TW202246905A - 反射鏡、光學系統及操作光學系統之方法 - Google Patents

Abstract

本發明揭示一種用於操作光學系統之方法、及一種反射鏡與一種光學系統，尤其用於微影投影曝光裝置。反射鏡（尤其用於微影投影曝光裝置，其中反射鏡具有光學有效表面）包含反射鏡基板（101、201、301、401、501）和複數個配置在反射鏡基板中的空腔（110、210、310、410、411、510），並且其中每個空腔都可施加流體，其中藉由改變空腔（110、210、310、410、411、510）中的流體壓力將變形傳遞到光學有效表面。

Description

反射鏡、光學系統及操作光學系統之方法

本專利申請案主張於2021年1月28日申請的第DE 10 2021 200 790.2號德國專利申請案之優先權。此專利案的內容在此是以引用方式併入本文供參考。

本發明係關於一種反射鏡、一種光學系統及一種用於操作光學系統之方法，尤其用於微影投影曝光裝置。

微影係用來產生微型結構組件，諸如積體電路或LCD。微影製程在已知的投影曝光裝置中執行，該裝置具有照明器件及投影透鏡。通過照明器件照明的光罩（= 倍縮光罩）影像於此投影到基板（例如矽晶圓）上，基板塗覆感光層（光阻）並配置在投影透鏡的像平面內，通過投影透鏡將光罩結構轉移到基板的感光塗層上。

在設計用於EUV範圍（即在大約13 nm或大約7 nm的波長上）的投影透鏡中，由於缺少合適可用的透光折射材料，因此反射鏡用來當成成像處理的光學組件。

在實踐中出現的問題是，由於EUV光源所發射輻射的吸收以及其他原因，EUV反射鏡會變熱並經歷相關熱膨脹或變形，進而對光學系統的成像特性產生負面影響。

已知有多種方法可用於避免因輸入EUV反射鏡中的熱所引起表面變形以及與其相關的光學像差。除其他外，已知使用具有超低熱膨脹的材料（「超低膨脹材料」），例如由康寧公司（Corning Inc.）出售名稱為ULE ^TM的鈦矽酸鹽玻璃，作為反射鏡基板材料，並在靠近光學有效表面的區域設置所謂的零點交叉溫度。在零點交叉溫度下，例如對於ULE ^TM，零點交叉溫度約為ϑ= 30℃，熱膨脹係數在其溫度依賴性中具有零點交叉，在其附近沒有發生反射鏡基板材料的熱膨脹或僅發生可忽略不計的熱膨脹。

用於避免由熱輸入EUV反射鏡中所引起表面變形的其他方法包括主動直接冷卻。然而，在這情況下，確保足夠有效的散熱同時保證反射鏡光學效果的高精度，然而，隨著光源功率的增加，造成非常苛刻的挑戰。

尤其是，在實踐中出現的問題係在光學系統或反射鏡操作期間，冷卻流體流過的冷卻通道本身可能對反射鏡的光學有效表面之變形提供寄生效益(parasitic contribution)。該效益可能首先來自於反射鏡基板中形成的溫度梯度（並且在反射鏡基板材料的低導熱率情況下尤其顯著），並且通過反射鏡基板材料中的熱膨脹，最終導致光學有效表面變形（取決於冷卻通道的幾何形狀）。再者，從流動的冷卻流體經由冷卻通道壁傳遞到反射鏡基板之機械壓力可能亦導致反射鏡基板材料彈性膨脹，其提供光學有效表面之寄生變形效益（取決於冷卻通道幾何形狀）。前述問題隨著來源功率的增加而變得越來越嚴重，因為在這情況下，避免熱致變形所需且要輸入個別反射鏡之冷卻功率同時增加。

本發明之一目的為提供一種反射鏡、一種光學系統和一種用於操作光學系統之方法，尤其是用於微影投影曝光裝置，其有利於有效避免熱致變形，同時至少減弱前述問題的效應。

根據可替代的獨立項的特徵可達成此目的， 根據一態樣，本發明係關於反射鏡，尤其是用於微影投影曝光裝置，其中反射鏡具有光學有效表面，其包含 -    反射鏡基板；及 -    複數個空腔，其配置在反射鏡基板中並且可供應流體給每個空腔； -    其中藉由改變空腔中的流體壓力，可將變形傳遞到光學有效表面。

