4483 4 5 A7 _____B7_^_ 五、發明説明（1 ) 〔發明所屬之技術領域〕 本發明係關於一種使用於半導體裝置或印刷基板， LCD (液晶畫面）之生產之曝光裝置的光罩與工件之對 位方法及裝置。 〔以往之技術〕 在半導體元件或液晶畫面，噴墨方式之印刷頭，一枚 基板上製作多種多數之電氣元件成爲一個模組之多晶片模 組等•在須微小尺寸之加工之各種電氣零件的製作工程上 使用曝光工程。 在曝光工程中，複印工件與光罩之圖案時，對於以前 所形成之圖案正確地對位下一複印之圖案極爲重要。 上述對位，一般，實行重叠一致光罩及工件的對準標 記。 作爲複印光罩之圖案之自動化的裝置，眾知有使用曝 光光，例如i線、h線、g線（i線：波長365nm * h線：波長405nm，g線：波長436nm)實行對 經濟部中央橾隼局員工消費合作社印裝 (請先閲讀背面之注意事項#填寫本頁) 位者，及使用非曝光光，例如e線、d線、c線（e線： 波長546nm· d線：波長588nm，c線：波長 6 5 6 nm)車行對位的投影方式的曝光裝置。 前者時，在對位時因光阻劑被感光•因此在使用於對 位之領域無法形成電路圖案。故如半導體元件，由一枚工 件提取複數個晶片時，則該提取之個數成爲僅減少使用於 對位之領域分量，有生產效率變壤之缺點》 本紙張尺度逋用中國困家揉率（CNS ) A4说格（210X 297公釐,） -4 - 4483 4 5 Α7 Β7 五、發明説明（2 ) 一方面，後者時，因在對位時未感光光阻劑，因此具 有電路圖案之領域未藉由對位領域加以限制之優點。 然而，因在曝光光與非曝光光，光之波長不相同，因 此|具有光罩之圖案係無法投影在相同之部位之問題。 第1 1圖係表示使用上述e線實行對位的以往曝光位 置之構成的圖式，在同圖中，1係曝光光（非曝光光）照 射裝置，la係燈，lb係聚光鏡，lc係快門（Shut ία) ， Id 係濾光片， le : 聚光透鏡》 2係光罩台*在光罩台2藉由真空夾具等固定光罩Μ ，光罩台2係藉由未予圖示之驅動裝置向X，Υ，Ζ，.θ (X，Υ軸：平行於光罩面之平面上的正交軸，Ζ軸：同 圖之上下方向之軸，0 :以Ζ軸爲中心的旋轉軸）方向驅 動•又，在光罩印有光罩圖案與對位用之光罩對準標記 ΜΑΜ(以下簡稱爲光罩標記）。 3係投影透鏡，以係工件，在工件W印有對位用工件 對準標記WAM(以下簡稱爲工件標記）^ 經濟部中央橾準局貝工消費合作社印製 (讀先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 5係對準單元，對準單元5係由透鏡5 a ，對物透鏡 5b，半透明反射鏡5c ，具備C CD攝影機的畫像察覺 器5 d所構成•經由半透明反射鏡5 c —對物透鏡5 b — 透鏡5 a畫像察覺器5 d受像工件標記WAM，及投影在 工件以上的光罩標記MAM，來觀察兩者之位置。 、 又，在同圖僅圖示一個對準單元5，惟光罩標記 Μ AM與工件標記WA Μ係在標記Μ與工件W上分別設置 多數（至少兩部位）•因對準單元5係分別對應地設於對 本紙張尺度適用中國固家標準（CNS ) Α4规格（2丨0X297公釐） -5 - 4483 4 5 A7 _____B7__ 五、發明説明（3 ) 準標記，故設置多數（至少兩部位）。 又，對準單元5係一般可迴避地構成向表示於同圖之 箭號方向，曝光時，在對準單元5進入曝光範圍內時，則 迴避對準單元5 »又，對準單元5係除了同圖之B位置以 外地可設在同圖之A或C之位置。 在同圖中，擬在工件W上實行曝光處理時，首先，從 曝光光（非曝光光）照射裝置1經由濾光片1 d照射非曝 光光的e線，藉由對準單元5，受像工件標記WAM及投 影在工件W上之光罩標記MAM (如此經投影透鏡檢出投 影在工件上之光罩檫記MAM的方式稱爲TTL : Throu-gh The Lens 方式）。 如此I在自動對準時，未予圖示之控制裝置從光罩標 記MAM與工件檫記WAM之特徵認識各該標記，移動光 罩台2或/及工件台4使兩者之位置成爲一致》 又，在手動對準時，將受像之光罩標記MAM與工件 標記WAM顯示於未予圖示之監視器上，移動光罩台2或 /及工件台4使作業人員一面觀察監視器一面使兩者一致 經濟部中央榡準局員工消費合作杜印製 (請先閱讀背面之注意事項漓填寫本頁} t> 完成對位之後，從光路迴避光學濾色器1 d，從曝光 光（非曝光光）照射裝置1照射曝光光之i線，將光罩圖 案投影在工件W上並實行曝光。 ' 在此’作爲曝光光使用i線，而作爲非曝光光使用e 線時’因在兩者之光波長不相同，故在上述對位時會產生 如下之問題。 本ϋ尺度逋用中國國家標率（CNS ) A4規格（210X297公釐） ~~ . ~ 6 - 4483 4 5 , A 7 B7 經濟部十央楯準局員工消費合作杜印製 五、發明説明（4 ) ① 在曝光波長設成沒有像差的投影透鏡中，在非曝光 波長’光罩圖案投影面會偏離。亦即如同圖之I與5]所示 ，光罩圖案無法投影在相同面。 ② 因倍率之色像差依e線之光罩圖案投影面E上之光 罩標記MAM< ，與依i線之光罩圖案投影面I上之光罩 標記MAM之位置係不一致。 亦即，投影透鏡3與依e線之光罩圖案投影面E間之 距離’比投影透鏡3與依i線之光罩圖案投影面I間之距 離大’如同圖所示，依e線之光罩圖案投影面E上之光罩 標記MAM >之間隔L e，係成爲比依i線之光罩圖案投 影面I上之光罩標記MAM之間隔L i寬廣· 又，光罩圖案投影面E上之光罩MAM /之投影像之 位置係藉由對位檫記之部位而改變。亦即，如第1 2圓所 示’工件標記與被投影之光罩標記之間隔AL與AL <成 爲不相同之數值。 如此，在以往，在投影光學系之光路***平行面板， 隨著非曝光光之波長來變更其厚度，或是來調整其傾斜以 便補正投影面之偏差（參照日本專利公告報特公平5 -4 3 1 6 8 號）。 由於上述之以往技術係在光路中***平行平面板，如 第1 3圖所示利用焦點位置僅偏AS之性質*在投影透鏡 與工件之間***平行平面板，來補正因曝光光與非曝光光 所產生之投影像的偏差者。 L--I n _- n ! -I I -I I I-- I I T .-e (請先閱讀背面之注意事項身填寫本頁) 本紙張尺度適用中國8家橾準（CNS ) A4規格（210X297公釐） —7 - 4483 4 5 A7 B7 經濟部中央榡準局貝工消費合作社印製 五、發明説明（5 ) (發明欲解決之課題〕 然而，上述之以往技術係具有如下之問題點。 ① 如第1 2圖所示，藉由對準標記之部位，依非曝光 光之光罩標記之投影像的位置會改變。因此，例如，如以 往例所示，須在光罩與投影透鏡之間***平行平面板來調 整其傾斜，來補正依對準標記之部位的位置偏差》 ② 若改變曝光用波長與對準用波長時，因焦點捕正量 有變化，而須隨著上述波長之組合準備平行平面板》 ③ 爲了調整倍率·因使用由平行平面板所成之光學構 件，因此須重新設置該保持機構，尤其是，在***脫離光 學構件時，具有機構成爲複雜且變大的問題。 ④ 因在工件之正上方具有平行平面板***機構，因此 ，具有因發廣而汚染工件的問題。 如上所述，使用非曝光光之對位係具有至對準標記近 旁也能形成圖案之優點，惟成爲須要使用平行平面板之光 路長之補正等，而隨著此產生各種問題點。 又|在印有工件標記之工件上投影光罩標記之狀態下 檢出兩個對準標記之相對位置之以往方式中，擬實行自動 對準時 > 具有控制裝置也不容易認識工件標記等之問題。 爲了解決上述問題點，本案.申請人先前提案表示第 14圖之裝置（日本專利特願平6 — 294279號）* 在同圖中，與表示於第1 1圖著相同者附與相同之記 號，1係曝光光（非曝光光）照射裝置，2係光罩台’ Μ 係光罩，在光罩Μ印有光罩圖案與對位用之光罩標記 本紙張尺度逋用中國國家棣準（CNS > Α4規格（210X297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) _ 8 一 4483 4 5 A7 B7 五、發明説明（6 ) MAM。3係投影透鏡，以係工件*在工件W印有對位用 之工件標記MAM。4係工件台，在工件台4埋設有全反 射鏡或半透明反射鏡4 a。又，工件台4係藉來予圖示之 驅動裝置向X，Y，Z，0方向驅動。 WA I係對準標記用部分照明系統，放射未予圖示之 光源之非曝光光係經由光纖6 a，經透鏡6 b —反射鏡 6 c入射至對準單元5之半透明反射鏡5 e，而照射工件 W上之工件檫記WAM。 在第1 4圇之裝置，係如下地實行曝光處理。 ① 將光罩Μ載放固定在光罩台2 *在光學濾色器1 d 從光路脫離之狀態下打開曝光光（非曝光光）照射裝置1 之快門1 c |將曝光光照射在光罩Μ上，在該階段下，工 件W係未載置在工件台4。 ② 埋設於工件台4之鏡4 a的反射面一致於曝光光照 射之光罩圖案投影面Z 〇地移動工件台4之Z方向位置。 ③ ***對準單元5。又，對位標記用部分照明系統 WA 1係與對準單元5 —體地構成，與對準單元5 —起地 ***。 ④ 藉由對準單元5之畫像察覺器5 d受像投影於工件 台4的鏡4 a的光罩標記MAM。未予圖示之畫像處理部 係從受像之畫像來識別光罩標記MAM，俾記憶該位置座 標（X Μ，Y Μ卜 ⑤ 關閉曝光光（非曝光光）照射裝置1之快門1 c。 因此·停止對於光罩Μ上之曝光光的照射。 本紙張尺度通用t國國家搞準（CNS ) A4規格（210X297公釐） I,---.--^--Γ -裝------訂------么 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局員工消f合作社印裝 4483 4 5 經濟部中央橾隼局貞工消費合作社印装 • A7 ____B7五、發明説明（7 ) ⑧將工件w載置於工件台4上，固定在工件台4上。 ⑦ 將工件台4向Z軸方向移動使工件w之表面一致於 光罩圖案投影面ζ ο β ⑧ 在對準標記用部分照明系統W A 1導入照明光，經 由光纖6 a —透鏡6 ♦反射鏡6 c~+半透明反射鏡5 e —透鏡5 b —半透明反射鏡5 c照射工件w上之工件標記 WAM ’以畫像察覺器5 d受像工件標記Wam。 以畫像察覺器5 d受像之工件標記waM之畫像係傳 送至上述之畫像處理部’畫像處理部係識別工件標記 WAM，求出該位置座標（XW，YW) » ⑨ 停止對準標記用部分照明系統WA1之照明光的照 射。 ⑱由記憶之光罩MAM之位置座標（χΜ，ym)與 所求得之工件標記之位置座標（ΧΜ，ΥΜ)求出工件W 與光罩Μ之位置偏差’依照該位置偏差，將光罩台2或/ 及工件台4向X，Υ ’ 0方向驅動而將光罩標記ΜΑΜ與 工件標記WAM之位置相一致。 如上所述，使光罩標記MAM與工件標記WAM之位 置成爲一致時’迴避對準單元5 ，打開曝光光（非曝光光 )照射裝置1之快門1 C，將曝光光照射於光罩上，實行 曝光》 、 又，將上述曝光處理適用於一面移動工件一面依次曝 光工件上之各曝光區域的階段及重複（Step and Ipeat) 1/工程時則在上述⑩以後附加以下之工程；並重複⑧〜@之 (請先閲讀背面之注意事項弄填寫本頁) 本紙張尺度逍用中國國家揉準（CNS ) A4規格（2丨0X297公釐） -10 - A7 B7 44834 5 五、發明説明（8 ) 工程，實行各曝光區域之曝光處理。 ⑪迴避對準單元5。 [- - I ^ -V 1 I m I.---^^1 (請先閱讀背面之注$項再块寫本頁) ⑫打開曝光光（非曝光光）照射裝置1之快門1 C， 將曝光光照射在光罩Μ上，實行曝光。 ⑬關閉曝光光（非曝光光）照射裝置1之快門1 C， 停止曝光照射β ®僅移動工件台4規定量，使下一曝光區域來到所定 之曝光位置。 ⑯***對準單元5，回到上述⑧，重複⑧〜®之工程 ，依次曝光工件上之各曝光區域（階段及重複曝光）。 然而，先前所提案之上述技術係具有不必使用平行平 面板•或不依存於投影透鏡之特性也可實行髙精確度之光 罩與工件之對位的優點，惟適用於上述依次曝光時，產生 如下之問題點。 亦即，擬將先前提案之曝光處理方法適用任依次曝光 時，則在每一次實行曝光時須實行對準單元5之***或迴 經濟部中央標準局員工消費合作社印掣 避，惟在此時，對準單元5之***位置的再現性成爲重要 〇 第15圖係表示變化對準單元5之停止位置時的圖式 •當對準單元5之停止位置成爲同圖之虛線位置時，隨著 此光罩標記ΜΑΜ (或工件標記WAM)之畫像察覺器5 d上之結像位置有變化。 然而，在上述之依次曝光之⑧〜©之階段及重複循環 中，第2次以後因係成爲僅工件標記WAM之位置的受像 本紙張尺度逋用中國®家標準（CNS ) A4規及(__2Ϊ〇 X 297公釐) -11 - 44834 5 Α7 Β7 五、發明説明（9 ) 與標記，因此，具有與記憶在第1次之光罩標記MAM之 記憶位置產生偏差之可能性。 在依次曝光中•一般，對準精確度係大都成爲約± 1 。爲了將工件標記WAM與光罩標記MAM之記憶 位置的偏差復元成該範圍內，對準單元5之位置精確度係 被要求約±0. (光罩Μ與工件W之對準精確度的 約 1 / 1 0 )。 將此很難在每一次對準單元5之***與迴避時機械地 實現。 一方面，在每一次階段及重複循環，若記億光罩標記 ΜΑΜ之位置，則可解決上述問題，惟因在階段及重複循 環之第二次以後係工件W固定在工件台4。因此，在上述 之情形，無法經所謂依照射曝光光所產生之光罩標記 ΜΑΜ位置的記憶的順序。 , 本發明係用於解決上述之以往技術之問題及上述之對 準單元之***位置的再現性之問題而創作著，本發明之第 1項目的，依在於提供一種不必使用平行平面板，又不依 經濟部中央標準局貝工消費合作社印製 (請先閱讀背面之注意事項再壤寫本頁) 存於投影透鏡之特性即可實行高精確之光罩與工件之對位 •適用於依次曝光之適當的光罩與工件之對位方法及裝置 〇 本發明之第2項目的，係在於提供一種光罩標記與工 件標記重疊時等，即使難以識別工件標記時，也能自動地 且容易地檢出光罩標記與工件標記之相對位置，在短時間 內可實行高精確度的光罩與工件之對位方法及裝置。 本紙張尺度逍用中國國家標率（€呢）戍4現格（2丨0乂297公釐} -12 - 4483 4 5 at B7 經濟部中央標牟局員工消費合作社印裝 五、發明説明（10 ) 〔解決課題所用之手段〕 爲了解決上述課題，在本發明，係在工件台上位於從 工件與固定領域之位置設置反射構件，構成如下俾實行光 罩與工件之對位者。 首先，將曝光光照射在光罩之對準標記而在上述反射 構件投影光罩之對準標記，檢出/記憶其相對位置。然後 ，停止曝光光之放出後，將載置有工件之工件台，移動至 光置上之對準標記投影在上述工件上之位置，並將非曝光 光向工件之對準標記照射，檢出/記憶工件之對準標記的 相對位置，演算光罩之對準標記與工件之對準檩記的相對 位置資料，求出兩對準標記之位置偏差，移動工件及/或 光罩使該兩對準標記重叠》 在本發明之申請專利範圍第1項及第3項之發明，如 上所述，因實行光罩與工件之對位，因此，不必使用平行 平面板，或未依存於投影透鏡之特性可實行高精確度之光 罩與工件之對位* 又，因個別地檢出光罩之對準標記與工件之對準標記 之位置，因此不會有受到光罩之對準標記或光罩圖案等之 影響而難以識別工件之對準標記，可容易檢出兩對準標記 之相對位置。因此，在自動對準時，在短時間內可實行高' 精確度之對位* 在本發明之申請專利範圍第2項及第4項之發明，因 將上述對位適切用於依次曝光，利用設用於從工件之固定 本紙張财關家辟（CNS ) ( 21G X 297公釐）" ' -13 - (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 4483 4 5 Α7 Β7 五、發明説明（11 ) (請先Μ讀背面之注意事項再场寫本頁) 領域離開之位置的反射構件而檢出/記憶光置之對準標記 的相對位置，因此，可得到與申請專利範圍第1 ，2項同 樣之效果，而且實行工件上之各曝光區域的曝光處理時， 仍將工件固定在工件台上之狀態下，可受像光罩標記之投 影像而記億該位置。因此，不會受到對準單元之***位置 的精確度之影響，可實行高精確度之對準。 〔發明之實施形態〕 第1圖係表示本發明之第1實施例，本實施例係表示 實行上述之依次曝光時的實施例。又，在以下之實施例， 雖說明依次曝光，惟本發明不僅爲依次曝光，也可適用於 表示在以往例的曝光處理。 第1圖係表示本發明之第1實施例的圖式。在同圖中 ，在與表示於第1 1圖者相同者附與相同之記號* 1係曝 光光（非曝光光）照射裝置，la係燈，lb係聚光鏡， 1c係快門，1d係濾光片，1e係聚光透鏡。 經濟部中央標準局貝工消費合作社印袈 2係光罩台，光罩台2係藉未予圖示之驅動裝置向X ’ y ’ z ，0驅動》又，Μ係光罩，而在光罩Μ印有光罩 圖案與對位用之光罩標記ΜΑΜ > ΜΑ 1係將曝光光照射於光罩Μ上的光罩對準用部分 照明系統，7 a係導入部分照明光的光纖，7 b係透鏡； 7 c係反射鏡。 3係投影透鏡，W係工件，在工件W印有對位用之工 件標記WAM » 4係工件台，而在工件台4埋設有全反射 本紙張尺度適用宁國®家梂皁（CNS Μ4规格（2丨ΟΧ25»7公釐） 4483 4 5 A7 B7 經濟部中央標隼局負工消費合作社印製 五、發明説明（12 ) 鏡或半透明反射鏡4 a。又，工件台4係藉未予圖示之驅 動裝置向X，y ，z ’ 6*方向驅動》又，上述之反射鏡 4 a係如下所述以半透明反射鏡較理想。 ’ 第2 ( a )圖係表示從第1圖之上方觀看上述工件台 4的圖式。同圖中以虛線所示之位置係工件W之固定位置 。在工件台4上的工件固定位置之上方，設有反射鏡4 a ，而在工件W上，如同圖所示設有多數之曝光區域。 反射鏡4 a之高度係如第2 (b)圖所示，設成工件 W之標準高度較理想。藉由構成如此，如下所述，將工件 台4向z軸方向（第1圖之上下方向）移動，可減少將反 射鏡4 a之反射面與光罩圖案投影面成爲一致時的z方向 移動，而可提高精確度》 在第1圖，WA 1係對準標記用部分照明系統，未予 圖示之光源所放射之非曝光光係經由光纖6 a再經由透鏡 6 6 —反射鏡6 c入射於對準單元5之半透明反射鏡5 e ，俾照射工件W上之工件標記WAM。又，未設置對準標 記用部分照明係統WA 1 ，如下述地，從曝光光（非曝光 光）照射裝置1經由濾光片1d可將非曝光光也照射在工 件W上。 5係對準單元，對準單元5係由透鏡5 a ，對物透鏡 5b，5e，及具備CCD攝影機之畫像察覺器5d所構 成，經由透明反射鏡5 c—對物透鏡5 b —半透明反射鏡 5 e —透鏡5 a ，以畫像察覺器5 d受像投影在設於工件 台4之反射鏡4 a的光罩標記MAM及藉由上對準標記用 本紙張尺度適用中國國家揉準（CNS ) A4規格（210X29?公釐） mi n - - f il^i 1. ,*K^i ^^^1 VJ (请先閱讀背面之注意事項寫本頁) -15 - 448345 A7 B7 經濟部中央標準局貝工消费合作社印装 五、發明説明（13 ) 部分照明係統W A 1所照射的工件標記W A M a又如上所 述，對準單元5及部分照明系統WA 1係對應於光罩標記 與工件標記之數量而被設置，至少設置在兩處。 第3圖係表示控制本發明之曝光裝置之系統構成的圖 式。在同圖中，1 1係操作面板，1 2係控制如第1圖所 示之投影曝光裝置的演算裝置，1 3係台控制部，台控制 部13係將表示於第1圖之光罩台2，工件台4控制成向 X，y，z ，0 方向。 1 4係畫像處理部，畫像處理部1 4係如下所述，以 對準單元5之畫像察覺器5 d認識被受像的光罩標記 MAM並記憶該位置座標，然後以對準單元5之畫像察覺 器5 d認識被受像的工件標記WAM，並檢出其位置座標 Λ 又，演算裝置1 2係求出以畫像處理部1 4所檢出之 上述光罩標記ΜΑΜ之位置座標與工件標記WAM之位置 座標的相差，台控制部1 3係移動光罩台2或/及工件台 4使兩者相一致。又，由對準單元5被受像之光罩標記 ΜΑΜ與工件標記WAM係顯示於監視器1 5 » 以下，說明本實施例之曝光處理》 ① 將光罩Μ載置固定在光罩台2 ，並將光罩對準用部 分照明系統W A 1***在所定位置。 ' ② 將工件台4向X，y方向移動，使反射鏡4 a位於 光罩標記MAM投影位置》 亦即，如第4圖所示，例如從同圖之虛線位置將工件 -------„---装-- (請先閲讀背面之注意事項再本頁) ,11 本紙張尺度逍用中國國家揉準（CNS > Α4規格（2丨ΟΧ297公釐） -16 - 4483 4 5 Α7 Β7 經濟部中央橾準局負工消費合作杜印裝 五、發明説明（u ) 台4移動至實線位置，而在光罩標記MAM投影位置與反 射鏡4 a之位置一致。 ③ 藉由光罩對準用部分照明系統M A 1將曝光光照射 在光罩Μ上。又，在該階段，在工件台4未載置工件w ^ ④ 移動工件台4之z方向位置，使工件台4之反射鏡 4 a之反射面一致於曝光光之光罩圖案投影面z 〇。 ⑤ ***對準單元5(迴避對準單元5時）。又，對準 單元用部分照明系統WA1係與對準單元5—體地構成， 與對準單元5—起被***々 ⑧藉由對準單元5之畫像察覺器5 d來受像投影於工 件台4之透鏡4 a上的光罩標記MAM傳送至畫像處理部 1 4。畫像處理部1 4係從被受像之畫像來識別光罩檩記 MAM，並記億該位置座標（XM，yM)。 又’光罩標記MAM之投影像一般係工件標記WAM 相比較襯比較大’作爲上述反射鏡4 a使用全反射鏡時， 則光罩標記MAM之受畫像與工件標記WAM之受像畫像 之相差變大’而在對準檫記之認識處理上也產生不方便》 如此’作爲上述反射鏡4 a使用半透明反射鏡，較理想與 工件標記WAM之襯比相配合。 ⑦ 停止來自光罩對準用部分照明系統ΜΑ 1之曝光光 的照射。. 、 ⑧ 將工件W載置於工件台4上，固定於表示於上述第 2圖之位置。 ⑨ 將工件台4向z軸方向移動，使工件W之表面一致 本紙張尺度適用中國國家棋率（CNS > A4規格~ΰΐ〇Χ297公釐） " ' ' -17 - (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 4483 4 5 經濟部中央標準局貞工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明（15 ) 於光罩圖案投影面Z ^ ⑱將工件台4向X，y軸方向移動，粗調整工件W位 置’使工件標記WAM —致於光罩標記MAM投影位置。 亦即’如第5圖所示，例如從虛線位置將工件台4移 動至實線位置，將成爲工件W上之曝光對象之曝光區域的 工件WAM之位置大約一致於光罩標記MAM之投影位置 MAMT，使工件標記w AM進入對準單元5之視野。 ⑪在對準檩記用部分照明系統WA 1導入非曝光光之 照明光》亦即，，打開未予圖示之部分照明用光源之快門 ’經由光纖6 透鏡6 b —反射鏡6 c —半透明反射鏡 5 e->透鏡5 b —半透明反射鏡5 c而照射工件W上之工 件標記W A Μ。 ®以畫像察覺器5 d受像工件標記WAM "以畫像察 覺器5 d受像之工件標記WAM之畫像係傳送至畫像處理 部1 4 ’畫像處理部1 4係識別工件標記WAM，求出其 位置座標（XW，yW)。 @停止來自對準檩記用照明系統WA 1之非曝光光之 照射* ⑮演算裝置12係由被記憶之光罩標記MAM的位置 座標（XM，yM)與所求得之工件標記WAM的位置座 標（XW，yW)考量上述步驟②，⑩之工件台4之位置 偏差量求出工件W與光罩Μ之位置偏差。 亦即，因上述驟②，⑩之工件台4之位置偏差量係由 設於未予圖示之工件台移動機構的解碼器計數值等既知， 本紙張尺度逍用t國國家搮率（CNS ) Α4規格（210Χ297公釐> ~ -18 - n-^i I l·— n l·— 1 I IE f— —i T U3.-· (锖先聞讀背面之注意事項再填寫本育) 4483 4 5 經濟部中央標準局員工消費合作社印袈 A7 __；__B7五、發明説明) 因此’在上述位置座標（XM，yM)之數值僅捕上步驟 ②之工件台4的位置與步驟⑩之工件台4的位置的相差 △ X，Ay的相當數值，求出經補正之位置座標（XM + △ X，yM+Ay )與上述位置座標（XW，yW)的位 置偏差。 ㊣台控制部1 3係依照上述位置偏差，向X，y，e 方向驅動光罩台2或/及工件台4 ，俾使光罩標記MAM 與工件標記WAM之位置成爲一致》 ©迴避對準單元5與光罩對準用部照明系統MA1。 Θ打開曝光光照射裝置1之快門1 c ·在濾光片1 d 從光路脫離之狀態下將曝光光照射在光罩Μ上，實行曝光 。完成曝光後|關閉快門1 c。 @僅移動工件台4規定量，使下一曝光區域到達所定 之曝光位置。 ®將光罩對準用部分照明系統ΜΑ 1***在所定位置 砀與上述②同樣，將工件台A向，X，y方向移動， 使反射鏡4 a位於光罩標記MAM投影位置。 ®藉由光罩對準用部照明系統ΜΑ 1 ，將曝光光照射 在光罩Μ上》 Θ移動工件台4之ζ方向位置，使工件台4之反射鏡 4 a之反射面一致於曝光光之光罩圖案投影面Ζ ν。 ®***對準單元5。 然後，回到上述之⑥，重複⑧〜Q之工程，曝光工件 -- ^—^1 ^—^1— n^i t In U3 言 (請先閲讀背面之注意事項寫本頁) 本紙張尺度通用中國國家棣率（CNS ) A4規格（2丨0X297公釐> ~ 19 - 448345 經濟部中央標準局員工消费合作社印製 A7 __________Β7__'___五、發明说明（i?) W之各曝光區域。 如上所述’在本實施例.係在工件台4上設置反射鏡 4a ’①向X ’ y方向移動工件台4使反射鏡4a位於光 罩標記MAM投影位置’②將反射鏡反射面—致光罩圖案 投影面，照射曝光光’將光罩標記MAM投影在反射鏡 4 a上’記憶光罩標記MAM之位置座標之後，③停止上 述曝光光之照射’④移動工件台4，使成爲工件W上之曝 光對象之曝光區域的工件標記WAM之位置大約一致於光 罩標記MAM投影位置，⑤由於將工件w之表面一致於光 罩圖案投影面，藉由非曝光光照射工件標記WA Μ，求出 工件標記WAM之位置座標，因此，不必使用平行平面板 ，或不依存於投影透鏡之特性即可實行高精確度之光罩與 工件之對位。 又，因將反射鏡4 a設於與工件4上之工件設置位置 不相同之部位，因此，仍將工件W固定在工件台4上之狀 態下，每當工件W上之各曝光區域的曝光處理，受像光罩 標記MAM之投影像並可記憶該位置。因此，在每當曝光 處理時|即使對準單元5之***位置有偏差，因在該位置 可受像兩尉準標記，因此不會降低對準精確度。 又，因個別地檢出光罩標記MAM與工件標記WAM之 位置，因此不會受到光罩標記MAM或光罩圖案等之影響 而不會成難以識別工件標記，可容易檢出光罩標記與工件 標記之相對位置。因此，在自動對準時’在短時間內可實 行高精確度之對位。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS > A4規格（210X 297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再磧寫本頁) -20 - 4483 4 5 A7 B7 經濟部中央標準局貝工消費合作社印製 五、發明説明（ 18 ) 1 1 第 6 圖 係 表 示 本 發 明 之 第 2 實 施 例 的 1 »1 圖 式 0 在 第 6 圖 \ 1 中 t 在 與 表 示 於 第 1 圖 者 相 同 者 附 與 相 同 之 記 諕 t 在 本 實 1 1 施 例 贅 係 代 替 設 置 第 1 1 — 1 W 之 光 罩 對 準 用 部 分 照 明 系 統 1 請 1 Μ A 1 ) 而 在 光 罩 Μ 上 設 置 插 入 j 迴 避 之 光 圈 8 » 在 光 罩 先 閲 1 讀 1 對 準 時 t 從 光 EBBT 圈 之 開 放 □ 將 曝 光 光 照 射 在 光 罩 上 者 其 他 背 | 之 雄 稱 成 係 與 表 示 於 第 1 rat 圖 之 實 施 例 同 樣 〇 之 注 意 \ 事 第 7 圖 係 表 示 從 第 6 圖 之 上 方 觀 看 上 述 光 圏 8 的 圖 式 項 再 \ 如 同 圖 所 示 * 在 光 圈 7 i 位 於 相 對 於 印 有 光 罩 標 記 Ϊ 本 装 Μ A Μ 之 位 置 的 位 e〇J 置 上 設 有 開 放 D 0 頁 1 1 以 下 說 明 本 實 施 例 之 曝 光 處 理 〇 1 1 ① 將 光 罩 Μ 載 置 固 定 在 光 罩 台 2 〇 1 | ② 將 光 EB5J 围 8 如 第 6 圖 所 示 插 入 在 光 罩 Μ 上 之 所定位 置 訂 1 〇 又 光 圈 8 之 開 放 □ 位 於 光 罩 Jatf 保 記 Μ A Μ 之 大 的 約 正 上 1 1 1 方 〇 1 1 I ③如 上 述 第 4 圖 所 示 向 X y 方 向 移動 工 件 台 4 使 1 1 反 射 鏡 4 a 位 於 光 罩 標 記 Μ A Μ 投 影 位 置 並 將 反 射 鏡 1 4 a 之 位 置 一 致 於 光 罩 標 記 Μ A Μ 投 影 位 置 〇 1 1 ④ 在 濾 光 片 1 d 從 光 路 脫 離 之 ULIi m 態 下 ， 打 開 曝 光 光 ( I 非 曝 光 光 ) 照 射 裝 置 1 之 快 門 1 C 9 並 將 曝 光 光 照 射 在 光 1 | 罩 Μ 上 〇 又 ， 在 該 階 段 ♦ 在 工 件 台 4 並 未 載 置 工 件 W 0 1 1 ⑤ 移 動 工 件 台 4 之 Z 方 向 位 置 使 工 件 台 4 之 反 射 鏡 1 I 4 a 的 反 射 面 一 致 於 曝 光 光 之 光 罩 tai 圖 案 投 影 面 Z 0 0 \ 1 ⑧插 入 對 準 單 元 5 9 1 1 ⑦ 藉 由 對 準 單 元 5 之 畫 像 察 覺 器 5 d 受 像 投 影 在 工 件 1 1 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -21 — 448345 經濟部中央標準局員工消费合作社印製 A7 _____B7五、發明説明（19 ) 台4之反射鏡4 a上的光覃標記MAM，記億其位置座標 (X Μ，y Μ )。 ⑧ 關閉曝光光（非曝光光）照射裝置1之快門1 c， 停止曝光光之照射。 ⑨ 將工件W載置於工件台4上並固定在工件台4上。 ⑩ 向z軸方向移動工件台4，使工件W之表面一致於 光罩圖案投影面Z 〇 » ⑪向X，y方向移動工件台，如上述第5圖所示，使 工件標記WAM致於光罩標記MAM之投影位置ΜΑ TM ，粗調整工件W位置· ®在對準標記用部分照明系統WA1導入非曝光光之 照明光，將非曝光光照射在工件W上之工件標記W A Μ。 ⑧以畫像察覺器5 d受像工件檩記WAM *求出其位 置座標（X W，y W )。 ⑭停止來自對準標記用部分照明系統WA1之非曝光 光的照射。 ®從光罩標記MAM之位置座標（XM，yM)與所 求出之工件標記WAM之位置座標（XW，YW)考量上 述步驟③，⑪之工件台4之位置偏差量求出工件W與光罩 Μ的位置偏差。又，與第1實施例同樣，上述步驟③，⑪ 的工件台4之位置偏差量係由設於未予圖示之工件台移動 機構的解碼器計數值等已知。 ⑤向乂，Υ，0方向驅動光罩台2或/及工件台4 ， 俾光罩標記ΜΑΜ與工件標記WAM之位置一致。 本紙張尺度適用中國0家橾準{ 〇«)八4規格（21(^297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再4寫本頁) -22 - 448345 A7 B7__ 五、發明説明（20 ) ®迴避對準單元5及光圈8。 ⑪打開曝光光照射裝置1之快門1 c ，將曝光光照射 於光罩Μ上，實行曝光。完成曝光之後，關閉快門1 c。 Ο移動工件台僅規定量•俾使下一曝光區域到達所定 之曝光位置。 @將光圈8***於光罩Μ上之所定位置。 ®與上述③同樣，向X，y方向移勖工件台4俾使反 射鏡4 a位於光罩檫記MAM投影位置。 @將曝光光照射於光罩Μ上* @移動工件台4之2方向移動位置，俾使工件台4之 反射面一致於曝光光之光罩圖案投影面Ζ〇 。 0***對準單元5。 然後，回到上述⑦，重複⑦〜©之工程，曝光工件W 之各曝光區域。 在本實施例，由於如上所述代替使用光罩對準用部分 照明系統而使用光圈，因此，與第1實施例相比較，可簡 化裝置之構成，可低成本地構成》 經濟部中央標隼局舅工消费合作社印製 (請先Μ讀背面之注意事項再填寫本頁) 又，在本實施例時，將工件台4之大小及其X，y方 向之移動量所成比第1實施例大|並將工件設置位置反射 鏡4 a之距離形成比第1實施例遠較理想。因此，在光罩 對準時，因從光圈8之開放口洩漏之曝光光，可防止工件 W被曝光》 第8圖係表示本發明之第3實施例之工件台4的圖式 '同圖係表示從上方觀看工件台4的圖式，在本實施例中 本紙張又度適用中國a家!Ml ( CNS > Α4规格（210X297公釐） -23 - 4483 4 5 A7 B7 經濟部中央標準局員工消费合作杜印裝 五、發明説明（21 ) ，如同圖所示將反射鏡4 a配設於從工件台4上之工件設 置位置完全地分離之位置，在光罩對準時，而從曝光光（ 非曝光光）照射裝置1將曝光光照射在光罩Μ上時，曝光 光不會照射在工件W上》 以下，說明本實施例之曝光處理。又，本實施例之曝 光裝置，係從第1圖者除去光罩對準用部分照明系統 ΜΑ1 ，或是從第6圖者除去光圈8，而且變更工件台4 上之反射鏡之大小/配置，並增加工件台4之X * y方向 的移動量者1其他之構成係與表示於第1圖，第6圖者同 樣。 ① 將光罩Μ載置固定在光罩2。 ② 如上述第9圖所示，向X，y方向移動工件台4使 反射鏡4 a位於光罩標記MAM投影位置，並將反射鏡 4 a之位置一致於光罩標記MAM投影位置。 ③ 在濾光片1 d從光路脫離之狀態下，打開曝光光（ 非曝光光）照射裝置1之快門1 c ，並將曝光光照射在光 罩Μ上。又，在該階段，在工件台4並未載置工件W * ④ 移動工件台4之ζ方向位置使工件台4之反射鏡 4 a的反射面一致於曝光光之光罩圖案投影面Ζ 〇 » ⑤ ***對準單元5。 ⑥ 藉由對準單元5之畫像察覺器5 d受像投影在工件 台4之反射鏡4 a上的光罩標記MAM，記億其位置座標 (X Μ，y Μ )。 ⑦ 關閉曝光光（非曝光光）照射裝置1之快門1 C · 私紙張尺度逍用中國國家梯準（CNS ) A4C格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再域寫本I·) 裝. 24 4483 4 5 經濟部中央標準局員工消費合作社印装 A7 _B7五、發明説明（22 ) 停止曝光光之照射。 ⑧ 將工件W載置於工件台4上並固定在工件台4上<· ⑨ 向z軸方向移動工件台4，使工件W之表面一致於 光罩圖案投影面Zo。 ⑱向X ’ y方向移動工件台’如上述第1 〇圖所示， 使工件標記WAM致於光罩檩記MAM之投影位置 ΜΑ TM，粗調整工件W位置。 ⑪在對準標記用部分照明系統WA1導入非曝光光之 照明光，將非曝光光照射在工件W上之工件標記WAM。 ⑫以畫像察覺器5 d受像工件標記WAM，求出其位 置座標（X W，y W )。 ®停止來自對準檫記用部分照明系統WA1之非曝光 光的照射。 ®從光罩標記MAM之位置座標（XM，yM)與所 求出之工件標記WAM之位置座楔（XW，YW)考量上 述步驟②，⑬之工件台4之位置偏差量求出工件W與光罩 .M的位置偏差。又，與第1實施例同樣，上述步驟②，⑱ 的工件台4之位置偏差量係由設於未予圖示之工件台移動 機構的解碼器計數值等已知。 ©向乂，Y，0方向驅動光罩台2或/及工件台4， 俾光罩標記MAM與工件標記WAM之位置一致。 、 ®迴避對準單元5。 ®打開曝光光照射裝置1之快門1 c ，將曝光光照射 於光罩Μ上，實行曝光。完成曝光之後，關閉快門lc。 (諳先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS >Α4規格（210X297公釐） -25 - 448345 A7 87 經濟部中央標準局員工消費合作社印裝 五、發明説明（23 ) ®移動工件台僅規定量，俾使下一曝光區域到達所定 之，曝光位置。 Θ與上述②同樣，向X，y方向移動工件台4俾使反 射鏡4 a位於光罩標記MAM投影位置β ®將曝光光照射於光罩Μ上。 @移動工件台4之ζ方向移動位置，俾使工件台4之 反射面一致於曝光光之光罩圖案投影面Ζ〇 。 ©***對準單元5。 然後，回到上述⑧，重複⑥〜®之工程，曝光工件W 之各曝光區域。 在本實施例，由於如上所述從工件台4上之工件裝置 位置完全地分離之位置配置反射鏡4a ，因此，在光罩對 準時，不必使用如第1圖所示之光罩對準用部分照明系統 或如第6圖所示之光圈8即可從曝光光（非曝光光）照射 裝置1照射曝光光* 又，各實施例之非曝光光之照射，代替使用對準標記 用部分照明系統WA1 ，也可以經由濾光片Id藉曝光光 (非曝光光）照射裝置1所實行。 又，在所有實施例中，擬將光罩標記MAM與工件標 記WAM之位置成爲一致時，向X，y，0方向僅驅動工 件台較理想。此乃依以下之理由。 、 一般，光罩台*工件台均在其移動量係有某一程度之 誤差。因此，爲了對位而將台移動所定量之後，再確認光 罩標記MAM與工件標記WAM之位置關係，若位置偏差 (請先W讀背面之注意事項#填寫本頁) 本紙故尺度逍用中圉國家梂準（CNS M4说格ί 210X297公釐） - 26 - 4483 4 5 A7 B7 經濟部中央標準局負工消費合作社印笨 五、發明説明（24 ) 量未在容許值以下時，則須實行對位。 僅驅動工件台時，將非曝光光再照射於工件標記 WAM並記億其位置座標（xW，yW)，之後，與事先 記憶之光罩標記的位置座標（xM，yM)可以相比較。 一方面，動驅光罩台時，須將曝光光照射在工件標記 MAM而須記億其投影像之位置座標（XM，YM)之位 置。然而，該再對位時，則須將上述投影像投影在工件上 ，而工件上之光阻劑會感光。 因此，擬腐動光罩台時，則以另設之雷射干擾計等測 長手段來測定光罩台之移動量，而依據該資料來再調整， 或是須將具有高精確度之台採用作爲光罩台。 因此，一般大都僅驅動工件台來實行對位。 〔發明之效果〕 如上所述，在本發明，係在工件台上位於從工件囿定 領域之位置設置反射構件，而在反射構件投影光罩之對準 標記，檢出/記憶其相對位置，然後，將載置有工件之工 件台，移動至光罩上之對準標記投影在上述工件上之位置 ，並將非曝光光向工件之對準標記照射，檢出/記億工件 之對準標記的相對位置•演算光罩之對準標記與工件之對 準標記的相對位置資料，移動工件及/或光罩使該兩對準 標記重叠，故可得到以下之效果。 ①不必使用平行平面板，或未依存於投影透鏡之特性 可實行高精確度之光罩與工件之對位" L·— U— 1 > i— II |< n HH τ U3 、νβ (請先閲讀背面之注意事項再城寫本頁) 本紙張尺度適用中國固家梯率（CNS > Λ4規格（210X29?公釐） -27 - 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經濟部中央標隼局員工消费合作社印I A7 B7五、發明説明（25 ) 又，因別地檢出光罩標記MAM與工件標記WAM之 位置，因此，不會有受到光罩標記MAM或光罩圖案等之 影而難以識別工件之對準標記，可容易檢出光罩標記與工 件標記之相對位置。因此，在自動對準時，在短時間內可 實行高精確度之對位。 ②將本發明適用於依次曝光*因將利用設於從工件之 固定領域離開之位置的反射構件而檢出/記億光罩之對準 標記的相對位置，因此實行工件上之各曝光區域的曝光處 理時，仍將工件固定在工件台上之狀態下，可受像光罩標 記之投影像而記億該位置。因此，不會受到對準單元之插 入位置的精確度之影饗，可實行高精確度之對準。 〔圖式之簡單說明〕 第1圖係表示本發明之第1實施例的圖式。 第2圖係表示工件台上之反射鏡的配置的圖式》 第3圖係表示控制本發明之曝光裝置之系統之構成的 圖式。 第4圖係表示受像光罩對準標記時之工件台之位置的 圖式。 第5圖係表示受像工件對準標記時之工件台之位置的 圖式。 ' 第6圓係表示本發明之第2實施例的圖式。 第7圖係表示使用於第2實施例之光圈的圖式-第8圖係表示本發明之第3實施例之工件台4的圖式 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度遥用中國國家標牟（CNS Μ4規格（210Χ297公釐） —28 - 4483 4 5 A7 B7 五、發明説明（26 的 置 位 之 台 件Η 之 時 記 標 準 對 罩 光 像 受 示 表 係 圖 9 第 式 圖 置 位 之 台 件Η 之 時 記 標 準 對 件Η 像 受 示 表 係 圖 ο ο 第式 圖 的 置 圖 位 的 。 之 差 式記 偏 圖標 之 的準 置 成對 位 構之 點 之上 焦 置面 之 裝影 板 光投 面 曝案 平 之圖 行 往罩 平 以光 依 示示 示 表表 表 係係 係 圖圖 圖 12 3 1 1 β 1 第第式第 圖 的 式 第14圖係表示利用反射構件實行對位之曝光裝置之 構成的圖式。 第1 5圖係表示對準單元之停止位置與結像位置之關 係的圖式8 (請先閱讀背面之注意事項ί寫本頁) 裝. 訂 經濟部中央標準局員工消f合作社印製 置 裝 射 照 光 光 曝 非 鏡 ]C 鏡 片透 置 明光 光，門光光台位 說光燈聚，快濾聚罩影 之 曝：：··：： 光 投 號 ·· a b c d 6 : -~~i 1 1 '—II 1 2 3 本紙张尺度逋用中國國家標準（CNS > A4说格（2〖OX297公釐） -29 - 4483 4 5 A7 B7 五、發明説明（27 ) 4 :工件台 a 4 5 a 5 鏡 透 b 7 鏡元 ， 射單 b 反準 6 : 對 ， b c 5 5 對 5 d a 5 6 畫 c 6 8 2 1 7 7 圈操演 ， I : : 鏡 射 反 明 鏡透器纖 射半覺光 反：察： 物 e 像 a
鏡 射 反 C (請先閲讀背面之注意事項再域寫本頁) 5 1 監罩 : 光 部 板置部理 面裝制處器 作算控像視 經濟部中央標準局員工消費合作社印簟
統統 系系 明明 照照 分分 部部 用用 記 記記準 標 標標對 罩 件準罩 光 工對光 · 1 . r I f r MHM11 : A : A A A Μ M w w w M 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS > A4说格（210X297公釐） -30 -