TWI825882B - 清洗裝置及桶槽物件之清洗方法 - Google Patents
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Abstract
本發明之目的係提供一種清洗裝置及一種清洗方法。本發明的清洗裝置係包括第一旋轉治具以及第二旋轉治具，該第一旋轉治具與該第二旋轉治具係構成為可共同地使承載體旋轉，其中該承載體係以橫置狀態固定桶槽物件。此外，本發明之清洗方法係提供前述清洗裝置，並將橫置之桶槽物件固定於該承載體之框架中之後，將該第一旋轉治具及第二旋轉治具分別設置於該承載體之相對兩側，再將清洗液注入該桶槽物件中，之後藉由該第一旋轉治具與該第二旋轉治具使該承載體以該桶槽物件之軸線為中心進行旋轉，藉此以該清洗液清洗該桶槽物件之內部。藉由經橫置之該桶槽物件的旋轉，翻攪該清洗液並去除該桶槽物件內部之雜質。
Description
本發明係有關一種清洗裝置，尤指一種可用於清洗桶槽之清洗裝置及利用前述清洗裝置之清洗方法。
一般半導體製程中，常需使用大量化學藥液。化學藥液之純度極為重要，以避免雜質殘留於半導體裝置上。
從以往以來，化學藥液係於化學廠房內生產後，注入於桶槽物件中再運送至半導體廠，或注入設置於半導體廠內的桶槽物件中，以在半導體廠中進行半導體製程之相關作業。因此，於將化學藥液注入桶槽物件之前，需先清洗該桶槽物件，以確保該桶槽物件之內部不會殘留雜質。藉此，令化學藥液不會混入雜質，以保持化學藥液之純度。
[發明所欲解決的課題]
然而，習知之清洗桶槽物件之方式，係先立好桶槽物件，使其保持直立狀，再以噴霧方式進行該桶槽物件內部之清洗。惟此桶槽物件之清洗方式不僅無法均勻洗淨該桶槽物件內部，且噴霧之力道極弱而難以清除該桶槽物件內壁面上之污垢。因此，於將化學藥液注入該桶槽物件後，會有該桶槽物件之內部所殘留之雜質混入化學藥液中之情形，而會導致化學藥液之純度變差。
此外，在業界中亦有採用將桶槽物件浸漬於清洗液以清洗該桶槽物件之方式。例如，如圖1所示，係於站立好之桶槽物件7內注入清洗液6至幾乎最大容量（超過九成滿），待長時間浸漬以溶解而去除該桶槽物件7內之雜質後，再移除該清洗液6。
然而，習知之浸漬清洗液之方式中，需將清洗液6裝填至幾乎最大容量之狀態，因而需耗費大量清洗液6之使用量，且需長時間浸漬，故大幅增加清洗作業之費用及增長清洗時間，因而使清洗作業之經濟效益下降。
再者，習知之浸漬清洗液之方式中，基於安全考量，清洗液6不會注入至該桶槽物件7內部之頂端空間為止，因而無法洗淨該桶槽物件7內部之頂端空間。因此，於將化學藥液注入該桶槽物件7之後，殘留於該桶槽物件7內部之頂端空間之雜質會混入化學藥液中，導致化學藥液之純度變差，進而對該半導體之製造之良率造成不良影響。
因此，如何克服上述習知技術的種種問題，實已成為目前亟欲解決的課題。
[解決課題的手段]
鑑於上述習知技術之種種缺失，本發明係提供一種清洗裝置，係使承載體旋轉，藉此清洗桶槽物件之內部，其中，該承載體係由具有容置空間的框架所構成，且係在橫置狀態下將該桶槽物件固定於該容置空間中，該清洗裝置係包括：第一旋轉治具，係設置於該承載體之第一側；以及第二旋轉治具，係設置於該承載體之第二側，該第一旋轉治具與第二旋轉治具係構成為可共同地使該承載體旋轉。
前述清洗裝置中，該第一旋轉治具係包含：環狀之第一旋轉主體，係固接於該承載體之第一側，且伴隨該承載體之旋轉而旋轉；以及第一基座，係載置該第一旋轉主體，該第一基座係包含第一座體、及設於該第一座體上之第一作用構件；該第一旋轉主體係構成可相對於該第一基座旋轉；及該第一作用構件係可相對於該第一旋轉主體之表面朝該第一旋轉主體之周方向滑動地抵接於該第一旋轉主體之表面。例如，該第一作用構件係包含：第一支撐架，係從該第一座體連接而設置；以及複數個第一滾輪，係可旋轉地設於該第一支撐架上；該複數個第一滾輪係抵接於該第一旋轉主體之表面。
