TW202418843A - 一種開放式耳機 - Google Patents

Abstract

本說明書實施例提供一種開放式耳機，包括：發聲部，包括換能器和容納換能器的殼體；耳掛，在佩戴狀態下，耳掛的第一部分掛設在用戶耳廓和頭部之間，耳掛的第二部分向耳廓背離頭部的一側延伸並連接發聲部以將發聲部固定於耳道附近但不堵塞耳道的位置，其中，換能器包括振膜，殼體朝向耳廓的內側面上開設有出聲孔，用於將振膜振動產生的聲音匯出殼體後傳向耳道，其中，出聲孔的中心與耳掛的上頂點之間的距離的範圍為22.5mm~34.5mm。

Description

一種開放式耳機

本發明涉及聲學技術領域，具體係涉及一種開放式耳機。

本發明要求於2022年10月28日提交的申請號為2022113369184、於2022年12月1日提交的申請號為2022232396286、於2023年03月02日提交的申請號為2023102377586的中國大陸專利申請的優先權，以及於2022年12月30日提交的申請號為PCT/CN2022/144339的PCT申請的優先權，其全部內容透過引用併入本文。

隨著聲學輸出技術的發展，聲學裝置(例如，耳機)已廣泛地應用於人們的日常生活，其可以與手機、電腦等電子設備配合使用，以便於為用戶提供聽覺盛宴。開放式耳機係一種在特定範圍內實現聲傳導的可攜式音訊輸出設備。與傳統的入耳式、耳罩式耳機相比，開放式耳機具有不堵塞、不覆蓋耳道的特點，可以讓用戶在聆聽音樂的同時，獲取外界環境中的聲音資訊，提高安全性與舒適感。開放式耳機的輸出性能對於用戶的使用舒適度具有很大的影響。

因此，有必要提出一種開放式耳機，以提高開放式耳機的輸出性能。

本發明實施例提供了一種開放式耳機，其包括：發聲部，包括換能器和容納換能器的殼體；耳掛，在佩戴狀態下，耳掛的第一部分掛設在用戶耳廓和頭部之間，耳掛的第二部分向耳廓背離頭部的一側延伸並連接發聲部以將發聲部固定於耳道附近但不堵塞耳道的位置，其中，殼體朝向 耳廓的內側面上開設有出聲孔，用於將換能器產生的聲音匯出殼體後傳向耳道，出聲孔的面積與承載出聲孔的內側面的面積之比在0.015~0.25之間。透過將出聲孔的面積與承載出聲孔的內側面的面積之比確定在該比值範圍內，可以滿足承載出聲孔的內側面的面積與人體耳甲腔尺寸適配，此外可以避免出聲孔面積過大，影響出聲孔處防水防塵結構和支撐結構的穩定性，也可以避免內側面的面積過小，影響換能器推動空氣的面積。

在一些實施例中，在佩戴狀態下，殼體至少部分***耳甲腔，出聲孔的截面積為2.87mm²~46.10mm²，內側面的面積為160mm²~240mm²。透過將出聲孔的截面積確定在該尺寸範圍內，可以使開放式耳機的頻響曲線具有較寬的平坦區域的同時，提升開放式耳機的音質，同時便於EQ的調整。透過將內側面的面積確定在該尺寸範圍內，可以在滿足佩戴舒適度的基礎上，還可以使開放式耳機的聲學性能係優於現有的開放式耳機。

在一些實施例中，出聲孔的截面積與出聲孔的深度的平方之比為0.31-512.2。透過將出聲孔的截面積與出聲孔的深度之比確定在該比值範圍內，可以使出聲孔發出的聲音在中低頻範圍內的效果較好。

在一些實施例中，出聲孔的深度的取值範圍為0.3mm-3mm，可以保證前腔具有足夠大的諧振頻率。

在一些實施例中，出聲孔的中心距發聲部的下側面的距離範圍為4.05mm~6.05mm，可以使出聲孔盡距離耳道較近，以使開放式耳機佩戴時出聲孔在矢狀面的投影能夠部分或全部位於耳甲腔區域內，同時提升出聲孔在耳道的聲音強度。

在一些實施例中，出聲孔的中心距發聲部的後側面的距離範圍為8.15mm~12.25mm，可以使發聲部至少部分***耳甲腔，同時避免由於出聲孔中心沿方向距發聲部的後側面的距離太近而導致出聲孔的全部或部分面積由於自由端與耳甲腔壁面的抵接而被遮擋，保證出聲孔的有效面積不會減小。

在一些實施例中，換能器包括磁路組件，磁路組件用於提供 磁場，出聲孔的中心距磁路組件的底面的距離範圍為5.65mm~8.35mm，可以保證發聲部的發聲效率足夠高、後腔諧振頻率在合適頻率範圍內以及用戶佩戴足夠舒適。

在一些實施例中，出聲孔的中心距離磁路組件的長軸中心面的距離範圍為1.45mm~2.15mm，可以限定發聲部沿Y方向的尺寸，以使發聲部的尺寸能夠與耳甲腔的尺寸相適配。

在一些實施例中，在佩戴狀態下，出聲孔的中心與耳掛的上頂點之間的距離的範圍為22.5mm~34.5mm，可以使開放式耳機佩戴時出聲孔在矢狀面的投影能夠部分或全部位於耳甲腔區域內。

在一些實施例中，在佩戴狀態下，出聲孔的中心在矢狀面的投影距耳掛的上頂點在矢狀面的投影的距離範圍為18mm~30mm，可以保證發聲部至少部分***耳甲腔的前提下，出聲孔在矢狀面的投影能夠部分或全部位於耳甲腔區域內。

在一些實施例中，在佩戴狀態下，出聲孔的中心距耳掛的上頂點的距離與內側面的上下邊界之間距離的比值在1.2~2.2之間，可以保證發聲部的發聲效率足夠高並提高用戶佩戴的舒適性，且使出聲孔在矢狀面的投影至少部分能夠位於耳甲腔區域內，且盡可能距耳道較近。

在一些實施例中，在佩戴狀態下，出聲孔的中心距耳掛的上頂點的距離與出聲孔的中心距發聲部的上側面的距離的比值在1.94~2.93之間，可以保證發聲部與耳掛的上頂點間具有足夠的間隔以伸入耳甲腔，也可以出聲孔的中心距耳掛的上頂點的距離與出聲孔的中心距發聲部的上側面的距離的比值不會太小。

在一些實施例中，出聲孔的中心在矢狀面的投影點距耳道的耳道口的中心在矢狀面的投影點的距離範圍為2.2mm~3.8mm，可以使出聲孔在離耳道較近的位置且不被耳屏遮擋。

在一些實施例中，出聲孔的中心在矢狀面的投影點距內側面的上邊界的中點在矢狀面的投影點的距離範圍為10.0mm~15.2mm，可以 在發聲部11至少部分地***耳甲腔內的前提下，使出聲孔112靠近耳道設置，且能夠使腔體結構具有合適體積V，從而使得耳道的收音效果較好。

在一些實施例中，內側面的上邊界的中點在矢狀面的投影點距耳道口的中心在矢狀面的投影點的距離範圍為12mm~18mm，可以使發聲部伸入耳甲腔且內側面的上邊界與耳甲腔之間存在適當的縫隙(形成腔體結構的洩露結構)。

在一些實施例中，出聲孔的中心在矢狀面的投影點距內側面的下邊界的1/3點在矢狀面的投影點的距離範圍為3.5mm~5.6mm，可以在發聲部11至少部分地***耳甲腔內的前提下，使出聲孔112靠近耳道設置，且能夠使腔體結構具有合適體積V，從而使得耳道的收音效果較好。

在一些實施例中，內側面的下邊界的1/3點在矢狀面的投影點距耳道口的中心在矢狀面的投影點的距離範圍為1.7mm~2.7mm，可以使發聲部伸入耳甲腔且內側面的下邊界與耳甲腔之間存在適當的縫隙(形成腔體結構的洩露結構)。

在一些實施例中，在佩戴狀態下，殼體至少部分位於對耳輪處，出聲孔的中心距發聲部的下側面的距離範圍為2.3mm~3.6mm，可以使出聲孔設置在距離耳道較近的位置，即出聲孔更加靠近發聲部的下側面，從而提升出聲孔在耳道的聲音強度。

在一些實施例中，出聲孔的中心距發聲部的後側面的距離範圍為9.5mm~15.0mm。

在一些實施例中，在佩戴狀態下，出聲孔的中心與耳掛的上頂點之間的距離的範圍為17.5mm~27.0mm，以保證開放式耳機佩戴時出聲孔在矢狀面的投影能夠部分或全部位於耳甲艇區域內。

在一些實施例中，在佩戴狀態下，出聲孔的中心距耳掛的上頂點的距離與內側面的上下邊界之間距離的比值在0.95~1.55之間，可以保證發聲部的發聲效率足夠高並提高用戶佩戴的舒適性，且使出聲孔在矢狀面的投影至少部分能夠位於耳甲艇區域內。

在一些實施例中，在佩戴狀態下，出聲孔的中心距耳掛的上頂點的距離與出聲孔的中心距發聲部的上側面的距離的比值在1.19~2.50之間，可以使出聲孔在內側面上距離耳道較近的位置，且可以保證發聲部與耳掛的上頂點間具有足夠的間隔(防止發聲部和耳掛給耳部造成太大的壓力)。

在一些實施例中，出聲孔的中心與耳掛所在的平面之間的距離在3mm~6mm之間，可以使發聲部與耳掛配合將發聲部壓持在耳部上，提升開放式耳機的佩戴舒適度。

在一些實施例中，出聲孔的長軸尺寸與出聲孔的短軸尺寸的比值範圍在1~10之間。由於出聲孔截面積一定時，隨著出聲孔長寬比增大，發聲部前腔的諧振峰的諧振頻率逐漸向高頻移動，諧振峰強度逐漸降低。因此透過將出聲孔的長軸尺寸與出聲孔的短軸尺寸的比值確定在該範圍內時，可以保證前腔的諧振峰的強度足夠強。

在一些實施例中，出聲孔的長軸尺寸與出聲孔的短軸尺寸的比值範圍在2~4之間，可以進一步提升前腔的諧振峰的強度。

本說明書實施例還提供一種開放式耳機，包括發聲部，包括換能器和容納換能器的殼體；耳掛，在佩戴狀態下，耳掛的第一部分掛設在用戶耳廓和頭部之間，耳掛的第二部分向耳廓背離頭部的一側延伸並連接發聲部以將發聲部固定於耳道附近但不堵塞耳道的位置，其中，換能器包括振膜，殼體朝向耳廓的內側面上開設有出聲孔，用於將振膜振動產生的聲音匯出殼體後傳向耳道，其中，出聲孔的面積與振膜在其振動方向的投影面積之比在0.016~0.261之間，這時換能器的振膜在其振動方向上的投影面積可以等於或略小於內側面IS在振膜振動方向的投影面積。

在一些實施例中，在佩戴狀態下，殼體至少部分***耳甲腔，出聲孔的截面積為2.87mm²~46.10mm²，振膜在其振動方向的投影面積為150mm²~230mm²，可以提升前腔的諧振頻率，且可以提升開放式耳機的佩戴穩定性和發聲效率的影響。

本說明書實施例還提供一種開放式耳機，包括發聲部，包括 換能器和容納換能器的殼體；耳掛，在佩戴狀態下，耳掛的第一部分掛設在用戶耳廓和頭部之間，耳掛的第二部分向耳廓背離頭部的一側延伸並連接發聲部以將發聲部固定於耳道附近但不堵塞耳道的位置，其中，換能器包括振膜，殼體朝向耳廓的內側面上開設有出聲孔，用於將振膜振動產生的聲音匯出殼體後傳向耳道，其中，出聲孔的中心與耳掛的上頂點之間的距離的範圍為22.5mm~34.5mm，能夠在保證發聲部至少部分***耳甲腔的前提下，使出聲孔在矢狀面的投影能夠部分或全部位於耳甲腔區域內。

10:開放式耳機

100:耳部

101:外耳道

102:耳甲腔

103:耳甲艇

104:三角窩

105:對耳輪

106:耳舟

107:耳輪

1071:耳輪腳

108:耳垂

109:耳屏

11:發聲部

111:殼體

112:出聲孔

113:泄壓孔

114:前腔

1141:振膜

1142:音圈

1143:盆架

1144:磁路組件

11441:導磁板

11442:磁體

11443:容納件

1145:固定環

115:後腔

116:換能器

12:耳掛

121:第一部分

122:第二部分

13:主控電路板

41:腔體結構

42:洩漏結構

A:聲源

A’,B’:次級聲源

A1,A2:點聲源(或單極子聲源)

A3:實線框

A4,B3,C,O’:投影點

B:反相聲源

B2,C1:虛線框

CE:連接端

d:長軸尺寸

d₁,d₂,h₁,h₂,l₁:距離

f,f₁:諧振頻率

FE:自由端

G:虛線圈

h:短軸尺寸

IS:內側面

J:耳屏前側的區域

L:深度

LC:第二洩露結構

LS:下側面

M:上頂點

M₁,M₂:耳廓內的區域

Ma:聲重量

NN’:面

O:中心

OS:外側面

RS:後側面

S:開口面積(截面積)

S0:面積

UC:第一洩露結構

US:上側面

V:體積

X:長軸方向

Y:短軸方向

Z:厚度方向

α:漏音指數

本發明將以示例性實施例的方式進一步說明，這些示例性實施例將透過圖式進行詳細描述。這些實施例並非限制性的，在這些實施例中，相同的編號表示相同的結構，其中：

圖1係根據本發明的一些實施例所示的示例性耳部的示意圖；

圖2係根據本發明一些實施例所示的開放式耳機的示例性結構圖；

圖3係根據本發明一些實施例所示的兩個點聲源與聽音位置的示意圖；

圖4係根據本發明一些實施例所示的單點聲源和雙點聲源在不同頻率下的漏音指數對比圖；

圖5係根據本發明一些實施例所示的偶極子聲源的兩個聲源之間設置擋板的示例性分佈示意圖；

圖6係根據本發明一些實施例所示的偶極子聲源的兩個聲源之間設置擋板和不設置擋板的漏音指數圖；

圖7係根據本發明一些實施例所示的開放式耳機的示例性佩戴示意圖；

圖8係圖7所示的開放式耳機朝向耳部一側的結構示意圖；

圖9係根據本發明一些實施例所示的偶極子聲源的其中一個聲源周圍設置腔體結構的示例性分佈示意圖；

圖10A係根據本發明一些實施例所示的偶極子聲源結構和偶極子聲源的其中一個聲源周圍構建腔體結構的聽音原理示意圖；

圖10B係根據本發明一些實施例所示的偶極子聲源結構和偶極子聲源 的其中一個聲源周圍構建腔體結構的漏音原理示意圖。

圖11A係根據本發明一些實施例所示的具有兩個水平開口的腔體結構的示意圖；

圖11B係根據本發明一些實施例所示的具有兩個垂直開口的腔體結構的示意圖；

圖12係根據本發明一些實施例所示的具有兩個開口和一個開口的腔體結構的聽音指數曲線對比圖；

圖13係根據本發明另一些實施例所示的開放式耳機的示例性佩戴示意圖；

圖14係圖13所示的開放式耳機朝向耳部一側的結構示意圖；

圖15係根據本說明書一些實施例所示的開放式耳機處於佩戴狀態時在矢狀面的投影示意圖；

圖16A係根據本說明書一些實施例所示的發聲部的示例性內部結構圖；

圖16B係根據本說明書一些實施例所示的換能器的示例性內部結構圖；

圖17A係根據本說明書一些實施例所示的長寬比一定時不同截面積的出聲孔對應的開放式耳機的頻響曲線圖；

圖17B係根據本說明書一些實施例所示的不同截面積的出聲孔對應的前腔的頻率回應曲線圖；

圖18A係根據本說明書一些實施例所示的不同長寬比的出聲孔對應的開放式耳機的頻響曲線圖；

圖18B係根據本說明書一些實施例所示的不同深度的出聲孔對應的前腔的頻率回應曲線圖。

為了更清楚地說明本發明實施例的技術方案，下面將對實施例描述中所需要使用的圖式作簡單的介紹。顯而易見地，下面描述中的圖式僅僅係本發明的一些示例或實施例，對於本領域的通常知識者來講，在不付出進步性勞動的前提下，還可以根據這些圖式將本發明應用於其它類似情 景。除非從語言環境中顯而易見或另做說明，圖中相同標號代表相同結構或操作。

應當理解，本文使用的「系統」、「裝置」、「單元」和/或「模組」係用於區分不同級別的不同組件、元件、部件、部分或裝配的一種方法。然而，如果其他詞語可實現相同的目的，則可透過其他表達來替換該詞語。

如本發明和申請專利範圍中所示，除非上下文明確提示例外情形，「一」、「一個」、「一種」和/或「該」等詞並非特指單數，也可包括複數。一般說來，術語「包括」與「包含」僅提示包括已明確標識的步驟和元素，而這些步驟和元素不構成一個排它性的羅列，方法或者設備也可能包含其它的步驟或元素。

在本說明書的描述中，需要理解的係，術語「第一」、「第二」、「第三」、「第四」等僅用於描述目的，而不能理解為指示或暗示相對重要性或者隱含指明所指示的技術特徵的數量。由此，限定有「第一」、「第二」、「第三」、「第四」的特徵可以明示或者隱含地包括至少一個該特徵。在本說明書的描述中，「複數個」的含義係至少兩個，例如兩個、三個等，除非另有明確具體的限定。

在本說明書中，除非另有明確的規定和限定，術語「連接」、「固定」等術語應做廣義理解。例如，術語「連接」可以指固定連接，也可以係可拆卸連接，或成一體；可以係機械連接，也可以係電連接；可以係直接相連，也可以透過中間媒介間接相連，可以係兩個元件內部的連通或兩個元件的相互作用關係，除非另有明確的限定。對於本領域的通常知識者而言，可以根據具體情況理解上述術語在本說明書中的具體含義。

圖1係根據本發明的一些實施例所示的示例性耳部的示意圖。參見圖1，耳部100(也可以稱為耳廓)可以包括外耳道101、耳甲腔102、耳甲艇103、三角窩104、對耳輪105、耳舟106、耳輪107、耳垂108、耳屏109以及耳輪腳1071。在一些實施例中，可以借助耳部100的一個或複 數個部位對聲學裝置的支撐，實現聲學裝置佩戴的穩定。在一些實施例中，外耳道101、耳甲腔102、耳甲艇103、三角窩104等部位在三維空間中具有一定的深度及容積，可以用於實現聲學裝置的佩戴需求。例如，聲學裝置(例如，入耳式耳機)可以佩戴於外耳道101中。在一些實施例中，可以借助耳部100中除外耳道101外的其他部位，實現聲學裝置(例如，開放式耳機)的佩戴。例如，可以借助耳甲艇103、三角窩104、對耳輪105、耳舟106、耳輪107等部位或其組合實現聲學裝置的佩戴。在一些實施例中，為了改善聲學裝置在佩戴方面的舒適度及可靠性，也可以進一步借助用戶的耳垂108等部位。透過借助耳部100中除外耳道101之外的其他部位，實現聲學裝置的佩戴和聲音的傳播，可以「解放」用戶的外耳道101。當用戶佩戴聲學裝置(例如，開放式耳機)時，聲學裝置不會堵塞用戶外耳道101(或耳道或耳道口)，用戶既可以接收來自聲學裝置的聲音又可以接收來自環境中的聲音(例如，鳴笛聲、車鈴聲、周圍人聲、交通指揮聲等)，從而能夠降低交通意外的發生概率。在一些實施例中，可以根據耳部100的構造，將聲學裝置設計成與耳部100適配的結構，以實現聲學裝置的發聲部在耳部各個不同位置的佩戴。例如，聲學裝置為開放式耳機時，開放式耳機可以包括懸掛結構(例如，耳掛)和發聲部，發聲部與懸掛結構透過物理方式進行連接，懸掛結構可以與耳廓的形狀相適配，以將發聲部的整體或者部分結構置於耳屏109的前側(例如，圖1中虛線圍成的區域J)。又例如，在用戶佩戴開放式耳機時，發聲部的整體或者部分結構可以與外耳道101的上部(例如，耳甲艇103、三角窩104、對耳輪105、耳舟106、耳輪107、耳輪腳1071等一個或複數個部位所在的位置)接觸。再例如，在用戶佩戴開放式耳機時，發聲部的整體或者部分結構可以位於耳部100的一個或複數個部位(例如，耳甲腔102、耳甲艇103、三角窩104等)所形成的腔體內(例如，圖1中虛線圍成的至少包含耳甲艇103、三角窩104的區域M₁和與至少包含耳甲腔102的區域M₂)。

不同的用戶可能存在個體差異，導致耳部存在不同的形狀、 大小等尺寸差異。為了便於描述和理解，如果沒有特別說明，本說明書將主要以具有「標準」形狀和尺寸的耳部模型作為參考，進一步描述不同實施例中的聲學裝置在該耳部模型上的佩戴方式。例如，可以以基於ANSI：S3.36,S3.25和IEC：60318-7標準製得一含頭部及其(左、右)耳部的模擬器，例如GRAS 45BC KEMAR，作為佩戴聲學裝置的參照物，以此呈現出大多數用戶正常佩戴聲學裝置的情景。僅僅作為示例，作為參考的耳部可以具有如下相關特徵：耳廓在矢狀面上的投影在垂直軸方向的尺寸可以在49.5mm-74.3mm的範圍內，耳廓在矢狀面上的投影在矢狀軸方向的尺寸可以在36.6mm-55mm的範圍內。因此，本發明中，諸如「用戶佩戴」、「處於佩戴狀態」及「在佩戴狀態下」等描述可以指本發明所述的聲學裝置佩戴於前述模擬器的耳部。當然，考慮到不同的用戶存在個體差異，耳部100中一個或複數個部位的結構、形狀、大小、厚度等可以具有一定區別，為了滿足不同用戶的需求，可以對聲學裝置進行差異化設計，這些差異化設計可以表現為聲學裝置中一個或複數個部位(例如，下文中的發聲部、耳掛等)的特徵參數可以具有不同範圍的數值，以此適應不同的耳部。

需要說明的係：在醫學、解剖學等領域中，可以定義人體的矢狀面(Sagittal Plane)、冠狀面(Coronal Plane)和水平面(Horizontal Plane)三個基本切面以及矢狀軸(Sagittal Axis)、冠狀軸(Coronal Axis)和垂直軸(Vertical Axis)三個基本軸。其中，矢狀面係指沿身體前後方向所作的與地面垂直的切面，它將人體分為左右兩部分；冠狀面係指沿身體左右方向所作的與地面垂直的切面，它將人體分為前後兩部分；水平面係指沿垂直於身體的上下方向所作的與地面平行的切面，它將人體分為上下兩部分。相應地，矢狀軸係指沿身體前後方向且垂直於冠狀面的軸，冠狀軸係指沿身體左右方向且垂直於矢狀面的軸，垂直軸係指沿身體上下方向且垂直於水平面的軸。進一步地，本發明所述的「耳部的前側」係一個相對於「耳部的後側」的概念，前者指耳部背離頭部的一側，後者指耳部朝向頭部的一側。其中，沿人體冠狀軸所在方向觀察上述模擬器的耳部，可以得到圖1所示的耳部 的前側輪廓示意圖。

圖2係根據本說明書一些實施例所示的開放式耳機的示例性結構圖。

在一些實施例中，開放式耳機10可以包括但不限於氣傳導耳機及骨氣導耳機等。在一些實施例中，開放式耳機10可以與眼鏡、頭戴式耳機、頭戴式顯示裝置、擴增實境(Augmented Reality，AR)/虛擬實境(Virtual Reality，VR)頭盔等產品相結合。

如圖2所示，開放式耳機10可以包括發聲部11和耳掛12。

發聲部11可以用於佩戴在用戶的身體上，發聲部11可以產生聲音輸入用戶耳道。在一些實施例中，發聲部11可以包括換能器(例如圖16A所示的換能器116)和用於容納換能器的殼體111。殼體111可以與耳掛12連接。換能器用於將電信號轉換為相應的機械振動從而產生聲音。在一些實施例中，殼體朝向耳廓的側面上開設有出聲孔112，出聲孔112用於將換能器產生的聲音匯出殼體111後傳向耳道，以便於用戶能夠聽到聲音。在一些實施例中，換能器(例如，振膜)可以將殼體111分隔形成耳機的前腔(例如圖16A所示的前腔114)和後腔115，出聲孔112可以連通前腔，並將前腔產生的聲音匯出殼體111後傳向耳道。在一些實施例中，經由出聲孔112匯出的聲音，其一部分可以傳播至耳道從而使用戶聽到聲音，其另一部分可以與經耳道反射的聲音一起經由發聲部11與耳部之間的縫隙(例如耳甲腔未被發聲部11覆蓋的一部分)傳播至開放式耳機10及耳部的外部，從而在遠場形成第一漏音；與此同時，殼體111的其他側面(例如，遠離或背離用戶耳道的側面)上一般會開設有一個或複數個泄壓孔113。泄壓孔113相較於出聲孔112更遠離耳道，泄壓孔113傳播出去的聲音一般會在遠場形成第二漏音，前述第一漏音的強度和前述第二漏音的強度相當，且前述第一漏音的相位和前述第二漏音的相位(接近)互為反相，使得兩者能夠在遠場反相相消，有利於降低開放式耳機10在遠場的漏音。更多關於發聲部11的描述參見本說明書其他地方，例如圖7、圖13、圖16A等 及其描述。

耳掛12的一端可以與發聲部11連接，其另一端沿用戶耳部與頭部的交界處延伸。在一些實施例中，耳掛12可以為與用戶耳廓相適配的弧狀結構，以使耳掛12可以懸掛於用戶耳廓上。例如，耳掛12可以具有與用戶頭部與耳部交界處相適配的弧狀結構，以使耳掛12可以掛設在用戶耳廓和頭部之間。在一些實施例中，耳掛12也可以為與用戶耳廓相適配的夾持結構，以使耳掛12可以夾持於用戶耳廓處。示例性地，耳掛12可以包括依次連接的鉤狀部(如圖7所示的第一部分121)和連接部(如圖7所示的第二部分122)。其中，連接部連接鉤狀部與發聲部11，以使得開放式耳機10處於非佩戴狀態(也即係自然狀態)時在三維空間中呈彎曲狀。換言之，在三維空間中，鉤狀部、連接部、發聲部11不共面。如此設置，以在開放式耳機10處於佩戴狀態時，鉤狀部可以主要係用於掛設在用戶的耳部的後側與頭部之間，發聲部11可以主要係用於接觸用戶的耳部的前側，進而允許發聲部11和鉤狀部配合以夾持耳部。作為示例性地，連接部可以從頭部向頭部的外側延伸，進而與鉤狀部配合為發聲部11提供對耳部的前側的壓緊力。其中，發聲部11在壓緊力的作用下具體可以抵壓於耳甲腔102、耳甲艇103、三角窩104、對耳輪105等部位所在的區域，以使得開放式耳機10處於佩戴狀態時不遮擋耳部的外耳道101。

在一些實施例中，為了改善開放式耳機10在佩戴狀態下的穩定性，開放式耳機10可以採用以下幾種方式中的任何一種或其組合。其一，耳掛12的至少部分設置成與耳部100的後側和頭部中的至少一者貼合的仿形結構，以增加耳掛12與耳部100和/或頭部的接觸面積，從而增加開放式耳機10從耳部100上脫落的阻力。其二，耳掛12的至少部分設置成彈性結構，使之在佩戴狀態下具有一定的形變量，以增加耳掛12對耳部和/或頭部的正壓力，從而增加開放式耳機10從耳部上脫落的阻力。其三，耳掛12至少部分設置成在佩戴狀態下抵靠在頭部上，使之形成壓持耳部的反作用力，以使得發聲部11壓持在耳部的前側，從而增加開放式耳機10從耳部 上脫落的阻力。其四，發聲部11和耳掛12設置成在佩戴狀態下從耳部的前後兩側夾持對耳輪所在區域、耳甲腔所在區域等，從而增加開放式耳機10從耳部上脫落的阻力。其五，發聲部11或者與之連接的輔助結構設置成至少部分伸入耳甲腔、耳甲艇、三角窩及耳舟等腔體內，從而增加開放式耳機10從耳部上脫落的阻力。

在一些實施例中，耳掛12可以包括但不限於耳掛、彈性帶等，使得開放式耳機10可以更好地固定在用戶身上，防止用戶在使用時發生掉落。在一些實施例中，開放式耳機10可以不包括耳掛12，發聲部11可以採用懸掛或夾持的方式固定在用戶的耳部100的附近。

在一些實施例中，發聲部11可以為例如，圓環形、橢圓形、跑道形、多邊形、U型、V型、半圓形等規則或不規則形狀，以便發聲部11可以直接掛靠在用戶的耳部100處。在一些實施例中，發聲部11可以具有垂直於厚度方向Z且彼此正交的長軸方向X和短軸方向Y。其中，長軸方向X可以定義為發聲部11的二維投影面(例如，發聲部11在其外側面所在平面上的投影，或在矢狀面上的投影)的形狀中具有最大延伸尺寸的方向(例如，當投影形狀為長方形或近似長方形時，長軸方向即長方形或近似長方形的長度方向)。短軸方向Y可以定義為發聲部11在矢狀面上投影的形狀中垂直於長軸方向X的方向(例如，當投影形狀為長方形或近似長方形時，短軸方向即長方形或近似長方形的寬度方向)。厚度方向Z可以定義為垂直於二維投影面的方向，例如，與冠狀軸的方向一致，均指向身體左右的方向。

在一些實施例中，當用戶佩戴開放式耳機10時，發聲部11可以固定於用戶的外耳道101附近但不堵塞耳道的位置。在一些實施例中，在佩戴狀態下，開放式耳機10在矢狀面上的投影可以不覆蓋用戶的耳道。例如，發聲部11在矢狀面上的投影可以落在頭部的左右兩側且在人體矢狀軸上位於耳屏前側的位置上(如，圖2中實線框A3所示的位置)。這時，發聲部11位於用戶的耳屏前側，發聲部11的長軸可以處於豎直或近似豎 直狀態，短軸方向Y在矢狀面上的投影與矢狀軸的方向一致，長軸方向X在矢狀面上的投影與垂直軸方向一致，厚度方向Z垂直於矢狀面。又例如，發聲部11在矢狀面上投影可以落在對耳輪105上(如，圖2中的虛線框C1所示的位置)。這時的發聲部11至少部分位於對耳輪105處，發聲部11的長軸處於水平或近似水平狀態，發聲部11的長軸方向X在矢狀面上的投影與矢狀軸的方向一致，短軸方向Y在矢狀面上的投影與垂直軸方向一致，厚度方向Z垂直於矢狀面。如此，既可以避免發聲部11遮擋耳道，進而解放用戶的雙耳；還可以增加發聲部11與耳部100之間的接觸面積，進而改善開放式耳機10的佩戴舒適性。

在一些實施例中，在佩戴狀態下，開放式耳機10在矢狀面上的投影也可以覆蓋或至少部分覆蓋用戶的耳道，例如，發聲部11在矢狀面上的投影可以落在耳甲腔102內(如，圖2中虛線框B2所示的位置)，並與耳輪腳1071和/或耳輪107接觸。這時，發聲部11至少部分位於耳甲腔102內，發聲部11處於傾斜狀態，發聲部11的短軸方向Y在矢狀面上的投影可與矢狀軸的方向具有一定夾角，即短軸方向Y也相應傾斜設置，長軸方向X在矢狀面上的投影可以與矢狀軸的方向具有一定夾角，即長軸方向X也傾斜設置，厚度方向Z垂直於矢狀面。此時，由於耳甲腔102具有一定的容積及深度，使得開放式耳機10的內側面IS與耳甲腔之間具有一定的間距，耳道可以透過內側面IS與耳甲腔之間的縫隙與外界連通，進而解放用戶的雙耳。同時，發聲部11與耳甲腔可以配合形成與耳道連通的輔助腔體(例如，後文提及的腔體結構)。在一些實施例中，出聲孔112可以至少部分位於前述輔助腔體中，出聲孔112匯出的聲音會受到前述輔助腔體的限制，即前述輔助腔體能夠聚攏聲音，使得聲音能夠更多地傳播至耳道內，從而提高用戶在近場聽到的聲音的音量和品質，從而改善開放式耳機10的聲學效果。

關於上述開放式耳機10的描述僅係出於闡述的目的，並不旨在限制本發明的範圍。對於本領域的通常知識者來說，可以根據本發明的描 述，做出各種各樣的變化和修改。例如，開放式耳機10還可以包括電池組件、藍牙組件等或其組合。電池組件可用於給開放式耳機10供電。藍牙組件可以用於將開放式耳機10無線連接至其他設備(例如，手機、電腦等)。這些變化和修改仍處於本發明的保護範圍之內。

在一些實施例中，結合圖3，經出聲孔112可以向開放式耳機10外部傳輸聲音，其可以視作單極子聲源(或點聲源)A1，產生第一聲音；經泄壓孔113可以向開放式耳機10外部傳輸聲音，其可以視作單極子聲源(或點聲源)A2，產生第二聲音。第二聲音與第一聲音可以相位相反或近似相反，使之能夠在遠場反相相消，也即係形成「聲偶極子」，以降漏音。在一些實施例中，在佩戴狀態下，兩個單極子聲源的連線可以指向耳道(記作「聽音位置」)，以便於用戶聽到足夠大的聲音。其中，聽音位置處的聲壓大小(記作Pear)可以用來表徵用戶聽到的聲音強弱(即，近場聽音聲壓)。進一步地，可以統計以用戶聽音位置為中心的球面上(或者以偶極子聲源(如圖3所示的A1和A2)中心為圓心、半徑為r的球面上)的聲壓大小(記作Pfar)，可以用來表徵開放式耳機10向遠場輻射的漏音強弱(即，遠場漏音聲壓)。其中，可以採用複數種統計方式獲得Pfar，例如取球面各點處聲壓的平均值，再例如，取球面各點聲壓分佈進行面積分等。

需要知道的係，本說明書中測量漏音的方法僅作原理和效果的示例性說明，並不作限制，漏音的測量和計算方式也可以根據實際情況進行合理調整。例如，以偶極子聲源中心為圓心，在遠場處根據一定的空間角均勻地取兩個或兩個以上的點的聲壓幅值進行平均。在一些實施例中，聽音的測量方式可以為選取點聲源附近的一個位置點作為聽音位置，以該聽音位置測量得到的聲壓幅值作為聽音的值。在一些實施例中，聽音位置可以在兩個點聲源的連線上，也可以不在兩個點聲源的連線上。聽音的測量和計算方式也可以根據實際情況進行合理調整，例如，取近場位置的其他點或一個以上的點的聲壓幅值進行平均。又例如，以某個點聲源為圓心，在近場處根據一定的空間角均勻地取兩個或兩個以上的點的聲壓幅值進行平均。在一 些實施例中，近場聽音位置與點聲源之間的距離遠小於點聲源與遠場漏音測量球面的距離。

顯然，開放式耳機10傳遞到用戶耳部的聲壓Pear應該足夠大，以增加聽音效果；遠場的聲壓Pfar應該足夠小，以增加降漏音效果。因此，可以取漏音指數α作為評價開放式耳機10降漏音能力的指標：

透過公式(1)可知，漏音指數越小，開放式耳機的降漏音能力越強，在聽音位置處近場聽音音量相同的情況下，遠場的漏音越小。

圖4係根據本說明書一些實施例所示的單點聲源和雙點聲源在不同頻率下的漏音指數對比圖。圖4中的雙點聲源(也可稱為偶極子聲源)可以為典型雙點聲源，即間距固定，兩點聲源幅值相同，兩點聲源相位相反。應當理解的係，選用典型雙點聲源只作原理和效果說明，可以根據實際需要調整各點聲源參數，使其與典型雙點聲源具有一定差異。如圖4所示，在間距固定的情況下，雙點聲源產生的漏音隨頻率的增加而增加，降漏音能力隨頻率的增加而減弱。當頻率大於某一頻率值(例如，如圖4所示8000Hz左右)時其產生的漏音會大於單點聲源，此頻率(例如，8000Hz)即為雙點聲源能夠降漏音的上限頻率。

在一些實施例中，為了提高開放式耳機的聲學輸出效果，即增大近場聽音位置的聲音強度，同時減小遠場漏音的音量，可以在出聲孔112和泄壓孔113之間設置擋板。

圖5係根據本說明書一些實施例所示的偶極子聲源的兩個聲源之間設置擋板的示例性分佈示意圖。如圖5所示，當點聲源A1和點聲源A2之間設有擋板時，在近場，點聲源A2的聲波需要繞過擋板才能與點聲源A1的聲波在聽音位置處產生干涉，相當於增加了點聲源A2到聽音位置的聲程。因此，假設點聲源A1和點聲源A2具有相同的幅值，則相比於沒有設置擋板的情況，點聲源A1和點聲源A2在聽音位置的聲波的幅值差增 大，從而兩路聲音在聽音位置進行相消的程度減少，使得聽音位置的音量增大。在遠場，由於點聲源A1和點聲源A2產生的聲波在較大的空間範圍內都不需要繞過擋板就可以發生干涉(類似於無擋板情形)，則相比於沒有擋板的情況，遠場的漏音不會明顯增加。因此，在點聲源A1和點聲源A2的其中一個聲源周圍設置擋板結構，可以在遠場漏音音量不顯著增加的情況下，顯著提升近場聽音位置的音量。

圖6係根據本說明書一些實施例所示的偶極子聲源的兩個聲源之間設置擋板和不設置擋板的漏音指數圖。雙點聲源之間增加擋板以後，在近場相當於增加了兩個點聲源之間的距離，在近場聽音位置的音量相當於由一個距離較大的雙點聲源產生，近場的聽音音量相對於無擋板的情況明顯增加；在遠場，兩個點聲源的聲場受擋板的影響很小，產生的漏音相當於係一個距離較小的雙點聲源產生。因此，如圖6所示，增加擋板以後，漏音指數相比於不加擋板時小很多，即在相同聽音音量下，遠場的漏音比在無擋板的情況下小，降漏音能力明顯增強。

圖7係根據本說明書一些實施例所示的開放式耳機的示例性佩戴示意圖。圖8係圖7所示的開放式耳機朝向耳部一側的結構示意圖。

如圖7所示，耳掛12為與用戶頭部與耳部100的交界處相貼合的弧狀結構。發聲部11(或發聲部11的殼體111)可以具有與耳掛12連接的連接端CE和不與耳掛12連接的自由端FE。開放式耳機10處於佩戴狀態時，耳掛12的第一部分121(例如，耳掛12的鉤狀部)掛設在用戶耳廓(例如，耳輪107)和頭部之間，耳掛12的第二部分122(例如，耳掛的連接部)向耳廓背離頭部的一側延伸並與發聲部11的連接端CE連接，以將發聲部11固定於耳道附近但不堵塞耳道的位置。

結合圖7和圖8所示，發聲部11可以具有在佩戴狀態下沿厚度方向Z朝向耳部的內側面IS(也稱為殼體111的內側面)和背離耳部的外側面OS(也稱為殼體111的外側面)，以及連接內側面IS和外側面OS的連接面。需要說明的係：在佩戴狀態下，沿冠狀軸所在方向(即厚度方向 Z)觀察，發聲部11可以設置成圓形、橢圓形、圓角正方形、圓角矩形等形狀。其中，當發聲部11設置成圓形、橢圓形等形狀時，上述連接面可以指發聲部11的弧形側面；而當發聲部11設置成圓角正方形、圓角矩形等形狀時，上述連接面可以包括後文中提及的下側面LS(也稱為殼體111的下側面)、上側面US(也稱為殼體111的上側面)和後側面RS(也稱為殼體111的後側面)。其中，上側面US和下側面LS可以分別指在佩戴狀態下發聲部11沿短軸方向Y背離外耳道101的側面和靠近外耳道101的側面；後側面RS可以指在佩戴狀態下發聲部11沿長度方向Y朝向腦後的側面。為了便於描述，本實施例以發聲部11設置成圓角矩形為例進行示例性的說明。其中，發聲部11在長軸方向X上的長度可以大於發聲部11在短軸方向Y上的寬度。在一些實施例中，為了提升耳機的美觀度及佩戴舒適度，耳機的後側面RS可以為弧面。

發聲部11內可以設置有換能器，其可以將電信號轉換為相應的機械振動從而產生聲音。換能器(例如，振膜)可以將殼體111分隔形成耳機的前腔和後腔115。前腔和後腔115中產生的聲音相位相反。內側面IS上開設有與前腔連通的出聲孔112，以將前腔產生的聲音匯出殼體111後傳向耳道，以便於用戶能夠聽到聲音。殼體111的其他側面上(例如，外側面OS、上側面US或下側面LS等)可以開設有與後腔115連通的一個或複數個泄壓孔113，以用於將後腔115產生的聲音匯出殼體111後與出聲孔112匯出的聲音在遠場干涉相消。在一些實施例中，泄壓孔113相較於出聲孔112更遠離耳道，以減弱經泄壓孔113輸出的聲音與經出聲孔112輸出的聲音之間在聽音位置的反相相消。

在一些實施例中，如圖7所示，當開放式耳機10處於佩戴狀態時，發聲部11的長軸方向X可以水平或近似水平設置(與圖2所示的位置C類似)，此時發聲部11至少部分地位於對耳輪105處，發聲部11的自由端FE可以朝向腦後。發聲部11處於水平或近似水平狀態，發聲部11的長軸方向X在矢狀面上的投影可以與矢狀軸的方向一致，短軸方向Y在矢狀 面上的投影可以與垂直軸方向一致，厚度方向Z垂直於矢狀面。

在一些實施例中，為提高開放式耳機10與耳部100的貼合度，提高開放式耳機10佩戴的穩定性，殼體111的內側面IS可以壓接於耳部100(例如，對耳輪105)表面，以增加開放式耳機10從耳部100上脫落的阻力。

在一些實施例中，結合圖7和圖8，當開放式耳機10壓接於耳部100時，為了使內側面IS上的出聲孔112不被耳部組織阻擋，出聲孔112在矢狀面的投影可以部分或全部與耳部的內凹結構(例如，耳甲艇103)在矢狀面的投影重合。在一些實施例中，由於耳甲艇103與耳甲腔102連通，耳道位於耳甲腔102內，當出聲孔112在矢狀面上的至少部分投影位於耳甲艇103內時，出聲孔112輸出的聲音可以無阻礙地到達耳道，從而使耳道接收的音量較高。在一些實施例中，發聲部11的長軸尺寸不能過長，過長會使自由端FE在矢狀面的投影超出耳部在矢狀面的投影，影響發聲部11與耳部的貼合效果。因此，發聲部11的長軸尺寸可以設計得使得自由端FE在矢狀面的投影不越過耳輪107在矢狀面的投影。在一些實施例中，當自由端FE在矢狀面的投影不越過耳輪107在矢狀面的投影時，為了使出聲孔112在矢狀面的至少部分投影位於耳甲艇103內，即實際佩戴時出聲孔112至少部分正對耳甲艇103，後側面RS出聲孔112的中心O沿X方向距發聲部11的後側面RS的距離d₁的範圍為9.5mm~15.0mm。在一些實施例中，出聲孔112的中心O沿X方向距發聲部11的後側面RS的距離d₁的範圍為10.5mm~14.0mm。在一些實施例中，出聲孔112的中心O沿X方向距發聲部11的後側面RS的距離d₁的範圍為11.0mm~13.5mm。在一些實施例中，出聲孔112的中心O沿X方向距發聲部11的後側面RS的距離d₁的範圍為11.5mm~13.0mm。在一些實施例中，出聲孔112的中心O沿X方向距發聲部11的後側面RS的距離d₁的範圍為12.0mm~12.5mm。

需要知道的係，由於出聲孔112和泄壓孔113設置在殼體111上，殼體111的各個側壁均具有一定厚度，因此，出聲孔112和泄壓孔113 均為具有一定深度的孔洞。此時，出聲孔112和泄壓孔113可以均具有內開口和外開口。為便於描述，在本說明書中，上述及下述出聲孔112的中心O可以指出聲孔112的外開口的形心。在一些實施例中，為了提升耳機的美觀度及佩戴舒適度，耳機的後側面RS可以為弧面。當後側面RS為弧面時，某位置(例如，出聲孔112的中心O)到後側面RS的距離可以指該位置到後側面RS的距發聲部中心最遠且平行於發聲部短軸的切面的距離。

在本說明書中，分別連通前腔和後腔115的出聲孔112和泄壓孔113可以分別視為圖5所示的點聲源A1和點聲源A2，耳道可以視為圖5所示的聽音位置。發聲部11的至少部分殼體和/或至少部分耳廓可以視為圖5所示的擋板，以增大出聲孔112和泄壓孔113到耳道的聲程差，以增大耳道處的聲音強度，同時維持遠場降漏音的效果。當開放式耳機10採用圖7所示的結構時，即殼體111的至少部分位於對耳輪105處時，就聽音效果而言，出聲孔112的聲波可以直接到達耳道，此時，出聲孔112可以設置在內側面IS上靠近下側面LS的位置，泄壓孔113可以設置在遠離出聲孔112的位置，例如，泄壓孔113可以設置在外側面OS或上側面US上遠離出聲孔112的位置。泄壓孔113的聲波需要繞過發聲部11外側才能與出聲孔112的聲波在耳道處產生干涉，此外，耳廓上上凸下凹的結構(例如，在其傳播路徑上的對耳輪)也會增加泄壓孔113的聲音傳導至耳道的聲程。因此，發聲部11本身和/或耳廓相當於出聲孔112與泄壓孔113之間的擋板，擋板增加了泄壓孔113到耳道的聲程且減小了泄壓孔113聲波在耳道的強度，從而使出聲孔112和泄壓孔113發出的兩路聲音在耳道進行相消的程度減少，使得耳道的音量增大。就漏音效果而言，由於出聲孔112和泄壓孔113產生的聲波在較大的空間範圍內都不需要繞過發聲部11本身就可以發生干涉(類似於無擋板的情形)，漏音不會明顯增加。因此，透過設置出聲孔112和泄壓孔113合適的位置，可以在漏音音量不顯著增加的情況下，顯著提升耳道的音量。

在一些實施例中，結合圖8，為了提升出聲孔112在耳道(即， 聽音位置)的聲音強度，可以將出聲孔112設置在距離耳道較近的位置，即出聲孔112可以在Y方向上更加靠近發聲部11的下側面LS。在一些實施例中，出聲孔112的中心O沿Y方向距發聲部11的下側面LS的距離h₁的範圍為2.3mm~3.6mm。在一些實施例中，出聲孔112的中心O沿Y方向距發聲部11的下側面LS的距離h₁的範圍為2.5mm~3.4mm。在一些實施例中，出聲孔112的中心O沿Y方向距發聲部11的下側面LS的距離h₁的範圍為2.7mm~3.2mm。在一些實施例中，出聲孔112的中心O沿Y方向距發聲部11的下側面LS的距離h₁的範圍為2.8mm~3.1mm。在一些實施例中，出聲孔112的中心O沿Y方向距發聲部11的下側面LS的距離h₁的範圍為2.9mm~3.0mm。

在一些實施例中，參照圖7，為了保證開放式耳機10佩戴時出聲孔112在矢狀面的投影能夠部分或全部位於耳甲艇區域內，當用戶佩戴該開放式耳機10時，出聲孔112的中心O距耳掛12的上頂點M之間的距離的範圍為17.5mm~27.0mm，這裡耳掛12的上頂點係指沿垂直軸方向耳掛12上最靠近頭部的點。在一些實施例中，當用戶佩戴該開放式耳機10時，出聲孔112的中心O距耳掛12的上頂點M之間的距離的範圍為20.0mm~25.5mm。在一些實施例中，當用戶佩戴該開放式耳機10時，出聲孔112的中心O距耳掛12的上頂點M之間的距離的範圍為21.0mm~24.5mm。在一些實施例中，當用戶佩戴該開放式耳機10時，出聲孔112的中心O距耳掛12的上頂點M之間的距離的範圍為22.0mm~23.5mm。在一些實施例中，當用戶佩戴該開放式耳機10時，出聲孔112的中心O距耳掛12的上頂點M之間的距離的範圍為22.5mm~23.0mm。

在一些實施例中，出聲孔112的中心O距耳掛12的上頂點M的距離與內側面IS的上下邊界之間距離(即發聲部11或殼體111上側面US與下側面LS之間的距離)的比值不能太大或太小。在一些實施例中，當上側面US和/或下側面LS為弧面時，上側面US與下側面LS之間的距離可以指上側面US的距發聲部中心最遠且平行於發聲部長軸的切面與下 側面LS的距發聲部中心最遠且平行於發聲部長軸的切面之間的距離。在出聲孔112的中心O距耳掛12的上頂點M之間的距離一定的情況下，上述比值太小，則內側面IS的寬度尺寸可能過大，此時可能導致發聲部整體重量變大、殼體和耳掛之間的距離太小，使用戶佩戴不舒適。上述比值太大時，則內側面IS的寬度尺寸可能過小，導致發聲部11的換能器能推動空氣的面積太小，致使發聲部的發聲效率太低。因此，為了保證發聲部的發聲效率足夠高並提高用戶佩戴的舒適性，且使出聲孔112在矢狀面的投影至少部分能夠位於耳甲艇區域內，當用戶佩戴開放式耳機10時，出聲孔112的中心O距耳掛12的上頂點M的距離與內側面IS的上下邊界之間距離的比值在0.95~1.55之間。在一些實施例中，出聲孔112的中心O距耳掛12的上頂點M的距離與殼體111的寬度尺寸的比值在1.05~1.45之間。在一些實施例中，出聲孔112的中心O距耳掛12的上頂點M的距離與殼體111的寬度尺寸的比值在1.15~1.35之間。在一些實施例中，出聲孔112的中心O距耳掛12的上頂點M的距離與殼體111的寬度尺寸的比值在1.20~1.30之間。

在圖7的佩戴方式下，由於出聲孔112在內側面IS上距離耳道較近的位置，出聲孔112的中心O距耳掛12的上頂點M的距離與出聲孔112的中心O距發聲部11的上側面US的距離的比值不能太大。此外，為了保證發聲部11與耳掛12的上頂點M間具有足夠的間隔(防止發聲部11和耳掛12給耳部造成太大的壓力)，出聲孔112的中心O距耳掛12的上頂點M的距離與出聲孔112的中心O距發聲部11的上側面US的距離的比值也不能太小。在一些實施例中，當用戶佩戴開放式耳機10時，出聲孔112的中心O距耳掛12的上頂點M的距離與出聲孔112的中心O距發聲部11的上側面US的距離的比值在1.19~2.5之間。優選地，出聲孔112的中心O距耳掛12的上頂點M的距離與出聲孔112的中心O距發聲部11的上側面US的距離的比值在1.5~1.8之間。

在圖7的佩戴方式下，由於出聲孔112在內側面IS上距離耳道 較近的位置，出聲孔112的中心O距耳掛12的上頂點M的距離與出聲孔112的中心O距發聲部11的下側面LS的距離的比值不能太小。此外，為了保證出聲孔具有足夠的面積(防止出聲孔面積太小而導致過大的聲阻抗)，出聲孔112的寬度不能太小，則出聲孔112的中心O距耳掛12的上頂點M的距離與出聲孔112的中心O距發聲部11的下側面LS的距離的比值也不能太大。在一些實施例中，當用戶佩戴開放式耳機10時，出聲孔112的中心O距耳掛12的上頂點M的距離與出聲孔112的中心O距發聲部11的下側面LS的距離h₂的比值在6.03~9.05之間。優選地，出聲孔112的中心O距耳掛12的上頂點M的距離與出聲孔112的中心O距發聲部11的下側面LS的距離的比值在7~8之間。

在一些實施例中，為了提高聽音音量，特別係中低頻的聽音音量，同時仍然保留遠場漏音相消的效果，可以在雙點聲源的其中一個聲源周圍構建一個腔體結構。圖9係根據本說明書一些實施例所示的偶極子聲源的其中一個聲源周圍設置腔體結構的示例性分佈示意圖。

如圖9所示，偶極子聲源之間設有腔體結構41時，使得其中一個偶極子聲源和聽音位置在腔體結構41的內部，另外一個偶極子聲源在腔體結構41的外部。腔體結構41的內部的偶極子聲源匯出的聲音會受到腔體結構41的限制，即腔體結構41能夠聚攏聲音，使得聲音能夠更多地傳播至聽音位置內，從而提高聽音位置的聲音的音量和品質。本說明書中，「腔體結構」可以理解為由發聲部11的側壁與耳甲腔結構共同圍成的半封閉結構，該半封閉結構使得內部與外部環境並非完全密閉隔絕，而係具有與外部環境聲學聯通的洩漏結構42(例如，開口、縫隙、管道等)。示例性的洩漏結構可以包括但不限於開口、縫隙、管道等，或其任意組合。

在一些實施例中，腔體結構41中可以包含聽音位置和至少一個聲源。這裡的「包含」可以表示聽音位置和聲源至少有一者在腔體內部，也可以表示聽音位置和聲源至少有一者在腔體內部邊緣處。在一些實施例中，聽音位置可以係耳道入口，也可以係耳朵聲學參考點。

圖10A係根據本說明書一些實施例所示的偶極子聲源結構和偶極子聲源的其中一個聲源周圍構建腔體結構的聽音原理示意圖。圖10B係根據本說明書一些實施例所示的偶極子聲源結構和偶極子聲源的其中一個聲源周圍構建腔體結構的漏音原理示意圖。

