TW540084B - Reaction room having at least one high-frequency feed-through jacket - Google Patents

Reaction room having at least one high-frequency feed-through jacket Download PDF

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TW540084B
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Gerd Strauch
Walter Franken
Johannes Kaeppeler
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    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/455Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
    • HELECTRICITY
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    • H01J37/32431Constructional details of the reactor
    • H01J37/32532Electrodes
    • H01J37/32577Electrical connecting means

Description

540084 五 '發明說明(1) 技術n 本發明係有關一種反應室,特別是用於進行基質塗層 法’例如CVD法,如申請專利範圍第1項前言所述。 申請專利範圍第1項前言所述之反應室可用於以CVD等方 法製備例如11 I —V或Π -VI半導體塗層、超導體或其他任意 基質’如矽或SiC,之塗層。此種反應室之其他用途參閱 專利文獻及/或本申請案申請人(Aixtron AG公司)所提 出之用途。 在多數應用中皆使用感應加熱器或電阻加熱器加熱基質 及/或反應室之其他元件。感應線圈或反應室之其他加熱 元件、感知器或控制裝置的供電需要設置穿入套管,尤其 是高頻或射頻穿入套管。 技術背景 穿入套官’尤其是高頻或射頻穿入套管,通常設置在反 應室外壁的開口中。穿入套管設在開口中時,當然有必要 使反應室保持對外部空間真空或壓力密封。 專利文,中已知有不同的真空或壓力密封高頻或射頻穿 入套官的κ施態樣。此外,相關製造商亦曾推出真空容哭 等的不同穿入套管。 ” °° 、·但η ϊ入套管用於上述反應室時並不能充分滿足下 述要求,或需對下述要求的整體做一妥協: 1·间y員牙入套&而對撞擊不敏感,尤其 時出現的撞擊而失去密封。 个U反應至工作 2·高頻穿入套管需將高電功率傳輸入反應室内部空間時,
90108755.ptd 第5頁 540084 五、發明說明(2) ίϊ::;水冷卻,但不使反應室外壁或反應室其 3·:頻穿入套管需可輕易更換,必要時需可換掉損壞的零 4·南頻穿入套管 發明說日月* g ^造成本低廉。 他部 本發 是而頻 組裝容 時並可 本目 設計參 本發 每一 載板 每 * 密封件 載板 明之目 #入套 易,可 更換穿 的因申 閱申請 明之特 開口皆 至少具 南頻傳 設在其 的第二 料構成的第一 的在於 管,的 抗撞擊 入套管 請專利 專利範 徵如下 密封設置一載板, 一高頻傳輸線開口, 反應室内的部份皆設有一凸緣,第 提供一種至少具一電穿入套管,尤其 反應室,該穿入套管製造成本低廉, 而不受損,尤其是不失去密封,必要 損壞的零件。 範圍第1項而達成。本發明之進一步 圍第2項以後各項。 每一 元件被 密抵靠 板,但 輸線與 高頻傳 旋到其 絕緣塾 不使高 載板間 輸線在 上, 密封件 墊圈, 輸線在 上,而 圈,絕 頻傳輸 發生火 與凸緣的第一密封件間設一由絕緣材 反應室外的部份設有一螺紋,一螺旋 使高頻傳輸線凸緣經第一密封件而緊 緣塾圈經第二密封件而緊密抵靠載 線與載板間有電接觸,或不使高頻傳 花放電。
90108755.ptd 第6頁
540084 五、發明說明(3) 本發明反應室所使用的穿入套管 板與至少一設在載板中的高頻傳^線兩主元件構成,即載 可由一種金屬構成,而不易斷裂二古,。兩元件互相隔離, 緊,其螺絲連接,例如使用鎖緊螺f頻傳輸線被與載板鎖 料,如由絕緣材料構成的元件,施^ Y不得對易斷裂材 擊到高頻傳輸線及/或載板。其可葬較^大的力,即使是撞 間設一絕緣墊圈而達成,其例如由"石★尚頻傳輸線與載板 此種墊圈較不易斷裂。但若絕緣墊央或陶瓷材料構成。 是〇形環,受損時,其可在鬆脫高頻及^ =密封件,尤其 接,尤其是螺絲連接,之後被輕易更換别。、、友與載板間的連 螺旋元件可由絕緣材料構成,但拉a 或高級合金鋼,構成。如螺旋㈣與載;=第例= 時,該第二墊圈同樣最好由石英或陶瓷弟一墊圈 為避免高頻傳輸線與由高級合全麵耸二 ^ ^ ^ ^ Φ田π I鋼4所構成載板間之電 接觸或火化放電,取好在第一墊圈與 間設一由絕緣材料構成的套筒。該套 ,或累旋兀件 u 发备同可被施予力,但辦 密封沒有作用’其屢好由一絕緣塑膠,尤其是鐵弗龍,構 成。 尤其在高電^率輸人反應室時,最好以水冷卻載板。此 處可在載板内设水通道。特別有利的县 線被一水通道包圍。寻別有利的-,使母-严頻傳輸 在本發明一優先配置中,凸緣是一套筒的一部份,該套 筒密封設在高頻傳輸線上,並在另一末端具一螺紋。 為考量導電及導熱性,最好使高頻傳輸線由銅構成。凸
540084 五、發明說明(4) 緣可由(另)一種金屬材料構成,尤其 焊接在高頻傳輪線上。 疋阿級合金鋼,並 „反應室外壁與載板密封連接,有 言又在其外緣的密封件,並在密封件内部的载板具— 壁鎖緊。 乾圍與反應室外 在本舍明一優先實施例中,(每〆) J,尤其是高頻傳輸線,其尤其是感應加:反=:兩傳輸 線。 …、叩線圈之傳輸 實施例說明 圖1顯示本發明反應室 壁卜外壁1設有—開口(無元件=),圖//;^其外 =置於其中。高頻穿入套管在反應室内部:二:頻一牙入 ” =3連接。本發明穿入套管當然亦可由心:: 至中的元件供電。 八他。又在反應 其在:::2:i 一例如由高級合金鋼構成的載板4, 口 ’該高頻傳輸線與感應線圈3連接 】牙 成’内部具-水通道6。每一傳=二頻士傳輸線5由銅構 在反應室内部空間2的末端且一 ^叹有一套筒7,其 具-外螺紋,7凸緣二:2在反應室外的末端 入該溝槽中。載板4上“=槽,一〇形環8被塞 其中。凸緣7與載板4間言/有一有由絕屢绫槽純一 〇,環9被塞人 陶竞,構成的塾圈10。有由、,巴緣材料,最好是石英或 為使密封環8, 9緊密抵靠塾㈣,使-鎖緊螺tlll旋到 國 第8頁 \ W326\2d-\90-〇7\9〇l〇8755.ptd 540084
石英或陶螺/^,,該螺帽藉—由絕緣材肖,最好是 筒7與載板4間=:圈與载板4電隔離。為避免套 由絕緣材料構成,最好是塑膠,如鐵弗龍。 -樣 入:冷卻載板4而在载板内設通道14,其經連接管15而輸 一=板^向=壁1的一側在外緣處設有—溝槽,其内塞λ 如圖所不的螺絲連接使載板4緊壓外壁1。
接今=尚可看出安全螺絲及-輸入及排出水的道 接件。4連接件例如是連接管。 貫施例,但本發明不受其所限。 上述成明為本發明之一 所示說明只具舉例性質。 __元件編號說明 1 外壁 2 内部空間 3 感應線圈 4 載板 5 高頻傳輸線 6 水通道 7 套筒 8 0形環 9 0形環 10 墊圈 11 鎖緊螺帽
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Claims (1)