前述清洗裝置中，該第二旋轉治具係包含：環狀之第二旋轉主體，係固接於該承載體之第二側，且伴隨該承載體之旋轉而旋轉；以及第二基座，係載置該第二旋轉主體，該第二基座係包含第二座體、及設於該第二座體上之第二作用構件；該第二旋轉主體係構成可相對於該第二基座旋轉；及該第二作用構件係可相對於該第二旋轉主體之表面朝該第二旋轉主體之周方向滑動地抵接於該第二旋轉主體之表面。例如，該第二作用構件係包含：第二支撐架，係從該第二座體連接而設置；以及複數個第二滾輪，係可旋轉地設於該第二支撐架上；該複數個第二滾輪係抵接於該第二旋轉主體之表面。
前述清洗裝置更包括設於該第一旋轉治具上之管路限位構件，該管路限位構件係限制連接於該桶槽物件之管路之位移。
前述清洗裝置更包括設於該第二旋轉治具上之梯構件，該梯構件係構成為可折疊。
前述清洗裝置中，該承載體的框架為矩形。
前述清洗裝置更包括對應該第一旋轉治具及/或該第二旋轉治具係配置有用以調整彼此之間隔的間隔調整構件。例如，該間隔調整構件係包含設於該第一旋轉治具的下端之第一移動用滾輪及/或設於該第二旋轉治具的下端的第二移動用滾輪。進一步，該間隔調整構件更包含承置該第一移動用滾輪及/或該第二移動用滾輪之一對軌道。
本發明亦提供一種桶槽物件之清洗方法，係包括：提供如前述清洗裝置之步驟；將橫置之桶槽物件固定於該承載體之具有容置空間之框架中之步驟； 將清洗液加入該桶槽物件中之步驟；以及藉由該第一旋轉治具與第二旋轉治具，使該承載體以該桶槽物件之軸線為中心進行旋轉，使該清洗液清洗該桶槽物件之內部之步驟。
前述清洗方法中，在該清洗步驟中，使該桶槽物件往該桶槽物件的周方向全周進行旋轉。
[發明的功效]
由上可知，本發明之清洗裝置及清洗方法中，主要藉由第一旋轉治具與第二旋轉治具之配置，即可將經橫置並固定於承載體的框架之桶槽物件與該承載體一同旋轉，使該桶槽物件內部之清洗液被翻攪而移除該桶槽物件內部之雜質，故相較於習知之站立式清洗之方式，本發明之清洗裝置及清洗方法能有效清洗該桶槽物件之內部。
再者，藉由經橫置並固定於承載體的框架之該桶槽物件之旋轉，使該清洗液可翻攪並蝕除該桶槽物件內部之奈米雜質，故相較於習知噴霧清洗方式，本發明之清洗裝置及清洗方法之可均勻洗淨該桶槽物件內部之所有區域，且該桶槽物件之旋轉力道極強而能輕易清除該桶槽物件內壁面上之污垢。藉此，於該桶槽物件裝載半導體晶圓製程所需之化學藥液時，該桶槽物件內之化學藥液中不會有奈米雜質摻入，化學藥液的純度保持高純度，進而能確保該半導體晶圓製程之良率。
另一方面，本發明之清洗方法藉由經橫置並固定於承載體的框架之該桶槽物件之旋轉，使該桶槽物件只需裝載半滿之清洗液，即可進行清洗作業，因而能大幅減少該清洗液之使用量，且無需進行長時間浸漬之步驟，故相較於習知浸漬清洗方式，本發明之清洗方法能大幅降低清洗作業之費用及縮短清洗時間，因而能符合清洗作業之經濟效益。
又，本發明之清洗方法藉由經橫置並固定於承載體的框架之該桶槽物件之旋轉，使該桶槽物件只需裝載半滿之清洗液，即可進行清洗作業，而能確保清洗作業之安全性。並且，由於能洗淨該桶槽物件內部之所有區域，故相較於習知浸漬清洗方式，在利用本發明之清洗方法於進行清洗作業後，該桶槽物件內部之所有區域不會殘留奈米雜質，因此於該桶槽物件裝載半導體晶圓製程所需之化學藥液時，該桶槽物件內之化學藥液中不會有奈米雜質摻入，使得化學藥液的純度保持高純度，因而能確保該半導體晶圓製程之良率。
以下藉由特定的具體實施例說明本發明，熟悉此技藝之人士可由本說明書所揭示之內容輕易地瞭解本發明之其他優點及功效。
須知，本說明書所附圖式所繪示之結構、比例、大小等，均僅係為了容易瞭解與閱讀，而配合說明書所揭示之內容者，並非用以限定本發明之實施之條件。任何結構之修飾、比例關係之改變或大小之調整，在不影響本發明所能產生之功效及所能達成之目的下，均仍落在本發明之範圍內。
