TW482871B - Vacuum device - Google Patents

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482871 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明（1 ) 技術領域 本發明係有關眞空裝置，尤有關眞空泵之耗電量少之小 型眞空裝置。 背景技術 眞空裝置用在以半導體、液晶顯示器製造領域爲首之多 數產業領域。特別是，於半導體、液晶顯示器製造領域， 成膜、蝕刻、研製加工（ashing)等大多處理在眞空裝置内 之減壓氣氛下進行。爲了保持眞空容器内部於眞空或減壓 狀態俾進行處理、計測等，眞空裝置使用眞空泵。 眞it泵固然有種種類型，惟，粗分爲自排氣口將自泵之 吸氣口吸入之氣體排出之抽出型泵，以及將自泵之吸氣口 吸入之氣體貯入内部之貯入型泵。貯入型泵固然一般可排 氣迄形成高眞空領域，惟本身在可排氣之氣體量方面有所 限制。因此，適用於平常一面使氣體流動一面在減壓下進 行之處理者係抽出型泵，貯入型泵不適用。 抽出型泵一般有達到之眞空度越高泵排氣速度越大，且 容許反壓越低之傾向。於眞空高度達〗33 xl(r4 (帕斯卡 )(10 Torr(托））以上分子流領域動作之眞空栗有輪機分子 氣泵、螺旋槽泵、油擴散泵等。此等泵固然小型而排氣速 度極大，惟容許反壓在l33Pa(1 τ〇ΓΓ)以下，極小。在到達眞 空度低之反壓爲大氣程度下動作之泵有魯氏泵、螺旋果、 旋轉泵、膜片泵等多種泵。於其間分類之，達到眞空度屬 中等程度之泵有機械式增壓泵、指令執行式泵等增壓泵。 於眞空裝置，對應必要的氣體壓力、氣體清淨度、氣體 ~ 4 - ，、 本紐尺度顧中酬家標準（CNS)A4規格（210 X 297公爱) ' ---- ---^------------------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 482871 A7 B7 五、發明說明（2 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 流量、氣體種類、眞空容器容積等。須使用最適眞空泵。 一般説來，於氣體壓力較高（40 Pa (300 m Torr)程度以上）情 形下，單獨使用反壓爲大氣壓力程度下動作之泵。另一方 面，於氣體壓力低情形下，使用在分子流領域動作之泵與 在反壓爲大氣壓力程度下動作之泵成行排列連接之排氣系 統。於氣體流量多情形下，於此等泵之間***增壓泵，三 台泵成行排列連接，進行排氣。 於大半處理均在減壓下進行之半導體、液晶顯示器之量 產工嚴，藉由將進行處理之數個眞空容器積體化於一裝置 内，使在眞空中進行眞空容器間之基板輸送之叢集式和具 成多數台鄰接排列。亦即，一般鄰接、配置多數眞空容器 。習知裝置於鄰接、配置複數眞空容器情形下，亦就每一 眞空容器設有獨立排氣系統。亦即，配置成，眞空容器與 進行其排氣之眞空泵1對1對應，各個眞空泵僅進行一個眞 空容器之排氣。 在反壓爲大氣壓力程度下動作之眞空泵相較於在低反壓 大動作之同排氣速度之泵，需要轉子等旋轉大之動力，耗 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 電量相當大。且，泵體大，重量亦重。於習知裝置中，需 要與眞空容器台數相同台數之此種大型而又耗電力之眞空 泵。裝置耗電量及裝置專用面積將因泵設置而增大，結果 。難以抑制製品之製造成本。 復由於在反壓爲大氣壓力程度下動作之眞空泵於吸氣側 之達到眞空度低，故會有雜質氣體迂迴進入眞空容器内之 問題。雜質氣體一附著於晶圓表面、眞空容器内面，處理 -5- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 482871 A7 B7 五、發明說明（3) 性能會顯著降低。又由於泵大型，故大多難以將其設在眞 空容器附近，不得不經由長配管連接。因此，配管之氣體 之輸導性小，構成需要流通大流量氣體之處理上處理速度 、處理性能低下的絕大主因。 又，會有於自適用半導體處理等之眞空容器排出之氣體 中含有具析出性之成份之情形發生。具有此種析出性之排 出氣體之固體成份一附著於配管内部，即成爲眞空裝置之 排氣輸導性低下之主因。 本發明主要目的在於提供一種耗電量及裝置專用面積小 ，雜質氣體不會自排氣系統迂迴進入眞空容器内，可流通 大量氣流之眞空裝置。除此目的，本發明所含目的復在於 提供一種即使用於會產生具析出性之排氣之處理，亦不會 發生配管之截面積變窄，排氣之輸導性低下之眞空裝置。 發明概要 爲達成上述目的，本發明實現一種眞空裝置，其係具備 設有氣體導入口及排氣口之眞空容器，供自該氣體導入口 將所需氣體導入該眞空容器内之氣體供給系統，以及用來 保持該眞空容器内部於減壓之排氣系統者，該排氣系統具 有成行多段連接之複數眞空泵，最終段眞空泵之排氣口壓 力大致爲大氣壓力，該最終段眞空泵，或者，依需要，中 段眞空泵進一步配置成，將來自複數前段眞空泵每一台之 氣體排出。 本發明眞空裝置藉由將使複數眞空裝置同時排氣之共用 輔助泵新附加於大氣側一作成保持其前段眞空泵反壓低之 -6- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） —-—·---------------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 482871 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 置’惟不用説， A7 B7 五、發明說明（4 ) 構造。相較於反壓爲大氣壓力之習知構造，眞空泵之運轉 動力減輕，眞空泵之耗電量、泵體大小幅減小。結果，可 減低裝置全體之耗電量，縮小裝置專用面積，低成本生產。 又’可提高前段眞空泵達到之眞空度，完全抑制雜質氣 體迁迴進入眞空容器内。復由於前段眞空栗大幅小型化， 故可設置此泵於眞空容器附近。結果，即使低壓，亦可流 過大流量氣體，大幅提高處理速度、處理性能。 進一步藉由設置有效自排出氣體中所含具有析出性之排 氣除去固體生成物之裝置，可提供能長時間維持排氣輸導 性於較佳狀態之眞空裝置。 圖式之簡單説明 圖1係實施例1之裝置之概略圖。 圖2係比較實施例1之機械式增壓泵 之概略圖。 -魯氏聚之排氣特性 圖3係實施例2之裝置之概略圖。 圖4係實施例3之裝置之概略圖。 圖5係實、施例4之裝置之概略圖。 圖6係實施例5之裝置之概略圖。 圖7係實施例6之裝置之概略圖。 圖8係實施例7之裝置之概略圖。 5以實施本發明之最佳形態 以下固然參照圖式説明本發明之眞命 本發明不限於此等實施例。 (實施例1 ) 一__-7- 本紙張尺ϋ用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公爱— --;---·---------------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 Α7 Β7 i、發明說明（5) 圖1係顯示適用本發明真空裝置於半導體處理裝置之實 施例之圖式。 101係真空容器，102、103分別係設於真空容器1〇1之氣 體導入口、排氣口。104係三台真空容器積體化成一叢集 式之叢集式機具。105係用來藉由改變氣體輸導控制真空 容器101内氣體壓力之壓力調節閥。106係高真空泵，本實 施例使用螺紋槽分子氣泵。1〇7係用來保持高真空泵1〇6之 反壓於低壓力之低真空泵。本實施例使用機械式增壓泵。 進一步，108係用來保持低真空泵1〇7至反壓於低壓力之辅 助泵，本實施例使用魯氏泵。1〇9、丨1〇係閥。本實施例使 用電磁閥。111、112、113係供氣體流通之配管。配管113 内部大致為大氣壓力。自辅助泵108出來的氣體適溫配管 113而導至氣體處理裝置。本真空裝置雖以配管ι12連接三 十一 口叢^機具’九十九個真空容器而構成，卻為了簡 化，於圖1僅$己載一台叢集機具。於本實施例，直空容器 用於直彳iL 200 mm(晕米）之碎基板之蚀刻處理或電阻研磨加 工處理。、 ， 於直徑200 mm基板之高速高性能蝕刻處理中流過約4 〇〇 Pa (300 m Τογγ)之壓力下最大1 atm (大氣|力）。 