對於近場聽音來說，如圖10A所示的其中一個聲源周圍構建有腔體結構的偶極子，由於其中一個聲源A被腔體結構包裹，其輻射出來的聲音大部分會透過直射或反射的方式到達聽音位置。相對地，在沒有腔體結構的情況，聲源輻射出的聲音大部分不會到達聽音位置。因此，腔體結構的設置使得到達聽音位置的聲音音量得到顯著提高。同時，腔體結構外的反相聲源B輻射出來的反相聲音只有較少的一部分會透過腔體結構的洩漏結構進入腔體結構。這相當於在洩漏結構處生成了一個次級聲源B’，其強度顯著小於反相聲源B，亦顯著小於聲源A。次級聲源B’產生的聲音在腔體內對聲源A產生反相相消的效果微弱，使聽音位置的聽音音量顯著提高。

對於漏音來說，如圖10B所示，聲源A透過腔體的洩漏結構向外界輻射聲音相當於在洩漏結構處生成了一個次級聲源A’，由於聲源A輻射的幾乎所有聲音均從洩漏結構輸出，且腔體的結構尺度遠小於評價漏音的空間尺度(相差至少一個數量級)，因此可認為次級聲源A’的強度與聲源A相當。對於外界空間來說，次級聲源A’與反相聲源B產生的聲音相消效果與聲源A與反相聲源B產生的聲音相消效果相當。即該腔體結構下，仍然保持了相當的降漏音效果。

應當理解的係，上述一個開口的洩漏結構僅為示例，腔體結構的洩漏結構可以包含一個或一個以上的開口，其也能實現較優的聽音指數，其中，聽音指數可以指漏音指數α的倒數1/α。以設置兩個開口結構為例，下面分別分析等開孔和等開孔率的情況。以只開一個孔的結構作為對比，這裡的「等開孔」指設置兩個尺寸與只開一個孔的結構相同的開口，「等開孔率」指設置的兩個孔開口面積之和與只開一個孔的結構相同。等開孔相當於將只開一個孔的相對開口大小(即腔體結構上洩漏結構的開口面積S與腔體 結構中受被包含的聲源直接作用的面積S0的比值)擴大了一倍，由之前該，其整體的聽音指數會下降。在等開孔率的情況，即使S/S0與只開一個孔的結構相同，但兩個開口至外部聲源的距離不同，因而也會造成不同的聽音指數。

圖11A係根據本說明書一些實施例所示的具有兩個水平開口的腔體結構的示意圖。圖11B係根據本說明書一些實施例所示的具有兩個垂直開口的腔體結構的示意圖。如圖11A所示，當兩個開口連線和兩個聲源連線平行(即為兩個水平開口)時，兩個開口到外部聲源的距離分別取得最大和最小；如圖11B所示，當兩連線垂直(即為兩個垂直開口)時，兩開口到外部聲源的距離相等並取得中間值。

圖12係根據本說明書一些實施例所示的具有兩個開口和一個開口的腔體結構的聽音指數曲線對比圖。如圖12所示，等開孔的腔體結構較一個開口的腔體結構的整體聽音指數會下降。對於等開孔率的腔體結構，由於兩個開口至外部聲源的距離不同，因而也會造成不同的聽音指數。結合圖11A、圖11B和圖12可以看出，無論水平開口還係垂直開口，等開孔率的洩漏結構的聽音指數都高於等開孔的洩漏結構。這係因為相對於等開孔的洩漏結構，等開孔率的洩漏結構的相對開口大小S/S0相比於等開孔的洩漏結構縮小了一倍，因此聽音指數更大。結合圖11A、圖11B和圖12還可以看出，無論係等開孔的洩漏結構還係等開孔率的洩漏結構，水平開口的聽音指數都更大。這係因為水平開口的洩漏結構中其中一個開口到外部聲源的距離小於兩個聲源的距離，這樣形成的次級聲源與外部聲源由於距離相對原來兩個聲源更近，因此聽音指數更高，進而提高了降漏音效果。因此，為了提高降漏音效果，可以使至少一個開口到外部聲源的距離小於兩個聲源之間的距離。

此外，如圖12所示，採用了兩個開口的腔體結構相對於一個開口的腔體結構能更好地提高腔體結構內氣聲的諧振頻率，使得整個裝置相對於只有一個開口的腔體結構在高頻段(例如，頻率接近10000Hz的聲音) 有更好的聽音指數。高頻段係人耳更敏感的頻段，因此對降漏音的需求更大。因此，為了提高高頻段的降漏音效果，可以選擇開口數量大於1的腔體結構。

圖13係根據本說明書另一些實施例所示的開放式耳機的示例性佩戴示意圖。圖14係圖13所示的開放式耳機朝向耳部一側的結構示意圖。

圖13所示的開放式耳機10與圖7所示的開放式耳機10的結構類似，其主要區別在於：發聲部11傾斜設置，發聲部11的殼體111至少部分***耳甲腔102，例如，發聲部11的自由端FE可以伸入耳甲腔102內。如此結構的耳掛12和發聲部11與用戶耳部100適配度較好，能夠增加開放式耳機10從耳部100上脫落的阻力，從而增加開放式耳機10的佩戴穩定性。

在一些實施例中，在佩戴狀態下，沿厚度方向Z觀察，發聲部11的連接端CE相較於自由端FE更靠近頭頂，以便於自由端FE伸入耳甲腔內。基於此，長軸方向X與人體矢狀軸所在方向之間的夾角可以介於15°~60°之間。其中，如果前述夾角太小，容易導致自由端FE無法伸入耳甲腔內，以及發聲部11上的出聲孔112與耳道相距太遠；如果前述夾角太大，同樣容易導致發聲部11無法伸入耳甲腔內，以及耳道被發聲部11堵住。換言之，如此設置，既允許發聲部11伸入耳甲腔內，又使得發聲部11上的出聲孔112與耳道具有合適的距離，以在耳道不被堵住的情況下，用戶能夠更多地聽到發聲部11產生的聲音。

在一些實施例中，發聲部11和耳掛12可以從耳甲腔所對應的耳部區域的前後兩側共同夾持前述耳部區域，從而增加開放式耳機10從耳部上脫落的阻力，進而改善開放式耳機10在佩戴狀態下的穩定性。例如，發聲部11的自由端FE在厚度方向Z上壓持在耳甲腔內。再例如，自由端FE在長軸方向X和短軸方向Y上抵接在耳甲腔內。

在一些實施例中，由於耳掛自身具有彈性，發聲部與耳掛的距離在佩戴狀態和未佩戴狀態可以發生一定的變化(未佩戴狀態下的距離小於 佩戴狀態下的距離)。此外，由於耳部100的生理結構，在佩戴狀態下，發聲部11所在的平面應當與耳掛12所在的平面在冠狀軸方向上有一定的間距，才能使發聲部11對耳部100造成適當的壓力。在一些實施例中，為了提升開放式耳機10的佩戴舒適度，以及使發聲部11與耳掛12配合將發聲部11壓持在耳部上，在未被佩戴狀態下，出聲孔112的中心O距耳掛12所在的平面之間的距離在3mm~6mm之間。由於耳掛12係一個非規則的形狀，例如，耳掛12可為弧形結構，耳掛12所在的平面(也稱耳掛平面)可以視為：在未被佩戴狀態下，將耳掛平置在一個平面上時，該平面與耳掛上至少三個點相切，構成耳掛平面。在一些實施例中，在佩戴狀態時，耳掛可以近似視為與頭部進行貼合，此時耳掛平面相對於矢狀面的偏轉可以忽略不計。在一些實施例中，在未被佩戴狀態下，出聲孔112的中心O距耳掛12所在的平面之間的距離在3.5mm~5.5mm之間。在一些實施例中，在未被佩戴狀態下，出聲孔112的中心O距耳掛12所在的平面之間的距離在4.0mm~5.0mm之間。在一些實施例中，在未被佩戴狀態下，出聲孔112的中心O距耳掛12所在的平面之間的距離在4.3mm~4.7mm之間。

如圖13所示，當用戶佩戴開放式耳機10時，透過將發聲部11的殼體111設置為至少部分***耳甲腔102，發聲部11的內側面IS與耳甲腔102共同圍成的腔體可以視為如圖9所示的腔體結構41，內側面IS與耳甲腔之間形成的縫隙(例如，內側面IS與耳甲腔之間形成的靠近頭頂的第一洩露結構UC、內側面IS與耳部之間形成的靠近耳道的第二洩露結構LC)可以視為如圖9所示的洩漏結構42。設置在內側面IS上的出聲孔112可以視為如圖9所示的腔體結構41內部的點聲源，設置在發聲部11其他側面(例如，遠離或背離用戶耳道的側面)的泄壓孔113可以視為如圖9所示的腔體結構41外部的點聲源。由此根據圖9-圖12的相關描述，當開放式耳機10以至少部分***耳甲腔的佩戴方式佩戴時，即以如圖13所示的佩戴方式佩戴，就聽音效果而言，出聲孔112輻射出來的聲音大部分可以透過直射或反射的方式到達耳道，可以使得到達耳道的聲音音量得到顯著提 高，特別係中低頻的聽音音量。同時，泄壓孔113輻射出來的反相聲音只有較少的一部分會透過縫隙(第一洩露結構UC和第二洩露結構LC)進入耳甲腔，與出聲孔112產生相消的效果微弱，使耳道的聽音音量顯著提高。就漏音效果而言，出聲孔112可以透過縫隙向外界輸出聲音並與泄壓孔113產生的聲音在遠場反相相消，以此保證降漏音效果。

在一些實施例中，結合圖13和圖14，為了使開放式耳機10佩戴時出聲孔112在矢狀面的投影能夠部分或全部位於耳甲腔區域內，同時提升出聲孔112在耳道(即，聽音位置)的聲音強度，可以將出聲孔112盡可能設置在距離耳道較近的位置。在一些實施例中，出聲孔112的中心O沿Y方向距發聲部11的下側面LS的距離h₂的範圍為4.05mm~6.05mm。在一些實施例中，出聲孔112的中心O沿Y方向距發聲部11的下側面LS的距離h₂的範圍為4.50mm~5.85mm。在一些實施例中，出聲孔112的中心O沿Y方向距發聲部11的下側面LS的距離h₂的範圍為4.80mm~5.50mm。在一些實施例中，出聲孔112的中心O沿Y方向距發聲部11的下側面LS的距離h₂的範圍為5.20mm~5.55mm。

在一些實施例中，為了使發聲部11至少部分***耳甲腔，發聲部11的長軸尺寸不能太長。在保證發聲部11至少部分***耳甲腔的前提下，出聲孔112中心O沿X方向距發聲部11的後側面RS的距離不能太近，否則可能導致出聲孔的全部或部分面積由於自由端FE與耳甲腔壁面的抵接而被遮擋，使得出聲孔的有效面積減小。因此，在一些實施例中，出聲孔112的中心O沿X方向距發聲部11的後側面RS的距離d₂的範圍為8.15mm~12.25mm。在一些實施例中，出聲孔112的中心O沿X方向距發聲部11的後側面RS的距離d₂的範圍為8.50mm~12.00mm。在一些實施例中，出聲孔112的中心O沿X方向距發聲部11的後側面RS的距離d₂的範圍為8.85mm~11.65mm。在一些實施例中，出聲孔112的中心O沿X方向距發聲部11的後側面RS的距離d₂的範圍為9.25mm~11.15mm。在一些實施例中，出聲孔112的中心O沿X方向距發聲部11的後側面RS的距離d₂ 的範圍為9.60mm~10.80mm。

結合圖13，在一些實施例中，在保證發聲部11至少部分***耳甲腔的前提下，為了使出聲孔112在矢狀面的投影能夠部分或全部位於耳甲腔區域內，當用戶佩戴開放式耳機10時，出聲孔112的中心O與耳掛12的上頂點M之間的距離的範圍為22.5mm~34.5mm。在一些實施例中，當用戶佩戴開放式耳機10時，出聲孔112的中心O與耳掛12的上頂點M之間的距離的範圍為25mm~32mm。在一些實施例中，當用戶佩戴開放式耳機10時，出聲孔112的中心O與耳掛12的上頂點M之間的距離的範圍為27.5mm~29.5mm。在一些實施例中，當用戶佩戴開放式耳機10時，出聲孔112的中心O與耳掛12的上頂點M之間的距離的範圍為28mm~29mm。在一些實施例中，當用戶佩戴該開放式耳機10時，出聲孔112的中心在矢狀面的投影與耳掛12的上頂點在矢狀面的投影之間的距離的範圍為18mm~30mm。

在一些實施例中，出聲孔112的中心O距耳掛12的上頂點M的距離與內側面IS的上下邊界之間距離(即發聲部11或殼體111的上側面US與下側面LS之間的距離)的比值不能太大或太小。在出聲孔112的中心O距耳掛12的上頂點M之間的距離一定的情況下，上述比值太小，則內側面IS的寬度尺寸可能過大，此時可能導致發聲部整體重量變大、殼體和耳掛之間的距離太小，使用戶佩戴不舒適。上述比值太大時，則內側面IS的寬度尺寸可能過小，導致發聲部11的換能器能推動空氣的面積太小，致使發聲部的發聲效率太低。因此，為了保證發聲部的發聲效率足夠高並提高用戶佩戴的舒適性，且使出聲孔112在矢狀面的投影至少部分能夠位於耳甲腔區域內，且盡可能距耳道較近，當用戶佩戴開放式耳機10時，出聲孔112的中心O與耳掛12的上頂點M的距離與殼體111的沿Y方向的寬度尺寸之間距離的比值在1.2~2.2之間。在一些實施例中，當用戶佩戴開放式耳機10時，出聲孔112的中心O與耳掛12的上頂點M的距離與殼體111的寬度尺寸的比值在1.4~2.0之間。在一些實施例中，當用戶佩戴開放 式耳機10時，出聲孔112的中心O與耳掛12的上頂點M的距離與殼體111的寬度尺寸的比值在1.5~1.8之間。在一些實施例中，當用戶佩戴開放式耳機10時，出聲孔112的中心O與耳掛12的上頂點M的距離與殼體111的寬度尺寸的比值在1.6~1.7之間。

在圖13的佩戴方式下，由於出聲孔112在內側面IS上距離耳道較近的位置，出聲孔112的中心O距耳掛12的上頂點M的距離與出聲孔112的中心O距發聲部11的上側面US的距離的比值不能太大。此外，為了保證發聲部11與耳掛12的上頂點M間具有足夠的間隔以伸入耳甲腔，出聲孔112的中心O距耳掛12的上頂點M的距離與出聲孔112的中心O距發聲部11的上側面US的距離的比值也不能太小。在一些實施例中，當用戶佩戴開放式耳機10時，出聲孔112的中心O距耳掛12的上頂點M的距離與出聲孔112的中心O距發聲部11的上側面US的距離的比值在1.94~2.93之間。優選地，當用戶佩戴開放式耳機10時，出聲孔112的中心O距耳掛12的上頂點M的距離與出聲孔112的中心O距發聲部11的上側面US的距離的比值在2.2~2.6之間。

在圖13的佩戴方式下，由於出聲孔112在內側面IS上距離耳道較近的位置，出聲孔112的中心O距耳掛12的上頂點M的距離與出聲孔112的中心O距發聲部11的下側面LS的距離的比值不能太小。此外，為了保證出聲孔具有足夠的面積(防止出聲孔面積太小而導致過大的聲阻抗)，出聲孔112的寬度不能太小，則出聲孔112的中心O距耳掛12的上頂點M的距離與出聲孔112的中心O距發聲部11的下側面LS的距離的比值也不能太大。在一些實施例中，當用戶佩戴開放式耳機10時，出聲孔112的中心O距耳掛12的上頂點M的距離與出聲孔112的中心O距發聲部11的下側面LS的距離的比值在4.50~6.76之間。

圖15係根據本說明書一些實施例所示的開放式耳機處於佩戴狀態時在矢狀面的投影示意圖。

在一些實施例中，結合圖13和圖15，為了使發聲部11穩定地 佩戴在用戶耳部，且便於構造如圖9所示的腔體結構，並使得腔體結構具有至少兩個洩露結構，自由端FE可以在長軸方向X和短軸方向Y上抵接在耳甲腔內，此時，發聲部11的內側面IS相對於矢狀面傾斜，並且此時發聲部的內側面IS與耳甲腔之間至少具有靠近頭頂的第一洩露結構UC(即耳甲腔與內側面IS上邊界之間的縫隙)和靠近耳道的第二洩露結構LC(即耳甲腔與內側面IS下邊界之間的縫隙)。由此，可以提高聽音音量，特別係中低頻的聽音音量，同時仍然保留遠場漏音相消的效果，從而提升開放式耳機10的聲學輸出性能。

在一些實施例中，當開放式耳機10以圖13所示的佩戴方式進行佩戴時，發聲部的內側面IS與耳甲腔之間形成的第一洩露結構UC和第二洩露結構LC在長軸方向X上和厚度方向Z上均具有一定的尺度。在一些實施例中，為了便於理解第一洩露結構UC和第二洩露結構LC的位置，可以將開放式耳機10處於佩戴狀態時內側面IS的上/下邊界分別與耳部(例如，耳甲腔的側壁、耳輪腳)相交而形成的兩點的中點作為第一洩露結構UC和第二洩露結構LC的位置參考點，以耳道的耳道口中心作為耳道的位置參考點。在一些實施例中，為了便於理解第一洩露結構UC和第二洩露結構LC的位置，可以在開放式耳機10處於佩戴狀態時，將內側面IS的上邊界的中點作為第一洩露結構UC的位置參考點，以內側面IS的下邊界靠近自由端FE的三等分點(以下簡稱內側面IS的下邊界的1/3點)作為第二洩露結構LC的位置參考點。在本說明書中，當內側面IS與上側面US和/或下側面LS之間的交界處為弧形時，內側面IS的上邊界可以指內側面IS與上側面US之間的相交線，內側面IS的下邊界可以指內側面IS與下側面LS之間的相交線。在一些實施例中，當發聲部11的一個或複數個側面(例如，內側面IS、上側面US和/或下側面LS)為弧面時，兩個側面的相交線可以指該兩個側面的距發聲部中心最遠且平行於發聲部長軸或短軸的切面之間的相交線。

僅作為示例，本說明書將以內側面IS的上邊界的中點以及下邊 界的1/3點分別作為第一洩露結構UC和第二洩露結構LC的位置參考點。需要知道的係，選定的內側面IS的上邊界的中點以及下邊界的1/3點，只係作為示例性的參考點來描述第一洩露結構UC和第二洩露結構LC的位置。在一些實施例中，還可以選定其他參考點用以描述第一洩露結構UC和第二洩露結構LC的位置。例如，由於不同用戶耳部的差異性，導致當開放式耳機10處於佩戴狀態時所形成的第一洩露結構UC/第二洩露結構LC為一寬度漸變的縫隙，此時，第一洩露結構UC/第二洩露結構LC的參考位置可以為內側面IS的上邊界/下邊界上靠近縫隙寬度最大的區域的位置。例如，可以以內側面IS的上邊界靠近自由端FE的1/3點作為第一洩露結構UC的位置，以內側面IS的下邊界的中點作為第二洩露結構LC的位置。

在一些實施例中，如圖15所示，內側面IS的上邊界在矢狀面的投影可以與上側面US在矢狀面的投影重合，內側面IS的下邊界在矢狀面的投影可以與下側面LS在矢狀面的投影重合。第一洩露結構UC的位置參考點(即內側面IS的上邊界的中點)在矢狀面的投影為點A4，第二洩露結構LC的位置參考點(即內側面IS的下邊界的1/3點)在矢狀面的投影為點C其中，「內側面IS的上邊界的中點在矢狀面的投影點A4」可以係內側面IS的上邊界與換能器的磁路組件(例如，下文描述的磁路組件1144)的短軸中心面的相交點投影在矢狀面上的投影點。磁路組件的短軸中心面係指平行於發聲部11的短軸方向且透過磁路組件的幾何中心的平面。「內側面IS的下邊界的1/3點在矢狀面的投影點C」可以係內側面IS的下邊界靠近自由端FE的三等分點在矢狀面上的投影點。

如圖15所示，在一些實施例中，在佩戴狀態下，開放式耳機10的發聲部11在矢狀面上的投影可以至少部分覆蓋用戶的耳道，但耳道可以透過耳甲腔與外界連通，以實現解放用戶的雙耳。在一些實施例中，由於泄壓孔113的聲音可以透過洩露結構(例如，第一洩露結構UC或第二洩露結構LC)傳入腔體結構與出聲孔112的聲音發生相消，因此，泄壓孔113不能離洩露結構太近，而在發聲部11至少部分地***耳甲腔內的前提下，泄 壓孔113與出聲孔112的距離受限於發聲部11的尺寸，因此，為了使開放式耳機10在整個頻段範圍內都具有較高的聽音指數，泄壓孔113應盡可能位於距離出聲孔112更遠的位置，例如，泄壓孔113設置於發聲部11的上側面US。此時，出聲孔112的中心O在矢狀面的投影點O’距內側面IS的上邊界的中點在矢狀面的投影點A4的距離與出聲孔112的中心O在矢狀面的投影點O’與泄壓孔113的中心在矢狀面的投影點之間的距離的比值在0.7~1.3之間。

當出聲孔112與泄壓孔113的相對位置保持不變(即出聲孔112與泄壓孔113之間的距離保持不變)時，腔體結構的體積V越大，開放式耳機10整體(全頻段範圍內)的聽音指數越小。這係因為受到腔體結構內氣聲諧振的影響，在腔體結構的諧振頻率上，腔體結構內會產生氣聲諧振並向外輻射遠大於泄壓孔113的聲音，造成了漏音的極大提高，進而使得聽音指數在該諧振頻率附近顯著變小。

出聲孔112的中心O在矢狀面的投影點O’距內側面IS的上邊界的中點在矢狀面投影點A4的距離越大，腔體結構的體積V越大。因此，在一些實施例中，在發聲部11至少部分地***耳甲腔內的前提下，為了使出聲孔112能夠靠近耳道設置，且使腔體結構具有合適體積V，以使耳道的收音效果較好，出聲孔112的中心O在矢狀面的投影點O’距內側面IS的上邊界的中點在矢狀面的投影點A4的距離範圍為10.0mm~15.2mm。在一些實施例中，出聲孔112的中心O在矢狀面的投影點O’距內側面IS的上邊界的中點在矢狀面的投影點A4的距離範圍為11.0mm~14.2mm。在一些實施例中，出聲孔112的中心O在矢狀面的投影點O’距內側面IS的上邊界的中點在矢狀面的投影點A4的距離範圍為12.0mm~14.7mm。在一些實施例中，出聲孔112的中心O在矢狀面的投影點O’距內側面IS的上邊界的中點在矢狀面的投影點A4的距離範圍為12.5mm~14.2mm。在一些實施例中，出聲孔112的中心O在矢狀面的投影點O’距內側面IS的上邊界的中點在矢狀面的投影點A4的距離範圍為13.0mm~13.7mm。

在一些實施例中，由於耳道口附近存在耳屏，出聲孔112很容易被耳屏遮擋，此時，為了盡可能使出聲孔112在離耳道較近的位置且不被遮擋，出聲孔112的中心O在矢狀面的投影點O’距耳道口中心在矢狀面的投影點B3的距離範圍為2.2mm~3.8mm。在一些實施例中，出聲孔112的中心O在矢狀面的投影點O’距耳道口中心在矢狀面的投影點B3的距離範圍為2.4mm~3.6mm。在一些實施例中，出聲孔112的中心O在矢狀面的投影點O’距耳道口中心在矢狀面的投影點B3的距離範圍為2.6mm~3.4mm。在一些實施例中，出聲孔112的中心O在矢狀面的投影點O’距耳道口中心在矢狀面的投影點B3的距離範圍為2.8mm~3.2mm。

在一些實施例中，為了保證發聲部11伸入耳甲腔且內側面IS的上邊界與耳甲腔之間存在適當的縫隙(形成腔體結構的洩露結構)，內側面IS的上邊界的中點在矢狀面的投影點A4距耳道口的中心在矢狀面的投影點B3的距離範圍為12mm~18mm。在一些實施例中，內側面IS的上邊界的中點在矢狀面的投影點A4距耳道口的中心在矢狀面的投影點B3的距離範圍為13mm~17mm。在一些實施例中，內側面IS的上邊界的中點在矢狀面的投影點A4距耳道口的中心在矢狀面的投影點B3的距離範圍為14mm~16mm。在一些實施例中，內側面IS的上邊界的中點在矢狀面的投影點A4距耳道口的中心在矢狀面的投影點B3的距離範圍為14.5mm~15.5mm。

在一些實施例中，為了保證發聲部11伸入耳甲腔且內側面IS的下邊界與耳甲腔之間存在適當的縫隙(形成腔體結構的洩露結構)，內側面IS的下邊界的1/3點在矢狀面的投影點C距耳道口的中心在矢狀面的投影點B3的距離範圍為1.7mm~2.7mm。在一些實施例中，內側面IS的下邊界的1/3點在矢狀面的投影點C距耳道口的中心在矢狀面的投影點B3的距離範圍為1.8mm~2.6mm。在一些實施例中，內側面IS的下邊界的1/3點在矢狀面的投影點C距耳道口的中心在矢狀面的投影點B3的距離範圍為1.9mm~2.5mm，在一些實施例中，內側面IS的下邊界的1/3點在矢狀面的 投影點C距耳道口的中心在矢狀面的投影點B3的距離範圍為2.0mm~2.4mm。在一些實施例中，內側面IS的下邊界的1/3點在矢狀面的投影點C距耳道口的中心在矢狀面的投影點B3的距離範圍為2.1mm~2.3mm。

在一些實施例中，出聲孔112的中心O在矢狀面的投影點O’距內側面IS的下邊界的1/3點在矢狀面的投影點C的距離越大，腔體結構的體積V越大。因此，在發聲部11至少部分地***耳甲腔內的前提下，為了使出聲孔112能夠靠近耳道設置，且使腔體結構具有合適體積V，以使耳道的收音效果較好。在一些實施例中，出聲孔112的中心O在矢狀面的投影點O’距內側面IS的下邊界的1/3點在矢狀面的投影點C的距離範圍為3.5mm~5.6mm。在一些實施例中，出聲孔112的中心O在矢狀面的投影點O’距內側面IS的下邊界的1/3點在矢狀面的投影點C的距離範圍為3.9mm~5.2mm。在一些實施例中，出聲孔112的中心O在矢狀面的投影點O’距內側面IS的下邊界的1/3點在矢狀面的投影點C的距離範圍為4.3mm~4.8mm。在一些實施例中，出聲孔112的中心O在矢狀面的投影點O’距內側面IS的下邊界的1/3點在矢狀面的投影點C的距離範圍為4.5mm~4.6mm。

圖16A係根據本說明書一些實施例所示的發聲部的示例性內部結構圖。

如圖16A所示，發聲部11可以包括設置在殼體111內的主控電路板13和設置在耳掛12遠離發聲部11一端的電池(未示出)，電池和換能器116分別與主控電路板13電性連接，以允許電池在主控電路板13的控製下為換能器116供電。當然，電池和換能器116也可以均設置在發聲部11內，且電池可以更靠近連接端CE而換能器116則可以更靠近自由端FE。

在一些實施例中，開放式耳機10可以包括連接發聲部11和耳掛12的調節機構，不同的用戶在佩戴狀態下能夠透過調節機構調節發聲部11在耳部上的相對位置，以使得發聲部11位於一個合適的位置，從而使得 發聲部11與耳甲腔形成腔體結構。除此之外，由於調節機構的存在，用戶也能夠調節開放式耳機10佩戴至更加穩定、舒適的位置。

由於耳甲腔具有一定的容積及深度，使得自由端FE伸入耳甲腔內之後，發聲部11的內側面IS與耳甲腔之間能夠具有一定的間距。換言之，發聲部11在佩戴狀態下與耳甲腔可以配合形成與外耳道連通的腔體結構，出聲孔112可以至少部分位於前述腔體結構內。如此，在佩戴狀態下，由出聲孔112傳播而出的聲波會受到前述腔體結構的限制，也即前述腔體結構能夠聚攏聲波，使得聲波能夠更好地傳播至外耳道內，從而提高用戶在近場聽到的聲音的音量和音質，這樣有利於改善開放式耳機10的聲學效果。進一步地，由於發聲部11可以設置成在佩戴狀態下不堵住外耳道，使得前述腔體結構可以呈半開放式設置。如此，由出聲孔112傳播而出的聲波，其一部分可以傳播至耳道從而使用戶聽到聲音，其另一部分可以與經耳道反射的聲音一起經由發聲部11與耳部之間的縫隙(例如耳甲腔未被發聲部11覆蓋的一部分)傳播至開放式耳機10及耳部的外部，從而在遠場形成第一漏音；與此同時，經由發聲部11上開設的泄壓孔113傳播出去的聲波一般會在遠場形成第二漏音，前述第一漏音的強度與前述第二漏音的強度相當，且前述第一漏音的相位和前述第二漏音的相位(接近)互為反相，使得兩者能夠在遠場相消，這樣有利於降低開放式耳機10在遠場的漏音。

在一些實施例中，發聲部11主要包括與耳掛12連接的殼體111和設置在殼體111內的換能器116。其中，殼體111在佩戴狀態下朝向耳部的內側面IS設置有出聲孔112，換能器116產生的聲波經由出聲孔112傳播而出，以便於傳入外耳道101。值得注意的係：出聲孔112也可以設置在殼體111的下側面LS，還可以設置在前述內側面IS與下側面LS之間的拐角處。

在一些實施例中，換能器116與殼體111之間可以形成前腔114，出聲孔112設置於殼體111上包圍形成前腔114的區域，前腔114透過出聲孔112與外界連通。

在一些實施例中，前腔114設置於換能器116的振膜與殼體111之間，為了保證振膜具有充足的振動空間，前腔114可以具有較大的深度尺寸(即換能器116的振膜與其正對的殼體111之間的距離尺寸)。在一些實施例中，如圖16A所示，出聲孔112設置於厚度方向Z上的內側面IS上，此時前腔114的深度可以係指前腔114在Z方向上的尺寸。然，前腔114的深度過大，又會導致發聲部11的尺寸增大，影響開放式耳機10的佩戴舒適性。在一些實施例中，前腔114的深度可以為0.55mm-1.00mm。在一些實施例中，前腔114的深度可以為0.66mm-0.99mm。在一些實施例中，前腔114的深度可以為0.76mm-0.99mm。在一些實施例中，前腔114的深度可以為0.96mm-0.99mm。在一些實施例中，前腔114的深度可以為0.97mm。

為了提升開放式耳機10的出聲效果，前腔114和出聲孔112構成的類似亥姆霍茲共振腔結構的諧振頻率要盡可能的高，以此使得發聲部的整體的頻率回應曲線具有較寬的平坦區域。在一些實施例中，前腔114的諧振頻率f₁可以不低於3kHz。在一些實施例中，前腔114的諧振頻率f₁可以不低於4kHz。在一些實施例中，前腔114的諧振頻率f₁可以不低於6kHz。在一些實施例中，前腔114的諧振頻率f₁可以不低於7kHz。在一些實施例中，前腔114的諧振頻率f₁可以不低於8kHz。

在一些實施例中，前腔114與出聲孔112可以近似看作一個亥姆霍茲共振腔模型，前腔114為亥姆霍茲共振腔模型的腔體，出聲孔112為亥姆霍茲共振腔模型的頸部。此時亥姆霍茲共振腔模型的共振頻率為前腔114的諧振頻率f₁。在亥姆霍茲共振腔模型中，頸部(例如出聲孔112)的尺寸可以影響到腔體的諧振頻率f，具體關係如公式(2)所示：

其中，c代表聲速，S代表頸部(例如出聲孔112)的截面積，V代表腔體(例如前腔114)的體積，L代表頸部(例如出聲孔112)的深度。

由公式(2)可知，當增加出聲孔112的截面積S、減小出聲孔 112的深度L時，前腔114的諧振頻率f₁增大向高頻移動。

在一些實施例中，出聲孔112處的總空氣容積形成聲重量，聲重量可以與系統(例如亥姆霍茲共振腔)諧振以產生低頻輸出。因此聲重量較小可能影響亥姆霍茲共振腔模型的低頻輸出。而出聲孔112的尺寸也會對出聲孔112的聲重量Ma造成影響，具體關係如公式(3)所示：

其中，ρ代表空氣密度，S代表出聲孔112的截面積，L代表出聲孔112的深度。

由公式(3)可知，出聲孔112的截面積S增加、深度L減小，出聲孔112的聲重量Ma減小。

結合公式(2)與公式(3)可知，出聲孔112的截面積S與深度L之比S/L的取值越大，前腔114的諧振頻率f₁越大，出聲孔112的聲重量Ma越小。因此，出聲孔112的截面積S與深度L之比S/L需要處於適當的取值範圍內，具體可以參見例如，圖17A、圖17B及圖18B。

圖16B係根據本說明書一些實施例所示的換能器的示例性內部結構圖。

如圖16B所示，殼體111容納有換能器116，換能器116包括振膜1141、音圈1142、盆架1143以及磁路組件1144。其中，盆架1143包圍振膜1141、音圈1142及磁路組件1144設置，用於提供安裝固定平臺，換能器116可以透過盆架1143與殼體111相連，振膜1141在Z方向上覆蓋音圈1142和磁路組件1144，音圈1142伸入磁路組件1144且與振膜1141相連，音圈1142通電之後產生的磁場與磁路組件1144所形成的磁場相互作用，從而驅動振膜1141產生機械振動，進而經由空氣等媒介的傳播產生聲音，聲音透過出聲孔112輸出。

在一些實施例中，磁路組件1144包括導磁板11441、磁體11442與容納件11443，導磁板11441與磁體11442相互連接，磁體11442遠離導磁板11441的一側安裝於容納件11443的底壁，且磁體11442的周側與容 納件11443的周側內側壁之間具有間隙。在一些實施例中，容納件11443的周側外側壁與盆架1143連接固定。在一些實施例中，容納件11443與導磁板11441均可以採用導磁材質(例如鐵等)。

在一些實施例中，振膜1141的周側可以透過固定環1145連接至盆架1143上。在一些實施例中，固定環1145的材質可以包括不銹鋼材質或其他金屬材質，以適應振膜1141的加工製造工藝。

參照圖16A和圖16B，在一些實施例中，為了提升發聲部11的聲學輸出(尤其係低頻輸出)效果，提升振膜1141推動空氣的能力，振膜1141沿Z方向的投影面積越大越好，然振膜1141的面積過大會導致換能器116的尺寸過大，由此導致殼體111過大，從而容易導致殼體111與耳廓碰撞摩擦，影響發聲部11的佩戴舒適度。因此需要對殼體111的尺寸進行設計。示例性地，耳甲腔沿Y方向的尺寸(例如17mm)可以確定殼體111在Y方向上的寬度尺寸，再根據佩戴舒適度選取適宜的長短比(即殼體111在Y方向尺寸與在X方向的尺寸之比)，從而確定殼體111在X方向的長度尺寸(例如21.49mm)，以與耳甲腔沿Y方向的尺寸相匹配。

在一些實施例中，為了使大多數用戶在佩戴開放式耳機10時發聲部11能夠至少部分***到耳甲腔中，以形成較好的聲學效果的腔體結構，例如，使得開放式耳機10在佩戴時與用戶耳部之間形成第一洩露結構UC和第二洩露結構LC，以提高耳機的聲學性能，殼體111的尺寸可以採用預設範圍的取值。在一些實施例中，根據耳甲腔沿Y方向的寬度尺寸範圍，殼體111沿Y方向上的寬度尺寸可以在11mm-16mm範圍內。在一些實施例中，殼體111沿Y方向上的寬度尺寸可以為11mm-15mm。在一些實施例中，殼體111沿Y方向上的寬度尺寸可以為13mm-14mm。在一些實施例中，殼體111在X方向尺寸與在Y方向尺寸之比的取值可以為1.2-5。在一些實施例中，殼體111在X方向尺寸與在Y方向尺寸之比的取值可以為1.4-4。在一些實施例中，殼體111在X方向尺寸與在Y方向尺寸之比的取值可以為1.5-2。在一些實施例中，殼體111沿X方向的長度尺寸可以在15 mm-30mm範圍內。在一些實施例中，殼體111沿X方向的長度尺寸可以為16mm-28mm。在一些實施例中，殼體111沿X方向的長度尺寸可以為19mm-24mm。在一些實施例中，為了避免殼體111的體積過大影響開放式耳機10佩戴舒適度，殼體111沿Z方向的厚度尺寸可以在5mm-20mm範圍內。在一些實施例中，殼體111沿Z方向的厚度尺寸可以為5.1mm-18mm。在一些實施例中，殼體111沿Z方向的厚度尺寸可以為6mm-15mm。在一些實施例中，殼體111沿Z方向的厚度尺寸可以為7mm-10mm。在一些實施例中，殼體111的內側面IS面積(在內側面IS為矩形的情況下等於殼體111的長度尺寸與寬度尺寸的乘積)可以為90mm²-560mm²。在一些實施例中，內側面IS面積可以認為係近似於振膜1141沿Z方向的投影面積。例如，內側面IS的面積與振膜1141沿Z方向的投影面積相差10%。在一些實施例中，內側面IS的面積可以為150mm²-360mm²。在一些實施例中，內側面IS的面積可以為160mm²-240mm²。在一些實施例中，內側面IS的面積可以為180mm²-200mm²。基於圖9-圖12所述的原理，以如圖13所示的方式進行佩戴，開放式耳機10的尺寸設計在滿足佩戴舒適度的基礎上，其聲學性能係優於現有的開放式耳機，也就係說，在達到同等優良的聲學性能的前提下，開放式耳機10的尺寸可以小於現有的開放式耳機。

參照圖16A和16B，在一些實施例中，出聲孔112的中心O沿Z方向距磁路組件1144的底面的距離可以與振膜1141的振動範圍、磁路組件1144的厚度相關。振膜1141的振動範圍可以影響發聲部11的換能器推動空氣的量。振膜1141的振動範圍越大，發聲部11的換能器推動空氣的量越多，發聲部的發聲效率越高。磁路組件1144的厚度越大，發聲部11的總重量越大，從而影響用戶佩戴的舒適性。此外，當發聲部在Z方向的厚度一定時，出聲孔112的中心O沿Z方向距磁路組件1144的底面的距離越小，後腔115的體積可能越大，此時，根據前述公式(2)可知，後腔115的諧振頻率越小，後腔115的諧振峰向低頻移動，頻率回應曲線的平坦區域的範圍變小。為了保證發聲部的發聲效率足夠高、後腔115諧振頻率 在合適頻率範圍內(例如，1000Hz-5000Hz)以及用戶佩戴足夠舒適，在綜合考慮到結構強度、工藝實現難度以及殼體111的整體厚度的情況下，出聲孔112的中心O沿Z方向距磁路組件1144的底面(即容納件11443沿Z方向遠離出聲孔112的側面)的距離l₁的範圍為5.65mm~8.35mm。在一些實施例中，出聲孔112的中心沿Z方向距磁路組件1144的底面的距離l₁的範圍為6.00mm~8.00mm。在一些實施例中，出聲孔112的中心沿Z方向距磁路組件1144的底面的距離l₁的範圍為6.35mm~7.65mm。在一些實施例中，出聲孔112的中心沿Z方向距磁路組件1144的底面的距離l₁的範圍為6.70mm~7.30mm。在一些實施例中，出聲孔112的中心沿Z方向距磁路組件1144的底面的距離l₁的範圍為6.95mm~7.05mm。

在一些實施例中，出聲孔112的中心O距離磁路組件1144的長軸中心面(例如，如圖13所示的垂直於紙面向裡的面NN’)的距離的範圍為1.45mm~2.15mm。在本說明書中，磁路組件1144的長軸中心面係指平行於發聲部11的下側面LS且透過磁路組件1144的幾何中心的平面。也就係說，磁路組件1144的長軸中心面可以沿著方向X將磁路組件1144分為相同的兩部分。出聲孔112的中心O與磁路組件1144的長軸中心面的距離也即係出聲孔112的中心O沿短軸方向Y到長軸中心面的距離。在一些實施例中，出聲孔112的中心O距長軸中心面的距離的範圍為1.55mm~2.05mm。在一些實施例中，出聲孔112的中心O距長軸中心面的距離的範圍為1.65mm~1.95mm。在一些實施例中，出聲孔112的中心O距長軸中心面的距離的範圍為1.75mm~1.85mm。

圖17A係根據本說明書一些實施例所示的長寬比一定時不同截面積的出聲孔對應的開放式耳機的頻響曲線圖。圖17A示出了當其他結構(例如，泄壓孔113、後腔115體積等)固定且當出聲孔長寬比一定時，出聲孔截面積從0.44mm²至100.43mm²範圍內的開放式耳機10對應的頻響曲線。從圖17A可以看出，在上述條件下，隨著出聲孔112的截面積S逐漸增大，開放式耳機10的頻響曲線中前腔所對應的諧振頻率f₁(即虛線圈G 中的諧振峰對應的頻率)逐漸向高頻移動，而後腔115所對應的諧振頻率一直保持在4.5kHz左右。具體地，隨著出聲孔112的截面積S的增大，前腔的諧振峰逐步向高頻移動，當移動至4.5kHz左右時，前腔和後腔115的諧振頻率可以基本相等，在這過程中，諧振峰的峰值基本保持不變。當前腔的諧振峰移動至4.5kHz後，若繼續增大出聲孔112的截面積S，則前腔的諧振峰的峰值呈現出明顯的逐漸降低的趨勢。因此，在一些實施例中，為了使開放式耳機10的頻響曲線具有較寬的平坦區域，可以使出聲孔112的截面積S大於2.87mm²。優選地，為了使開放式耳機10的頻響曲線在100Hz~2.3kHz範圍較為平坦，可以使出聲孔112的截面積S大於4.0mm²。優選地，為了使開放式耳機10的頻響曲線在100Hz~3.3kHz範圍較為平坦，可以使出聲孔112的截面積S大於7.0mm²。

進一步地，在一定出聲孔112的截面積S範圍內，隨著出聲孔112的截面積S的增大，前腔的諧振峰在向高頻移動的同時其峰值逐步降低。因此，在一些實施例中，為了提升開放式耳機10的音質，同時便於EQ的調整，開放式耳機10的頻響在高頻範圍(例如，4.5kHz~9kHz)需要足夠充足，可以使出聲孔112的截面積S小於54mm²。優選地，為了使開放式耳機10的頻響曲線在4.5kHz~8kHz範圍內足夠充足，可以使出聲孔112的截面積S小於36.15mm²。更優選地，為了使開放式耳機10的頻響曲線在4.5kHz~6.5kHz範圍內足夠充足，可以使出聲孔112的截面積S小於21.87mm²。在本說明書中，為便於描述，出聲孔112的截面積S可以指出聲孔112的外開口的面積(即出聲孔112在內側面上的開口面積)。需要知道的係，在其他一些實施例中，出聲孔112的截面積S也可以指出聲孔112的內開口的面積，或者出聲孔112的內開口面積和外開口面積的平均值。

圖17B係根據本說明書一些實施例所示的不同截面積的出聲孔對應的前腔的頻率回應曲線圖。如圖17B所示，當出聲孔112的截面積S從2.875mm²增大至46.10mm²時，出聲孔112的聲重量Ma從800kg/m⁴ 減小到50kg/m⁴，前腔的諧振頻率f₁從4kHz左右逐漸升高至8kHz左右。需要注意的係，圖17B中所示的200kg/m⁴和800kg/m⁴等參數僅代表出聲孔112的理論聲重量，與出聲孔112的實際聲重量可能會存在誤差。

為了提升開放式耳機10的聲學輸出效果，在提高前腔的諧振頻率f₁的同時，保證出聲孔112的聲重量Ma足夠大，出聲孔112的截面積S需要具有合適的取值範圍內。此外，在實際的設計中，出聲孔112的截面積過大，會對開放式耳機10的外觀、結構強度、防水防塵等其他方面產生一定的影響。在一些實施例中，出聲孔112的截面積S的取值範圍可以為2.87mm²-46.10mm²。在一些實施例中，出聲孔112的截面積S的取值範圍可以為2.875mm²-46mm²。在一些實施例中，出聲孔112的截面積S的取值範圍可以為10mm²-30mm²。在一些實施例中，出聲孔112的截面積S的取值可以為25.29mm²。在一些實施例中，出聲孔112的截面積S的取值範圍可以為25mm²-26mm²。

在一些實施例中，為了增加開放式耳機10的佩戴穩定性，需要滿足發聲部11的內側面IS的面積與人體耳甲腔尺寸適配，此外，當發聲部11以***耳甲腔的方式進行佩戴時，由於內側面IS與耳甲腔側壁構成了腔體結構，相比於常規佩戴方式(例如，將發聲部11置於耳屏前側)，發聲部11的發聲效率高，此時出聲部整體的尺寸可以設計得較小，因此，出聲孔112與內側面IS的面積比可以設計得較大。同時，出聲孔面積也不宜過大，否則會影響出聲孔處防水防塵結構和支撐結構的穩定性，內側面IS的面積也不宜過小，否則會影響換能器推動空氣的面積。在一些實施例中，出聲孔112的截面積S與內側面IS的面積之比可以在0.015~0.25之間。在一些實施例中，出聲孔112的截面積S與內側面IS的面積之比可以在0.02~0.2之間。在一些實施例中，出聲孔112的截面積S與內側面IS的面積之比可以在0.06~0.16之間。在一些實施例中，出聲孔112的截面積S與內側面IS的面積之比可以在0.1~0.12之間。

在一些實施例中，考慮到內側面IS可能需要與耳部(例如，耳 甲腔)接觸，為了提高佩戴的舒適度，內側面IS可能被設計為非平面結構，例如，內側面IS的邊緣區域相對於中心區域具有一定彎曲的弧度，或者內側面IS上靠近自由端FE的區域設置有凸起結構以更好抵接耳部區域等。在這種情況下，為了更好地反映出聲孔112的截面積對開放式耳機10的佩戴穩定性和發聲效率的影響，可以將出聲孔112的截面積S與內側面IS的面積之比替換為出聲孔112的截面積S與內側面IS在振膜振動方向(即，圖16A中的Z方向)的投影面積之比。在一些實施例中，出聲孔112的截面積S與內側面IS在振膜振動方向的投影面積之比可以在0.016~0.255之間。優選地，出聲孔112的截面積S與內側面IS在振膜振動方向的投影面積之比可以在0.022~0.21之間。

在一些實施例中，換能器的振膜在其振動方向上的投影面積可以等於或略小於內側面IS在振膜振動方向的投影面積。在這種情況下，出聲孔112的截面積S與振膜在其振動方向的投影面積之比可以在0.016~0.261之間。優選地，出聲孔112的截面積S與內側面IS在振膜振動方向的投影面積之比可以在0.023~0.23之間。

在一些實施例中，出聲孔112的形狀也會對出聲孔112的聲阻造成影響。出聲孔112越狹長，出聲孔112的聲阻也較大，不利於前腔114的聲學輸出。因此，為了保證出聲孔112具有合適的聲阻，出聲孔112的長軸尺寸與短軸尺寸之比(也稱為出聲孔112的長寬比)需要在預設的適當取值範圍內。

在一些實施例中，出聲孔112的形狀可以包括但不限於圓形、橢圓形、跑道形等。為便於描述，以下將以出聲孔112設置成跑道形為例進行示例性的說明。在一些實施例中，如圖14所示，出聲孔112可以採用跑道形，其中，跑道形的兩端可以為劣弧形或半圓形。此時出聲孔112的長軸尺寸可以係指出聲孔112在X方向上的最大尺寸(如圖14所示的長軸尺寸d)，出聲孔112的短軸尺寸可以係指出聲孔112在Y方向上的最大尺寸(如圖14所示的短軸尺寸h)。

圖18A係根據本說明書一些實施例所示的不同長寬比的出聲孔對應的開放式耳機的頻響曲線圖。圖18A示出當其他結構(例如，泄壓孔113、後腔115體積等)固定且出聲孔面積一定時長寬比分別為1、3、5、8、10的出聲孔所對應的開放式耳機的頻響曲線。

從圖18A可以看出，當出聲孔112截面積一定時，隨著出聲孔112長寬比增大，前腔114的諧振峰的諧振頻率f₁逐漸向高頻移動，諧振峰強度逐漸降低。因此，當出聲孔112的截面積一定時，為了保證前腔的諧振峰的強度足夠強，出聲孔112的長軸尺寸與出聲孔112的短軸尺寸的比值範圍可以在1~10之間。在一些實施例中，出聲孔112的長軸尺寸與出聲孔112的短軸尺寸的比值範圍可以在2~8之間。出聲孔112的長軸尺寸與出聲孔112的短軸尺寸的比值範圍可以在2~4之間。在一些實施例中，出聲孔112的長軸尺寸可以為7.67mm，出聲孔112的短軸尺寸可以為3.62mm。

圖18B係根據本說明書一些實施例所示的不同深度的出聲孔對應的前腔的頻率回應曲線圖。如圖18B所示，出聲孔112的深度L從0.3mm增加至3mm時，出聲孔112的聲重量Ma從100kg/m⁴增加到1000kg/m⁴，前腔的諧振頻率f₁從7kHz左右降低至3.7kHz左右。

為了保證前腔具有足夠大的諧振頻率，根據公式(2)，出聲孔112的深度L的取值越小越好。然由於出聲孔112設置於殼體111上，因此出聲孔112的深度即為殼體111側壁的厚度。殼體111的厚度過小時，可能會對開放式耳機10的結構強度造成影響，且相應的加工工藝難度較高。在一些實施例中，出聲孔112的深度L的取值範圍可以為0.3mm-3mm。在一些實施例中，出聲孔112的深度L的取值範圍可以為0.3mm-2mm。在一些實施例中，出聲孔112的深度L的取值可以為0.3mm。在一些實施例中，出聲孔112的深度L的取值也可以為0.6mm。

在一些實施例中，根據公式(2)，在前腔體積不容易改變的情況下，出聲孔112的截面積S與深度L的平方之比S/L²越大，前腔的諧振頻率越高，出聲孔發出的聲音在中低頻範圍內的效果越好。但由於出聲孔 112的截面積S不宜過大，深度L(殼體111的厚度)也不宜過小。因此，在一些實施例中，出聲孔112的截面積S與深度L的平方之比S/L²的取值範圍可以為0.31-512.2。在一些實施例中，出聲孔112的截面積S與深度L的平方之比S/L²的取值範圍可以為1-400。在一些實施例中，出聲孔112的截面積S與深度L的平方之比S/L²的取值範圍可以為3-300。在一些實施例中，出聲孔112的截面積S與深度L的平方之比S/L²的取值範圍可以為5-200。在一些實施例中，出聲孔112的截面積S與深度L的平方之比S/L²的取值範圍可以為10-50。

上文已對基本概念做了描述，顯然，對於本領域通常知識者來說，上述詳細披露僅僅作為示例，而並不構成對本發明的限定。雖然此處並沒有明確說明，本領域通常知識者可能會對本發明進行各種修改、改進和修正。該類修改、改進和修正在本發明中被建議，所以該類修改、改進、修正仍屬於本發明示範實施例的精神和範圍。

10:開放式耳機

100:耳部

107:耳輪

11:發聲部

111:殼體

12:耳掛

CE:連接端

FE:自由端

LC:第二洩露結構

M:上頂點

NN’:面

O:中心

UC:第一洩露結構

X:長軸方向

Y:短軸方向

Z:厚度方向

Claims (10)

1. 一種開放式耳機，包括：

   發聲部，包括換能器和容納該換能器的殼體；

   耳掛，在佩戴狀態下，該耳掛的第一部分掛設在用戶耳廓和頭部之間，該耳掛的第二部分向該耳廓背離該頭部的一側延伸並連接該發聲部以將該發聲部固定於耳道附近但不堵塞耳道的位置，其中，該換能器包括振膜，該殼體朝向該耳廓的內側面上開設有出聲孔，用於將該振膜振動產生的聲音匯出該殼體後傳向該耳道，其中，該出聲孔的中心與該耳掛的上頂點之間的距離的範圍為22.5mm~34.5mm。
2. 如請求項1所述的開放式耳機，其中，在佩戴狀態下，該出聲孔的中心在矢狀面的投影距該耳掛的上頂點在該矢狀面的投影的距離範圍為18mm~30mm。
3. 如請求項1所述的開放式耳機，其中，在佩戴狀態下，該出聲孔的該中心距該耳掛的該上頂點的距離與該內側面的上下邊界之間距離的比值在1.2~2.2之間。
4. 如請求項1所述的開放式耳機，其中，在佩戴狀態下，該出聲孔的該中心距該耳掛的該上頂點的該距離與該出聲孔的該中心距該發聲部的上側面的距離的比值在1.94~2.93之間。
5. 如請求項1所述的開放式耳機，其中，該出聲孔的中心與該耳掛所在的平面之間的距離在3mm~6mm之間。
6. 如請求項1所述的開放式耳機，其中，該換能器包括磁路組件，該磁路組件用於提供磁場，該出聲孔的中心距該磁路組件的底面的距離範圍為5.65mm~8.35mm。
7. 如請求項6所述的開放式耳機，其中，該出聲孔的該中心距離該磁路組件的長軸中心面的距離範圍為1.45mm~2.15mm。
8. 如請求項1所述的開放式耳機，其中，該出聲孔的截面積與該出聲孔的深度之比為0.958mm-153.3mm。
9. 如請求項8所述的開放式耳機，其中，該出聲孔的該深度的 取值範圍為0.3mm-3mm。
10. 如請求項1所述的開放式耳機，其中，該出聲孔的長軸尺寸與該出聲孔的短軸尺寸的比值範圍在1~10之間。

Images