JP3156409B2 - 真空排気システム - Google Patents

真空排気システム

Info

Publication number
JP3156409B2
JP3156409B2 JP34763492A JP34763492A JP3156409B2 JP 3156409 B2 JP3156409 B2 JP 3156409B2 JP 34763492 A JP34763492 A JP 34763492A JP 34763492 A JP34763492 A JP 34763492A JP 3156409 B2 JP3156409 B2 JP 3156409B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pump
ultra
high vacuum
vacuum
evacuation system
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP34763492A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH06193562A (ja
Inventor
久義 佐野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shimadzu Corp
Original Assignee
Shimadzu Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shimadzu Corp filed Critical Shimadzu Corp
Priority to JP34763492A priority Critical patent/JP3156409B2/ja
Publication of JPH06193562A publication Critical patent/JPH06193562A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3156409B2 publication Critical patent/JP3156409B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、超高真空を作るための
真空排気システムに関する。
【0002】
【従来の技術】表面分析装置やエピタキシャル成長装置
などの非常にクリーンな雰囲気が要求される分野におい
ては10-8Pa以下の超高真空が利用される。この超高
真空を作るためにTi(チタン)などを利用したサブリ
メーションポンプを用いることがある。Tiサブリメー
ションポンプはよく知られているように、Ti原子を蒸
着させたとき、この蒸着面に吸着作用があることを利用
するものでTi蒸着面に活性気体(残留ガス)を吸着さ
せ、吸着作用がなくなったときはこの蒸着面上に次の新
しい蒸着面を作りここに再び活性気体を吸着させるとい
うことを繰り返すことによって、真空域中に存在する残
留ガス分子を吸着させながら徐々に超高真空を作ってい
くものである。
【0003】図2はTiサブリメーションポンプを使用
した従来の真空排気システムを示す。図において超高真
空が作られる真空容器1には粗引き排気系Aと超高真空
排気系Cとが接続されている。粗引き排気系Aは主ポン
プとして油回転ポンプ13にて構成され、バルブ10を
介して真空容器1に取り付けられている。また、超高真
空排気系Cは主ポンプとしてTiサブリメーションポン
プ31、ターボ分子ポンプ32にて構成されており補助
ポンプとして油回転ポンプ33などが付設される。そし
て粗引き系Aと同様にバルブ30を介して真空容器1に
接続されている。
【0004】このような排気系を有する真空排気システ
ムにおいて真空容器1は、まずバルブ10を開くことに
より油回転ポンプ13によって大気圧から10Pa程度
まで排気される。続いてバルブ10を閉じてバルブ30
を開く。このときサブリメーションポンプ31は作動さ
せずにおく。この状態でターボ分子ポンプ32および油
回転ポンプ33により10-4Pa程度まで排気する。こ
のターボ分子ポンプは回転翼の高速回転により分子流を
作ってガス分子をポンプ排気口から排出し、10-4Pa
以下の高真空を作るものであり、クライオポンプなどの
ようなガス分子を排気配管中に設けられた低温の固体表
面に凝縮させておく方法によるものではないことから凝
縮したガス分子の再放出作業(クライオポンプ再生)時
期を気にせずに高真空を作ることができ、再放出作業の
ための比較的長いメンテナンス時間を必要とすることも
ないので超高真空を長時間維持し続けるための主ポンプ
として適している。そして、10-4Pa程度の高真空に
なった時点でサブリメーションポンプ31を間欠的に作
動させその吸着作用により徐々に10-8Paまで排気す
る。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】前記従来の真空排気シ
ステムでは、粗引き排気を終えて10Pa程度の中真空
領域に至った後、中真空領域から10-8Pa以下の超高
真空領域までを超高真空排気系で一気に排気させること
になる。この場合超高真空排気系を構成する配管の管壁
には排気中、特に真空度の低い排気開始直後に多量のガ
ス分子が吸着する。そして、前述した工程により10-4
Paまでターボ分子ポンプ22のみで排気し、その後サ
ブリメーションポンプ31を作動して超高真空排気を開
始した際に、これら吸着分子はわずかずつ徐々に再放出
される。したがって、サブリメーションポンプ31はこ
の徐々に再放出される分子をも吸着することになるので
サブリメーションポンプ31にかかる負担が大きくなら
ざるを得なかった。そのため、サブリメーションポンプ
を作動させて新しい蒸着面を形成しても短時間にその蒸
着面の吸着能力が低下し、次の新しい蒸着面を形成しな
ければならないので、超高真空を維持するためにはサブ
リメーションポンプ31の作動間隔(蒸発間隔)を短く
しなければならず、そのためにサブリメーションポンプ
の寿命も短くなった。このような問題を解決するため
に、図2に示すようにサブリメーションポンプ31とバ
ルブ30との間に液体窒素などによるコールドトラップ
を設けて残留ガス成分のうちの水分などの凝縮性ガスを
吸着することでサブリメーションポンプへの負担を軽減
することが考えられる。しかし、超高真空排気系におい
て液体窒素コールドトラップを設けたシステムでは、コ
ールドトラップ中の液体窒素が蒸発することにより液体
窒素の液面が変動して吸着ガスが再放出することがあ
る。この再放出ガスをサブリメーションポンプで完全に
吸着できればよいが、液体窒素の蒸発が進むと場合によ
っては一時期に多量の再放出ガス分子が発生し、サブリ
メーションポンプでは吸着しきれず、真空容器に逆流し
て思わぬトラブルを発生するおそれがあった。したがっ
て、このような液体窒素の変動を起こさないように作業
員が常に監視したり、あるいは別途に液体窒素の自動供
給装置を設けなければならないという別の問題を生じて
いた。
【0006】本発明は以上のような超高真空排気系に吸
着するガス分子による諸問題を一挙に解決し、超高真空
を安定して長時間維持できるような真空排気システムを
提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記問題を解決するため
本発明は、サブリメーションポンプとターボ分子ポンプ
とを主ポンプとして使用する超高真空排気系と、油回転
ポンプを主ポンプとして使用する粗引き排気系とからな
る真空排気システムに、前記粗引き排気系より到達真空
度の高い排気性能を有する中間排気系を併設し、粗引き
排気系に続いてこの中間排気系による排気を行った後に
超高真空排気系に切り替える手段を設けたことを特徴と
する。以下、この構成のスパッタ装置がどのように作用
するかを説明する。
【0008】
【作用】本発明の超高真空排気システムでは粗引き排気
系で10Pa程度までの排気を行った後、超高真空排気
系で排気する前にこれとは別の配管系統からなる中間排
気系にて排気する。そして10-4Pa程度の高真空に至
るまで中間排気系にて排気した後に超高真空排気系で排
気する。したがって、超高真空排気系は吸着ガス分子が
多い中真空から高真空までの雰囲気にはさらされず、吸
着ガス分子が比較的少ない高真空の雰囲気にのみさらさ
れることになる。したがって、超高真空排気系の配管へ
の吸着ガス量は非常に少なくなるので、その後のサブリ
メーションポンプへの負担が軽減される。
【0009】
【実施例】以下、本発明の実施例を図を用いて説明す
る。図1は本発明による真空排気システムの一例を示す
構成図である。図において超高真空が作られる真空容器
1には粗引き排気系Aと中間排気系Bと超高真空排気系
Cとが接続されている。粗引き排気系Aには主ポンプと
して油回転ポンプ13が取り付けられ、バルブ10を介
して真空容器1に接続される。中間排気系には、主ポン
プとして液体窒素コールドトラップ21、ターボ分子ポ
ンプ22が取り付けられ、補助ポンプとして油回転ポン
プ23が取り付けられ、バルブ20を介して真空容器1
に接続される。また、超高真空排気系Cは主ポンプとし
てTiサブリメーションポンプ31、ターボ分子ポンプ
32が取り付けられ、補助ポンプとして油回転ポンプ3
3が取り付けられ、バルブ30を介して真空容器1に接
続される。
【0010】このような排気系を有する真空排気システ
ムでは真空容器1は、まずバルブ10を開くことで油回
転ポンプ13によって大気圧から10Pa程度まで排気
される。続いてバルブ10を閉じてバルブ20を開き、
液体窒素コールドトラップ21の吸着作用およびターボ
分子ポンプ22の排気作用によって10-6Pa程度まで
排気される。続いて、バルブ20を閉じてバルブ30を
開き、ターボ分子ポンプ32による排気と同時にサブリ
メーションポンプ31も作動させる。このような工程で
排気することにより超高真空排気系は10-6Pa以下の
高真空の雰囲気にさらされるのみとなり、サブリメーシ
ョンポンプ31は排気配管からの吸着ガス分子の再放出
の影響をほとんど受けず、真空容器1内の残留ガス分子
の吸着排気にのみ利用できることから10-8Paの超高
真空を迅速に達成できる。しかも、サブリメーションポ
ンプ31への負担が軽減することからTiの蒸発間隔も
長くすることができ、サブリメーションポンプ31のT
iの消耗が減って交換までの寿命を延ばすことができ
る。また、超高真空排気系に液体窒素コールドトラップ
などを必要としないので超高真空排気時に液体窒素の蒸
発量を監視する必要もなく、作業者の負担が軽減され
る。なお、本実施例では中間排気系の主ポンプとしてタ
ーボ分子ポンプを用いたがこれに限るものではなくたと
えば油拡散ポンプを用いてもよい。要するに中間排気系
のポンプはこの粗引き排気系の後を受けて中真空から高
真空までを排気できればよい。
【0011】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、粗
引き排気系と超高真空排気系の他に、別の配管系統から
構成される中間排気系を設けることにより、超高真空排
気系の配管への吸着ガス量を激減することができ、サブ
リメーションポンプへの負担が低減できるので超高真空
に短時間で到達でき、しかもTiなどのサブリメーショ
ンポンプ蒸発源の消耗が少なくなり、交換までの寿命を
延ばすことができる。また、超高真空排気系に液体窒素
コールドトラップを設けないことで超高真空排気時にお
いても液体窒素の蒸発量を監視する必要もなく、作業者
の負担が軽減される。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例である超高真空排気システム
の構成図。
【図2】従来の超高真空排気システムの構成図。
【符号の説明】
1:真空容器 10、20、30:バルブ 21:液体窒素コールドトラップ 22、32:ターボ分子ポンプ 31:Tiサブリメーションポンプ 13、23、33:油回転ポンプ

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 サブリメーションポンプとターボ分子ポ
    ンプとを主ポンプとして使用する超高真空排気系と、大
    気圧より排気可能なポンプを主ポンプとして使用する粗
    引き排気系とからなる真空排気システムに、前記粗引き
    排気系より到達真空度の高い排気性能を有する中間排気
    系を併設し、粗引き排気系に続いてこの中間排気系によ
    る排気を行った後に超高真空排気系に切り替える手段を
    設けたことを特徴とする真空排気システム。
JP34763492A 1992-12-28 1992-12-28 真空排気システム Expired - Fee Related JP3156409B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP34763492A JP3156409B2 (ja) 1992-12-28 1992-12-28 真空排気システム

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP34763492A JP3156409B2 (ja) 1992-12-28 1992-12-28 真空排気システム

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH06193562A JPH06193562A (ja) 1994-07-12
JP3156409B2 true JP3156409B2 (ja) 2001-04-16

Family

ID=18391550

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP34763492A Expired - Fee Related JP3156409B2 (ja) 1992-12-28 1992-12-28 真空排気システム

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3156409B2 (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4882239A (en) * 1988-03-08 1989-11-21 Minnesota Mining And Manufacturing Company Light-rechargeable battery
TW482871B (en) 1999-03-05 2002-04-11 Tadahiro Ohmi Vacuum device

Also Published As

Publication number Publication date
JPH06193562A (ja) 1994-07-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7278831B2 (en) Apparatus and method for control, pumping and abatement for vacuum process chambers
US5357760A (en) Hybrid cryogenic vacuum pump apparatus and method of operation
JP3156409B2 (ja) 真空排気システム
JP2020131068A (ja) 洗浄液回収装置
JPH06346848A (ja) クライオポンプの再生方法及び真空排気系
JP4301532B2 (ja) クライオポンプの再生方法
JP2946733B2 (ja) 真空排気装置
JP2002081857A (ja) 希ガス回収方法及び希ガス回収装置
JP2001332204A (ja) 電子顕微鏡の排気装置
JPH048878A (ja) 超高真空排気システム
JPH05311403A (ja) 成膜装置のガス再生装置
GB2584428A (en) A turbomolecular pump, a vacuum pumping system and a method of evacuating a vacuum chamber
JP3419414B2 (ja) スパッタリング装置の排気機構
JPH02207185A (ja) 真空装置
JP2656199B2 (ja) 真空チャンバの開放方法及びpvd装置
JPH04174268A (ja) 真空凍結乾燥装置
JPH04187873A (ja) 真空排気装置
JPS6310310B2 (ja)
JPH04219391A (ja) 分子線結晶成長装置
JPH0547695A (ja) 微細加工装置における排気方式
JPH0249977A (ja) 真空装置
JP3172767B2 (ja) 選択的ガス排気方法
JPH10103234A (ja) 蒸発型ゲッタポンプ
JPH0699051A (ja) 真空装置
JPS5811074B2 (ja) 真空装置における排気系

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees