TW202404707A - 支撐治具及桶槽物件之清洗方法 - Google Patents

支撐治具及桶槽物件之清洗方法 Download PDF

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Abstract

本發明之目的係提供一種支撐治具及一種清洗方法。本發明之清洗方法係提供一種包括複數基座及至少一輔助構件之支撐治具,並將桶槽物件橫置於該些基座及該輔助構件上,藉此使該些基座及該輔助構件沿著該桶槽物件之周方向緊密接觸於該桶槽物件之外周面之至少一部分,再將清洗液注入該桶槽物件中,之後繞著該桶槽物件之軸線旋轉該桶槽物件,藉此以該清洗液清洗該桶槽物件之內部。因此,藉由橫置該桶槽物件及旋轉該桶槽物件之配合,使該清洗液可翻攪並去除該桶槽物件內部之雜質,且藉由該輔助構件之設計,提供強度輔助之功能,使裝載有清洗液之桶槽物件之外周面所承受之應力有效地被分散。

Description

支撐治具及桶槽物件之清洗方法
本發明係有關一種治具,尤指一種可用於清洗桶槽物件之支撐治具,及利用前述支撐治具之清洗方法。
一般半導體製程中,常需使用大量化學藥液。化學藥液之純度極為重要,以避免雜質殘留於半導體裝置上。
從以往以來,化學藥液係於化學廠房內生產後,注入於桶槽物件中再運送至半導體廠,或注入設置於半導體廠內的桶槽物件中,以在半導體廠中進行半導體製程之相關作業。因此,於將化學藥液注入桶槽物件之前,需先清洗該桶槽物件,以確保該桶槽物件之內部不會殘留雜質。藉此,令化學藥液不會混入雜質,以保持化學藥液之純度。
[發明所欲解決的課題]
然而,習知之清洗桶槽物件之方式,係先立好桶槽物件,使其保持直立狀,再以噴霧方式進行該桶槽物件內部之清洗。惟此桶槽物件之清洗方式不僅無法均勻洗淨該桶槽物件內部,且噴霧之力道極弱而難以清除該桶槽物件內壁面上之污垢。因此,於將化學藥液注入該桶槽物件後,會有該桶槽物件之內部所殘留之雜質混入化學藥液中之情形,而導致化學藥液之純度變差。
此外,在業界中亦有採用將桶槽物件浸漬於清洗液以清洗該桶槽物件之方式。例如,如圖1所示,係於站立好之桶槽物件7內注入清洗液6至幾乎最大容量(超過九成滿),待長時間浸漬以溶解而去除該桶槽物件7內之雜質後,再移除該清洗液6。
然而,習知之浸漬清洗液之方式中,需將清洗液6裝填至幾乎最大容量之狀態,因而需耗費大量清洗液6之使用量,且需長時間浸漬,故大幅增加清洗作業之費用成本及增長清洗時間,因而使清洗作業之經濟效益下降。
再者,習知之浸漬清洗液之方式中,基於安全考量,清洗液6不會注入至該桶槽物件7內部之頂端空間為止,因而無法洗淨該桶槽物件7內部之頂端空間。因此,於將化學藥液注入該桶槽物件7之後,殘留於該桶槽物件7內部之頂端空間之雜質會混入化學藥液中,導致化學藥液之純度變差,進而對半導體之製造之良率造成不良影響。
另一方面,在以往,亦有採用橫置桶槽物件以清洗該桶槽物件之方式。例如,將桶槽物件以橫置之狀態承載於一環狀支撐框架內,以該環狀支撐框架支撐該桶槽物件之全部外周面,再將清洗液注入桶槽物件,之後使該環狀支撐框架進行搖動,以溶解而去除該桶槽物件內之雜質,最後移除該清洗液。然而,習知之橫置清洗之方式中,需先組裝該環狀支撐框架,不僅費時費力而難以降低成本。此外,容易因為該環狀支撐框架對於該桶槽物件所施予之支承力而造成對該桶槽物件所施加的應力分佈不均,而使得桶槽物件產生變形。
因此,如何克服上述習知技術的種種問題,實已成目前亟欲解決的課題。 [解決課題的手段]
鑑於上述習知技術之種種缺失,本發明係提供一種支撐治具,係用以支撐橫置之一圓筒狀之桶槽物件並使該桶槽物件轉動,該支撐治具係包括:複數個基座,係設置成相對於該桶槽物件之外周面朝周方向可滑動地抵接於該外周面;以及至少一輔助構件,係設於該複數個基座之至少一者上,並設置成相對於該桶槽物件之外周面朝周方向可滑動地抵接於該外周面;該複數個基座及該輔助構件係構成為以該複數個基座及該輔助構件支撐橫置之該桶槽物件,並且容許該桶槽物件進行轉動。
前述之支撐治具中,該輔助構件係包含複數個承載組,該承載組係相對於該桶槽物件之外周面朝該周方向可滑動地抵接於該外周面。例如,各該承載組係包含至少一個可旋轉地設於該基座上之輔助構件用滾輪,該輔助構件用滾輪係抵接於該桶槽物件之外周面。
前述之支撐治具中,複數個該基座上係設有該輔助構件,且設有該輔助構件之該基座中,任二個該基座上所配置之該輔助構件之數量係不相同。
前述之支撐治具中,該輔助構件係可拆卸地設於該複數個基座之至少一者上。
前述之支撐治具中,該輔助構件係設置成於該桶槽物件之軸方向上鄰接於該基座。
前述之支撐治具中,該複數個基座係沿該桶槽物件之軸方向排列且在該桶槽物件之軸方向上各自隔開間隔而設置。
前述之支撐治具中,各該基座係包含有一基座主體及沿該桶槽物件之外周方向排列而設於該基座主體上之複數個作用構件,且該作用構件係相對於該桶槽物件之外周面朝該周方向可滑動地抵接於該外周面。例如,各該作用構件係包含一設於該基座主體上之支撐架及可旋轉地設於該支撐架上之複數個基座用滾輪,該複數個基座用滾輪係抵接於該桶槽物件之外周面。進一步,該基座用滾輪的表面貼附有保護帶。或者,該基座上設有控制該基座用滾輪的旋轉速度之基座用滾輪控制裝置。
前述支撐治具中,該輔助構件用滾輪的表面貼附有保護帶。或者,該輔助構件上設有控制該輔助構件用滾輪的旋轉速度之輔助構件用滾輪控制裝置。
本發明提供一種桶槽物件之清洗方法,係包括:提供前述之支撐治具之步驟;將一圓筒狀之桶槽物件橫置於該基座與該輔助構件上,使該基座及該輔助構件均相對於該桶槽物件之外周面朝周方向可滑動地抵接於該外周面之步驟;將清洗液加入該桶槽物件中之步驟;以及將橫置於該支撐治具上並加入有該清洗液的該桶槽物件以該桶槽物件之軸線為中心進行旋轉,以使該清洗液清洗該桶槽物件之內部之步驟。
前述之清洗方法中,在該清洗步驟中,該桶槽物件係進行往復搖動。 [發明的功效]
由上可知,本發明之支撐治具之清洗方法中,主要藉由該輔助構件之設計,即可直接將該桶槽物件橫置於該支撐治具上,因而無需先將該桶槽物件橫置於習知環狀支撐框架內,故相較於習知之橫置清洗之方式,本發明之清洗方法能省去組裝習知環狀支撐框架之時間與費用,不僅省時省力而能降低成本,且該輔助構件能任意調整位置,以針對該桶槽物件上較易變形之區域配置該輔助構件,以有效克服該桶槽物件於清洗時變形之問題。
再者,藉由橫置該桶槽物件及旋轉該桶槽物件之配合,使該清洗液可翻攪蝕除該桶槽物件內部之奈米雜質,故相較於習知噴霧清洗方式,本發明之清洗方法之可均勻洗淨該桶槽物件內部之所有區域,且該桶槽物件之旋轉力道極強而能輕易清除該桶槽物件內壁面上之污垢。藉此,於該桶槽物件裝載半導體晶圓製程所需之化學藥液時,該桶槽物件內之化學藥液中不會有奈米雜質摻入,化學藥液的純度保持高純度,進而能確保該半導體晶圓製程之良率。
另一方面,本發明之清洗方法藉由橫置該桶槽物件及旋轉該桶槽物件之配合,使該桶槽物件只需裝載半滿之清洗液,即可進行清洗作業,因而能大幅減少該清洗液之使用量,且無需進行長時間浸漬之步驟,故相較於習知浸漬清洗方式,本發明之清洗方法能大幅降低清洗作業之費用及縮短清洗時間,因而能符合清洗作業之經濟效益。
又,本發明之清洗方法藉由橫置該桶槽物件及旋轉該桶槽物件之配合,使該桶槽物件只需裝載半滿之清洗液,即可進行清洗作業,而能確保清洗作業之安全性。並且,由於能洗淨該桶槽物件內部之所有區域,故相較於習知浸漬清洗方式,在利用本發明之清洗方法進行清洗作業後,該桶槽物件內部之所有區域不會殘留奈米雜質,因此於該桶槽物件裝載半導體晶圓製程所需之化學藥液時,該桶槽物件內之化學藥液中不會有奈米雜質摻入,使得化學藥液的純度保持高純度,因而能提高該半導體晶圓製程之良率。
