TW483031B - Thin film forming device and thin film removing device - Google Patents

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經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明説明彳（) 〔先行技術〕 本發明係有關薄膜形成裝置及薄膜去除裝置，舉例而 言，係與用來在矩形之液晶顯示（後續之文中以L C D簡 示之）基板上形成光膜外，同時尙能將附著在基板周緣部 之多餘光阻膜去除之薄膜形成裝置及薄膜去除裝置有關。 一般，於製造液晶顯示裝置之加工程序中，例如欲在 玻璃基板表面形成銦錫氧化物（I 丁〇：Indium Tin Oxide )之薄膜和電路圖案時，大多數皆與製造半導體之加工程 序同時地利用照相石版技術。這個時候，例如，藉光阻塗 佈處理'將光阻液塗佈在玻璃基板之表面，藉曝光處理對玻 璃基板上之光阻膜照射電路圖案，再藉顯影處理使照射於 光阻膜上之電路圖案顯影。 在此，於進行光阻液塗佈處理之際，普遍採用所謂之 旋轉塗佈法。該方法，乃將基板保持在設於處理容器內之 旋轉夾盤上，並將其高速旋轉，靠離心力使供給與基板上 由溶劑與感光性樹脂做成之光阻液擴散，俾藉以形成厚薄 均勻之光阻膜遍及基板全面上者。 但，於L CD之製造中，因L CD基板係屬大型且爲 長方形狀之故，一般說明，在形成均勻的光阻膜上較半導 體晶圓困難。特別在其四個角落部，由於從中心隔有一段 距離故，該部分之週邊速度相當的高，致有可能在基板周 圍產生氣體亂流之弊。又，若欲將光阻液均均擴散至每中 心部隔著一般距離之基板角落部時有必要盡量防止含在光 阻液中之溶劑的揮發而使擴散速度維持一定。因此之故， (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -4- 483031 A7 __B7_五、發明説明2() 在L C D基板製造裝置裡，並未僅只旋轉 同將該基板大致密閉裝入之反應腔一起予 此意圖防止溶劑之揮發及氣體亂流之產生。 又，每當藉旋轉塗佈方式進行光阻液 ，雖然剛塗佈後之膜厚爲均勻者，但有可 間後其均勻性會消失。例如，於旋轉夾盤 力之作用消失後，往往因受表面張力影響 之光阻液呈***狀加厚之情況。另，供給 阻液亦往往轉進基板下面之周緣部而形成 弊端產生。 當基板之周緣部形成該等不均勻的膜 等之顯影時，周緣部之光阻無法徹底去除 後之處理有不良影響外，尙有在輸送中殘 產生顆粒之慮。 所以，已往，於剛完成以前述光阻塗 液後，即使用所謂端緣去除之裝置，進行 周緣部無用之光阻膜的處理。 基板而已，係連 以高速旋轉，藉 塗佈處理之時候 能又經過一段時 停止轉動而離心 致使基板周緣部 與基板表面之光 不需要的殘膜等 時，於電路圖案 而殘存，除對爾 存光阻被剝離而 佈裝置塗佈光阻 去除殘留於基板 請 先 閱 % 背 之 注 意 事 項 存 填

訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 〔發明所欲解決之課題〕 可是，基於旋轉數及其他之條件，往往使裝在反應腔 內之玻璃基板G相對於旋轉方向側之4個角落部（斜線部 1 0 0 )之光阻膜較其他端緣部著特別隆高的情形，如於 第1 1圖所示。當產生如此之現象時，雖使用前述端緣去 除裝置，將基板周緣部不要的光膜去除，但有前述4個角 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐）_ 5 _ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 483031 A7 ______B7 _ 五、發明説明3() 落部1 0 0之光膜却無法去除而仍然殘留於斯之弊。 因此，有延緩藉端緣去除裝置進行之端緣去除速度’ 俾仔細洗滌前述***部之方法的想法。但於已往習見之裝 置中，若欲按照對基板之光阻液塗佈條件設定端緣去除裝 置之速度時，必須改變程式，如令操作人員按每批次做細 緻的設定爲甚具困難度之事。又，若隨意自由地設定速度 時，將打亂工序之節奏，其影響將及於其他處理裝置之處 理速度，說不定還今降低產能速率。 〔用以解決課題之手段〕 鑑於前述之事情，本發明的目的即在提供一種薄膜成 形裝置及薄膜去除裝置，尤指能藉由設定更簡易之順序， 防止光阻膜殘留於前述4個角落部，且對工序節奏時間亦 無影響之薄膜成形裝置及薄膜去除裝置者。 爲能達成前述目的，依照本發明之第1個主要觀點， 係在於提供一種薄膜去除裝置，其特徵爲該裝置係由：以 一面對基板表面塗佈塗佈液一面旋轉該基板之措施，形成 塗佈液薄膜之薄膜形成部；與對基板表面之周緣部噴吹溶 劑，藉此去除覆蓋基板表面周緣部多餘薄膜之薄膜去除部 ;與將該薄膜去除部沿前述基板之周緣部驅動之薄膜去除 部驅動部；與將前述薄膜去除部之移動範圍分成區間A和 區間B，並儲存區間A相關之區間A速度的資訊和區間B 相關之區間B速度資訊的儲存部；與從前述儲存部讀取前 述區間A速度之資訊和區間B速度之資訊，就和區間A相 紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐）_ 6 _ ' ------IT------0 —Awl.---1 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 4^3031 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明説明4() 關若用區間A速度，和區間B相關者用區間B速度使前述 薄膜去除部驅動部產生動作之控制部；所組成。 在此，前述區間A，乃被設定於靠近當欲旋轉前述基 板之際與旋轉方向相對之4個角落部所屬端緣部之範圍， 而前述區間B，則被設定於其他之端緣部的範圍，加諸區 間A速度以設定成較區間B速度慢著爲理想。 按第1個實施形態時，於前述區間A速度中，前述基 板外之速度係設定在較基板內之速度爲高者。 按第1個實施形態時，前述區間A速度及區間B速度 ，係根據在前述基板之端緣部上藥液***之範圍及厚薄予 以決定者。 按第1個實施形態時，前述區間A速度及區間B速度 ，係根據前述基板之旋餞數來決定者。 又，依據本發明之第2個主要觀點，係在於提供一種 薄膜形成裝置，其特徵爲該裝置係由：以一面對基板表面 塗佈塗佈液一面旋轉該基板表面之措施形成塗佈液薄膜之 薄膜形成部；與對基板表面之周緣部噴吹溶劑，藉以去除 覆蓋於基板表面周緣部多餘之薄膜的薄膜去除部；與沿著 前述基板之周緣部驅動部薄膜去除部的薄膜去除部驅動部 ;與根據在前述薄膜形成部中經予塗佈之基板的旋轉數， 控制前述驅動機構之速度的速度控制部；所構成者。 又，依照本發明之第3個主要觀點，係在於提供一種 薄膜去除裝置，其特徵爲該裝置係由：對基板表面之周緣 噴吹溶劑，藉此去除覆蓋在基板表面周緣部之多餘薄膜 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 丨