  1. 540084 _案號 9QinS7RR 六、申請專利範圍
    基質塗層法,例如CVD ΰ ,開口内設置壓力或 套管, 1 . 一種反應室,特別是用於進行 法,其在至少一外壁上設至少一開 真空密封之高頻,尤其是射頻穿入 其特徵為: 每一開口皆密封設置一載板(4), 載板至少具一高頻傳輸線(5 )開〇, 設有一凸緣,第一 每一高頻傳輸線在反應室内的部份比 密封件(8 )設在其上, 乃白
    載板的第二密封件(9 )血凸繞的穿 絕緣材料構成的第一墊圈(10), 一密封件⑻間設一由 -Ϊ二1 = ΐ在反應室!的部份設有-螺]文,-螺旋 ^ 1疋,、上,而使南頻傳輪線凸緣經第一密封件 :緊祖抵罪絕緣墊圈'絕緣墊圈經第二密封件而緊密抵靠 =:但不使高頻傳輸線與載板間有電接觸,《不使高頻 傳輸線與載板間發生火花放電。 ,2.如申請專利範圍第i項之反應室,其中,螺旋元件 、11)由一種金屬構成,且螺旋元件(11)與載板(4)間設一 由絕緣材料構成的第二墊圈(丨2)。
    3 ·如申請專利範圍第丨項之反應室,其中,在第一墊圈 〔1 0 )與第二墊圈(1 2 )或螺旋元件(丨丨)間設一由絕緣材料構 成的套筒(13),以避免高頻傳輸線(5)與載板(4)間之電接 觸或火花放電。 4.如申請專利範圍第丨項之反應室,其中,螺旋元件是 一鎖緊螺帽(1 1)。
    •Ptc 第12頁 -MM^J〇L〇8755 六、申請專利範圍 月 a 卻 5·如申請專利範圍第 。 、之反應室
    其中,載板被水冷 6 ·如申請專利範圍 墊圈(〗〇, 12)由石盆4、 1之反應室, 7. 如申請專利範園^陶:材料構成 一絕緣”,尤其是鐵^之反應室, 8. 如申請專利範園第月’構成。 筒(7)的一部份,該套兮^之反應室,其中,凸緣是一套 另一末端具一螺紋' 同密封設在高頻傳輸線(5)上,並在 9_如申請專利範圍第 (5 )由銅構成。 、之反應室,其中,高頻傳輸線 I 0·如申請專利範圍第 ⑺可由-種金屬材料二項之反應Λ’其中,凸緣或套筒 在高頻傳輸線上。 ,尤其是尚級合金鋼,並焊接 II ·如申請專利範圍第1項之反庫^ 一設在其外緣的密封件中,載板⑷具 反應室外壁(丨)鎖緊。 )並在在封件内部的範圍被與 12.如申請專利範圍第1項之良岸 ^ 9, 16)為〇形環。 負之反I至,其中,密封件(8, 1 3 ·如申晴專利範圍第】項之反應室,其 少設兩高頻傳輪線(5,,5,,)。 〃、 ) 於Π1專利範圍第13項之反應室,其中,•高頻傳 輸、,泉(5 ’ 5π )是感應加熱器線圈之傳輸線。 15·如申請專利範圍第5項之反應室’其中,在載板(4) 其中,第一與第二 〇其中,套筒(13)由 其中’凸緣是一套
    c:\專利案件總檔案\90\90108755\90108755(替換).l.ptc 第 13 頁 540084
    c:\專利案件總檔案\9〇\9〇]〇8755\9〇1〇8755(替換ri.ptc 第14頁
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