另外,本發明之支撐治具係設有基於本發明之清洗方法之需求而設計出的輔助構件,而藉由該輔助構件提供強度輔助之功能,使裝載有清洗液之桶槽物件之外周面所承受之應力能有效分散,故本發明之支撐治具能穩固支撐該裝載有清洗液之桶槽物件,使該桶槽物件不會變形。
以下藉由特定的具體實施例說明本發明之實施方式,熟悉此技藝之人士可由本說明書所揭示之內容輕易地瞭解本發明之其他優點及功效。
須知,本說明書所附圖式所繪示之結構、比例、大小等,均僅係為了容易瞭解與閱讀,而配合說明書所揭示之內容者,並非用以限定本發明之實施之條件。任何結構之修飾、比例關係之改變或大小之調整,在不影響本發明所能產生之功效及所能達成之目的下,均仍落在本發明之範圍內。 同時,本說明書中所記載之如「上」、「一」、「二」及「三」等用語,亦僅為了容易瞭解與閱讀而使用者,而非用以限定本發明可實施之範圍,其改變或調整,在無實質變更技術內容下,當亦落在本發明之範圍內。
圖2至圖9係為顯示本發明之支撐治具的圖面。如圖2所示,本發明之支撐治具1係用以支撐橫置之一圓筒狀之桶槽物件9並使該桶槽物件9轉動,且包括:複數個基座2以及至少一輔助構件3。
於一種實施例中,該桶槽物件9係為化學藥品儲存用桶槽,其具有一大致呈圓筒狀之槽體90與一用以支撐該槽體90之腳座91。該桶槽物件9係由直徑R為3400㎜及總高度H為5346㎜之金屬容器結構構成,如圖11所示,且其總重量約5噸。在此應注意者為,桶槽物件9可採用各種規格,並不限於上述之規格。
所述之基座2係設置成相對於該桶槽物件9之外周面S朝周方向W可滑動地抵接於該外周面S。
於本實施例中,該複數個基座2係沿該桶槽物件9之軸方向(即該桶槽物件9之軸線L之方向,亦為如圖2所示之XYZ座標軸的軸X的方向)排列且在該桶槽物件9之軸方向上各自隔開間隔而設置。
再者,各該基座2係採用調芯滾輪座,其包含有一基座主體20及沿該桶槽物件9之周方向W排列而設於該基座主體20上之複數個作用構件21,且該作用構件21係相對於該桶槽物件9之外周面S朝該周方向W可滑動地抵接於該外周面S。
所述之作用構件21係包含一設於該基座主體20上之支撐架211及可旋轉地設於該支撐架211上之複數個基座用滾輪210,該複數個基座用滾輪210係抵接於該桶槽物件9之外周面S。較佳地,該基座用滾輪210的表面貼附有一保護用帶212,如黑膠之軟膠墊面。例如,該保護用帶212為聚乙烯(Polyethylene,簡稱PE)材質,其規格如下表1。 [表1]
項目 單位 規定值 測量方法
厚度 0.08±0.005 AFERA5006
寬度 訂製規格±0.2
剝離強度 Cn/㎝ 120 AFERA4001
斷裂強度 縱向 >1.2daN/㎝ AFERA5004
橫向 >0.9daN/㎝
斷裂強度 縱向 >200% AFERA5004
橫向 >400%
於本實施例中,該支撐架211係固定於該基座主體20上,且該基座用滾輪210之旋轉軸係連接於該支撐架211。例如,單一支撐架211上係配置兩個基座用滾輪210。
再者,該基座主體20上可藉由調整件23固定該支撐架211,其中,該調整件23係具有階梯結構23a(如圖4所示),以令該支撐架211卡固於其中一台階231,232,233上,故可依需求改變該支撐架211之高低位置,以調整該些基座用滾輪210於該桶槽物件9之外周面S上之位置。藉此,使該些作用構件21能依該桶槽物件9之直徑R的大小或依據桶槽物件9之外周面S上較易變形之區域而將作用構件21配置於所需之適當位置處。應可理解地,該調整件23可採用各種形式,並不限於上述。
又,該作用構件21係以位在基座主體20的中心且朝與基座主體20的長邊方向正交的方向(軸X的方向)延伸的線為中心線而左右對稱地配置於該基座主體20上,使該些基座用滾輪210能穩定轉動該桶槽物件9。