同時，本說明書中所記載之如「上」、「第一」、「第二」及「位置」等用語，亦僅為了容易瞭解與閱讀而使用者，而非用以限定本發明可實施之範圍，其改變或調整，在無實質變更技術內容下，當亦落在本發明之範圍內。
圖2至圖11係為顯示本發明之清洗裝置的第一實施例之清洗裝置2的圖面。如圖2及圖3所示，清洗裝置2係使固定有一筒狀的桶槽物件9的由框架10所構成的承載體1旋轉，並清洗該桶槽物件9之內部。
如圖4及圖5所示，該承載體1係具有相對之第一側1a與第二側1b，且該承載體1的框架10為矩形，以令該框架10具有用以橫置並固定該桶槽物件9之容置空間A。該承載體1復包含分別設於該第一側1a與第二側1b之梯結構11。例如，該框架10係具有一上蓋100。例如，於將該桶槽物件9置放於該框架10時，先從該框架10移除該上蓋100，待該桶槽物件9由框架10的上方容置於容置空間A內後，再將該上蓋100安裝回框架10。
再者，該桶槽物件9係為化學藥品儲存用桶槽，其具有一大致呈圓筒狀之槽體90與一設於該槽體90外周面S上之配件箱93。該桶槽物件9係由直徑R為略小於2500㎜及總高度H為6160㎜之金屬容器結構所構成，如圖10所示，且其總重量約5噸。例如，該上蓋100具有一容置且外露該配件箱93之開口區102。在此應注意者為，桶槽物件9可採用各種規格，並不限於上述之規格。
所述之清洗裝置2係包括第一旋轉治具3以及第二旋轉治具4，如圖2及圖3所示，以令該第一旋轉治具3設置於該承載體1之第一側1a，且該第二旋轉治具4設置於該承載體1之第二側1b，其中，該第一旋轉治具3與第二旋轉治具4係構成為可共同地使該承載體1旋轉。
所述之第一旋轉治具3係包含一環狀之第一旋轉主體30以及一載置該第一旋轉主體30之第一基座31，如圖6所示，該第一旋轉主體30係固接於該承載體1之第一側1a，且伴隨該承載體1之旋轉而旋轉，使該第一旋轉主體30係構成可相對於該第一基座31旋轉。
於本實施例中，於第一旋轉治具3的要被固定於該承載體1之第一側1a之部分更配置有一中繼架12。該中繼架12固接該第一旋轉主體30。當將第一旋轉治具3安裝於承載體1之第一側1a時，以複數夾板13銜接該承載體1的框架10與該中繼架12。
所述之第一基座31係為調芯滾輪座規格，其包含第一座體310、及設於該第一座體310上之第一作用構件311，且該第一作用構件311係可相對於該第一旋轉主體30之表面朝該第一旋轉主體30之周方向W滑動地抵接於該第一旋轉主體30之表面。
於本實施例中，該第一作用構件311係包含從該第一座體310連接而設置之第一支撐架3110以及複數個可旋轉地設於該第一支撐架3110上之第一滾輪3111，如圖7所示，且該複數個第一滾輪3111係抵接於該第一旋轉主體30之表面（即第一旋轉主體30之外周面）。
再者，該第一支撐架3110係固定於該第一座體310上，且該第一滾輪3111之旋轉軸係連接於該第一支撐架3110。例如，單一第一支撐架3110上係配置兩個第一滾輪3111。
較佳地，該第一座體310上可藉由第一調整件312固定該第一支撐架3110。該第一調整件312係具有階梯結構（圖略）。由於該第一支撐架3110係卡固於該階梯結構所具備的複數個台階中之一台階（圖略）上，故可依需求改變該第一支撐架3110之高低位置，以調整該些第一滾輪3111於該第一旋轉主體30之外周面上之位置。藉此，可將該第一作用構件311調整成配置至第一旋轉主體30之外周面的適當位置。應可理解地，有關第一調整件312之可使用各種類型者，並不限於上述。
另外，該第一作用構件311係以位在第一座體310的中心且朝與第一座體310的長邊方向正交的方向(圖2所示之XYZ座標系統中之軸X的方向)延伸的線為中心線而左右對稱地配置，以使該些第一滾輪3111能穩定轉動該第一旋轉主體30與該承載體1。