L (升）/ min(分）（於大氣壓力中換算為i L/min，以下所示相 同）之氣體。氣體種類有Ar、Co、C2H(5、〇2，大部份為αγ。 又，於高速研磨加工處理中流過6.67 Pa (50 m Torr)壓力下 最大1 atm.L/min之氣體。氣體種類為a。有必要建立滿足 此等條件之排氣系統。 -8- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） ---------------------^--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 482871 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7_______ 五、發明說明（6 ) 首先，有關高眞空泵106。由於流過1 atnrL/min之氣體時 ，吸氣口壓力在4.00 Pa (3 m Torr)以下’故需要排氣速度在 1800 L(升)/sec(秒）之螺旋槽式分子氣泵，本實施例之排氣 速度便採用了 2000 L/sec之螺旋槽式分子氣泵。2000 L/sec 級之螺旋槽式分子氣泵之反壓一超過53.33 Pa (0.4 Torr)， 壓縮比即大幅減小，無法作爲泵來動作。有關低眞空泵 107，由於流動1 atnrL/min之氣體時，吸氣口壓力低於53.33 Pa (0.4 Torr)，故即使排氣速度最低，爲1900 L/min，推估 餘裕，需要2000 L/min之排氣速度，本實施例採用排氣速 度爲2000 L/min之機械式增壓泵。其次爲輔助泵1〇8，假定 全邵具空容裔同時進行處理’即流過最大1 atm.L/min X 99=99 atnrL/min之氣體。又，機械式增壓泵之容許反壓爲 6·67 X 103 (50 Ton〇。因此，輔助泵1〇8固然需排氣速度爲 1500 L/min之排氣速度，本實施例亦考慮配管112之氣體輸 導而採用2000 L/min之魯氏泵。 茲試就眞空泵之耗電量及大小，與習知例比較，關於高 眞空泵與習知例相同，耗電量爲一台68〇 W ,九十九台68 kW。 有關低眞空泵，習知者使用在反壓爲大氣壓力程度下動 作之魯氏泵等栗’相對地’本實施例使用在1 / 1 〇氣壓以下 動作之機械式增壓泵。茲試就具有2000 L/min排氣速度之 魯氏泵與機械式增壓泵加以比較。於耗電量上，魯氏菜爲 3·7 kW ’機械式增壓泵〇·4 kW，即使同排氣速度亦無妨， 魯氏聚亦爲其九倍大。其原因在於，泵之反壓越高，爲了 •9- :本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） ""-- --1---.---------------^---------^ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 482871 A7 --- B7 五、發明說明（7 ) 旋轉轉子，需要越大的動力。於泵體積上，魯氏泵爲〇95 X 0·42 X 0.55 m(升)3=0·22 m3,機械式增壓泵爲 〇 48 χ 〇 21 χ 〇· 18 m =0.018 m ，魯氏泵爲其十二倍大。又，於質量上， 魯氏泵爲223 kg (公斤），機械式增壓泵爲22 kg，魯氏泵爲 其十倍大。亦即，低反壓下動作之機械式增壓泵遠較其小 型，耗電量小。復且，機械式增壓泵構造簡單，價格亦低 廉。 圖2顯示機械式增壓泵與魯氏泵之排氣特性。2〇1係排氣 速度2000 L/min之機械式增壓泵之特性，2〇2係2〇〇〇 L/min之 魯氏泵之特性’ 203係2400 L/min之魯氏泵之特性。可知， ,械式增壓泵在較魯氏泵低一位數以上之壓力領域内動作 。作爲分子氣泵之輔助泵，須爲具有在nmPaG T〇rr) 以下壓力下之排氣速度之泵。相對於機械式增壓泵維持排 氣速度於4.00 Pa (30 m Torr)程度之低壓力領域内，魯氏泵 於133.32 Pa (1 Ton*)以下之壓力領域内，排氣速度會極度 劣化。因此’魯氏泵一達到必要的排氣速度，即須進一步 選定大型泵。例如，由圖2可知，在螺旋槽分子氣泵之容 許反壓爲53 J3 Pa (0.4 Torr)下達到2000 L/min排氣速度方面 ，需要2400 L/min之魯氏泵。進行2000 L/min機械式增壓泵 與2400 L/min魯氏泵之比較，魯氏泵之耗電量爲十一倍， 體積爲十四倍，質量爲十二倍大。於低眞空泵九十九台分 之耗電量上，魯氏泵爲440 kW，機械式增壓泵爲4〇 kW。 本實施例固然因設有新輔助泵而加算其耗電量，惟由於 多數眞空容器以一台同時排氣，故整體看來，幾乎未增加 -10- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） —一—.---------------^---------^ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 482871 A7 B7 五、發明說明（8 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 。結果，於全體眞空泵之耗電量合計上，習知例爲 68+440= 508 kW，本實施例爲 68+40+3.7= 111.7 kW，結果 顯然可抑制22%的耗電量。 其次，估計一下眞空容器内無氣體流動時雜質氣體自排 氣系統迂迴進入眞空容器之情形。由圖2可知，於泵達到 之壓力上，魯氏泵爲6.00 Pa (45 m Torr)，機械型增壓泵爲 0.53 Pa (4 m Torr)。螺旋槽式分子氣泵之壓縮比爲3000倍（ 相對於He氣），若僅考慮自排氣系統迂迴進入情形，使用 魯氏泵及機械式增壓泵爲輔助泵時，眞空容器内之雜質氣 體分壓分別爲 2.00X1CT3 Pa (1.5X10·5 Torr)及約 1.73XHT4 Pa (1·3χ10·6 Torr)。因此，可知，相較於習知例，雜質氣體自 排氣系統迂迴進入眞空容器之量可減少一位數程度。 習知裝置大多因低眞空泵爲大型而難以設在眞空容器附 近，於其與高眞空泵之間不得不經由長配管來連接。因此 ，一流過大流量氣體，高眞空泵之反壓即在配管之氣體輸 導影響下上昇。例如，流過1 atm L/min之氣體時，無配管 的話爲53.33 Pa (0.4 Torr)，一通過内徑40 mm，長度爲10m 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 之圓筒形配管。即爲111.99 Pa (0.84 Torr)。於連接此配管狀 態下，爲了使高眞空泵之反壓在53.33 Pa (0.4 Torr)以下，將 空氣流量限制1/4，使其在0.25 atnrL/min以下。結果，成爲在 需要流過大流量氣體之蝕、電漿CVD(化學蒸汽沈積）等製 程上處理速度、處理性能低下之絕大主因。另一方面，本 實施例可因低眞空泵非常小型而設置於眞空容器附近，可 用短配管連接於其與高眞空管之間，氣體流量不受限制。 _-11 -_ 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 482871 A7 B7 五、發明說明（9 ) 使用内徑36 mm，長度約0.55 m之不銹鋼撓性管爲配管 111。如前述，此種配管之氣體輸導量非常大而可忽視。 使用内徑40 mm，長度42 m之不銹鋼直管爲配管112。固然 並未使用特別大口徑之配管，惟最大氣體流量爲99 atnrL/min之氣體流過時，配管112二端間之壓力差頂多爲 386.63 Pa (2.9 Torr)，係可忽視之級數。如此，相較於習知 裝置，無需使用特別大口徑之配管，不會增加配管之設置 成本。 且，輔助泵108與配管113設在半導體製造工廠之無塵區 域以外，其他部份設在無塵區域内。 (實施例2 ) 圖3係顯示本發明眞空裝置適用於半導體處理裝置之第2 實施例之圖式。 301係眞空容器，302、303係分別設於眞空容器301之氣 體導入口，排氣口。304係三台眞空容器積體化爲一台型 之叢集式機具。305係藉由改變氣體輸導性，用以控制眞 空容器301内氣體壓力之壓力調節閥。306係高眞空泵。本 實施例使用螺旋槽式分子氣泵。307係用來保持高眞空泵 306之反壓於低壓力之低眞空泵。本實施例使用機械式增 壓泵。308係輔助泵，本實施例使用魯氏泵。309、310係閥 ，本實施例使用電磁閥。311、312、313係用來流通氣體之 配管。 其與實施例1之不同點在於，以一台眞空泵307使叢集式 機具内之三台眞空容器同時排氣。若如此使低眞空泵共用 -12- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） _ —；—.---------------1---------^ i^w. (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 482871 A7 B7 五、發明說明（ίο) 化，低眞空泵307之台數即變成1/3，較諸實例1情形，可進 一步減少耗電量、裝置設置面積，削減成本。 本實施例固然作成以一台低眞空泵使三台眞空容器同時 排氣之構造，惟不限於三台。 (實施例3 ) 圖4係顯示本發明眞空裝置適用於半導體處理裝置之第3 實施例之圖式。 401a、401b、401c係眞空容器，402、403係分別設於眞空 容器401之氣體導入口、排氣口。404係三台眞空容器積體 化成一台型之叢集式機具。405係藉由改變氣體輸導性， 用以控制眞空容器401内氣體壓力之壓力調節閥。406係高 眞空泵，本實施例使用螺紋槽式分子氣泵。407係低眞空 泵，本實施例中使用機械式增壓泵。408爲輔助泵，本實 施例使用魯氏泵。409、410係閥，本實施例使用電磁閥。 411、412、413、414係用來流通氣體之配管。 眞空容器401a、401b係聚矽之電漿CVD裝置，在53.33 Pa (40m Ton*)以上之較高壓力下進行處理。401c係聚矽之蚀刻 裝置，在4.00 Pa (30m Torr)之低壓下進行處理。其與實施例 1不同點在於，高眞空泵不連接於叢集式機具内之二台眞 空容器401a、401b，直接藉低眞空泵排氣。其原因在於， 在53.33 Pa (400m Torr)以上之較高愿力下進行處理，無需低 眞空領域之排氣能力。如此，在較高壓力下進行處理時， 由於未安裝高眞空泵，故相較於實施例1情形，可進一步 減少耗電量、裝置設置面積，削減成本。 -13 _ 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -----.---------------^--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 482871

經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明（11) (實施例4 ) 圖5係顯示本發明眞空裝置適用於半導體處理裝置之第* 實施例之圖式。 於圖5中僅顯示實施例1之變更點。5〇1係輔助泵，本實 施例與實施例i 一樣，並列連接二台2〇〇〇L/mm魯氏泵。5〇2 、503、504係閥，於本實施例中，5〇2係電動閥，5〇3、5〇4 係手動閥。505、506係用來流通氣體之配管。配管5〇6内部 大致爲大氣壓力。 由於實施例1-3以一台輔助泵進行多數眞空容器之排氣 ，故有輔助泵一故障，多數眞空容器即同時無法使用之問 題。本實施例通常保持閥503、504恆開啓，以二台輔助泵 同時進行排氣。在一輔助泵501故障情形下，關閉其前後 之閥503、504，進行泵更換作業或修理。此其間，僅以另 一輔助泵排氣。亦即，即使一輔助泵故障，亦可全無障礙 地使用裝置。 (實施例5 ) 圖6係顯、示本發明眞空裝置適用於半導體處理裝置之第'5 實施例之圖式。其係於實施例2之裝置附加於眞空容器内 邵排氣使其自大氣壓力減壓之際所用之粗抽吸排氣系統。 茲僅就實施例2之變更點加以説明。 601係粗抽吸泵，本實施例使用36〇 L/min之媧旋泵。此 泵之耗電量小至〇_45 kW，非常小型。達到眞空度爲1 33 Pa (10m Ton*)。602、603係閥，本實施例使用電動閥。6〇4係配 管’本實施例使用直徑9.525 mm (3/8英吋）之不銹鋼管。 -14- 巧張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） " " —；—.---------------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 4^2871 A7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明（12) 605係配管，内部大致爲大氣壓力。 進行眞生谷器内部之維修之際，須解放眞空容器内部之 大氣。再者，在眞空容器内部抽成眞空之際，大量大氣一 /1至排氣系統，即有低眞空泵之反壓上昇，影響到其他眞 空容器的可能性。本實施例藉由新附加粗抽吸排氣系統來 解決此問題。 在眞更容器解放大氣狀態下，該高眞空泵停止，該閥 602及閥603成關閉狀態。在眞空容器内部抽成眞空之際， 於閥603關閉狀態下開啓閥602，通過配管604，藉粗抽吸泵 601排出大氣。此後，若眞空容器内部之壓力降至2666〜 7999 Pa (數1〇 Τ〇ΓΓ)程度，即關閉閥6〇2，開啓閥6〇3。此後 ’起動高眞空泵，恢復平常運轉狀態。 又，於本實施例中，若不在叢集式機具内以二台以上進 行處理，即關閉不進行處理之眞空容器之閥6〇3，使用粗 抽吸泵601作爲高眞空泵之輔助泵，藉此，可較上述實施 例2所示裝置更完全防止氣體迂迴進入，提高清淨度。 且，本實施例固然附加粗抽吸排氣系統於實施例2之裝 置，惟附加於實施例1-4之裝置，亦獲得相同效果。又， 本實施例固然連接配管604於高眞空泵之排氣側，惟不妨 直接連接於眞空容器，it接於低眞空聚之排氣側亦無妨。 (實施例6 ) 圖7係顯示本發明眞空裝置適用於半導體處理裝置之第6 實施例之圖式。其係將眞空容器内部排氣使其自大氣壓力 減壓之際所用粗抽吸用排氣路徑附加於實施例2之裝置 --;---·---------------訂-------丨 |線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 482871 A7 B7_ 五、發明說明（13) 。茲僅就實施例2之變更點加以說明。 701、702係閥，本實施例使用電動閥。703係配管，本實 施例使用直徑3· 175 mm( I/8英叶）之不銹鋼管。 於真空容器成大氣解放狀態下，該高真空泵停止，該閥 701及閥702成關閉狀態。於真空容器内部抽成真空之際， 在閥702關閉狀態下，開啟閥701，通過配管703，藉低真空 泵排出大氣。此時，由於配管703内徑小，氣體輸導量 小，故流入低真空泵之氣體流量受到抑制，低真空泵之反 壓之上昇受到抑制。此後，若真空容器内部之壓力減至 2666〜7999 Pa(數10 Torr)程度，即關閉閥701，開啟閥702。 此後，起動高真空泵，恢復平常運轉狀態。 且，本實施例固然附加粗抽吸用排氣路徑於實施例2之 裝置，惟附加於實施例1〜4之裝置亦獲得相同效果。 (實施例7 ) 圖8係顯示本發明真空裝置適用於半導體處理裝置之第7 實施例之圖式。此實施例7於實施例2之裝置具備除去氣 體，部份之裝置，以及將其與真空容器間之配管加熱至勺0 °C以上之裝置。 於圖8中，801、802係附有加熱器之閥，803、804係附有 加熱器之配管。此等配管803、804作成為橡膠加熱器809所 覆蓋，使用真空裝置時，經常保持溫度於90°C以上之構 造。且，805、806係一般配管。807係水冷式存水彎 (trop)。又，808係對應於上述實施例2所示圖3之輔助泵308 之輔助栗。 -16- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -----；--------------^---------^ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 五、發明說明（14) 電漿CVD裝置、電漿蝕刻裝置於眞空容器内處理後所產 生之排出氣體中含有極多具有析出性之副產物等。此等物 質固然於眞空容器内以氣相成份含在排出氣體中，惟有經 過配管之後即冷凝。變成固相成份，附著於配管内部之情 形發生。此種附著物係造成眞空泵之排氣性能低下、裝置 本身故障之原因。由於此種附著物使配管之截面積變小， 故亦帶有排氣之輸導性會變小之問題，最好採取不會附著 之對策。 本實施例具水冷式存水彎，以其作爲除去造成此種附著 之氣體狀成份之裝置。進一步藉由將配管至此水冷式存水 彎807爲止之部份加熱至不會發生附著物之程度之溫度， 亦可預防附著於配管至水冷式存水彎807之部份。 本實施例固然係使用水冷式存水彎8〇7作爲除去排出氣 體中具析出性之成份之裝置之構造，惟，無庸贅言，其不 限於此。又，加熱裝置最好係可至少將排氣路徑中與排出 氣體接觸之部份加熱至90°C以上之裝置，且，同樣地，不 限於使用陶瓷加熱器，不限於實施例之橡膠加熱器。▼ 又，本實施例固然就附加於實施例2之裝置者加以説明 ，惟附加於前述其他實施例之裝置亦獲得相同效果。 如以上説明，根據本發明，裝置耗電量及裝置專用面積 小，不會發生雜質氣體自排氣系統迂迴進入眞空容器内， 可實現能流通大流量氣體之眞空裝置。 進一步藉由設置有效除去排出氣體中所含具有析出性之 副產物足裝置，亦可提供能長時間維持排氣輸導性於較佳 _____ _ -17- 本紙張尺度適用中國國豕標準（CNS)A4規格（210 X 297公髮） ---.---.---------------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 482871 A7 B7 五、發明說明（15) 狀態之眞空裝置 —.—----------------訂---------線· (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -18- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐）

Claims (1)

1. 482871 A8 B8 C8 D8 第89103815號專利申請案 中文申請專利範圍修正本（90年12月）

   1 . 一種真空裝置，其係具備設有氣體導入口及排氣口之 複數真空容器，供自該氣體導入口將所需氣體導入該 真空容器内之氣體供給系統，以及用來保持該真空容 器内部減壓之排氣系統者，特徵在於， 該排氣系統具有成行多段連接之真空泵， 最終段真空泵之排氣口壓力大致為大氣壓力， 該最終段真空泵配置成將來自複數前段真空泵每一 台之氣體排出。 2. —種真空裝置，其係具備設有氣體導入口及排氣口之 複數真空容器，供自該氣體導入口將所需氣體導入該 真空容器内之氣體供給系統，以及用來保持該真空容 器内部減壓之排氣系統者，特徵在於， 該排氣系統具有分別連接於該複數真空容器之排氣 口之複數前段真空泵，連接於該前段真空泵下游之中 段真空泵，以及連接於該中段真空泵下游之終段真空 泵， 該終段真空泵之排氣口壓力大致為大氣壓力， 該終段真空泵配置成將來自複數該中段真空泵每一 台之氣體排出。 3 ·如申請專利範圍第2項之真空裝置，其中前述中段真空 泵中至少一台配置成將來自複數前述首段真空泵每一 台之氣體排出。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐)

   4 ·如申請專利範圍第1至3項中任一項之真空裝置，其中 為達到使前述真空容器内部自大致大氣壓力排氣至減 塾之目的，粗抽吸用真空泵經由閥連接於該真空容器 之排氣口，或與該真空容器之排氣口連接之真空泵下 游側， 茲粗抽吸用真空泵之排氣口壓力大致為大氣壓力。 裝 5 ·如申請專利範圍第1至3項中任一項之真空裝置，其中 並列设置複數個前述最終段真空栗。 6 ·如申請專利範圍第1至3項中任一項之真空裝置，其中 於前述最終段真空泵與其前段之真空泵之間設有將氣 體一部份除去之裝置^ 7 ·如申請專利範圍第6項之真空裝置，其中設有將前述真 芝容器與將前述氣體一部份除去之裝置間之氣體排出 路徑之氣體接觸部加熱達至少9〇 °C以上之裝置。

   8 ·如申凊專利範圍第1至3項中任一項之真空裝置，其中 前述最終段真空泵之吸氣口達到之壓力在6 67 X 1〇3 pa (50 Torr)以下。 -2 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公董)