另外,該基座2設有至少一止動結構22,如圖5所示,於該止動結構22中,係藉由支架221將操作盤220及連動該操作盤220之摩擦墊222設於該支撐架211上。可藉由手動方式旋轉該操作盤220,來調整該摩擦墊222與該基座用滾輪210之間的距離及緊密度,故可依需求增減兩者之間的摩擦力,而停止該基座用滾輪210的旋轉。
所述之輔助構件3係設於該複數個基座2之至少一者上(如圖2所示之旁側基座2上),並設置成相對於該桶槽物件9之外周面S朝周方向W可滑動地抵接於該外周面S。
於本實施例中,該輔助構件3係可拆卸地設於該複數個基座2之至少一者上,以利於隨時調整該輔助構件3抵接於該桶槽物件9之外周面S之位置,且該輔助構件3係設置成於該桶槽物件9之軸方向上鄰接於該基座2,以利於達到輔助該基座2支撐該桶槽物件9之目的。
再者,該輔助構件3係包含複數個(如兩個)承載組3a,如圖6所示,該承載組3a係相對於該桶槽物件9之外周面S朝該周方向W可滑動地抵接於該外周面S。
所述之承載組3a係包含至少一個可旋轉地設於該基座2上之輔助構件用滾輪30,且該輔助構件用滾輪30係抵接於該桶槽物件9之外周面S。較佳地,該輔助構件用滾輪30和與其對應的該基座用滾輪210裝設在同一根軸上,且該輔助構件用滾輪30的表面貼附有保護用帶300,如黑膠之軟膠墊面。例如,該保護用帶300為聚乙烯(Polyethylene,簡稱PE)材質,其規格如下表2。 [表2]
項目 單位 規定值 測量方法
厚度 0.08±0.005 AFERA5006
寬度 訂製規格±0.2
剝離強度 Cn/㎝ 120 AFERA4001
斷裂強度 縱向 >1.2daN/㎝ AFERA5004
橫向 >0.9daN/㎝
斷裂強度 縱向 >200% AFERA5004
橫向 >400%
於本實施例中,該承載組3a係包含複數個(如兩個)輔助構件用滾輪30,且藉由一固定架31連接該複數個輔助構件用滾輪30。例如,該承載組3a之構造大致相同於該作用構件21之構造。較佳地,該承載組3a係以位在基座主體20的中心且朝與基座主體20的長邊方向正交的方向(軸X的方向)延伸的線為中心線而左右對稱地配置於該基座2上,使該些輔助構件用滾輪30能穩定轉動該桶槽物件9。
又,該輔助構件3設有至少一止動結構32。如圖7所示,在止動結構32中,係藉由支架321將操作盤320及連動該操作盤320之摩擦墊322設於該固定架31上。可藉由手動方式旋轉該操作盤320,來調整該摩擦墊322與該輔助構件用滾輪30之間的距離及緊密度,故可依需求增減兩者之間的摩擦力,而停止該輔助構件用滾輪30的旋轉。
另外,該支撐治具1可依需求配置該輔助構件3之數量,如圖8所示之於複數個(如兩個)基座2a,2b上設置該輔助構件3。例如,設有該輔助構件3之該基座2a,2b中,任二個該基座2a,2b上所配置之該輔助構件3之數量係不相同,如圖8所示之支撐治具1a,其中間基座2b具有兩個該輔助構件3,而旁側基座2a具有一個該輔助構件3。
另一方面,該支撐治具1可於該基座2,2a,2b,2c(於圖8中僅基座2c)上設有控制該基座用滾輪210的旋轉速度之基座用滾輪控制裝置4。藉由該基座用滾輪控制裝置4控制該基座用滾輪210的旋轉速度,藉此,使該桶槽物件9能例如以下表3所示的規定值旋轉。 [表3]
項目 規定值
轉速 0.1rpm~0.3rpm
角度 0°~360°
往復次數 5回~20回
所述之基座用滾輪控制裝置4係包含一馬達40、複數由該馬達40作動之傳動用減速機41、及複數由該傳動用減速機41連動之鏈輪帶動結構42,如圖9所示。
於本實施例中,該馬達40可配載一馬達用減速機43,且單一該鏈輪帶動結構42可同步轉動該兩基座用滾輪210,並可藉由一傳動軸44連動該複數傳動用減速機41,使該複數傳動用減速機41同步帶動該複數鏈輪帶動結構42,以同步旋轉該作用構件21上之複數個基座用滾輪210。
再者,該基座用滾輪控制裝置4可依需求配置於基座2,2a,2b,2c中之至少一基座上,例如可配置於圖2及圖8所示之未設有該輔助構件3之基座2,2c。藉此,於使用該支撐治具1,1a時,該基座用滾輪控制裝置4只需作動其所配置之基座2,2c,即可轉動該桶槽物件9。於是,該桶槽物件9將於設有該輔助構件3之基座2,2a,2b上滑動,藉此使該設有該輔助構件3之基座2,2a,2b之複數個基座用滾輪210轉動。
因此,可將該基座用滾輪控制裝置4直接連動之基座2,2c之基座用滾輪210視為主動輪組,而配合該桶槽物件9滑動而轉動之基座2,2a,2b之基座用滾輪210及其連動之輔助構件3之輔助構件用滾輪30視為被動輪組。
再者,應可理解地,該支撐治具1亦可於該輔助構件3上設有控制該輔助構件用滾輪30的旋轉速度之輔助構件用滾輪控制裝置(輔助構件用滾輪控制裝置的機構係與該基座用滾輪控制裝置4相同,故省略其圖式)。藉由該輔助構件用滾輪控制裝置控制該輔助構件用滾輪30的旋轉速度,使該桶槽物件9能例如以下表4所示之規定值進行旋轉。 [表4]
項目 規定值
轉速 0.1rpm~0.3rpm
角度 0°~360°
往復次數 5回~20回
例如,可將圖9所示之支撐治具1a中設置於基座2c的基座用滾輪控制裝置4置換為輔助構件用滾輪控制裝置,並將該輔助構件用滾輪控制裝置設置於設在基座2a上之輔助構件3上。此時,由於輔助構件用滾輪30和與其對應的基座用滾輪210係裝設於同一根軸上,因此能以單一個鏈輪帶動結構42同步轉動兩個基座用滾輪210及兩個輔助構件用滾輪30。此時,可將該輔助構件用滾輪控制裝置所直接驅動之基座2a上之基座用滾輪210及與其連動之輔助構件3之輔助構件用滾輪30視為主動輪組,而其它基座2b,2c之基座用滾輪210及與其連動之輔助構件3之輔助構件用滾輪30視為被動輪組。
於使用該支撐治具1,1a時,係以該複數個基座2,2a,2b,2c及該輔助構件3支撐橫置之該桶槽物件9,再使該基座用滾輪210與輔助構件用滾輪30轉動,以容許該桶槽物件9進行轉動,因此,若追加輔助構件用滾輪30而增加承載用之滾輪之數量,則由單排基座用滾輪210之受力會變更成由多排滾輪(輔助構件用滾輪30與基座用滾輪210)之受力,藉此該桶槽物件9之外周面S之受力的表面的面積增加,而將單點之較高壓力分散成多點之較低壓力。亦即使該桶槽物件9之重量分散於多排滾輪,以降低該桶槽物件9施予各該基座2,2a,2b,2c之壓力,因而本發明之支撐治具1,1a可良好地應用於該桶槽物件9之清洗作業。
在此,請一併參考圖2至圖9,本發明更提供一種清洗方法,供該桶槽物件9之清洗作業採用。該清洗作業所採用之清洗方法之具體步驟如下所述。
於本實施例中,係採用圖8所示之支撐治具1a,且基於該支撐治具1a之使用方式,係將該基座2a,2b,2c之置放表面(例如地面等之環境表面)定義為基準面,並將該桶槽物件9之橫置方向定義為前後方向(亦即桶槽物件9之軸方向。例如圖10所示之XYZ座標系統之軸X的方向),且將該基準面中之與該前後方向正交之方向定義為左右方向(例如圖10所示之XYZ座標系統之軸Y的方向),並將該桶槽物件9於橫置前之直立方向定義為上下方向(例如圖10所示之XYZ座標系統之軸Z的方向)。
本發明之洗淨方法中,首先,如圖10所示,將一圓筒狀之桶槽物件9傾倒以橫置於該基座2a,2b,2c與該輔助構件3上,使該基座2a,2b,2c及該輔助構件3均相對於該桶槽物件9之外周面S朝周方向W可滑動地抵接於該外周面S。
接著,如圖11所示,將清洗液8由該桶槽物件9之輸送埠92注入該槽體90中。其中,該清洗液8不會注入至該桶槽物件9之槽體90的最大容量,而只需注入達最大容量的大致一半狀態。例如,該輸送埠92係連接於一伸入該槽體90內之輸送管920,以將該清洗液8注入至該槽體90內,且藉由液位量測裝置95檢測該槽體90內之清洗液8之體積。
於本實施例中,該清洗液8係含有31%之過氧化氫(Hydrogen peroxide),其密度為1.11g/㎝ 3。該清洗液8至多係呈槽體90的最大容量的一半狀態(其重量約為20噸),因此於該桶槽物件9接觸該些基座用滾輪210與輔助構件用滾輪30並進行轉動時,該槽體90中之清洗液8能被翻攪。
另外,就其它順序而言,亦可在傾倒桶槽物件9之前,先將該清洗液8裝入該槽體90中,再將該桶槽物件9傾倒以橫置於該基座2a,2b,2c與該輔助構件3上。
之後,將橫置於該支撐治具1a上並加入有該清洗液8的該桶槽物件9以該桶槽物件9之軸線L為中心進行旋轉,以使該清洗液8清洗該桶槽物件9之內部。
於本實施例中,藉由該馬達40驅動該基座用滾輪210與輔助構件用滾輪30轉動,以旋轉該桶槽物件9。藉此,注入有該清洗液8的該桶槽物件9會以該桶槽物件9之軸線L之方向作為轉軸進行旋轉,而翻攪該槽體90內之清洗液8。如此,藉由被翻攪之該清洗液8來清洗該槽體90之內部。
再者,由於各該基座2a,2b,2c之位置可任意調整,且該輔助構件3可任意配置,故該基座用滾輪210與輔助構件用滾輪30可避開該桶槽物件9之外周面S上方之配件93(例如,該液位量測裝置95係設於其所需之位置)。再者,就該桶槽物件9之旋轉方式而言,如圖12所示之旋轉方向F,可朝逆時針方向及順時針方向之兩方向往復搖動,或者,亦可朝逆時針方向或順時針方向旋轉360度角。例如,可使該桶槽物件9以轉軸為中心向圖12中之逆時針方向擺動180度角及向順時針擺動180度角,或者是於避開該桶槽物件9之外周面S上之配件93之情況下,向圖12中之逆時針方向及順時針方向之兩方向大幅擺動360度角。藉此,在該清洗過程中,該桶槽物件9可進行往復搖動,亦即逆時針方向與順時針方向之來回擺動。 應可理解者為,該桶槽物件9之可旋轉角度係配合該桶槽物件9之外周面S上之配件93而決定,故若變更該桶槽物件9之外周面S上之配件93之位置,即可改變該桶槽物件9之可旋轉角度。
待完成清洗作業後,藉由該輸送管920將清洗液8由該桶槽物件9之輸送埠92抽離該槽體90,以將該清洗液8輸送至該桶槽物件9外之預定處,如廢液收集處。
因此,本發明之清洗方法中,主要藉由該輔助構件3之配置,即可直接將該桶槽物件9橫置於該支撐治具1,1a上,因而無需先將該桶槽物件9橫置於習知環狀支撐框架內,故相較於習知配合環狀支撐框架之橫置的清洗方式,本發明之清洗方法具有以下優點:
第一、提高效率,且省時省力,以降低清洗成本。本發明省去組裝習知環狀支撐框架之時間與費用,使施作工程簡化,因而不需再耗費人力拆裝治具,進而省去如吊車作業等大型機具之使用。
第二、藉由減少支撐治具1,1a的重量,對於清洗作業之施作地點之地面之強度要求可降低約20%,以避免施作地點之地面裂損,甚至下陷。
第三、安全性提升。所使用之支撐治具1,1a在清洗作業之施作地點進行第一次定位後,該桶槽物件9即可直接進行上、下方向(例如圖2所示之XYZ座標系統之軸Z的方向)之取放作業,作業員無需從該支撐治具1,1a之四周(前後左右方向)執行危險之取放作業。
第四、增加支撐治具1,1a的廻轉角度。所使用之支撐治具1,1a無需使用習知環狀支撐框架,因此可增加轉動角度,例如,超過270°,甚至能360°旋轉該桶槽物件9。
再者,本發明之支撐治具1,1a係藉由基座2,2a,2b,2c與該輔助構件3之構成,而分散該桶槽物件9於旋轉時之外周面S所承受之應力。由於該輔助構件3能任意調整其擺放位置,以針對該桶槽物件9上較易變形之區域配置該輔助構件3,因而能有效克服該桶槽物件9於清洗時變形之問題。尤其是採用以每一排四個滾輪支承該桶槽物件9之重量之構成,因而更能有效分散位於該注入有清洗液8之桶槽物件9之滾輪側之外周面S所承受之應力。因此,該支撐治具1,1a能穩固地支撐該注入有清洗液8之桶槽物件9,使該桶槽物件9不會變形。
因此,本發明藉由橫置該桶槽物件9及旋轉該桶槽物件9之配合,以令該清洗液8可翻攪去除該桶槽物件9內部之雜質。因此,相較於習知之噴霧清洗方式,本發明之清洗方法之桶槽物件9之旋轉角度(甚至能360°旋轉)能有效均勻洗淨該桶槽物件9之槽體90內部之所有區域。此外,該桶槽物件9之旋轉力道強,使桶槽內部的該清洗液8被激烈攪拌,藉此能輕易清除該桶槽物件9之槽體90內壁面上之污垢。如此,於該桶槽物件9之槽體90注入半導體製程所需之化學藥液後,不會有各種雜質混入該桶槽物件9之槽體90內之化學藥液中,因此化學藥液可保持高純度,而能確保該半導體製程之良率。
再者,相較於習知之浸漬清洗方式,本發明之清洗方法藉由橫置該桶槽物件9及旋轉該桶槽物件9之配合,使該桶槽物件9之槽體90只需注入最大容量之一半之清洗液8,即可進行清洗作業,因而能大幅減少該清洗液8之使用量,且無需進行長時間浸漬之步驟。因此,本發明之清洗方法能大幅降低清洗作業之費用成本及縮短清洗時間,因而能提高清洗作業之經濟效益。
又,相較於習知之浸漬清洗方式,本發明之清洗方法藉由橫置該桶槽物件9及旋轉該桶槽物件9之配合,使該桶槽物件9之槽體90只需注入最大容量之一半之清洗液8,即可進行清洗作業,因而能提高清洗作業之安全性。
另外,本發明之清洗方法之支撐治具1,1a主要藉由因應需要設置輔助構件3,來強化該桶槽物件9於橫置及旋轉時之抗變形性(亦即該支撐治具1所提供之強度輔助功能),使注入有清洗液8之桶槽物件9之外周面S所承受之應力(例如旋轉離心力)能有效分散,而不會發生應力集中之問題。因此,該支撐治具1,1a能穩固地支撐該注入有清洗液8之桶槽物件9(總重約25噸),使該桶槽物件9(不論是注入有清洗液8或未注入有清洗液8)不會變形。
如上述,本發明之支撐治具1,1a及清洗方法係藉由該輔助構件3之設置,因而免用習知環狀支撐框架,即可實現可發揮高清洗功效之清洗作業,且能縮短清洗時間,以縮短例如該半導體製程之啟動時間(生產線之準備時間),故有利於半導體製程之技術發展。
再者,於本發明之橫置旋轉洗淨過程中,因無習知環狀支撐框架之限制,故能大幅度旋轉,以利於符合如半導體製程之高精密製程之潔淨度需求。
上述實施例係用以例示性說明本發明之原理及其功效,而非用於限制本發明。任何熟習此項技藝之人士均可在不違背本發明之精神及範疇下,對上述實施例進行修改。因此本發明之權利保護範圍,應如後述之申請專利範圍所列。
1,1a:支撐治具 2,2a,2b,2c:基座 3:輔助構件 4:基座用滾輪控制裝置 6,8:清洗液 7,9:桶槽物件 20:基座主體 21:作用構件 22,32:止動結構 23:調整件 3a:承載組 30:輔助構件用滾輪 31:固定架 40:馬達 41:傳動用減速機 42:鏈輪帶動結構 43:馬達用減速機 44:傳動軸 90:槽體 91:腳座 92:輸送埠 93:配件 95:液位量測裝置 210:基座用滾輪 211:支撐架 212,300:保護用帶 220,320:操作盤 221,321:支架 222,322:摩擦墊 23a:階梯結構 231,232,233:台階 920:輸送管 F:旋轉方向 H:高度 L:軸線 R:直徑 S:外周面 W:周方向 X,Y,Z:軸
圖1係為顯示習知桶槽物件之清洗方式之示意圖。 圖2係為本發明之支撐治具與桶槽物件之分開立體示意圖。 圖3係為本發明之支撐治具之基座之立體示意圖。 圖4係為本發明之支撐治具之基座之局部放大平面示意圖。 圖5係為本發明之支撐治具之基座之平面示意圖。 圖6係為本發明之支撐治具之輔助構件之立體示意圖。 圖7係為本發明之支撐治具之輔助構件之平面示意圖。 圖8係為本發明之支撐治具之另一實施例之立體示意圖。 圖9係為本發明之支撐治具之另一實施例之另一視角之立體示意圖。 圖10係為顯示本發明之清洗方法之立體示意圖。 圖11係為顯示承載於本發明之支撐治具之桶槽物件的內部之示意圖。 圖12係為從側面觀看在本發明之支撐治具組承載桶槽物件的狀態之示意圖。
1:支撐治具
2:基座
3:輔助構件
4:基座用滾輪控制裝置
9:桶槽物件
90:槽體
91:腳座
92:輸送埠
93:配件
95:液位量測裝置
L:軸線
S:外周面
W:周方向
X,Y,Z:軸

Claims (15)

  1. 一種支撐治具,係用以支撐橫置之一圓筒狀之桶槽物件並使該桶槽物件轉動,該支撐治具係包括: 複數個基座,係設置成相對於該桶槽物件之外周面朝周方向可滑動地抵接於該外周面;以及 至少一輔助構件,係設於該複數個基座之至少一者上,並設置成相對於該桶槽物件之外周面朝周方向可滑動地抵接於該外周面; 該複數個基座及該輔助構件係構成為以該複數個基座及該輔助構件支撐橫置之該桶槽物件,並且容許該桶槽物件進行轉動。
  2. 如請求項1所述之支撐治具,其中,該輔助構件係包含複數個承載組,該承載組係相對於該桶槽物件之外周面朝該周方向可滑動地抵接於該外周面。
  3. 如請求項2所述之支撐治具,其中,各該承載組係包含至少一個可旋轉地設於該基座上之輔助構件用滾輪,該輔助構件用滾輪係抵接於該桶槽物件之外周面。
  4. 如請求項3所述之支撐治具,其中,該輔助構件用滾輪的表面貼附有保護帶。
  5. 如請求項3所述之支撐治具,其中,該輔助構件上設有控制該輔助構件用滾輪的旋轉速度之輔助構件用滾輪控制裝置。
  6. 如請求項1所述之支撐治具,其中,複數個該基座上係設有該輔助構件,且設有該輔助構件之該基座中,任二個該基座上所配置之該輔助構件之數量係不相同。
  7. 如請求項1至3及6中任一項所述之支撐治具,其中,該輔助構件係可拆卸地設於該複數個基座之至少一者上。
  8. 如請求項1至3及6中任一項所述之支撐治具,其中,該輔助構件係設置成於該桶槽物件之軸方向上鄰接於該基座。
  9. 如請求項1至3及6中任一項所述之支撐治具,其中,該複數個基座係沿該桶槽物件之軸方向排列且在該桶槽物件之軸方向上各自隔開間隔而設置。
  10. 如請求項1至3及6中任一項所述之支撐治具,其中,各該基座係包含有一基座主體及沿該桶槽物件之周方向排列而設於該基座主體上之複數個作用構件,且該作用構件係相對於該桶槽物件之外周面朝該周方向可滑動地抵接於該外周面。
  11. 如請求項10所述之支撐治具,其中,各該作用構件係包含一設於該基座主體上之支撐架及可旋轉地設於該支撐架上之複數個基座用滾輪,該複數個基座用滾輪係抵接於該桶槽物件之外周面。
  12. 如請求項11所述之支撐治具,其中,該基座用滾輪的表面貼附有保護帶。
  13. 如請求項11所述之支撐治具,其中,該基座上設有控制該基座用滾輪的旋轉速度之基座用滾輪控制裝置。
  14. 一種桶槽物件之清洗方法,係包括: 提供如請求項1至13中任一項所述之支撐治具之步驟; 將一圓筒狀之桶槽物件橫置於該基座與該輔助構件上,使該基座及該輔助構件均相對於該桶槽物件之外周面朝周方向可滑動地抵接於該外周面之步驟; 將清洗液加入該桶槽物件中之步驟;以及 將橫置於該支撐治具上並加入有該清洗液的該桶槽物件以該桶槽物件之軸線為中心進行旋轉,以使該清洗液清洗該桶槽物件之內部之步驟。
  15. 如請求項14所述之清洗方法,其中,在該清洗步驟中,該桶槽物件係進行往復搖動。
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