所述之第二旋轉治具4係包含一環狀之第二旋轉主體40以及一載置該第二旋轉主體40之第二基座41，如圖8所示，該第二旋轉主體40係固接於該承載體1之第二側1b，且伴隨該承載體1之旋轉而旋轉，使該第二旋轉主體40係構成可相對於該第二基座41旋轉。
於本實施例中，第二旋轉治具4的要被固定於該承載體1之第二側1b係配置有另一中繼架14。該中繼架14固接該第二旋轉主體40。當將第二旋轉治具4安裝於承載體1之第二側1b時，以複數夾板13銜接該承載體1的框架10與該中繼架14。
所述之第二基座41係包含第二座體410、及設於該第二座體410上之第二作用構件411，且該第二作用構件411係可相對於該第二旋轉主體40之表面朝該第二旋轉主體40之周方向W滑動地抵接於該第二旋轉主體40之表面。
於本實施例中，該第一基座31與該第二基座41係沿該桶槽物件9之軸方向（即該桶槽物件9之軸線L之方向，亦為圖2及圖3所示之XYZ座標系統中之軸X的方向）排列，如圖2及圖3所示。
再者，如圖9所示，該第二作用構件411係包含從該第二座體410連接而設置之第二支撐架4110以及複數個可旋轉地設於該第二支撐架4110上之第二滾輪4111，且該複數個第二滾輪4111係抵接於該第二旋轉主體40之表面（即該第二旋轉主體40之外周面）。
又，該第二支撐架4110係固定於該第二座體410上，且該第二滾輪4111之旋轉軸係連接於該第二支撐架4110。例如，單一第二支撐架4110上係配置兩個第二滾輪4111。較佳地，可藉由輔助架413固接兩個第二支撐架4110，以強化該第二作用構件411之整體結構的強度。此外，該第二支撐架4110可經由第二調整件412固定於該第二座體410上。
較佳地，該第二調整件412係具有階梯結構（圖略）。藉此，由於該第二支撐架4110係卡固於前述階梯結構所具備的複數個台階中之一台階（圖略）上，故可依需求改變該第二支撐架4110之高低位置，以調整該些第二滾輪4111於該第二旋轉主體40之外周面上之位置。藉此，可將該第二作用構件411調整成配置於第二旋轉主體40之外周面之適當位置處。應可理解地，有關第二調整件412可使用各種類型者，並不限於上述。
另外，該第二作用構件411係以位在第二座體410的中心且朝與第二座體410的長邊方向正交的方向(軸X的方向)延伸的線為中心線而左右對稱地配置，以使該些第二滾輪4111能穩定轉動該第二旋轉主體40與該承載體1。
所述之清洗裝置2更包括設於該第一旋轉治具3上之管路限位構件20，如圖2所示，該管路限位構件20係限制連接於該桶槽物件9之管路95之位移。
於本實施例中，該管路限位構件20係為環圈結構，以令多條該管路95集中通過該管路限位構件20。該些管路95係經由該管路限位構件20而佈設於該第一旋轉治具3與該桶槽物件9上。
如圖3所示，所述之清洗裝置2更包括設於該第二旋轉治具4上之梯構件21，且該梯構件21可構成為可折疊式爬梯。
其次，使用圖12說明本發明之清洗裝置的第二實施例之清洗裝置2a。如圖12所示，所述之清洗裝置2a係配置有用以調整該第一旋轉治具3a與該第二旋轉治具4a之間隔的間隔調整構件5。
所述之間隔調整構件5係包含設於該第一旋轉治具3a的下端之第一移動用滾輪51及設於該第二旋轉治具4a的下端的固定座52。進一步，該間隔調整構件5復包含承置該第一移動用滾輪51之一對軌道50，以使第一旋轉治具3a能夠前後移動。
該第一旋轉治具3a可沿著軌道50而移動至所需之定位處。藉此，使該第一旋轉治具3a與該第二旋轉治具4a之間的間距可依需求設定，例如設定為3100公厘(約10英尺)之較小的距離L1，或設定為6160公厘(約20英尺) 之較大的距離L2。
另外，在本實施例中，係將該第一旋轉治具3a設為位置調整側，且該第二旋轉治具4a設為固定側，惟於其它實施例中，亦可將該第二旋轉治具4a設為位置調整側，而於其下端配置第二移動用滾輪(未圖示)，且將該第一旋轉治具3a設為固定側，而於其下端配置固定座(未圖示)。再者，於更進一步的其他實施例中，亦可在第一旋轉治具3a的下端配置第一移動用滾輪51，並在第二旋轉治具的下端配置第二移動用滾輪(未圖示)，而將第一旋轉治具3a及第二旋轉治具4a同時設為位置調整側。
又，位置調整側的旋轉治具的位置調整亦可切換不同之方法來進行。例如可依需求採用自動化操作或手動方式操作，以移動第一旋轉治具3a及/或第二旋轉治具4a。
再者，第二實施例之第一旋轉治具3a（第一旋轉主體30a及第一基座31a）之構造係不同於第一實施例之第一旋轉治具3（第一旋轉主體30及第一基座31）之構造，且第二實施例之第二旋轉治具4a（第二旋轉主體40a及第二基座41a）之構造亦不同於第一實施例之第二旋轉治具4（第二旋轉主體40及第二基座41）之構造。例如，第二實施例之第一旋轉主體30a之環框內配置軸架53，且第二實施例之第一基座31a藉由馬達54軸接該軸架53以轉動第一旋轉主體30a。相同地，第二實施例之第一旋轉主體30a之環框內配置軸架53，且第二實施例之第一基座31a藉由馬達54軸接該軸架53以轉動第一旋轉主體30a。
應可理解地，該間隔調整構件5亦可配置於第一實施例之第一旋轉治具3及/或第二旋轉治具4上。
於使用本發明之清洗裝置2,2a時，係將該桶槽物件9橫置並容置於該承載體1的容置空間A後，將清洗裝置2,2a的第一旋轉治具3,3a及第二旋轉治具4,4a裝設於承載體1，再藉由外力使該些第一旋轉治具3,3a與第二旋轉治具4,4a轉動，以轉動承載體1，故該本發明之清洗裝置2,2a可有效用於該桶槽物件9之清洗作業。
再者，該承載體1能依需求旋轉。例如，能夠以下述表1所示之規定值之方式使承載體1(容置於框架10的容置空間A之桶槽物件9)旋轉。
[表1]
| 項目 | 規定值 |
| 轉速 | 0.1rpm~0.3rpm |
| 角度 | 0°~360° |
| 往復次數 | 5回~20回 |
在下文中，一併參考圖2至圖12，說明供該桶槽物件9之清洗作業採用之本發明之清洗方法之具體步驟。
茲說明使用本發明的第一實施例之清洗裝置2之清洗方法。其中，將該第一旋轉治具3之第一基座31之置放表面（例如地面等之環境表面）定義為基準面，並將該桶槽物件9之橫置方向定義為前後方向（亦即桶槽物件9之軸方向。例如圖2所示之XYZ座標系統中之軸X的方向），且將該基準面之另一坐標軸定義為左右方向（例如圖2所示之XYZ座標系統中之軸Y的方向），並將該桶槽物件9於橫置前之直立方向定義為上下方向（垂直於該基準面之方向。例如圖2所示之XYZ座標系統中之軸Z的方向）。
首先，將一橫置之桶槽物件9固定於該承載體1之框架10之容置空間A中。
接著，將清洗液8加入該桶槽物件9之槽體90中。其中，該清洗液8不會注入至該桶槽物件9之槽體90的最大容量，而只會注入達最大容量的大致一半狀態，如圖10所示。例如，該配件箱93上係具有輸送埠92，其連接於一伸入該槽體90內之輸送管920與一用以從清洗液8的供應源(未圖示)輸送清洗液8之管路95，以將該清洗液8注入至該槽體90內。
於本實施例中，該清洗液8係含有31%之過氧化氫(Hydrogen peroxide)，其密度為1.11g/㎝
3。該清洗液8至多係呈槽體90的最大容量的一半狀態（其重量約為20噸），故於該些第一滾輪3111與第二滾輪4111進行轉動時，該槽體90中之清洗液8能被翻攪。
另外，就其它順序而言，亦可在傾倒桶槽物件9之前，先將該清洗液8裝入該槽體90中，然後將該桶槽物件9傾倒使其橫置，再使裝有該清洗液8之桶槽物件9固定於於該框架10的容置空間A中。
之後，將第一旋轉治具3裝設於承載體1的第一側1a，將第二旋轉治具4裝設於承載體1的第二側1b。接著藉由外力旋轉該第一旋轉治具3與第二旋轉治具4，而使注入有清洗液8之桶槽物件9隨著該承載體1以該桶槽物件9之軸線L為中心進行旋轉。藉此，攪拌槽體90內的清洗液8，而利用被攪拌的該清洗液8清洗該桶槽物件9之內部。
於本實施例中，藉由如人力或機器等之外力轉動該些第一旋轉治具3與第二旋轉治具4。例如，藉由馬達轉動該些第一滾輪3111與第二滾輪4111，藉此使第一旋轉治具3及第二旋轉治具4旋轉。
再者，由於該管路限位構件20設於該第一旋轉主體30之環中心，以限制連接於該桶槽物件9之管路95之位移，故可避免該管路95纏繞該第一旋轉主體30。關於該桶槽物件9之旋轉，可如圖2所示之旋轉方向F，可為朝逆時針方向的旋轉，亦可為朝順時針方向的旋轉。此外，例如，該桶槽物件9亦能夠以向逆時針轉動一圈(360度)後再向順時針轉動一圈、或向順時針轉動一圈後再向逆時針轉動一圈之方式進行往復搖動。亦即，在該清洗過程中，該桶槽物件9可朝逆時針方向與順時針方向之兩方向進行往復搖動。
待完成清洗作業後，藉由該輸送管920將清洗液8由該桶槽物件9之輸送埠92抽離該槽體90，以將該清洗液8輸送至該桶槽物件9外之預定處，如廢液收集處（省略其圖式）。
此外，利用本發明之第二實施例之清洗裝置2a之清洗方法亦與上述者相同。
因此，本發明之清洗裝置2,2a及清洗方法中，主要藉由該第一旋轉治具3,3a與第二旋轉治具4,4a構成為可共同地使該承載體1旋轉，即可清洗經橫置並固定於於該框架10中之該桶槽物件9，故相較於習知直立狀清洗之方式，本發明之清洗裝置及清洗方法具有以下優點：
第一、在本發明的利用清洗裝置2,2a而設成橫置的桶槽物件9的清洗方法中，能使承載體1(容置於框架10的容置空間A內的桶槽物件9)做360度轉動，相較於習知無法轉動的直立狀桶槽物件，可減少藥液用量，並且能確保該桶槽物件9內部各角落都能輕易清洗潔淨。
第二、藉由該管路限位構件20，將管路95通過第一旋轉治具3的位置限制在旋轉中心位置，而於轉動該桶槽物件9時不需拆裝該些管路95，因不會有異物進入該管路95中而污染清洗液8之風險，因而能提高清洗作業之效率及清洗之潔淨度。此外，如圖2所示，用於檢測該槽體90之內部清潔度的檢測儀器之線纜96（亦參考如圖2所示之檢驗埠94）通過第一旋轉治具3的位置，亦被管路限位構件20限制於旋轉中心，故於轉動該桶槽物件9時，可同時進行清潔作業與檢測作業，故可隨時得知該槽體90內部之清潔度。
第三、本發明有附加爬梯功能，亦即於該第二旋轉治具4設置該梯構件21，使作業員能輕易爬上該桶槽物件9及爬下該桶槽物件9而進行清洗作業之相關工作，以避免使用不穩定的梯型進行清洗作業之相關工作，故不僅增加作業員之工作安全，且可提高工作效率。
第四、由於該桶槽物件9可全周旋轉，故於清洗過程中，不僅可藉由清洗液8沖洗桶槽物件9內部，亦可旋轉桶槽物件9而將該配件箱93的位置由上方移動至下方，而如圖11所示直接使清洗液8浸泡髒污較多的桶槽物件9的配件箱93的周圍，亦即可進行相反側的浸泡清洗，因此可確保更全面的清洗效果。
第五、藉由該間隔調整構件5可調整該第一旋轉治具3a與該第二旋轉治具4a之間的距離L1,L2，以配合不同桶槽物件9之各自的高度H，故可於單一地點清洗不同尺寸之桶槽物件9，而無需將該清洗裝置2a搬動至每個桶槽物件9之所在地。
再者，本發明之承載體1係由框架10所構成，而分散旋轉時該桶槽物件9之外周面S所承受之應力，因而能有效克服該桶槽物件9於清洗時變形之問題。
因此，本發明藉由旋轉經橫置之該桶槽物件9，以令該清洗液8可翻攪去除該桶槽物件9內部之雜質。因此，相較於習知之噴霧清洗方式，本發明之清洗裝置2,2a及清洗方法之桶槽物件9由於其旋轉角度（甚至能360°旋轉）而能有效均勻洗淨該桶槽物件9之槽體90內部之所有區域。此外，該桶槽物件9之旋轉力道強，使桶槽物件內部的該清洗液8被激烈攪拌，藉此能輕易清除該桶槽物件9之槽體90內壁面上之污垢。如此，於該桶槽物件9之槽體90注入半導體製程所需之化學藥液後，不會有各種雜質混入該桶槽物件9之槽體90內之化學藥液中，因此化學藥液可保持高純度，而能確保該半導體製程之良率。
再者，相較於習知之浸漬清洗方式，本發明之清洗方法由於旋轉經橫置之該桶槽物件9，因此該桶槽物件9之槽體90只需注入最大容量之一半之清洗液8，即可進行清洗作業，因而能大幅減少該清洗液8之使用量，且無需進行長時間浸漬之步驟。因此，本發明之清洗方法能大幅降低清洗作業之費用及縮短清洗時間，因而能提高清洗作業之經濟效益。
又，相較於習知之浸漬清洗方式，本發明之清洗方法由於旋轉經橫置之該桶槽物件9，使該桶槽物件9之槽體90只需注入最大容量之一半之清洗液8，即可進行清洗作業，因而不僅能符合清洗作業之安全性，且能洗淨該桶槽物件9之槽體90內部之所有區域。因此，於採用本發明之清洗裝置及清洗方法進行清洗作業後，該桶槽物件9之槽體90內部之所有區域不會殘留雜質，於該桶槽物件9之槽體90注入半導體製程所需之化學藥液後，不會有各種雜質混入該桶槽物件9之槽體90內之化學藥液中，因此化學藥液可保持高純度，而能在該半導體製程中確保高良率。
另外，根據本發明之清洗裝置2,2a，主要藉由兩個旋轉治具(第一旋轉治具3,3a、第二旋轉治具4,4a)之設置，以對稱方式夾持該承載體1，使該桶槽物件9於橫置及旋轉時具有足夠之抗變形性，因此注入有清洗液8之桶槽物件9之外周面S所承受之應力（例如旋轉離心力）能有效地被分散，而不會發生應力集中之問題。因此，第一旋轉治具3與第二旋轉治具4能穩固地支撐承載體1及該注入有清洗液8之桶槽物件9，使該桶槽物件9（不論是注入有清洗液8或未注入有清洗液8）不會變形。
如上述，本發明之清洗裝置及清洗方法係藉由該一與第二旋轉治具之設置，即可實現可發揮高清洗功效之清洗作業，且能縮短清洗時間，以縮短例如該半導體製程之啟動時間（生產線之準備時間），故有利於半導體製程之技術發展。
再者，於本發明之橫置的桶槽物件的旋轉洗淨過程中，因能大幅度旋轉，故有利於符合如半導體製程之高精密製程之潔淨度需求。
上述實施例係用以例示性說明本發明之原理及其功效，而非用於限制本發明。任何熟習此項技藝之人士均可在不違背本發明之精神及範疇下，對上述實施例進行修改。因此本發明之權利保護範圍，應如後述之申請專利範圍所列。
1:承載體
2,2a:清洗裝置
3,3a:第一旋轉治具
4,4a:第二旋轉治具
5:間隔調整構件
6,8:清洗液
7,9:桶槽物件
1a:第一側
1b:第二側
10:框架
11:梯結構
12,14:中繼架
13:夾板
20:管路限位構件
21:梯構件
30,30a:第一旋轉主體
31,31a:第一基座
40,40a:第二旋轉主體
41,41a:第二基座
50:軌道
51:第一移動用滾輪
52:固定座
53:軸架
54:馬達
90:槽體
92:輸送埠
93:配件箱
94:檢驗埠
95:管路
96:線纜
100:上蓋
102:開口區
310:第一座體
311:第一作用構件
312:第一調整件
410:第二座體
411:第二作用構件
412:第二調整件
413:輔助架
920:輸送管
3110:第一支撐架
3111:第一滾輪
4110:第二支撐架
4111:第二滾輪
A:容置空間
F:旋轉方向
H:高度
L:軸線
L1,L2:距離
R:直徑
S:外周面
W:周方向
X,Y,Z:軸
圖1係為習知之桶槽物件之清洗方式之透視示意圖。
圖2係為本發明之清洗裝置之第一實施例、承載體與桶槽物件之立體示意圖。
圖3係為圖2之另一視角之立體示意圖。
圖4係為桶槽物件被固定於承載體之前的狀態之立體示意圖。
圖5係為桶槽物件被固定於承載體的狀態之立體示意圖。
圖6係為本發明之清洗裝置之第一旋轉治具之立體示意圖。
圖7係為圖6所示之第一旋轉治具之局部立體示意圖。
圖8係為本發明之清洗裝置之第二旋轉治具之立體示意圖。
圖9係為圖8所示之第二旋轉治具之局部立體示意圖。
圖10係為於桶槽物件注入清洗液後之狀態之示意圖。
圖11係為於桶槽物件注入清洗液後之另一狀態之示意圖。
圖12係為本發明之清洗裝置之第二實施例之側面示意圖。
1:承載體
1a:第一側
1b:第二側
2:清洗裝置
3:第一旋轉治具
4:第二旋轉治具
9:桶槽物件
10:框架
20:管路限位構件
92:輸送埠
93:配件箱
94:檢驗埠
95:管路
96:線纜
L:軸線
F:旋轉方向
X,Y,Z:軸
Claims (11)
- 一種清洗裝置，係使承載體旋轉，藉此清洗桶槽物件之內部，其中，該承載體係由具有容置空間的框架所構成，且係在橫置狀態下將該桶槽物件固定於該容置空間中，該清洗裝置係包括：第一旋轉治具，係設置於該承載體之第一側；以及第二旋轉治具，係設置於該承載體之第二側，該第一旋轉治具與第二旋轉治具係構成為可共同地使該承載體旋轉；該第一旋轉治具係包含：環狀之第一旋轉主體，係固接於該承載體之第一側，且伴隨該承載體之旋轉而旋轉；以及第一基座，係載置該第一旋轉主體；該第一旋轉主體係構成可相對於該第一基座旋轉；該第一基座係包含第一座體、及設於該第一座體上之第一作用構件；該第一作用構件係可相對於該第一旋轉主體之表面朝該第一旋轉主體之周方向滑動地抵接於該第一旋轉主體之表面；該第一作用構件係包含：第一支撐架，係從該第一座體連接而設置；以及複數個第一滾輪，係可旋轉地設於該第一支撐架上；該複數個第一滾輪係抵接於該第一旋轉主體之表面。
- 如請求項1所述之清洗裝置，其中，該第二旋轉治具係包含：環狀之第二旋轉主體，係固接於該承載體之第二側，且伴隨該承載體之旋轉而旋轉；以及 第二基座，係載置該第二旋轉主體，該第二基座係包含第二座體、及設於該第二座體上之第二作用構件；該第二旋轉主體係構成可相對於該第二基座旋轉；及該第二作用構件係可相對於該第二旋轉主體之表面朝該第二旋轉主體之周方向滑動地抵接於該第二旋轉主體之表面。
- 如請求項2所述之清洗裝置，其中，該第二作用構件係包含：第二支撐架，係從該第二座體連接而設置；以及複數個第二滾輪，係可旋轉地設於該第二支撐架上；該複數個第二滾輪係抵接於該第二旋轉主體之表面。
- 如請求項1所述之清洗裝置，更包括設於該第一旋轉治具上之管路限位構件，該管路限位構件係限制連接於該桶槽物件之管路之位移。
- 如請求項1所述之清洗裝置，更包括設於該第二旋轉治具上之梯構件，該梯構件係構成為可折疊。
- 如請求項1所述之清洗裝置，其中，該承載體的框架為矩形。
- 如請求項1所述之清洗裝置，復包括對應該第一旋轉治具及/或該第二旋轉治具係配置有用以調整彼此之間隔的間隔調整構件。
- 如請求項7所述之清洗裝置，其中，該間隔調整構件係包含設於該第一旋轉治具的下端之第一移動用滾輪及/或設於該第二旋轉治具的下端的第二移動用滾輪。
- 如請求項8所述之清洗裝置，其中，該間隔調整構件復包含承置該第一移動用滾輪及/或該第二移動用滾輪之一對軌道。
- 一種桶槽物件之清洗方法，係包括： 提供如請求項1至9中任一項所述之清洗裝置之步驟；將橫置之桶槽物件固定於該承載體之具有容置空間之框架中之步驟；將清洗液加入該桶槽物件中之步驟；以及藉由該第一旋轉治具與第二旋轉治具，使該承載體以該桶槽物件之軸線為中心進行旋轉，使該清洗液清洗該桶槽物件之內部之步驟。
- 如請求項10所述之清洗方法，其中，在該清洗步驟中，使該桶槽物件往該桶槽物件的周方向全周進行旋轉。
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| JP2006199315A (ja) * | 2005-01-18 | 2006-08-03 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 容器、容器の製造方法及び容器の輸送方法 |
| JP2006314934A (ja) * | 2005-05-13 | 2006-11-24 | Toyota Motor Corp | 容器の洗浄装置および洗浄方法、並びにタンク |
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