、1T 線 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210X297公釐） 3031 A7 B7 五、發明説明5() 的薄膜去除部；與沿前述基板之周緣部驅動該薄膜去除部 之薄膜去除部驅動機構；與將前述薄膜去除部沿前述一邊 之移動範圍分成區間A和區間B後，儲存有關區間A之區 間A速度之資訊和儲存有關區間B之區間B速度之資訊用 儲存部；與可從前述儲存部讀取前述區間A速度之資訊和 區間B速度之資訊，有關區間A者用區間A速度，而有關 區間B者則用區間B速度使前述薄膜去除部驅動部產生而 動作之控制部；所構成者。 又，依照本發明之第4個主要觀點，係在於提供一種 薄膜去除裝置，其特徵爲，該裝置係由：對基板表面之周 緣部噴吹溶劑，藉此去除覆蓋基板表面之周緣部的多餘薄 膜之薄膜去除部；與沿前述基板之周緣部驅動該薄膜去除 部之薄膜去除部驅動機構；與爲測定基板周緣部膜厚而設 在前述薄膜去除部之感測器；與根據前述感測器之測定値 控制前述薄膜去除部之速度的控制部；所構成。 依照本發明之第5個主要觀點，係在提供一種薄膜去 除裝置，其特徵爲：該裝置係具備對基板表面之周緣部噴 吹溶劑，藉此去除覆蓋基板表面周緣部多餘之薄膜的薄膜 去除部；與沿前述基板之周緣部驅動該薄膜去除部的薄膜 去除部驅動部；與按照前述基板表面之周緣部的領域，改 變自前述薄膜去除部對基板表面之周緣部噴吹的實際溶劑 量之可變手段。 在此，前述薄膜去除部，乃具有多數之噴嘴用以對基 板表面之周緣部噴吹溶劑，而前述可變手段係按照前述基 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐）0 -〇 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -# 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 483031 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 _B7__五、發明説明6() 板表面周緣部之領域可改變噴吹前述溶劑用噴嘴之數量的 方式構成，前述薄膜去除部，具有用以對基板表面周緣部 噴吹溶劑之排出用泵，而前述可變手段係按照前述基板表 面之周緣部的領域可改變前述泵之排出壓的方式構成。 依照本發明之第6個主要觀點，係在提供一種薄膜去 除裝置，其特徵爲該裝置具備：對基板表面之周緣部噴吹 溶劑，藉此去除覆蓋基板表面周緣部多餘薄膜之薄膜去除 部；與沿前述基板之周緣部驅動該薄膜去除部之薄膜去除 部驅動部；與設在前述薄膜去除部，用以測定基板周緣部 之膜厚的感測器；與按照藉前述感測器所測定基板周緣部 之膜厚調節從前述薄膜去除部對基板表面之周緣部噴吹的 實際溶劑量之可變手段。 依照本發明之第7個主要觀點，係在提供一種薄膜去 除裝置，其特徵爲該裝置具備：對基板表面之周緣部噴吹 溶劑，藉此去除覆蓋基板表面周緣部多餘薄膜之薄膜去除 部；與沿前述基板之周緣部驅動該薄膜去除部之薄膜去除 部驅動部；與設在前述薄膜去除部，用以測定基板周緣部 之膜厚的感測器；與除在往程中自前述薄膜去除部對基板 表面之周緣部噴吹溶劑外，尙於返程中對著按照前述感測 器所測定之基板周緣部膜厚的規定位置，從前述薄膜去除 部噴吹溶劑之手段。 依照本發明之第8個主要觀點，係在提供一種薄膜去 除裝置，其特徵爲該裝置具備：對基板表面之周緣部噴吹 溶劑，藉此去除覆蓋基板表面周緣部多餘薄膜之薄膜去除 請 先 閲 讀 背 之 注 意 事 項 再 頁 訂 線 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210X297公釐）_ 9 483031 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7五、發明説嗎（) 部；與沿前述基板之周緣部驅動該薄膜去除部之薄膜去除 部驅動部；與設在前述薄膜去除部，共用以對基板周緣部 噴出乾燥用氣體之氣體噴出部；與按照前述基板表面周緣 部之領域，可改變從前述氣體噴出部噴出之氣體量的可變 手段。 依照本發明之第9個主要觀點，係在提供一種薄膜去 除裝置，其特徵爲該裝置具備：對基板表面之周緣部噴吹 溶劑，藉此，去除覆蓋基板表面周緣部多餘薄膜之薄膜去 除部；與沿前述基板之周緣部驅動該薄膜去除部之薄膜去 除部驅動部；與設在前述薄膜去除部，並用以對基板周緣 部噴出乾燥用氣體之氣體噴出部；與設在前述薄膜去除部 ，用以測定基板周緣部膜厚之感測器；與按照經由前述感 測器所測定之基板周緣部膜厚，可改變從前述氣體噴出部 噴出之氣體量的可變手段。 依照本發明之第1 0個主要觀點，係在提供一種薄膜 去除裝置，其特徵爲該裝置具備：對基板表面之周緣部噴 吹溶劑，藉此去除覆蓋基板表面周緣部多餘薄膜之薄膜去 除部；與沿前述基板之周緣部驅動該薄膜去除部之薄膜去 除部驅動部；與設在前述薄膜去除部，並用以對基板周緣 部噴出乾燥用氣體之氣體噴出部；與按照前述基板表面周 緣部之領域，可改變從前述氣體噴出部所噴出之氣體溫度 的可變手段。 依照本發明之第1 1個主要觀點，係在提供一種薄膜 去除裝置，其特徵爲該裝置具備：對基板表面之周緣部噴 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐）_ _ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 線 1Γ 483031 A7 ______B7___ 五、發明説明8() 吹溶劑，藉此去除覆蓋基板表面周緣部多餘薄膜之薄膜去 除部；與沿前述基板之周緣部驅動該薄膜去除部之薄膜去 除部驅動部；與設在前述薄膜去除部用以朝基板周緣部噴 出乾燥用氣體之氣體噴出部；與設在前述薄膜去除部用以 測定基板周緣部之膜厚的感測器；與按照經由前述感測器 所測定之基板周緣部膜厚，可改變自前述氣體噴出部噴出 之氣體溫度的可改手段。 依照本發明之第1 2個主要觀點，係在提供一種薄膜 去除裝置，其特徵爲該裝置具備：對基板表面之周緣部噴 吹溶劑，藉此去除覆蓋基板表面周緣部多餘薄膜之薄膜去 除部；與沿前述基板之周緣部驅動該薄膜去除部之薄膜去 除部驅動部；與設在前述薄膜去除部用以吸引從前述薄膜 去除部朝基板周緣部噴吹之溶劑的吸引部；與按照前述基 板表面周緣部之領域，可改變前述吸引部之吸引量的可變 手段。 依照本發明之第1 3個主要觀點，係在提供一種薄膜 去除裝置，其特徵爲該裝置具備：對基板表面之周緣部噴 吹溶劑，藉此去除覆蓋基板表面周緣部多餘薄膜之薄膜去 除部；與沿前述基板之周緣部驅動該薄膜去除部之薄膜去 除部驅動部；與設在前述薄膜去除部用以吸引從前述薄膜 去除部朝基板周緣部噴吹之溶劑的吸引部；與設在前述薄 膜去除部用以測定基板周緣部之膜厚的感測器；與按照經 由前述感測器所測定之基板周緣部膜厚，可改變前述吸引 部之吸引量的可變手段。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐）_ 11β (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 483031 A7 B7 五、發明説明g() 〔發明之實施形態〕 茲參照所附圖面將本發明之實施的形態詳細說明之如 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 下。 繼而，將本發明有關之熱處理裝置的一實施形態，舉 適用於如圖1中所示L C D基板之塗佈顯像處理系統1中 的情形爲例說明。 該塗佈顯影處理系統1，係對L C D基板塗佈光阻液 後，一度交付與如第2圖所示之曝光系統（EXP)，再 度接受經該曝光系統2曝光處理妥之基板進行顯影處理者 〇 爲進行這樣一連串之處理，該塗佈顯影處理系統1具 備：用以進行L C D基板裝載及卸載之裝載/卸載部（L /UL) 3 ;與用以進行基板洗滌處理之第1製程部4 ; 與用以進行光阻液之塗佈（COATING )及周緣光阻去阻處 理之第2製程部5 ;與用以進行顯影處理之第3製程部6 :和用來與曝光系統2之間進行基板之交接的介面部（I / F ) 7。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 裝載/卸載部3，備置倉匣載放台1 〇及搬運部（C /S) 1 1。於倉匣載放台Γ〇上載放2種類之倉匣C1 、C2。例如，在第1種倉匣C1裝入處理前之LCD基 板，而在第2種倉匣C 2內裝入處理後之L CD基板。 又，搬送部1 1裡，設有第1種副臂桿機構1 3。該 第1種副臂桿機構1 3，具有可保持基板之譬如爲臂桿 14，而藉該壁桿迴旋、進退、昇降之措施，取出裝於第 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐）_ 12 - 483031 A7 __B7_ 五、發明説明1(ζ ) 1種倉匣C 1內之基板，再將其交付與第1種製程部4側 。又，完成全部處理之基板，則藉該第1種副臂桿機構 1 3，例如自第1種製程部4側裝入第2種倉匣C 2者。 前述第1種製程部4，具有從前述第1種副臂桿機構 1 3接受基板之第1種主臂桿機構1 5。該主臂桿機構 1 5，復具備行走於沿Y方向延設之第1種中央搬送路 1 6上之底座1 7，與在該底座1 7上被驅動而做迴旋、 進退、昇降之譬如臂桿18者。 於該第1種主臂桿機構1 5側方，沿中央搬送路1 6 ，分別設置比方說由洗滌刷所構成之2個洗滌組（S C R )1 9，譬如備置熱平板之加熱/加熱組（Η P / Η P ) 2 0，由紫外線洗滌裝置做成之乾式洗滌組（U V ) 2 1 ，以及譬如備置淸淨平板之冷却組（C〇L ) 2 2。 在此，「.加熱/加熱組（Η P / Η P )」之記載，係 表示具有加熱平板之加熱組以譬如呈上下2段堆積設置之 意者（以下相同）。又，圖中，表示加熱組之HP及表示 冷却組之C〇L後所附加之數字（「Η P 1」和 「C〇L 1」等），則表示加熱處理抑或冷却處理之種類 或順序者。 ' 前述第1種主臂桿機構1 5之構成爲，將從前述裝載 /卸載部3接受之基板***各處理組1 9〜2 0，進行必 要之處理後，取出該基板再按順序搬送至別的處理組1 9 〜20或第2種製程部5者。 另，第2種製程部5係具備沿Υ方向延設之第2種中

本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210 X 297公釐）4 Q -Ίο- (請先閲讀背面之注意事項再填^^頁) 、τ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 483031 A7 B7___ 五、發明説明^ ) 央搬送路2 3上行走之第2種主臂桿機構2 4。該第2種 之主臂桿機構2 4，復具有與前述第1種主臂桿機構1 5 同樣構造之底座2 5及臂桿2 6。 又，於該第2種主臂桿機構2 4之側方、配置著除對 基板進行光阻塗佈之外尙去除周緣部多餘不要的光阻用光 阻塗佈。周邊光阻去除組（CT/ER) 28，與用來進 行基板表面防水處理之粘著/冷却組（A D / C 〇 L ) 29，與加熱/加熱組（HP/HP) 30、加熱/冷却 組（HP/COL) 31。 前述第2種主臂桿機構2 4之構成爲’將自前述第1 種製程部4接受之基板***各處理組2 8〜3 1 ，進行必 要之處理後，取出該基板再按順序搬送至別的處理組2 8 〜3 1或第3種製程部6者。 第3種製程部6，具備沿Y方向延設之第3種中央搬 送路3 3上行走之第3種主臂桿機構3 4。而該第3種主 臂桿機構3 4，具有與前述第1、第2之主臂桿機構1 5 、24同樣構造之底座35及臂桿36。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 於該第3種主臂桿機構3 4側方，配設用來對曝光處 理後之L C D基板進行顯影處理之3個顯影處理裝置（ DEV) 38，與進行燙字的燙字機（TITLER) 39，與加熱/加熱組（HP/HP) 40，與加熱/冷 却組（Η P / C 〇 L ) 4 1 。 前述第3種主臂桿機構3 4，除從前述第2種製程部 5接受業已塗佈光阻液之基板並將其移送至曝光系統2側 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210Χ297公釐）一 < -14 483031 A7 B7 五、發明説明^ ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) (介面部7 )之同時，尙從曝光系統2側接受前述業經曝 光之基板。然後，將該業經曝光之基板***各處理組3 8 〜4 1 ，進行必要之處理後’取出該基板再搬送至按順序 之各該別的處理組3 8〜4 1或第2種製程部5側。 又，如該圖中表示，於第1、第2、第3種製程部4 、5、6間設有冷却組（C〇L ) 4 2、4 3。該等冷却 組4 2、4 3係供暫時讓處理中之基板等待用者。 另，前述介面部7，係由具有緩衝倉匣（BC)及第 2種副臂桿機構4 6之搬送、等待部4 7、和具有供前述 第2種副臂桿機構4 6與曝光系統2之間進行基板交付用 之交付台（未予圖示）的交付部4 9所構成。 該介面部7具有除從前述第2種製程部5經由前述第 3種主臂桿機構3 4接受完成光阻塗佈之基板後移送至曝 光系統2 .側外，同時從曝光系統2接受烷成曝光之基板並 交付與第3種製程部6之機能者。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 其次，參照所附第2圖中之流程圖將按前述情形所構 成之塗佈顯影處理系統中的處理順序加以說明之。另，流 程圖內之英文字母符號係表示於第1圖中附記相同符號之 組中進行之意思。 首先，裝入前述載放台1 〇上之第1種倉匣C 1內未 經處理之基板，係從前述裝載/卸載部3經過前述搬送部 (c / S ) 1 1交付與第1種製程部4所屬第1種主臂桿 機構1 5 (順序S 1、S 2 )。繼之，該基板接受乾式洗 滌裝置（U V ) 2 1之紫外線洗滌（順序S 3 )，然後藉 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公羡)~7Γ -15 483031 A7 B7 五、發明説明^ ) " 前述冷却裝置2 2進行第1種冷却（C 0 L 1 )(順序 S 4 )。 次藉前述濕式洗滌裝置1 9進行刷洗（S R C )後， 經過前述加熱裝置2 0之第1種加熱處理（HP 1 )予以 加熱乾燥（順序S 6 )，再藉前述冷却組2 2之第2種冷 却處理予以冷却（順序S 7 )。