004-06-10 Renesas Technology Corp 不揮発性記憶装置
US6982909B2 (en) * 2003-07-07 2006-01-03 Hewlett-Packard Development Company, L.P. System and method for reading a memory cell
JP3935150B2 (ja) 2004-01-20 2007-06-20 株式会社東芝 磁気ランダムアクセスメモリ
JP4063239B2 (ja) 2004-04-16 2008-03-19 ソニー株式会社 データ読出し回路及びこの回路を有する半導体装置
US7079415B2 (en) * 2004-06-30 2006-07-18 Stmicroelectronics, Inc. Magnetic random access memory element
US7480172B2 (en) * 2006-01-25 2009-01-20 Magic Technologies, Inc. Programming scheme for segmented word line MRAM array
US7881138B2 (en) * 2006-07-10 2011-02-01 Freescale Semiconductor, Inc. Memory circuit with sense amplifier
CN100586457C (zh) * 2006-12-25 2010-02-03 李明亮 一种治疗四肢关节痛、骨质增生的中药胶囊
US7453740B2 (en) * 2007-01-19 2008-11-18 International Business Machines Corporation Method and apparatus for initializing reference cells of a toggle switched MRAM device
JP2009230798A (ja) * 2008-03-21 2009-10-08 Toshiba Corp 磁気記憶装置
JP2010027202A (ja) * 2009-10-30 2010-02-04 Renesas Technology Corp 磁性体記憶装置
JP5603895B2 (ja) 2012-03-21 2014-10-08 株式会社東芝 半導体記憶装置の駆動方法および半導体記憶装置
US9064590B2 (en) 2012-03-02 2015-06-23 Kabushiki Kaisha Toshiba Driving method of semiconductor storage device and semiconductor storage device
EP3109863B1 (en) * 2012-05-18 2023-07-26 Japan Science and Technology Agency Memory circuit
US9728251B2 (en) 2013-04-24 2017-08-08 Micron Technology, Inc. Resistance variable memory sensing using programming signals
CN103559904A (zh) * 2013-11-05 2014-02-05 苏州贝克微电子有限公司 一种单端数据感测的读出放大器
CN108630266B (zh) * 2017-03-24 2022-10-11 铠侠股份有限公司 存储设备及其控制方法
JP2019057348A (ja) * 2017-09-21 2019-04-11 東芝メモリ株式会社 メモリデバイス
CN110971217B (zh) * 2019-11-12 2023-08-29 杭州电子科技大学 一种基于mtj的非易失可编程开关

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19947118C1 (de) * 1999-09-30 2001-03-15 Infineon Technologies Ag Verfahren und Schaltungsanordnung zum Bewerten des Informationsgehalts einer Speicherzelle
US6185143B1 (en) 2000-02-04 2001-02-06 Hewlett-Packard Company Magnetic random access memory (MRAM) device including differential sense amplifiers
US6317376B1 (en) 2000-06-20 2001-11-13 Hewlett-Packard Company Reference signal generation for magnetic random access memory devices
DE10043440C2 (de) * 2000-09-04 2002-08-29 Infineon Technologies Ag Magnetoresistiver Speicher und Verfahren zu seinem Auslesen
JP2002170937A (ja) * 2000-11-30 2002-06-14 Canon Inc 半導体記憶装置及びその駆動方法
JP2003151262A (ja) * 2001-11-15 2003-05-23 Toshiba Corp 磁気ランダムアクセスメモリ

Also Published As

Publication number Publication date
CN1426066A (zh) 2003-06-25
DE10244969A1 (de) 2003-07-10
KR20030051193A (ko) 2003-06-25
CN1266704C (zh) 2006-07-26
KR100572744B1 (ko) 2006-04-25
US20030107916A1 (en) 2003-06-12
JP2003178573A (ja) 2003-06-27
US6597601B2 (en) 2003-07-22
JP4052829B2 (ja) 2008-02-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW569214B (en) Thin film magnetic memory device conducting data read operation without using a reference cell
TW561482B (en) Thin film magnetic memory device
KR100505769B1 (ko) 데이터 판독 참조용 더미셀을 구비한 박막 자성체 기억 장치
CN1331155C (zh) 基于选择存储单元与基准单元的电阻差读出数据的存储器
US7085174B2 (en) Semiconductor memory device with current driver providing bi-directional current to data write line
TWI312154B (en) Multiple state sense amplifier for memory architecture
TW569215B (en) Thin film magnetic memory device
JP4071531B2 (ja) 薄膜磁性体記憶装置
TWI666637B (zh) Semiconductor memory device
JP2004103104A (ja) 薄膜磁性体記憶装置
KR20030009123A (ko) 자기 터널 접합부를 갖는 박막 자성체 기억 장치
TW200305878A (en) Resistive cross point memory arrays having a charge injection differential sense amplifier
TWI234769B (en) Thin film magnetic memory device
TW201110119A (en) Memory and write control method
US7646635B2 (en) Data reading circuit of toggle magnetic memory
TW200414216A (en) Memory having a precharge circuit and method therefor
TW200403681A (en) Non-volatile memory device conducting comparison operation
JP2002367364A (ja) 磁気メモリ装置
CN107851451A (zh) 阻变型存储器
JP2008084533A (ja) 薄膜磁性体記憶装置
US9761293B2 (en) Semiconductor storage device
JP2004103202A (ja) 薄膜磁性体記憶装置
JP2006294178A (ja) 不揮発性記憶装置
JP2008084525A (ja) 薄膜磁性体記憶装置
JP2010186559A (ja) 薄膜磁性体記憶装置

Legal Events

Date Code Title Description
GD4A Issue of patent certificate for granted invention patent
MM4A Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees