TW463429B - Discharge-pumped excimer laser device - Google Patents

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Shinichi Sekiguchi
Hiroyuki Shinozaki
Toshimitsu Barada
Toshiharu Nakazawa
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Description

4 63 42 9 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明(1 ) [發明背景] 發明領域 本發明係有關於放電激勵受激準分子雷射裝置,其所 具有之交叉流動式風扇的可轉動軸是由磁性軸承支撐,而 特別是有關於放電激勵受激準分子雷射裝置,該裝置具有 改良式設計之磁性軸承及改良式保護軸承。 相關技藝之說明 第1圖係顯示傳統的受激準分子雷射裝置之相關圖 示β如第1圖中所顯示,傳統的受激準分子雷射裝置具有 充滿雷射氣體之盒子101,放在盒子101内用於預先將雷 射氣體萍子化之前置離子化電極(未顯示),和放置在盒子 101内珣於產生可使雷射光束振動之放電的主放電極對 102。在盒子101内亦放置有用於在主放電極對102間產生 高速氣流.之交又流動_式風扇_{cross-fl+ow fan)103+» 交又流動式風扇103具有可轉動軸104,該可勳轉軸 係從風扇103之相對立末端突出且是藉由放置在盒子 對側之複數個徑向磁性轴承(radial ma.gnetic bearings) 106、107和放置在徑向磁性軸承Γ06附近的軸向磁性軸承 (axial magnetic bearing)108以非接觸方式可轉動支撐。可 藉由連接至靠近放置射狀磁性軸承1 07之末端的感應馬達 109而轉動可轉動軸1〇4。盒子101在其相對立之盒面上具 有一對的窗口 105用於使雷射光束放射出盒子1〇1。 當徑向磁性軸承106、.107在未運.轉.時,可轉動.軸1〇4 的疋分別由放置在靠近馬達109之軸端和在靠近徑向磁性 mm (cns)a4 χ ------------- 1 311471 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) .衮-------Ί 訂--------- , 463429 A7 五、發明說明(2 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 軸承106之軸端的保護軸承110、ill支撐。為了預防雷射 氣體受到巧染,保護軸承110、U1不能使用一般的潤滑 劑。保護軸承110、ηι的形式為滚動軸承,分別包含具有 间度抗腐蝕性之特殊自我潤滑球及不錄鋼之内部和外部滾 動軸承奪。 當在主放電極1〇2之間提供高電塵時,間會發生放電 以便產生雷射光束。所產生之雷射光束經由窗口 1〇5而放 射至盒子101之外。當發生放電時,會使在主放電極1〇2 間之雷射光束惡化且會使放電特性減弱至不可能重複放電 激勵之程度」為了避免此缺點,啟動交叉流動式風扇103 以便使在盒子101内之雷射氣髏循環,且因而可在主放電 極102 P4產生高速雷射氣流〇尤甚者,每次在其間發生放 電時均需置換在主放電極102間之雷射氣體以便可執行穩 定的重複激勵。 經 濟 部 智 慧 財 產 局 員 工 消 費 合 作 社 印 製 可是在上述傳统的受激準分子雷射裝置中,交叉流動 式風扇103在運轉期間之振動非常大,易於導致受激卑分 子雷射裝置之光學元件(来顯示)的光軸易位’因而對雷射 光束之性質產生不利的影響β尤其是’當受激準分子雷射 裝置在運.轉中,盆手1 〇 1中之雷射氣.體在.交叉流動.式.風扇 103轉動時會加壓蓋1至3 kg/ffi2之壓力範圍。因此,交叉 流動式風扇103需要較大的驅動電力,且因此需要較大尺 寸之馬達109 β馬達109提供旋轉式驅動電力給交叉流動 式風扇103,且產生徑向磁吸力’該磁吸力因為轉子和定 子間之組裝誤差和配對誤差所引起之偏心位置誤差而產生 311471 度適用ϋ準格(210 x 297 ㈤ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 463429 A7 一 一 B7 五、發明說明(3 ) 振動。.因為徑向磁吸力是隨著馬達.109之轉子表面積而變 大,所以由徑向磁吸力所引起之振動亦隨著馬達1〇9之尺 寸變大而增加。 在最近幾年,要求放電激勵受激準分子雷射裝置籍由 高度地重複激勵而產生高雷射光東輸出。為了實現此高度 地重複激勵,需要在很短的時間内置換在主放電極.102間 之雷射氣艘,且因此由交又流動式風扇103所產生之雷射 氣體流之速度需較高。所以需要較大尺寸之馬達1〇9以使 以較高之速度轉動交叉流動式風扇103。假如馬達1〇9之 尺寸變大,則由馬達109所產生之徑向磁吸力的振幅亦變 大。因牝’放電激勵受激準分子雷射裝置不能執行穩定的 高度重複激勵。 保護轴承110、111是放置在轉軸之末端,發生在運轉 期間盒子101中所產生之灰塵粒子是很難到達這裡,否則 此灰塵粒子會進入保護抽承110、111之轉動表面而阻擾其 轉動。可是當徑向磁性軸承10 6、10 7不是在運轉中,也就 是說’當放電激勵受激準分子雷射裝置不是在運轉中或是 正在運送中’而交叉流動式風扇103之可轉動軸!〇4是由 保護軸承1 10、11 1支撐時,利用將保護軸承1 1〇、1〗1放 置在軸端之祝置可使保護軸承110、111間之内部軸承間之 跨度或間距較當可轉動軸104是由徑向磁性軸承1〇6、1〇7 支撐時之跨度或間距長。 因此將增加由保護_抽承11〇_、ill支撐之可轉動軸 104的靜態傣向。因此,需增加環繞在可轉動軸1〇4上之 <請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ,裝-------,Ί訂---------線 \ Λ 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 3 311471 A7 463429 五、發明說明(4 ) 氣隙以便可避免使在徑向磁性軸承1〇6、1〇7和馬達1〇9 上之可轉動軸104之外侧周邊表面與盒子内側表面相接 觸。隨著增加氣隙而引起之問題為降低徑.向磁性轴承 106、107作用力。尤其是’隨著氣隙變大,需要較大的磁 性軸承。因為磁性軸承之作用力通常是與氣隙之平方成正 比’所以假如氣隙增加兩倍則需要將磁性軸承之尺寸增加 四倍。 假如可轉動軸104因徑向磁性軸承1〇6、1〇7失效而需 由保護軸承Π0、111支撐,則因為内部軸承間之跨度變得 較當可轉動轴104是由徑向磁性轴承1〇6、1〇7支稽時長所 以可轉動軸104之臨界速度降低。因此,當可轉動耗 是由保護轴承110、U1支推時,在轉動時其遭遇強烈的振 動,因而使放電激勵受激準分子雷射裝置之光學元件之光 軸易位。所以為了重新啟動此放電激勵受激準分子雷射震 置’需.重新調整光軸。因此無法快速啟動此放電激勵受:激 準分子雷射裝置。 保護軸承110、111之自我潤滑滾球因為本身機械強度 之問題所以具有相當低之可容許速度和可容許負載、假如 交叉流動式風扇103以較高的速度轉動及馬達1〇9因尺寸 變大而使得可轉動軸104之尺寸變大時,保護轴承11〇、 111將因機械強度不夠所以無法使用。 第2圖係顯示傳統的交又流動式風扇1 03之相關.圖 示。如第2圖中所顯示,傳:統的交叉流動式風扇中包 含有複數個平行葉片l〇3a、一對附著在葉片103a相對立 本紙張尺度適用中國南"^標準(CNS)A4規格(210 x 297公釐) 4 3114? Τ Γ ί:裝---1-----訂---------線ο-· (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經 濟 部 智 慧 財 產 局 員 工 消 費 合 作 社 印 製
463429 五、發明說明(5 ) 兩末端上之環形薄板l〇3b、和一對在環形薄板i〇3b間沿 著可轉動軸104之軸方向距離固定間隔放置之環形薄板 103c。環形薄板1 〇3c在靠近其外側周圍邊緣處具有用於固 疋葉片103a之附著孔或凹處。在葉片1〇3a雙侧之環形薄 板103b在其外側周園邊緣處具有用於固定葉片1〇3a之附 著孔或凹處且在其内側周圍邊緣具有用於固定可轉動轴 104之圓形突出物。為了組裝交又流動式風扇1〇3,經由附 著孔或凹處沿著可轉動轴104之軸向***葉片1〇3a,且屋 接於所有環形薄板103b、103c之外侧周圍邊緣以便將葉片 l〇3a固定在適當的位置。 安裝可轉動軸104以便可轉動支撐交又流動式風扇 103及將旋轉式骚動能傳至交又流動式風扇1〇3<1可轉動軸 104沿著交叉流動式風扇·ι〇3之袖_向延伸且從位於另一末 端之環.形薄板103b往外突出。磁性軸承之位移感測器指標 和電磁體指標、及馬違轉子是固定在可轉動軸1〇4之突出 端。因為由葉月103a和環形薄板i〇3b、l〇3c所構成之籠 形結構具有較低之機械強度’且當將位移感測器指標和電 磁體指標、及馬逹轉子安裝在交又流動式風扇1〇3之對側 末端時會使交叉流動式風扇1 〇3變形,所以使可轉動軸丨〇4 沿著交叉流動式風扇103之軸向延伸。 藉由沿著軸向使可轉動軸104穿過交又流動式風扇 103可將交叉流動式風扇103和可轉動軸1〇4組裝在一起 且藉由固定螺絲釘130d可將環形薄板103t)之固定用圓形 突出物固定在可轉動軸104。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝-------Ί 訂--------- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公爱) 5 311471 4 6 3 4 2 9 經 濟 部 智 慧 財 產 局 員 工 消 費 合 作 社 印 製 A7 B7 五、發明說明(6 ) 第2圖所顯示之交又流.動式.風扇.1 〇3是有問題.的,因 為固定螺絲釘130d容易因為放電激勵受激準分子雷射裝 置在運轉中或運送中所產生之振動而鬆動。假如交又流動 式風扇103是由鋁製成的,則當可轉動軸ι〇4在放電激勵 期間經屋溫度週期以便增加溫度時,固定螺絲釘13〇d亦有 可能鬆動。如果固定螺絲釘130d鬆動,則會使交又流動式 風扇10 3 .發生轴向易位,因而導.致無.法在.主放電:極1 〇.2.間' 產生所需要的氣流-假如沒有產生所需氣.流,則放電激勵 受激準分子雷射裝置無法穩定的放電激勵0可轉動轴1〇4 亦可能在介於可轉動軸104本身和附著用圓形突出物間之 氣隙中齊生徑向易位,以致於改變在可轉動轴1 〇4上之不 平衡力。當在可轉動轴104上之不平衡力改變時,將產生 更大的振動致使放電激勵受激準分子雷射裝置之光學件的 光軸易位’進而對雷射光束之輸出產生不良的影響。 [發明夂概說] 因此本發明之目的為提供一放電激勵受激準分子雷射 裝置’此裝置可解決傳統放電激勵受激準分子雷射裝置之 問題且所具有之交叉流動式風扇所引起之振動相當小且可 以高速轉動。 為達上述目的,依據本發明而設.置之放電激勵受激準 分子雷射裝置包含有充滿雷射氣體之盒子、放置在盒子中 產生用於放電以便可放電激勵雷射氣體雨使其發射雷射光 束之主電極對、用於在主電極對間產生高速雷射氣體流之 交叉流動式風扇’此交叉流動式風扇具有從其對立末端突 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(21〇 x 297公釐) <請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝------—..1 訂------—線 I. 463429 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明(7 ) 出之可轉動轴、可利用軸承以非接觸方式可轉動支撐此可 轉動轴之磁性軸承、當該磁性轴承處於未運轉中時甩於支 撐可轉動軸之保護轴承、和用於啟動交又流動式風扇之馬 達’其中此磁性軸承包含有放置在交叉流動式風扇對立兩 端之徑向磁性軸承’此馬達係放置在可轉動軸靠近其中一 徑向磁性軸承的那一端’此一徑向磁性軸承所具有之軸承 剛性大於放置在距馬達較遠處的那一個徑向磁性軸承之轴 承剛性。 利用上述的配置’因為靠近馬違的那個徑向磁性軸承 的輛承剛性大於距馬違較遠處的那一個徑向磁性轴承之軸 承剛性.,所以可藉由放置在馬達附近的那個徑向磁性轴承 有效地抑制由馬達之放射性磁吸力所引之振動,亦可藉由 使轴承剛性大於另一個徑向磁性軸承之轴承剛性的徑向磁 性軸承而抑制由可轉動軸之轉動中心和可轉動軸之重心間 之對準不當所引起之不平穩狀態而導致的振動。因此,交 叉流動式風扇所引起之振動可降低且可以高速轉動,並因 而使放電激.勵受激準分子雷射裝置能.夠重覆放電激勵及放 射具穩定特性之雷射光束。 徑向磁性軸承分別所具有之電磁體擁有其專屬之磁 芯,其中一徑向磁性軸承之電磁體之磁芯所具有之截面積 大於放.置在距馬達較.遠處之.徑向磁性轴承之電磁體之磁 芯’因此這個徑向磁性軸承之軸承剛性大於距馬達較遠處 的那一個徑向磁性軸承之轴承剛性。 徑向磁性轴承具有個別的電磁體和個別的電磁體指 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝-------Ί訂---- 1 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 7 311471 463429 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 Β7 五、發明說明(8 ) 標,且此一.徑向磁性軸承之電磁體和電磁體指標間之氣隙 間隔小於距馬達較遠處之徑.向磁性轴承之電磁體和電磁體 指標間之氣隙間隔,因此這個徑向磁性轴承之轴承剛性大 於距馬達較遠處的那一個徑向磁性軸承之軸承种丨性。 各徑向磁性軸承所具有之電磁體包含有個別的磁<, 且此徑向磁性軸承之電磁體的磁芯線圈數大於距馬達較遠 處之徑向磁性軸承之電磁體的磁芯線圈數,因此這個徑向 磁性軸承之軸承剛性大於距馬達較遠處的那一個徑向磁性 軸承之軸承剛性》 此磁性軸承包含有放置在馬達軸端的另一個徑向磁性 袖承。
I 可轉動軸是由放置在交叉流動式風扇對立端之徑向磁 性轴承和放置在馬達軸端之徑向磁性軸承可轉動支樓。此 馬達是由介於放置在交叉流動式風扇之對立端之徑向磁性 軸承間之跨度而向外放置,且提供旋轉式驅動能給交叉流 動式風扇。利用具如此配置之馬達,可藉由放置在馬達轴 端之徑向磁性轴承而抑制由馬達之徑向磁吸力所引起之振 動。可降低由交又流動式風扇所引起之振動且可高速轉動 此父叉流動式風扇,所以此放電激勵受激準分子雷射裝置 能夠重覆放電激勵且可發射具穩定特性之雷射光束。 依據本發明’在此所設置之放電激勳受激準分子雷射 裝置包含有充滿雷射氣體之盒子、放置在盒子中產生用於 放電以便可放電激勵雷射氣體而使其發射雷射光束之主電 極對、用於在主電極對間產生高速雷射氣體流之交叉流動 不狀㈣辭國國象標準(CNS)A4規格⑽χ挪公愛) 311471 Λ -, : 1 I* 裝· — — 1.訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁》 463 429 A7
五、發明說明(9 ) 式風扇’此交又流動式風扇具有從其對立末端突出之可轉 動轴、可利用軸承以非接觸方式可轉動支撐此可轉動轴之 磁性轴承,此磁性軸承包含有放置在交叉流動式風扇對立 兩端之徑向磁性軸承、當磁性軸承處於未運轉中時用於支 撐可轉動軸之保護軸承、用於啟動交又流動式風扇之馬 達、和甩於將雷射氣體從交叉流動式風扇導離之雷射氣體 進出口,在此可將進入轴端之灰塵粒子移離放置在交叉流 動式風扇兩側末端和馬達上之徑向磁性軸承,或放置在連 接盒子和磁性軸承之氣流路經間的差壓產生機構,其中此 保護軸承包含有分别放置在交又流動式風扇之兩側靠近徑 向磁性辨承之保護軸承、 利用上述之配置’因為設置用於將雷射氣體從交叉流 動式風扇導離之雷射氣體進出口,在此可將進入軸端之灰 麈粒子移離放置在交叉流動式風扇兩側末端和馬連上之徑 向磁性軸承’或放置在連接盒子和磁性軸承之氣流路經間 的差塵產生機構’所以當放電激勵受激準分子雷射裝置是 在運轉令時,盒子中所產生之灰塵粒子並不會進入磁性軸 承或馬達。因此’不需要將保護軸承放置在可轉動軸之末. 端,而是可放置在徑向磁性軸承之附近。當可轉動軸是由 徑向磁性軸承支撐時’其轴承間跨度很明顯地相等於當可 轉動轴是由保護軸承支撐時之軸承間跨度,且因此很明顯 地不管可轉動軸是由徑向磁性軸承或由保護軸承支撐,此 可轉動軸之靜態偏向是相同的。因此,可降低在徑向磁性 韩承及馬達之外側周蜀表面和盒子内側表面間之氣隙。所 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ¥-------_.f 訂--------- ||!8..淨 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 x 297公釐〉 9 311471 463429 A7 五、發明說明(10 ) 以可降低磔性軸承和馬達之又寸。 就算因為徑向磁性轴承失效致使需由保護軸承支撐可 轉動軸時亦不需大量地改變可轉動轴之臨界速度,且可降 低轉動‘時可轉動軸之振動。因此,放電激勵受激準分子雷 射裝置之其他元件和周邊裝置不會因為此振動而有不良的 影響,且因此可快速重新啟動放電激勵受激準分子雷射裝 置。 保讓轴承包含有多數滾動軸承,各滾動軸承分別包含 有滾動.件、内側轴承套和外側轴承套,雨滾動件、内側轴 承套和外側轴承套中至少有__種是由氧化鋁瓷或氧化錯瓷 t成的·: 製成滾動件、内侧轴承套和外側軸承杳其中之一的氧 化銘究或氧化錯·曼對雷射_氣體為抗腐蚀,性的且具有較大.的 機械強度由氧化銘宪或氧化锆瓷製成之保護軸承具有較 長之使用壽命且更換期較長。就算.因為交又流動式風扇之 轉動速.度較高或馬達之尺寸較大而在保護軸承上造成較大 的負載時’保護軸承亦可有效地操作。 保護軸承包含有可由氧化銘瓷、氧化鍅瓷、聚四氣乙 | 烯或前述材料之合成材料等製成之滑動軸承。 由氧化銘瓷、氧化锆瓷、聚四氟乙稀或前述材料之合 成材料等製成之滑動軸承之結構具有較少的氣體陷阱且其 製作成本相當低。 本發明之上述及其他的目的、特性、和優點可因下列 說明及用於說明本發明最佳實施例之伴隨圖示而變得更加 *本紙張尺度適用τ _家標準(CNS)A4規格咖χ挪公楚> 經 濟 慧 財 產 局 員 工 消 費 合 作 社 印 製 311471 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ' 展 ----Ί 訂---------^Λν. Λ
MJ 463429 A7 五、發明說明(11 ) 地顯而易見f [圖示 < 簡要說明] 第1圖係顯示傳統放電激勵受激準分; (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) T雷射裝置之轴 向截面積; 第2圖係顯示在第1圖所顯示傳統放 寸地夜電激勵受激準分 子雷射裝置中使用之交叉流動式風扇之透视圖. 第3圖係顯示依據本發明最佳實施伽 例<玫電激勵受激 準分子雷射裝置之軸向截面積; 第4A圖係顯示在放電激勵受激準分不 τ 1T射裝置之不 具可轉動軸之交叉流動式風扇中雷射氣體流動_ . 第.4B圖係顯示在放電激勵受激準分子 τ霄射裝置之具 可轉動軸之交叉流動式風扇中雷射氣體流動_ . 第5圖係顯示依據本發明之放電激勸受激準分子雷射 裝置之軸承外殼和鄰近元件之摘要截面圖; 第6圖係顯示在鎳鐵合金上執行之用於抵抗氟腐姓.測 試的結果圖; 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 第7圖係顯示依據本發明之放電激勵受激準分子雷射 裝置馬達外殼及鄰近元件之摘要截面圖; 第8圓係顯示依據本發明另一實施利之放電激勵受激 準分子雷射裝置之軸向截面圖; 第9圖係顯示依據本發明又一實施利之放電激勵受激 準分子雷射裝置之軸向截面圖; * 第10圖係顯示依據本發明在一實施利之放電激勵受 激準分子雷射裝置之輔向截面圖; 參紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 311471 463429 A7 ----- R7 五、發明說明(12 > 第11圖係顯示在第1()爾所顯示放電激勵受激準分子 雷射裝置中由區域A所包圍之部份的放大摘要截面圖; 第12圖係顯示在第1〇圖所顯示放電激勵受激準分子 雷射裝置中由區域B所包圍之部份的放大摘要截面圖; 第13 .圖係顯示在依據本發明之放電激勵受激準分子 雷射裝置中使用之交叉流動式風扇之透視圖β [最佳實施例之詳細說明] 在下文中將參考第3圖說明依據本發明實施例之放電 激勵受,激準分子雷射裝置^依據本發明實施例之放電激勵 受激準分子雷射裝置包含有充滿雷射氣體之盒子丨、放置 在盒子.1中用於預先將雷射氣體離子化之前置離子化電極 (未顯示)、和放置在盒子1中用於產生放電使雷射氣體振 盪之主電極對2。盒子1内亦放置有用於在主電極2間產 生高速氣體流之交叉流動式風扇3。 當在主電極2間提供高電壓時,在主電極2間之雷射 氣體放電激勵以便使雷射光束振盪。所產生之雷射光束經 由安裝在盒子1中相對立面之窗口 5而發射到盒子1之 外。當放電激勵雷射氣體時,會使主電極2間之雷射氣體. 惡化且將其放電特性降低至無法執行重複放電激勵。因 此’使交又流動式風扇3運轉以便在每個放電遇期内為了 穩定地重覆放電激勵可循環在盒子1中之雷射氣體因而置 換主電極2間之雷射氣體。 主電極2間互相分離之距離大約為20mm,且所.具有 之全部長度大,約為600mm。交叉流動式風.扇3的整體+長产. (請先閲讀背面之注*11^項再填寫本頁) ^ ,Μ.---------1--------- , 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 12 311471 463429 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 -----------B7._____ 五、發明說明(13 ) 稍微小於主電極2之長度’故可以在主電極2之整個長度 上產生均勻的氣流。交又流動式風扇之旋轉速度大約從 2500至3500 Tpm ’故可在主電極2間產生所需之氣流。 父又流動式風扇所具有之可轉動轴4係延伸經過此風 扇之軸心且從相對立之軸端突出。可轉動軸4是利用複數 個徑向磁性軸承8,9,10和軸向磁性釉承η以非揍觸方 式支撐,這些磁性軸承是放置於安裝在盒子1之對立端之 圓柱狀轴承機架6和圓柱狀馬達機架7中。可藉由放置在 馬達機架7中之馬達12而轉動可轉動軸4。 為了以2500至3500rpm範園内之速度穩定轉動交又流 動式風扇3 ’將可轉動轴4之臨界速度設定在高於可轉動 軸在運轉中之旋轉速度。舉例而言’通常將可轉動轴4之 臨界速.度設疋在大約40_00rpm。增.加可.轉動抽4之剛..性或 降低可轉動軸之内部軸承間跨度可增加臨界速度β尤其 是’降低可轉動軸之内部軸承間跨度更有效。為了降低可 轉動轴之内部轴承間跨度,徑向磁性軸承8,9最好分別玫 置在交又流動式風扇3之對立端因為交叉流動式風扇3 之全部長度為600mm或更多,所以徑向磁性軸承8,9間 可轉動軸之内部軸承間跨度大約為800mm。 因為可轉動轴4是放置在盒子1中,所以應該由具有 較大揚式模量之材料製成以便可增加其鋼量及具有抵抗雷 射氣體之抗腐蝕性。在此實施例中,可轉動軸4是由奥氏 體不銹鋼(austenitic stainless steel)製成的。可轉動軸4可 包含有具用於高剛性之大直徑中空轉軸p可是,因為雷射 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 311471 ^ Γ fv、展 ----—訂 ------ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 463429 Λ7 B7 和年利允修正補充 五、發明說明(14 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁} 氣體是以第4A和4B圖中箭頭所標示方向而流經交叉流動 式風扇3,所以在交叉流動式風扇3中之可轉動轴4會對 雷射氣體流產生阻力,傾向於降低交叉流動式風扇3之性 能。因此,希望可轉動軸4能夠薄到可將臨界速度保持在 大約400 0rpm。在本實施例中,可轉動軸4所具有之外侧 直徑大約為30mm。 第4A圖係顯示雷射氣體如何流經不具可轉動軸之交 叉流動式風扇。第4B圖係顯示雷射氣體如何流經具有可 轉動軸之交叉流動式風扇。 為了降低在徑向磁性軸承8 ’ 9間可轉動軸之内部軸承 間跨度’所以將馬達12放置在徑向磁性轴承9之表面上。 因此可轉動軸4之重心軸向位置朝馬達12之方向易位。因 此,放置在交叉流動式風扇3和馬達12間之徑向磁性軸承 9比放置在交叉流動式風扇3對立端之徑向磁性軸承§具 有較大的軸承剛性。可依據從重心至徑向磁性軸承8,9 之距離選擇徑向磁性軸承8,9之軸承剛性間的比率。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 控向磁性軸承9具有電磁體9b且徑向磁性軸承8具有 電磁體8b。電磁體9b所具有的磁心長度γ較電磁體8b 之磁心長度X長。因為磁心長度γ較磁心長度X長,所 以由電磁體9b所產生之磁力比由電磁體8b所產生之磁力 大Y/X倍。因此’可增加徑向磁性軸承9之軸承剛性。再 者’因為徑向磁性軸承9之電磁體指標9d尺寸亦增加,所 以徑向磁性轴承9之軸承負載亦增加。因為由徑向磁性軸 承9本身之剛性所引起之不穩定性报明顯地依舊相同,所 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 14 (修正頁)311471 463429 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 五、發明說明(I5 )
以徑向磁性軸承9之控制特性不會減弱D 在放電激勵受激準分子雷射裝置操作期間,由馬達12 提供旋轉驅動力給交叉流動式風扇3之可轉動轴4,且產 生徑向磁吸力,此徑向磁吸力因為在轉子和定子間之組裝 誤差和配對誤差所引起之偏心位置誤差而將振動傳達至交 叉流動式風扇3。為了控.制.此振動徑.向磁性軸承:.1 〇.是.放 置在馬違12之軸端。理論上,由馬達12之徑向磁吸力所 引起之振動振幅在馬達12之拍端是最大的。藉由將徑向磁 性轴承1 〇放置在可轉動軸4以最大振幅振動之位置,可有 效控制交叉流動式風扇3.之可轉動轴4之振動, 因為如此放置徑向磁性軸承10,所以可轉動軸4之重 心的轴向位置比未安置徑向磁性軸承10更向馬達12偏 移。如上所述,可增加徑向磁性軸承9之軸承剛性以便抗 衡可轉動軸4之重心位移、可是將可轉動軸4之重心的軸 向位置放在徑向磁性軸承8,9之間是必須的。 因為可轉動軸4是由徑向磁性軸承8,9支禮,所以不 會在徑向磁性軸承10上產生軸承負載。因此,徑向磁性軸 承1 〇僅需具有足以控制.在馬.達12中.所產_.生之徑向.磁吸力. 的動態剛性。尤其是’因為徑向磁性軸承8,9將接受導因 於可轉動軸4之重量的穩定外力,所以可依據來自徑向磁 性軸承8’9之位移感測器8a,9a之輸出訊號藉由以PID(比 率積分微分)控制電路81控制電磁體8b,9b而穩定操作徑 尚磁性軸承8 ’ 9。因此不會有穩定的外力作用在徑向磁性 軸承10上’所以可依據來自徑向磁性軸承10之位移感測 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁} ¥----“----.— 訂----- 5·. 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4$格(210 X 297公楚> 15 311471 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製
463429 A7 ____ B7 _ 五、發明說明(16 ) 器10a之輸出訊號利用PD(比率微分)控制電路82控制電 磁體10b而穩定操作徑向磁性軸承ι〇β依據上述的軸承控 制計畫’在可轉動轴4上不會產生不必要的彎曲應力,因 此可避免干擾其他的徑向磁性韩承8,9。 並沒有將軸向磁性軸承11限制在特定的位置。在此實 施例中’軸向磁性軸承11是放置在轴承機架6中之轴端 上’在此處可轉動軸4會接受較少的振動且在此可輕易組 裝軸向磁性軸承11。所以可依據來自軸向磁性軸承 位移感測器11 a之輸出訊號利用pID控制電路8丨控制電 磁體lib’ 11<?而穩定操作軸向磁性軸承u。 當#向磁性轴承8, 9, 10均不是在運轉中,可轉動軸 4是由放置在靠近徑向磁性軸承8, 9, 10之保護軸承13, 14, 15所支撐的·>利用如此放置之保護軸承13, μ,15, 由保護軸承13’ 14,15所支撐之可轉動軸4之内部軸承間 的跨度很明顯地等於由徑向磁性抽承8,9,10和袖向磁性 軸承11所支撐之可轉動轴4之内部軸承間的跨度。因此, 可轉動軸4之臨界速度很明顯地依舊未改變,不管可轉動 軸4是由徑向磁性軸承8,9,10和軸向磁性轴承11所支 撐或由保護軸承13,14,15所支撐。因此,舉例而言’就 算可轉動軸4因為徑向磁性軸承8, 9,10失效而必須由保 護軸承13,14,15支撐,可轉動軸4仍可穩定轉動。 軸承機架6和馬達機架7在靠近盒子1處具有螺'纹迷 宮16、17用於避免灰塵粒子進入軸承機架6和馬達機架 7。因此可避免在盒子1中所產生的灰塵粒子進入軸承機架 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) "------.—1訂|
I 1 I» I 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 16 311471 463429 A7 五、發明說明(Η ) ό和馬達機架7及影_ # 等保護軸承13, 14之滚動表面。再者, 盒子1具有氣體進出口 ^ ^ 由此進出口雷射氣體可流進雷 射氣體導入室19。可巍ώ 田 轉由放置在雷射氣體導入室19中之 灰塵移除瀘'清器20而腺$人 阳將包含在雷射氣體中之灰塵粒子 除。之後,將雷射氣體姆a &祕^ 礼趣經由氣體進出通道21而導入軸承 架6和馬達機架7之軸姓 .,ra 飛 轴端。利用以箭頭所指之方向循環雷 射氣體可避免灰塵粒子逸λ紅A灿〜 々卞進入輛承.機架6和馬達機架7。 第5圖係顯示轴承 取機架6及其附近元件之放大圖。如 第5圖中所顯巾#承機架6包含有安裝在盒子1側牆上 之韩承機架主體6a。軸承機架6亦包含有附著在轴承機架 主體6a,之右側電磁體機架讣,附著在右侧電磁體機架讣 上之左側電磁體機架6c,及附著在左側電磁體機架6^上 之抽承覆蓋物6d。利用各附著面定義密封槽29 , 31,33, 35 ’而也、封件30 ’ 32 ’ 34 , 36則安裝在各密封槽29,31 , 33’35上用於密封雷.射氣體。密封件3〇,32,34,36最 好是由如不鎮鋼或铭等金屬材料製成,這些金屬材料發射 較少會污染雷射氣體之包含有濕氣之氣體。 徑向磁性軸承8之位移感測器8a和電磁體8b是利用 定位架22和側板23而依序放置且收容在軸承機架主體6& 中。在輙承機架主體6a中***薄的柱狀容器且使其沿著輛 承機架主體6a之内部周園踏而放置,且使其對立端焊接或 固定在軸承機架主體6a上。藉由此結構,因為位移感測器 8a和電磁體8b包含有鋼薄板及銅線圈所以對雷射氣體具 有較小的抗腐敍性故使其不與雷射氣體相接觸。 f靖先閱讀背面之注意事項再填寫本頁} 人,、.坡 il'-if 訂i ! 經.濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 17 311471 4 63 429 A7 _ __ ___B7 五、發明說明(π ) 軸向磁性軸承11之電磁體lib、lie是以互相面對面 之位置關係而焊接或固定在右側和左側電磁體機架⑪、心 上。電磁體線圈(未顧示)係***位於電磁體llb、llc之磁 心中的各磁心槽,且將環形薄板容器27焊接或固定在可預 防雷射氣體與線圈接觸之位置。軸向磁性轴承u具有放置 在轴承覆蓋物6d内之軸向位置感測器lla,及焊接或固定 在軸承覆蓋物表面上且與雷射氣锻相接觸之環形薄板 容器28 ’因此可將軸向位置感測器lla放置在轴承機架6 内氣密宝間之外。 因為電磁體11 b、〗]c係固定在與雷射氣體相接觸之位 置’所私磁心是由錄鐵合金(包含有3 0至8 0 %之錄的鐵一 鎳合金)所製成的’此鎳鐵合金對包含在雷射氣體中之氟有 高抗腐#性1 第0圖係顯示在鎳鐵合金中所執行對氟之抗腐餘性測 試結果。如第6圖中所顯示,包含有80%之鎳(JISC2531) 之PC鏵鐵合金較奥氏體不銹鋼SUS316L呈現較佳之抗腐 蝕性。包含有40%之鍊QISC2531)之PB錄鐵合金對氟之抗 腐蝕性約為奥氏體不锈鋼SUS304之一半且較PC鎳鐵合金 差。可是,因為PB鎳鐵合金在所有的鎳鐵合金具有最大 的飽和磁通量密度且適合用於作為電磁體材料,所以可藉 由在PB鎳鐵合金之表面上放置抗腐蚀性層,例,電鍍Ni 層而使用此具有電鍍Ni層之PB鎳鐵合金所呈現之抗腐钱 性與PC鎳鐵合金相同。 容器24、27、28可以由奥氏體不銹鋼或耐蝕錄基合金 <請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) '^—-——訂---------Mlyn. 酵 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規柊(210 X 297公釐) 18 311471 463429 A7
五、發明說明(19 ) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 (鎳-鉻-钥合金)製成用於保護其抵抗雷射氣體之腐蝕性。因 為容器24、27、28與盒子1相通而形成氣密空間,所以其 牆的厚度需要能夠承受充滿雷射氣體之壓力(1至3 kg/cm2)。製成容器24、27、28之上述材料具有較高的機 械強度’且因此可將容器24、27、28做得較薄。因為上述 材料為不會阻擾由磁性轴承所產生之磁力線的非磁性材 料’所以可有效操作此磁性軸承。 徑向磁性轴承8具有固定安裝在可轉動軸4上且利用 轉動定位架25、26而依序放置之位移感測器指標gc和電 磁體指樣8d〇軸向磁性軸承11具有固定安裝在可轉動抽4 上且放鞏在與盒子1相通.之氣密式空間中之位移感測器指 標11 d和電磁體指標11 e。 位移感測器指標8c、電磁體指標8d、位移感測器.指標 lid和電.磁體指標lie是.由.錄鐵合.金(包含有3〇/至80.%之 錄的鐵-鎳合金)所製成的,此錦鐵合金對在雷射氣體中之 氟具有.高抗腐蝕性。 位移感測器指標8 c和電磁體指標8 d遭受可轉動軸.4 轉動時所產生之磁場改變而引起之渦電流損失。位移感測. 器指標8c和電磁體指標8d通常具有以薄板堆疊而成之結 構故能降低渦電流損。可是’假如在所堆疊之薄板中產生 氣體陷.牌而污染雷射氣體’或假如因·為所堆疊之薄.板.是如 由PB鎳鐵合金所製成所以無法在所堆疊薄板表面上電鍍 具高黏附性之均勻Ni層,則位移感測器指標8c和電磁禮 指標8d可由錄鐵合金之固體材料製成。因為其磁場在可轉 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 装-!'1---—訂 —-----. 0T. 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 19 311471 4 6 3 4 2 9 A7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 B7 五、發明說明(20 ) 動軸4轉動時不會改變’所以輪向磁性軸承11之位移感測 器指欉lid和電磁體指標lie可由鎳鐵合金之固體材料製 成。 保護軸承13包含有滾動軸承,此軸承具有由氧化銘篆 製成之滾動件13a和由如SUS440G等不銹鋼製成之内部和 外部滚動軸承套131)、13 c。因為保護轴承丨3是放置在與 盒子1相_通之氣密式空間中’所以.滚動件:.13 a和.部滚動.韩 承套13b、13c是由對雷射氣體具防腐银性之材料製成。因 此,保護韩承13不會因雷射氣體而惡化。因為滾動件Ua 是由氧化銘瓷製成的’所以保護轴承13具有較大的可容許 轉動速度及較適當的可容許負載。另,方面,滚動件1 $ a 亦可由氧化.錯.变製成’.且内.部和外部滾.動軸承套‘ I.%、. 13.c 亦可由氧化鋁瓷或氧化錄瓷製成。 内部和外部滾動軸承套13b、13c之表面塗有聚四農乙 烯(PTF.E)之固態潤滑劑。因為PTFE之固態潤滑劑對雷射 氣體而言是穩定的且具有高潤滑能力所以不會惡化雷射氣 體。再者,固態潤滑劑可有效地使軸承之使用壽命較未使 用潤滑劑時更長。因此,可以經過很長的時間後再置換保 護轴承13。另一方面可在内部和外部滾動軸承套13b、13〇 之滾動表面塗敷包含有錯或含鉛合金之固態潤滑劑。 第7圖係顯示馬達機架7和及其附近元件之放大圖。 如第7圖所顯示,馬達機架7包含有安裝在盒子τ側牆上 之馬達機架主體7a。馬達機架7亦包含有附著在馬達機架 主體7a上之軸承蓋7b利用各附著面定義密封槽52、54, 私紙&尺度適用令國國家標準(CNS>A4規格咖x 297公笼r 20 311471 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) '裝! III 訂---------
P 463 429 A7 五、發明說明(21 ) 而密封件53、55則安裝在各密封槽52、54上用於密封雷 射氣體'密封件53、55最好是由如不銹鋼或鋁等金屬材料 製成,這些金屬枒料發射較少會污染雷射氣鱧之包含有濕 氣之氣體。 徑向磁性轴承9之位移感測器9a和電磁體91)、馬達 12之定子12a、和徑向磁性軸承1〇之位移感測器1〇a和| 磁體i〇b是安裝在馬違機架主體7a上且利用定位架41、 42、43和側板44而依序放置β在馬達機架7中***薄柱 狀容器45且使其沿著馬壌機架7之内部周園牆邊放置,且 使其對立端焊接或固定在馬達機架7上9藉由此結構,因 為位移感測器9a、電磁體9b、位移感測器1〇a、電磁體1〇b 和馬達定子12a包含有對雷射氣體具有較小的抗腐蝕性之 發鋼片及銅線圈所以使其不與雷射氣體相接觸。 沿著馬達機架主體7a放置用於吸收由馬達12所產生 之幾百瓦熱摒失之防水護套56。使馬達定子12a之線圈包 含有用,於增_加線圈和防.水護套5 6.間之熱.傳導性之絕緣材 料。防水護套56和包含有絕緣體之材料可有效防止馬達 12燃燒且可防止盒子1過度加熱。 徑向磁性軸承9之位移感测器指標9c、馬達轉子12b、 和徑向磁性軸承10之位移感測器指標1〇c和電磁體指標 l〇d是固定安裝在可轉動軸4上且利用轉動定位架46、47、 48、49而互相依序放置且放置在與盒子1相通之氣密式空 間中β位移感測器指標9(?、10c和電磁體指標9d、10d是 由與製成徑向磁性軸承8之位移感測器指標8c和電磁體指 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(21〇 χ 297公釐)
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Li. — 311471 4 63 42 9 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明(p ) 標8d相同之鎳鐵合金(包含有3〇至8〇%之鎳的鐵-錄合金) 所製成的。 馬達轉子12b是由矽鋼片和鋁堆疊而成之合成材料製 成的,故因此無法為其均勻塗敷用於防腐姓之具高黏附性 Ni電鍍層。容器50是安裝在馬達轉子12b之外側周圍表 面上Jl·將其對面之軸端焊接或固定至側邊平板51上,此側 邊平板51又焊接或固定至可轉動轴4,產生收容馬達轉子 12b之氣密式空間以便避免馬達轉子j 2b與雷射氣艘相接 觸。容器50是由奥氏體不銹鋼或耐蝕鎳基合金(鎳_鉻·鉬 合金)製成用於抵抗雷射氣體之腐蚀。 如同在軸承機架6中之保護抽承13,保護軸承14、15 包含有.滾_動辆承’此軸承具有由氧化銘竟製成之滚.動件 14a、15a和由如SUS440C等不鱗鋼製成之内部和外部滾 動轴承套14b、15b和14c、15c。 第8圖係顯示依據本發明另一實施例之放電激勵受激 準分子.雷射裝置。第8圖中所顯示放電激勵受激準分子雷 射裝置的那些與第3圖中所顯示放電激勵受激準分子雷射 裝置中相同的元件是以相同的或相對應的參考數字表示, 且在下文中不會詳細描述之。 當操作第8圖中之放電激勵受激準分子雷射裝置以便 振動雷射光束時,關閉兩個連接至雷射氣翘供給裝置71 之流動路徑開啟/關閉單元72,且開啟放置在氣體進出通 道21的兩個流動路徑開啟/關閉單元73以便將雷射氣體導 引進入磁性軸承和馬達,由此可將灰塵粒子穩定移離。為 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) \装-------.—訂---- '"'|,坩 Μ 5·. 本紙張尺度適用_國國家標準(CNS〉A4規格(210 X 297公釐) 22 311471 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 4. 6 3 429 A7 --B7 五、發明說明(23 ) 了再補充雷射氣體,關閉放置在氣體進出通道21之流動路 徑開啟/關閉單元73且開啟流動路徑開啟/關閉單元72以 便提供來自雷射氣體供給裝置71之新鮮的雷射氣體,所以 可經由磁性軸承和馬達將新鮮的雷射氣體提供給盒子】, 為了完全置換雷射氣體,將所有的流動路徑開啟/關閉 單元72、73關閉,且將舊的雷射氣體從盒子i移除。在將 舊的雷射氣體從盒子1移除後,僅將流動路徑開啟/關閉單 元72開啟以便從雷射氣體供給裝置71供應新鮮的雷:射氣 艎。當以此方式供應新鮮的雷射氣體時,固為並沒有產生 從盒子1至磁性軸承和馬達之雷射氣體流,所以可有效地 避免在衾子1中所出現的灰塵粒子進入磁性軸承和馬達。 第9圖係顯示依據本發b月又一實施例之放電激勵受激 準分子雷射裝置。第9圖中所顯示放電激勵受激準分子雷 射裝置的那些與第3圖中所顯示放電激勵受激準分子雷射 裝置中相同的元件是以相同的或相對應的參考數字表示, 且在下文中不會詳細描述之。.第9圖中所顯示放電激勵受 激準分子雷射裝置與第3圖中所顯示放電激勵受激準分子 雷射裝黑的不同處在於保.護.抽承。 第9圖中所顯示放電激勵受激準分子雷射裝置具有保 護軸承61、62、63,此轴承包含有當磁性轴承不在運轉中 時用於支樓可轉動軸4之滑動軸承。保護軸承61、62、63 是放置在靠近徑向磁性軸承8、9、10之處。利用如此放置 之保護軸承61、62、63,由保護轴承61、62、63所支樓 之可轉動轴4的内部軸承間跨度很a月顯地等於由徑向磁性 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝---------訂-----
Mi 本紙張尺度it用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公髮) 23 311471 4 63 429 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明(24 ) 軸承8、9、10所支撐之可轉動軸4的内部軸承間跨度。因 此,不管可轉動轴4是由徑向磁性軸承8、9、10所支撐或 由保護軸承61、62、63所支撐,可轉動抽4之臨界速度依 舊相同。因此,舉例而言’就算可轉動軸4因為徑向磁性 轴承8、9、10失效所以需要由保護軸承61、62、63支撐 時,可轉動輛4亦可樣定地轉動。 保護軸承61、62、63包含有由氧化銘瓷製成之環形 件。因此’保護軸承61、62、63之結?構具有較少之氣體陷 阱且製造成本相當低。假如徑向磁性軸承8、9、1 0和軸向 磁性軸承11具有緊急電源供應裝置64且可轉動軸4在保 護軸承.61、62、63上之轉動頻率相當低,則具有此種配置 之保護軸承61、62、63是有特殊的優點。 另一方面,保護軸承61、62、63之環形件亦可由氧化 鋁瓷、氧化錯瓷(Zr〇2)、聚四氟乙晞(pTFE)、或這些材料 之合成材料等製成。 亦可在第3或8圖所顯示之放電激勵受激準分子雷射 裝置中使用緊急電源供應裝置64 «假如將緊急電源供應裝 置64聱合在第3或8圖所顯示之放電激勵受激準分子雷射 裝置中’則可將需置換保護.轴.承支期間.大大地延長:。再.者., 保護轴承可以是不同形式,也就是說放置在徑向磁性軸承 8、9附近的那些軸承可包含有滾動件而放置在靠近徑向磁 性軸承10附近的那些轴承可包含有滑動件。 在第1、6和7圖中所顯示之放電激勵受激準分子雷射 裝置具有三個徑向磁性軸承,在各徑向磁性軸承附近放 (請先閱讀背面之注項再填寫本頁)
.裝-----— II 訂---I I 4 本紙張尺度適用中國國豕標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 24 311471 4 6 3 4 2 9 A7 B7 五、發明說明(25 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 有保護.轴承。可是,並不需要在所有的徑向磁性軸承附近 均配置保護軸承,而是至少需在位於交又流動式風扇3對 立端之徑向磁性軸承8、9上提供兩値保護軸承、 第10圖係顯示依據本發明再一實施例之放電激勵受 激準分子雷射裝置。第10圖中所顯示放電激勵受激準分子 雷射裝置的那些與第3圖甲所顯示放電激勵受激準分子雷 射裝置中相同的元件是以相同的或相對應的參考數字表 示,且在下文中不會詳細描述之i第10圖中所顯示放電激 勵受激準分子雷射裝置與第3圖中所顯示放電激勵受激準 分子雷射嚴置的不同處為其不具有放置在第1圖中所顯示 馬達12.輔端之徑向磁性軸承10。+放置在第1圖中所顯示 馬達12軚端之徑向磁性拍承1〇可有效降低由馬達12所引 起之振動,因此假如馬達12具有較大的尺寸且因而產生較 大的振動時亦可使馬達12穩定轉動《因此,假如馬達12 尺寸較小且所產生之振動較小時,如第10圖所顯示不需要 在馬達12之轴端放置徑向磁性軸承。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 在上述放電激勵受激準分子雷射裝置中,為了使放置 在靠近馬達12之徑向磁性軸承9之鋼性大於距離馬達12 較遠處之徑向磁性軸承8之鋼性,徑向磁性轴承9之電磁 體磁心之截面積大於徑向磁性軸承8之電磁體磁心之截面 積。可是,亦可使用其他的配置方式使放置在靠近馬達12 之徑向磁性韩承9之鋼性大於距離馬達12較遠處之徑向磁 性轴承8之鋼性。舉例而言,使徑向磁性軸承9之電磁體 9b和電磁體指標9d間之間隙尺寸小於徑向磁性軸承8之 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210x297公釐) 25 311471 63429
五、發明說明(26 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 電磁體8b和電磁體指標8d間之間隙尺寸。另一方面或額 外地’可使徑向磁性轴承9之電磁體9b之線圈匝數大於徑 向磁性軸承8之電磁體8b之線圈匝數。 第.11圖係顯示.在第.1.0 _.圖.所顯示放.電:激勵受.激準.分.子 雷射裝置中由區域A所包圍之部份的放大摘要載面圖,及 第12闺係顯示在第圖所顯示放電激勵受激準分子雷射 裝置中由區域B所包園之部份的放大摘要戴面圖。可籍由 增加由磁性軸承之電磁體所產生之磁吸力F而增加磁性軸 承之軸承鋼性。磁吸力F係正比於磁通密度B和磁心截面 積S之平方,磁通密度b係正比於線圈匝數N和線圈電流 i »且與.氟陈大小χ成.反比.。_因此,.為了1增加磁吸力F,.可 增加磁心截面積S、可增加線圈Ε數Ν、可增加線圈電流[, 或降低氣隙大小X » 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 在第11和12圖中’馬達12附近之電磁體9b具有線 圈9b-2 ’雨距馬達12較遠處之電磁體.8b具有線圈.,81)-2., 其_線圈.9b-2包含有:.沿.著電_磁避磁.心9b-1纏繞ς層::d·行 (線圈區數.._ c.X d)之銅線’._線圈8 b_-2.包.含有沿著.電磁體磁 心8b-l缠繞a層b行(線圈匝數:a X b)之鋼線。因此,為 了增加靠近馬達12之徑向磁性軸承9之軸承鋼性,可使線 圈E數:c X d大於線圈E數:a X b ’且可使徑向磁性轴承 9之電磁體_ 9b和電磁體.指標.9d_間之_間..隙尺寸X1小於徑向.. 磁性轴.承8之.電磁體8.b和電.磁體指標8 d間之間.隙.尺寸 X2(XKX2) 〇 第13圖係顯示在依據本發明之放電激勵受激準分子 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS>A4規格(210 X 297公釐) 26 311471 463429
五、發明說明(27 ) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 雷射裝置中所使用之交叉流動式風扇3。如第13圖中所顯 示’交叉流動式風扇3包含有複數個平衧葉片33和複數個 環形薄板3b 〇在可轉動軸4之軸向以相距特定間隔而放置 環形薄板3b。環形薄板3b在靠近其外側周圍邊緣處具有 用於固定葉片3a之附著孔或凹處,且在其内侧周圍邊緣具 有用於固定可轉動轴1 〇4之圓+形突..出..物.。 為了組裝交叉流動式風扇3,首先將在交叉流動式風 扇3末端上之其中一環形薄板3b擠壓安裝在可轉動轴4 上’且.然後將葉片3a***在擠壓安裝式環形薄板3b内之 附著孔或凹處》之後’在葉片3a的導引卞將下一個環形薄 板3b辑壓安裝在可轉動軸4上,但小心勿扭曲葉片3a。 重複上述的安裝步驟直到將所有的環形薄板3b擠壓安裝 在可轉動韩4上。最後,.捲曲外側周園邊緣上之所有的環 形薄板3b以便固定葉片3a和環形薄板3b。 藉由以上述方法建構之交·叉流動式風扇3,可將可轉 動轴4和環形薄板3互相固定而不會有互相搖晃之危險。 因此’此交又流動式風扇3不會有上述傳統交叉流動式.風 扇之問題。假如可轉動軸4和環形薄板3是由相同的材料 製成’如SUS316L等之奥氏體不銹鋼,則不管交又流動式 風扇3經歷何種的溫度週期可轉動軸4和環形薄板3依舊 可固定在一起。因此’因為當放電激勵受激準分子雷射裝 置在運轉中或運送中時可轉動軸4在轉動時所產生之不平 衡力依舊未改變,所以在操作期間所引起之振動不會改 變。籍由在放電激勵受激準分子雷射裝置製造時進行平衡 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 27 311471 {請先閱讀背面之注項再填寫本頁} -rk .----訂----- t 463429 A7 _B7___ 五、發明說明(28 ) 調整可降低可轉動軸4上之不平衡力,放電激勵受激準分 子雷射裝置可長時間經歷低振動。 雖然已洋細顯示和描述本發明之特定最佳實施例,很 明顯地可對本發明進行各種的改變和修正均不會偏離所附 申請專利範圍之目標。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) .0衰——^——r訂---- ----- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 28 311471

Claims (1)

  1. 463429 -J 9>年1月[Μ修正 Η3 ^ 圈 第89109988號專利申請案 申請專利範圍修正本 (90年9月!2曰: h —種放電激勵受激準分子雷射裝置,包含有: 充滿雷射氣體之盒子; 放置在盒子令產生用於放電以便可放電激勵雷射 教1體而使其發射雷射光束之主電極對; 用於在前述主電極對間產生高速雷射氣體流之交 又流動式風扇’前述交叉流動式風扇具有從其對立末端 突岀之可轉動軸; 磁性軸承,係利用軸承以非接觸方式可轉動地支撐 前逑可轉動軸; 經濟部中央標準局員工福利委員會印製 保護軸承,當前述磁性軸承處於未運轉時用於支撐 前述可轉動軸;和用於啟動交叉流動式風扇之馬達;及 前述磁性軸承包含有放置在前述交叉流動式風扇 對立兩端之徑向磁性軸承,前述馬達係放置在前述可轉 動轴靠近其中之一前述徑向磁性轴承的那一端,此一前 述徑向磁性軸承所具有之軸承剛性大於放置在距前述 馬達較遠處的那一個徑向磁性轴承之袖承剛性。 2.如申請專利範圍第1項之放電激勵受激準分子雷射裝 置’其中’前述徑向磁性軸承分別所具有之電磁體擁有 其專屬之磁怒’前述其中一徑向磁性轴承之電磁體之磁 域所具有之截面積大於放置在距前述馬達較遠處之徑 向磁性軸承之電磁體之磁愁’因此前述此徑向磁性轴承 表紙張尺度適用中國國家標準(CNS )A4規格(210X297公资) 1 311471 463429 之軸承剛性大於距前述馬達較遠處的那一個徑向磁性 軸承之抽承剛性β 3-如申請專利範園第丨項之放電激勵受激準分子雷射裝 置,其中,前述徑向磁性軸承中之一個具有個別的電磁 體和個別的電磁體指標’且前述徑向磁性軸承之電磁體 和電磁體指標間之氣隙間隔小於距前述馬達較遠處之 径向磁性軸承之電磁體和電磁體指標間之氣隙間隔,因 此前述徑向磁性軸承之軸承剛性大於距前述馬達較遠 處的那一個徑向磁性軸承之轴承剛性。 4. 如申請專利範圍第1項之放電激勵受激準分子雷射裝 置,其中,前述各徑向磁性軸承各具有包含有個別的磁 芯之電磁體’且前述的徑向磁性軸承中之一個之電磁體 的磁芯線圈數大於距前述馬達較遠處之徑向磁性軸承 之電磁體的磁芯之線圈數,因此前述徑向磁性軸承中之 一個之軸承剛性大於距前述馬達較遠處的那一個徑向 磁性軸承之軸承剛性。 經濟部中央標準局員工福利委員會印製 5. 如申請專利範圍第1項之放電激勵受激準分子雷射裝 置’其前述的磁性軸承包含有放置在前述馬達軸端 之另一個徑向磁性軸承。 6. —種放電激勵受激準分子雷射裝置,包含有: 充滿雷射氣體之盒子; 放置在盒子中產生用於放電以便可放電激勵雷射 氣體而使其發射雷射光束之主電極對; 用於在前述主電極對間產生高速雷射氣體流之交 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公瘦) 2 311471 463429 又流動式風屬’前述交叉流動式風扇具有由其對面末端 突起之可轉動軸; 磁性轴承’係利用前述轴承以非接觸方式可轉動地 支樓此刚述可轉動軸’前述磁性軸承包含有放置在前述 交叉流動式風扇對立兩端之徑向磁性軸承; 當前述磁性軸承處於未運轉時用於支撐前述可轉 動軸之保護軸承; 用於啟動前述交又流動式風扇之馬達;及 用於將雷射氣體從前述交又流動式風扇導離之雷 射氣體進出口 ’在此可將進入軸端之灰塵粒子移離放置 在前述交又流動式風扇兩側末端和前述馬達上之前述 徑向磁性軸承; 前述保護軸承包含有分別放置在前述交叉流動式 風扇之兩側靠近徑向磁性軸承之保護軸承。 7. —種放電激勵受激準分子雷射裝置,包含有: 充滿雷射氣體之盒子; 經濟部中央標準局員工福利委員會印製 放置在盒子中產生用於放電以便可放電激勵雷射 氣體而使其發射雷射光束之主電極對; 用於在前述主電極對間產生高速雷射氣體流之交 又流動式風扇,前述交叉流動式風扇具有由其對面末端 突起之可轉動軸; 磁性軸承,係利用前述軸承以非接觸方式可轉動地 支撐此前述可轉動軸,前述磁性軸承包含有放置在前述 交叉流動式風扇對立兩端之徑向磁性袖承; 本紙張尺度適用中國國家擦準(CNS )A4规格(210 X 297公楚) 3 311471 463429 ------ Η3 當前述磁性軸承處於未運轉時用於支撐前述可轉 動轴之保護軸承; 用於啟動前述交又流動式風扇之馬達;及 放置在連接前述盒子和前述磁性軸承之氣流路經 間的差壓產生機構; 前述保護軸承包含有分別放置在前述交又流動式 風扇之兩側靠近徑向磁性軸承之保護軸承β 8,如申請專利範園第1、6、或7項之放電激勵受激準分 子雷射裝置,其中,前述保護軸承包含有滾動軸承,此 滾動軸承分別包含有滚動件、内側軸承套和外侧軸承 套’而前述滾動件、前述内側軸承套和前述外側軸承套 中至少有一種是由氧化鋁瓷或氧化锆瓷製成的。 9. 如申請專利範圍第1、6、或7項之放電激勘受激準分 子雷射裝置,其中,前述保護軸承包含有可以由氧化鋁 瓷、氧化锆瓷、聚四氟乙烯或前述材料之合成材料等製 成之滑動轴承。 10. —種放電激勵受激準分子雷射裝置,包含有: 經濟部中央標準局員工福利委員會印製 充滿雷射氣體之盒子; 放置在盒子中產生用於放電以便可放電激勵雷射 氣體而使其發射雷射光束之主電極對; 用於在前述主電極對間產生高速雷射氣體流之交 又流動式風扇,前述交又流動式風扇具有由其對面末端 突起之可轉動軸; 磁性軸承,係利用前述軸承以非接觸方式可轉動地 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS )Α4規格(210 X 297公楚) --- 4 311471 463429 ______H3 支撐此前述可轉動軸’前述磁性轴承包含有放置在前述 交又流動式風扇對立兩端之徑向磁性軸承; 當前述磁性軸承處於未運轉時用於支撐前述可轉 動軸之保護軸承;及 用於啟動前述交又流動式風扇之馬違; 其中前述交叉流動式風扇包含有複數個平行葉片 和複數個環形薄板,且環形薄板和可轉動軸4是以相同 的材料製成故可緊緊地固定在一起。 經濟部中央標準局員工福利委員會印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS )A4規格(210 X 297公楚) 5 311471
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