隨後，該基板即從第1種 主臂桿機構15交付與第2種製程部5之第2種主臂桿機 構2 4。 交付與第2種製程部之基板，於藉粘著處理裝置進行 表面防水處理（A D )之後（順序S8)，施以第3種冷 却處理（C〇L 3 )(順序S 9 )。接著，防水處理過後 之基板，即導入光阻液塗佈•周緣光阻去除組2 8進行光 組塗佈（C T )及去除基板周緣之多餘光阻液（e r )之 處理。' 經如此處理之基板，將被***前述加熱裝置3 0、 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 3 1，施以烘乾處理（Η P 2 )(順序S 1 1 )。藉此揮 發塗佈於基板光阻液中所含的溶劑。接著，將該基板*** 冷却裝置，冷却（C〇L 4 )至大約等於室溫之程度（順 序S 1 2 )。隨後，該基板，自前述第2種主臂桿機構 2 4藉由第3種主臂桿機構3 4搬送至介面部7，並交付 與曝光系統2 (順序S 1 3 )。最後，於該曝光系統2中 接受曝光處理（Ε X Ρ )(順序S 1 4 )。 接受過曝光處理之基板，經過前述介面部7 ，第3種 主臂桿機構3 4被***燙字機3 9進行燙字處理（順序 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210X297公釐） -16- 483031 A7 B7 五、發明説明u ) S 1 5 ) ° 爾後，基板被導入顯影處理裝置3 8，而進行顯影處 理（D E V )(順序S 1 6 )。該顯影處理裝置3 8，比 如說藉在基板上一面供應顯影液一面旋轉基板之舉進行顯 影，一面以淸洗液冲流顯影液後，進行水分去除乾燥。 最後，該基板乃被***與該基板相對向之加熱/加熱 裝置4 0抑或加熱/冷却組4 1，藉第3種加熱處理（ Η P 3 )予以加熱乾燥後（順序S 1 7 )，通過第5種冷 却處理（C〇L 5 )予以冷却之（順序S 1 8 )。 完成前述全部處理之後的基板，乃從前述第3種主臂 桿機構3 4經過前述第2、第1種主臂桿機構2 4、15 交付與設在前述搬送部1 1 ( C / S )之第1種副臂桿機 構1 3 (順序S 1 9 )。然後，藉由該第1種副臂桿機構 1 3裝入裝放於前述裝載/卸載部3之第2種倉匣C 2之 內（順序S 2 0 )。 茲參照所附第3圖以下，就屬於本發明主要部之光阻 塗佈、周邊光阻去除組2 8 (稱爲塗佈、周緣部去除組 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 2 8 )加以說明之如次。 該塗佈、周緣部去除組’2 8，係在機殻2 8 a ，相鄰 地配置光阻液塗佈部5 0，和周緣去除部5 1而成。 光阻液塗佈部5 0，乃在做爲處理容器之轉動處理腔 5 2內，將基板G藉由譬如旋轉夾盤5 3者吸著保持之。 而且，該光阻塗佈該5 0，乃於前述基板G之中心上方比 如說移動光阻噴嘴5 4並供給光阻液後，藉以高速轉動旋 本紙張尺度適用中國國家樣準（CNS ) A4規格（210X297公釐）_ 483031 A7 B7 五、發明説明^ ) 轉夾盤5 3之舉，靠離心力使基板G上之光阻液擴散。藉 此，對基板G之全面塗佈薄且均勻厚度的光阻液。 再者，基板G之旋轉，係將前述旋轉夾盤5 3連同反 應腔5 2 (內反應腔）一起高速旋轉而達成。即是，如一 面旋轉基板G —面塗佈光阻液之手法，雖亦採用於在半導 體晶圓上形成電路圖案之情形，但於L C D之製造中，由 於L C D基板G屬大型且呈長方形之故，與晶圓相較，難 於形成均勻之光阻膜者。特別是，4個角落部因與中心具 有相當的距離，故該部分之周速成爲相當的高速，有可能 在基板G之周圍產生氣亂流之弊。又，若欲使光阻液均勻 地擴散至基板G之角落部時，須盡可能防止含於光阻液中 之溶劑的揮發並有一定不變的擴散速度。因此之故，於 L C D基板製造裝置中，並非僅祇旋轉基板G，而將該基 板G密閉裝入反應腔5 2內。再藉與該反應腔5 2 —齊高 速旋轉之舉，達成防止溶劑之揮發及氣亂流產生的目標者 〇 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 業已塗佈光阻液之基板G，即按前述情形，藉由沿搬 送軌道5 5移動之一對搬送臂桿5 6搬送至周緣部去除部 5 1° 該周緣部去除部5 1 ，具有供載放被搬送之基板G用 譬如載放台5 8者。在該載放台5 8周圍，設置譬如將載 放於載放台5 8上之基板G所屬各4個角落部附近分別做 爲其本部位的形式配置之4個薄膜去除頭6 0。各薄膜去 除頭6 0，基本上具有相同之構成。第4圖係僅將該周緣 1紙張尺度適用中國國家標準（〇阳）八4規格（210乂297公釐）_18_ ' 483031 A7 B7 五、發明説明^ ) 部去除部5 1予以放大表示之透視圖。各薄膜去除頭6 0 ’係安裝於沿基板G之周緣部驅動部薄膜去除頭6 0的移 動機構6 2上。 該移動機構6 2，乃由譬如直線導路、步進馬達及驅 動皮帶所構成，且做成藉隨意控制前述步進馬達之迴轉數 ，可控制前述薄膜去除頭6 0之移動速度者。 在此處，薄膜去除頭6 0具有於第5A圖及第5 B圖 表示之構成。如於第5 B圖中所示，薄膜去除頭6 0具有 上部頭配件6 4 a與下部頭配件6 4 b，並將該等配件朝 上下方向面對者。又，該薄膜去除頭6 0，復具有與該薄 膜去除頭6 0所屬基端部側相通之吸引口 6 5。 而於上部薄膜去除頭配件6 4 a與下部去除頭配件 6 4 b處，固定著當於上部去除頭配件6 4 a與下部去除 頭配件6 4 b間之處理空間S內將基板G之端緣部予以定 位之際，爲向欲去除多餘薄膜部分噴出溶劑所用之針心噴 嘴6 6、6 7。該等各個針心噴嘴6 6、6 7，復做成可 從另設之譬如貯槽6 9等溶劑供給源，藉氮氣等之壓送， 以規定壓力供給溶劑。 該針心噴嘴6 6、6 7具有在細線材中形成與噴出口 同徑之流通部（未圖示之）做成的中空構造。一般上所使 用之譬如針心噴嘴6 6、6 7，其噴出口直約爲2 6 0公 忽之程度。且加在貯槽6 9之氮氣壓力約爲1公斤/平方 公分程度者，藉此有每分鐘40立方公分程度之溶劑對基 板G之表裡面周緣部噴出，使多餘無用之光阻膜7 0被溶 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐）_ 19 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)

經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 483031 A7 ____B7_ ___ 五、發明説％/ ) 解並從基板G上去除之。又，排出之溶劑和溶解之光阻液 ，乃做成可由前述吸引口 6 5吸引而朝外部排出者。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 又，前述針心噴嘴6 6、6 7，係如於第5 A圖表示 ，沿著該薄膜去除頭6 0之行進方向（沿基板G之端緣部 (長邊、短邊）方向）譬如以直線狀隔以規定的距離配置 多數所形成。 繼而，就該塗佈、周緣部去除組2 8之控制系加以說 明。 該塗佈、周緣部去除組2 8之主要控制系，係如於第 3圖所示，具有··用以控制前述光阻液塗佈部5 0之光阻 塗佈控制部7 2，與用以控制前述搬送臂桿5 6之搬送臂 桿控制部7 3，與用以控制前述周緣部去除部5 1之周緣 光阻去除控制部7 4，和用以控制各控制部7 2〜7 4之 中央控制裝置7 5。 茲舉出與本發明之要點有關之部分時，該中央控制裝 置7 5，乃與用來輸入塗佈部5 0及去除部5 1所屬列示 譜語言之輸入出部7 8，和存儲該等列譜語言之塗佈部列 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 示譜語言儲存7 6及去除部列示譜語言儲存部7 7相連接 〇 第6圖係供說明前述薄膜去除頭6 0動作路徑用之模 式圖。按照此實施形態時，將沿著1個薄膜去除頭6 0之 前述基板G之長邊（短邊）的移動畫分爲區間A與區間B (以短邊而言，爲區間，區間B/)之2工序，並分 派規定之速度與各該相關工序。於前述列示譜語言儲存部 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐）_ _ 483031 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明説明^ ) 7 7，設置區間A速度儲存部8 1和區間B速度儲存部 8 2，俾可分別儲存區間A速度、區間B速度。另就短邊 之區間A >、區間B /則可與長邊之區間A、區間B同樣 地處理即可，故以下將適當地省略其說明。 次就該區間A、區間B距離及區間A、區間B速度之 決定方法說明之。 即，如於已往習見例項中所說明，依照旋轉數及其他 之光阻塗佈條件，往往會產生與玻璃基板G之旋轉方向對 向之側所屬4個角落部1 0 0之光阻膜較其他緣部特別隆 起之事態，如於第6圖中所表示。當產生這樣的現象時， 即使採用端緣去除機去除存於基板周緣部之光阻液，亦無 法完全去除存於前述4個角落部1 0 0上之光阻膜而讓其 殘留。例如，於3 7 Ο X 4 7 0公厘尺寸之長方形狀玻璃 基板的情形下，依照周緣部膜厚之1個測定例時，所得的 結果爲在前述4個角落部1 0 0之***部係5 · 2公忽’ 而在其他之端緣部則係3_ · 3〜4 · 3公忽爾。 因此，在本實施形態裡，係將沿前述薄膜去除頭6 0 之基板G所屬端緣部之移動工序分爲區間A與區間B ’並 藉將區間A與區間B之速度在規定的加工時間內予以適當 化之舉，可有效去除前述之***者。 即，區間A設定爲從前述薄膜去除6 0之本位置至少 包含斜線部之長度，而區間B則設定爲其餘之長度者。在 本實施形態裡，區間A乃譬如設定爲8 0公厘。而區間A 速度，則設定於對應於規定之溶劑噴出量足以去除前述隆 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐）_21- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) #1. 、?τ 線 483031 A7 B7__ 五、發明説明^ ) 起之膜厚的低速者，區間B速度則設定在能將該周緣去除 工序以規定之加工時間完成，且又可去除其他部分之膜厚 的速度。在此，設加工時間爲6 0秒時： 依照：在區間A之掃瞄時間+在區間B之掃瞄時間+ 在區間A >之掃瞄時間+在區間B >之掃瞄時間+列示譜 外時間（定位等）=6 0秒 的要領設定之。 又，區間B、區間B /之速度，乃視區間A之速度如 何而自動決定之故，從區間A、區間A >之條件自動地計 算亦可。再者，此實施形態中，於缺設之設定時，區間B 、區間B /之距離及速度，係從區間A、區間A >之距離 及速度自動地計算而求得者。 又，前述***部分1 0 0，正巧產生於切到進入前述 光阻塗佈裝置之反應腔3 2內的外氣之位置處。即，可推 測該部分之光阻膜乾燥速度較其他部分者爲快之原故。又 ，該***之厚度及範圍，猜想很可能與基板G之尺寸及長 邊、短邊比（縱橫比）有關連者。所以，將是否產生前述 ***，根據光阻液塗佈部5 0所屬4個旋轉夾盤5 3之旋 轉數、基板G之尺寸及基板G之長邊、短邊比加以判斷， 並依據該等條件自動地決定區間A距離、區間A速度亦屬 可行也。於本實施形態裡，係根據儲存在前述塗佈部列示 譜儲存部7 6內之塗佈部列示譜語言，自動計算區間A距 離及區間A速度，並將其當做缺設値提示給操作者。 在本實施形態裡，例如區間A速度，乃如於第7圖中 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210 X 297公釐） -LL- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 、?! 線· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 483031 A7 B7 五、發明説嗎^ ) 所示，設定爲在8 0公厘之範圍及5 5公厘/秒，而區間 B速度則設定爲3 9 0公厘之範圍及8 0公厘/秒。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫· 茲就光阻液塗佈、周緣部去除裝置2 8之動作，予以 說明之如次。 首先，操作者於完成系統架構後，通過前述輸入出部 7 8，輸入塗佈部列示譜及去除部列示譜。就塗佈部列示 譜中，至少輸入基板G之尺寸（長邊尺寸及短邊尺寸）， 旋轉夾盤5 3之迴轉數，光阻液之噴出速度等各資訊。 、τ 又，做爲周邊去除用列示譜而言，至少輸入：區間A (區間A /)之距離，區間A速度（區間A /速度）及洗 滌液噴出量等資訊者。第8圖即表示其輸入畫面例。此例 中，輸入値爲區間A距離8 0公厘，速度爲5 0公厘/秒 。又，如前所述，區間A距離和區間A速度之缺設値，乃 係根據前述中央控制部儲存於前述塗佈部列示譜儲存部 7 6內之塗佈部列示譜可予計算者，故操作者祇須加以修 正即可。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 接著，以該畫面按下OK按鈕之舉，區間B速度即自 動地被計算出來。具體地說，係從前述基板G之尺寸，與 區間A距離，區間A /距離’，算出區間B，區間B /距離 者。然後，從加工時間（6 0秒），區間A速度，區間 A —速度，與區間B，區間B /距離，算出區間B速度， 區間B /。以本實施形態之情形下，區間B速度，區間 B /速度係決定爲8 0公厘/秒。 前述設定動作完成之後，隨即開始基板G之處理。 -23- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210X297公釐） 483031 A7 B7 五、發明説嗎/ ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁} 當前述基板G裝載於該塗佈、周緣部去除組28上時 ，首先，於光阻液塗佈部5 0中實施藉旋轉塗佈方法對基 板G之光阻液塗佈處理。藉由該處理而形成光阻膜之基板 G，係用搬送臂桿5 6搬送至周緣部去除部5 1之載放台 5 8上。 當基板G被載於載放台5 8時，該周緣部去除部5 1 即啓動移動機構6 2，而如於第5 B圖中所示，將前述薄 膜去除頭6 0朝基板G側驅動，俾使基板G各邊之端緣部 一端定位於各處理空間之處。 隨後，沿著前述區間A、區間B，以規定的區間A速 度及區間B速度移動前述薄膜去除頭6 0之同時，當從前 述上部去除頭配件6 4 a及下部去除頭配件6 4 b所屬針 心噴嘴6 6、6 7噴出溶劑。藉此，去除附著於前述基板 G端緣部之多餘光阻膜也。 按前述情形去除周緣部多餘光阻膜後之基板G，即從 該周緣部去除部5 1用搬送臂桿2 5 a將其取出，並移送 至加熱裝置3 0等之後，最終即裝入前述倉厘內。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 按此種架構時，所獲之效果如下。 第1 ，於欲去除在基板G之4個角落部1 0 0產生特 別厚之光阻膜***的時候，由於做成將去頭6 0之移動工 序分爲區間A，區間B，並分別攤派一定速度予以驅動， 故其裝置控制得以簡化。 即是，對產生於前述角落部1 0 0之***的去除’可 想到的方法爲放慢邊緣去除機之去除速度用以洗滌。不過 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐）· 24 _ 483031 A7 B7__ 五、發明説咚2() ，於已往之裝置中，若欲因應對基板之光阻液塗佈條件沒 有邊緣去除機之速度時必須變更程式，要求操作著按批次 細緻地設定爲極其困難之事。又，隨意自由地設定速度時 ，將擾亂到加工時間，其影響將波及其他處理裝置之處理 速度，進而演變爲產能速率之減低者亦未可知。 針對此缺失，依照本實施形態之構成時，則如前述， 除將薄膜去除頭6 0之移動工序分成區間A，區間B之同 時，尙根據區間A速度決定區間B速度之故，容易使該去 除處理在加工時間內完成之。 又，由於做成沿移動工序在上游側設定區間A之故， 更能有效地去除光阻液之***。即，按此種構成時，因區 間A與溶劑接觸之時間更長，故可提高該部分之去除效率 〇 更於前述實施形態裡，係做成根據在光阻液塗佈部 5 0中之光阻液塗佈列示譜（旋轉夾盤5 3之旋轉數，基 板G之尺寸等的資訊）來求得前述區間A速度，故藉由操 作者之設定即容易化。 又，本發明並非限定於前述一實施形態者，祇要於不 改變發明要點之範圍內可做種種之變形。 於前述一實施形態中，係做成根據前述光阻液塗佈部 5 0之塗佈列示譜決定區間A速度者，惟並未限定於此。 例如於第9圖中所示之上部去除頭6 4 a，下部去除頭 6 4 b上設置譬如距離感測器9 0 a、9 0 b，再根據連 接該等感測器之膜厚檢測部9 1之檢測値控制薄膜去除頭 ^氏張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐）~" -ZO - (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 線 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 483031 A7 B7 五、發明説) 60之速度者，亦屬可行也。 在此情形下，可先決定區間A之速度，至於區間A距 離，區間B距離及區間B速度，則可根據前述感測器9 0 a、9 0 b之膜厚檢測結果再予決定。例如，將膜厚改變 至規定尺寸以下之處，做爲區間A，而區間B之速度，則 設定爲在加工時間內完成前述去除頭6 〇之掃瞄之速度者 亦可。 又，於前述一實施形態中，係使前述去除頭在區間A 內以區間A速度移動者，惟不讓其移動而改變爲停止者亦 屬可行。在這個時候，如於第1 0圖表示，使前述去除頭 於前述薄膜厚***部1 0 0處停止並經過視光阻膜之塗佈 條件決定之時間後，再讓其移動爲理想者。 更於這個時候，將沿前述去除頭6 0之行進方向的溶 劑噴出範圍與前述光阻膜之***範圍相對應亦可。具體地 說，亦可將前述針心噴嘴6 6、6 7之設置間隔增寬而擴 大溶劑之塗佈範圍，或增加噴嘴6 6、6 7本身之支數。 更且，於前述位置實施形態中，係根據區間A決定區 間B之去除條件，惟並非限定於該情形，亦可根據區間b 決定區間A之去除條件。 又’前述針心噴嘴6 6、6 7之配置，亦非限定於如 前述一實施形態，而可爲開縫狀之噴嘴，或將噴嘴交錯狀 配置亦屬可行。 進而’依前述一實施形態時，前述薄膜去除頭6 0之 區間A速度，不論在基板G外抑或基板G內均屬一定之速 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填. 榮—· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -26- 483031 A7 B7 五、發明説0) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 度者，惟並非僅限於此。譬如，於區間A裡先用高速抵達 基板G，俟到達基板G後再以規定之低速使其移動者亦可 。藉由如此之構成時，於必須在一定之加工時間內完成多 餘光阻膜之去除的時候，可將區間A之基板G外得以縮短 之掃瞄時間，挪到區間A內之掃描時間使其延伸。從而， 能將區間A之掃描速度做相當量的減低，可奏有效去除在 該部分之多餘光阻膜之效果。 又，於實施例實施形態中，係以區間A與區間B使去 除頭6 0之移動速度爲可變者，惟控制如第5 A圖所示洗 滌液供給源6 9所屬泵（省略圖示）之排出壓，藉以區間 A與區間B使自去除頭6 0所屬針心噴嘴6 6、6 7排出 之溶劑之排出壓爲可變者亦無不可。具體地說，以前述之 例而言，譬如控制到使區間A中之排出壓能大於區間B中 之排出壓即可。又，於區間B中，如於第1 2 A圖所示， 採用於去除頭6 0所屬各5支針心噴嘴6 6、6 7中，譬 如由各3支針心噴嘴6 6、6 7噴出溶劑之控制方式亦無 不可者。 去器檢 1 壓無 ， 部測之 9 出亦厚 上感 1 部噴之膜 大離 9 測的制測 用距部檢劑控檢 採爲測厚溶以 1 係如檢膜之加 9 ， 譬厚據出數部 裡置膜根噴支測 態設的惟 7 之檢 形 上 接 ， 6 7 厚 施 b 連成 、6 膜 實 4 之構 6 、藉 之 6 與之 6 6 裡 示頭據度嘴 6 程 表除根速噴嘴往 圖去並 ο 心噴在 9 部，6 針心成 第下 b 頭從針做 於，ο 除對之， ，CO 9 去，劑又 且 4 、制値溶。 更 6 a 控測出也 頭 ο 値檢噴可 除 9 測之和不 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（€奶）八4規格（210父297公釐）_27 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 483031 A7 _B7_ 五、發明説日) 而其結果若如於第1 3圖中所示，顯示在基板G上之規定 位置1 3 1、1 3 2之膜厚較厚時’則在返程裡祇對位置 13 1、 1 3 2之部分從針心噴嘴6 6、6 7塗佈溶劑之 架構者亦無不可。 又，如於第1 4圖所示’於去除頭6 0行進方向之相 反側上下分別設置朝向基板G噴出做爲乾燥用氣體之譬如 爲氮氣之氣刃1 4 1 ，復將從該氣刃1 4 1噴出之氣氣重 和溫度對應於區間而做成可變者亦屬可行。又’不用區間 而改據膜厚檢測部9 1之檢測値，控制氮氣之量和溫度亦 無不可也。 又，依前述之實施形態，係在區間Α和區間Β間令去 除頭6 0之移動速度爲可變者，惟配合前述情形，控制自 於第5 B圖所示之吸引口 6 5吸引之氣體量者亦屬可行。 按前述所舉之例而言，使區間A之由吸引口 6 5吸引之氣 體量大於在區間B由吸引口 6 5之氣體量即可。又，根據 膜厚檢測部9 1之檢測値，同樣地對自吸引口 6 5吸引之 氣體量加以控制亦可。 又，以前述實施之形態而言，係就彩色濾光片塗佈、 顯影處理系統加以說明者，惟並非侷限於此，亦可適用於 L C D基板等，其他基板之塗佈、顯影處理系統。又，爲 形成淸洗液之膜而採用箱形之罩，惟並不侷限於此，祇要 能形成淸洗液之膜者則屬任何機構亦可。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐）00 -2〇 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 、11 483031 A7 __B7 五、發明説嗎^ ) 〔發明之效果〕 如前所述，依照本發明時，得能提供可經由簡易次序 之設定，防止光阻膜之殘餘產生於前述4個角落部，且不 影響及於工作時間之薄膜形成裝置及薄膜去除裝置者。 〔圖面之簡單說明〕 第1圖表示適用於本發明之L C D製造裝置俯視平面 圖。 第2圖同爲表示L C D製造工序之流程圖。 第3圖表示屬本發明一實施形態之主要部的光阻液塗 佈、周緣光阻膜去除系統槪略構成圖。 第4圖同爲上圖惟僅表示周緣部去除部之透視圖。 第5 A圖表示薄膜去除頭之俯視平面圖，第5 B圖表 示薄膜去除頭之側面縱斷剖視圖。 圖者 式例 模一 之之 序度 工速 一一87^ 33 3H3 移移 頭頭 除除 去去 膜膜 薄薄 說說 供供 爲爲 同同 圖圖 6 7 第第 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 所 度 速 及 離 距 之 B 間 區 A 間 區 定 設 示 表 爲 同 圖 〇 8 者 第面 畫 用 縱 面 側 之 頭 除 去 膜 薄 屬 所 態 ，形 施 實 他 其 示 表 係 圖 。 9 圖 第視 剖 斷 他 其 明 說 係 圖 。 ο 圖 1 式 第模 之 序 Η 移 頭 除 去 膜 薄 屬 所 態 形 施 第第

見 習 往 已圖 藉Β 明2 說1 係及 圖 A 將 係 屬 所 。 態 圖形 明施 說實 用 點 缺 之 術 技 本 他 其 之 明 發 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -29- 483031 A7 ______B7_ _ 五、發明説噚/ ) 薄膜去除頭予以分別表示之正視圖。 第1 3圖係說明本發明之再一別的實施形態用圖表。 第1 4圖表示實施例之又再一別的實施形態有關之去 除頭正視圖。 〔圖號說明〕 G 玻璃基板 S 處理空間 1 塗佈顯影處理系統 2 8 光阻塗佈、周邊光阻去除組（塗佈、周緣部 去除組） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製

5 0 光 阻 液塗 佈 部 5 1 周 緣 部去 除 部 5 2 旋 轉 反應 腔 5 2〜[ )4 控制 部 5 3 旋 轉 夾盤 5 4 光 阻 噴嘴 5 5 搬 送 軌道 5 6 搬 送 臂桿 5 8 載 放 台 6 0 薄 膜 去除 頭 6 2 移 動 機構 6 4 a 上 部 去除 頭 配件 6 4 b 下 部 去除 頭 配件 本紙張尺度適用中國國家標準*( CNS ) A4胁（210 X 297公釐）_ 3Q 訂 483031 A7 B7 五、發明説嗎< ) 6 5 吸 引 □ 6 6、6 7 針 心 噴 嘴 6 9 貯 槽 7 〇 光 阻 膜 7 2 光 阻 塗 佈 控 制 部 7 3 搬 送 臂 桿 控 制 部 7 5 中 央 控 制 裝 置 7 6 塗 佈 部 列 示 譜 語 言 儲 存 部 7 7 去 除 部 列 示 譜 語 言 儲 存 部 7 8 輸 入 出 部 8 1 間 A 速 度 儲 存 部 8 2 間 B 速 度 儲 存部 9 0 a、 9 0 b 感 測 器 9 1 膜 厚 檢 測 部 1 0 0 4 個 角 落 部 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -31 -

Claims (1)

1. 483031 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 1 ·-種薄膜形成裝置，其特徵爲該裝置係由：以一 面對基板表面塗佈塗佈液一面旋轉該基板之措施，形成塗 佈液薄膜之薄膜形成部；與 對基板表面之周緣部噴吹溶劑，藉此去除覆蓋基板表 面周緣部多余薄膜之薄膜去除部；與 將該薄膜去除部沿前述基板之周緣部驅動之薄膜去除 部驅動部； 將前述薄膜去除部之移動範圍分成區間A和區間B， 並儲存區間A相關之區間A速度的資訊和區間B相關之區 間B的資訊之儲存部；與 從前述儲存部讀取前述區間A速度之資訊和區間B速 度之資訊，就和區間A相關者用區間A速度，和區間B相 關者用區間B速度使前述薄膜去除部驅動部產生動作之控 制部；所組成。 2 .如申請專利範圍第1項之薄膜形成裝置，其中前 述區間A，乃被設定於靠近當欲旋轉前述基板之際與旋轉 方向相對之4個角落部所屬端緣部之範圍，而 前述區間B，則被設定於其他端緣部之範圍，加諸， 區間A速度係設定成較區間B速度爲慢者。 3 .如申請專利範圍第2項之薄膜形成裝置，其中於 前述區間A速度中，前述基板外之速度，係設定在較 基板內之速度爲高者。 4 .如申請專利範圍第2項之薄膜形成裝置，其中 前述區間A速度及區間B速度，係根據在前述基板之 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -32- 483031 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 端緣部上藥液***之範圍及厚薄予以決定。 5 ·如申請專利範圍第2項之薄膜形成裝置，其中 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 則述區間A速度及區間B速度’係根據前述基板之旋 轉數來決定者。 6 · —種薄膜形成裝置，其特徵爲該裝置係由： 以一面對基板表面塗佈塗佈液一面旋轉該基板表面之 措施形成塗佈液薄膜之薄膜形成部；與 對基板表面之周緣部噴吹溶劑，藉以去除覆蓋於基板 表面周緣部多餘之薄膜的薄膜去除部；與 沿著前述基板之周緣部驅動該薄膜去除部的薄膜去除 部驅動部；與 根據在前述薄膜形成部中經予塗佈之基板的旋轉數， 控制藉前述驅動對基板薄膜去除部之移動速度的速度控制 部；所構成。 7.—種薄膜去除裝置，其特徵爲該裝置係由： 對基板表面之周緣部噴吹溶劑，藉此去除覆蓋在基板 表面周緣部之多餘薄膜的薄膜去除部；與 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 沿前述基板之周緣部驅動該薄膜去除部之薄膜去除部 驅動機構；與 ： 將前述薄膜去除部沿前述一邊之移動範圍分成區間A 和區間B後，儲存有關區間A之區間A速度之資訊和儲存 有關區間B之區間B速度之資訊用儲存部；與 可從前述儲存部讀取前述區間A速度之資訊和區間B 速度之資訊，有關區間A者用區間A速度，而有關區間B -33- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210 X 297公釐） 483031 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 者則用區間B速度，使前述薄膜去除部產生動作之控制部 :所構成。 8. —種薄膜去除裝置，其特徵爲該裝置係由： 對基板表面之周緣部噴吹溶劑，藉此去除覆蓋基板表 面之周緣部的多餘薄膜之薄膜去除部；與· 沿前述基板之周緣部驅動該薄膜去除部之薄膜去除部 驅動機構；與 爲測定基板周緣部膜厚而設在前述薄膜去除部之感測 器；與 根據前述感測器之測定値控制前述薄膜去除部之移動 速度的控制部；所構成。 9. 一種薄膜去除裝置，其特徵爲該裝置具備： 對基板表面之周緣部噴吹溶劑，藉此去除覆蓋基板表 面周緣部多餘之薄膜的薄膜去除部；與 沿前述基板之周緣部驅動該薄膜去除部的薄膜去除部 驅動部；與 按照前述基板表面周緣部之領域，改變自前述薄膜去 除部對基板表面之周緣部噴吹的實際溶劑量之可變手段。 1 〇 .如申請專利範圍第9項之薄膜去除裝置，其中 前述薄膜去除部，具有多數之噴嘴用以對基板表面之 周緣部噴吹溶劑.，而 前述可變手段係按照前述基板表面周緣部之領域可改 _噴吹前述溶劑用噴嘴之數量者。 1 1 ·如申請專利範圍第9項之薄膜去除裝置，其中 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210 X 297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 -34- 483031 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 前述薄膜去除部，具有用以對基板表面周緣部噴吹溶 劑之排出用泵，而 前述可變手段係按照前述基板表面之周緣部的領域可 改變前述泵之排出壓者。 12 . —種薄膜去除裝置，其特徵爲該裝置具備： 對基板表面之周緣部噴吹溶劑，藉此去除覆蓋基板表 面周緣部多餘薄膜之薄膜去除部；與 沿前述基板之周緣部驅動該薄膜去除部之薄膜去除部 驅動部；與 設在前述薄膜去除部，用以測定基板周緣部之膜厚的 感測器；與 按照藉前述感測器所測定基板周緣部之膜厚調節從前 述薄膜去除部對基板表面之周緣部噴吹的實際溶劑量之胃 變手段。 13.—種薄膜去除裝置，其特徵爲該裝置係具備： 對基板表面之周緣部噴吹溶劑，藉此去除覆蓋基板表 面周緣部多餘薄膜之薄膜去除部；與 沿前述基板之周緣部驅動該薄膜去除部之薄膜去卩余咅P 驅動部；與 設在前述薄膜去除部，用以測定基板周緣部之膜厚％ 感測器；與 除在往程中自前述薄膜去除部對基板表面之周_@噴 吹溶劑外，尙於返程中對著按照藉前述感測器所、測定t基 板周緣部膜厚的規定位置，從前述薄膜去除部噴吹溶齊ij之 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 線 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -35- 483031 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 手段。 1 4 · 一種薄膜去除裝置，其特徵爲該裝置係具備： 對基板表面之周緣部噴吹溶劑，藉此去除覆蓋基板表 面周緣部多餘薄膜之薄膜去除部；與 沿前述基板之周緣部驅動該薄膜去除部之薄膜去除部 驅動部；與 設在前述薄膜去除部，並用以對基板周緣部噴出乾燥 用氣體之氣體噴出部；與 按照前述基板表面周緣部之領域，可改變從前述氣體 噴出部噴出之氣體量的可變手段。 15.—種薄膜去除裝置，其特徵爲該裝置係具備： 對基板表面之周緣部噴吹溶劑，藉此去除覆蓋基板表 面周緣部多餘薄膜之薄膜去除部；與 沿前述基板之周緣部驅動該薄膜去除部之薄膜去除部 驅動部；與 設在前述薄膜去除部，並用以對基板周緣部噴出乾燥 用氣體之氣體噴出部；與 設在前述薄膜去除部，用以測定基板周緣部之膜厚的 感測器；與 設在前述薄膜去除部，並用以對基板表面周緣部噴出 乾燥用氣體之氣體噴出部；與 設在前述薄膜去除部，用以測定基板周緣部膜厚之感 惻’器；與 按照經由前述感測器所測定之基板周緣部膜厚’可改 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -36- ---------#1---^---訂------線 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 483031 A8 Β8 C8 D8 六、申請專利範圍 變從前述氣體噴出部噴出之氣體量的可變手段。 16·—種薄膜去除裝置，其特徵爲該裝置係具備： 對基板表面之周緣部噴吹溶劑，藉此去除覆蓋基板表 面周緣部多餘薄膜之薄膜去除部；與 沿前述基板之周緣部驅動該薄膜去除部之薄膜去除部 驅動部；與 設在前述薄膜去除部，並用以對基板周緣部噴出乾燥 用氣體之氣體噴出部；與 按照前述基板表面周緣部之領域，可改變從前述氣體 噴出部所噴出之氣體溫度的可變手段。 17·—種薄膜去除裝置，其特徵爲該裝置係具備： 對基板表面之周緣部噴吹溶劑，藉此去除覆蓋基板表 面周緣部多餘薄膜之薄膜去除部；與 沿前述基扳之周緣部驅動該薄膜去除部之薄膜去除部 驅動部；與 設在前述薄膜去除部用以對基板周緣部噴出乾燥用_ 體之氣體噴出部；與 設在前述薄膜去除部用以測定基板周緣部之膜厚的_ 測器；與 ’ 按照經由前述感測器所測定之基板周緣部膜厚，可己夂 變自前述氣體噴出部所噴出之氣體溫度的可變手段。 18.—種薄膜去除裝置，其特徵爲該裝置係具備： 對基板表面之周緣部噴吹溶劑，藉此去除覆蓋基板表 面周緣部多餘薄膜之薄膜去除部；與 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -37- 483031 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 沿前述基板之周緣部驅動該薄膜去除部之薄膜去除部 驅動部；與 設在前述薄膜去除部，用以吸引從前述薄膜去除部朝 基板周緣部噴吹之溶劑的吸引部；與 按照前述基板表面周緣部之領域，可改變前述吸引部 之吸引量的可變手段。 19·一種薄膜去除裝置，其特徵爲該裝置係具備： 對基板表面之周緣部噴吹溶劑，藉此去除覆蓋基板表 面周緣部多餘薄膜之薄膜去除部；與 沿前述基板之周緣部驅動該薄膜去除部之薄膜去除部 驅動部；與 設在前述薄膜去除部用以吸引從前述薄膜去除部朝基 板周緣部噴吹之溶劑的吸引部；與 設在前述薄膜去除部用以測定基板周緣部之膜厚的感 測器；與 按照經由前述感測器所測定之基板表面周緣部膜厚’ 可改變前述吸引之吸引量的可變手段。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度逋用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐）_邡