根據此態樣，本發明包含使用流體壓力的前述效益和作為其結果經由個別通道壁作用在反射鏡基板上並且導致所述反射鏡基板彈性變形的力之概念，最終以有針對性的方式獲得光學有效表面的變形，這是理想效果，因此為了提供調適性反射鏡，從而在設定由包括反射鏡的光學系統所產生系統波前時，提供額外的自由度。在這情況下，本發明從以下發現出發，即所述空腔的合適配置（將在以下更詳細描述），特別是就其尺寸和其與光學有效表面的距離而言，可產生變形輪廓的可能性，變形輪廓首先仍然通過對各個腔體的獨立壓力施加而以目標局部方式變化，但其次，在相鄰空腔在其變形效益方面充分相互「重疊」的情況下，仍然允許產生準連續變形輪廓。

根據一具體實例，空腔的至少一子集至光學有效表面具有相同的距離。

根據一具體實例，複數個空腔具有在光學有效表面的方向上彼此堆疊之成對空腔，可藉由向同一對的空腔施加不同流體壓力，通過沿光學有效表面作用的分力，產生對光學有效表面變形的效益。

根據此方法，同樣有可能（作為對單個空腔的合適尺寸之替代或補充）促成準連續的變形輪廓（在每種情況下避免單個空腔的局部嚴格限定的變形效應的含義內），其中本發明在這情況下還利用基於「雙金屬效應」的原理，即由於在每種情況下彼此固定的兩部件相互不同之膨脹而產生變形。

根據一具體實例，流體為冷卻流體，其流過空腔並用於吸收由入射在光學有效表面上的電磁輻射在反射鏡基板中產生之熱量。

根據此方法，用於提供根據本發明調適性反射鏡中的光學有效表面的期望變形之流體同時當成冷卻流體。然而，本發明不限於此，因此本發明亦包含沒有相關流體的額外（冷卻）功能的具體實例。

本發明亦關於具有前述特徵的反射鏡之光學系統。光學系統尤其可為微影投影曝光裝置的投影透鏡或照明器件。

根據另一態樣，本發明亦關於一種用於操作光學系統的方法，其中光學系統具有至少一具有光學有效表面的反射鏡和反射鏡基板，其中至少一冷卻通道配置在反射鏡基板中； -    其中具有可變冷卻流體溫度和可變冷卻流體壓力的冷卻流體流過冷卻通道，其目的係吸收由光源產生並入射到光學有效表面上的電磁輻射在反射鏡基板中產生之熱量； -    其中冷卻流體溫度和冷卻流體壓力根據光源的功率而變化；及 -    其中該變化使得由反射鏡基板中冷卻流體產生的溫度梯度所引起對光學有效表面變形之第一寄生效益、以及由從冷卻流體傳遞到反射鏡基板的機械壓力所引起對光學有效表面變形之第二寄生效益係至少部分相互補償。

尤其是根據此態樣，本發明基於以下概念：在包含反射鏡的光學系統中，反射鏡通過冷卻流體流過的至少一冷卻通道主動冷卻，避免或至少減少冷卻通道，特別是其冷卻通道幾何形狀對反射鏡的光學有效表面最終所引起變形的非期望效益，通過適當改變「冷卻流體溫度」和「冷卻流體壓力」這兩參數，從而根據個別的源功率（亦即光源功率），前述寄生效應（亦即，首先，在反射鏡基板內所形成溫度梯度的影響，其次，由流動的冷卻流體通過冷卻通道壁所施加機械壓力的影響）相互「平衡」。

在此，本發明使用以下思想作為出發點：在操作期間受到電磁（例如，EUV）輻射撞擊並且通過至少一冷卻通道讓冷卻流體流果來主動冷卻的反射鏡之熱致表面變形最終由「源功率」、「冷卻流體溫度」和「冷卻流體壓力」三個參數決定，其中反射鏡的光學有效表面的熱致表面誤差和光學系統的波前像差之最小化可通過源功率、冷卻流體溫度和冷卻流體壓力的參數之不同合適值組合（亦即，不同的「三元組」）中獲得。

舉例來說，如果增加的源功率需要降低的冷卻流體溫度，則冷卻流體壓力的合適額外調整可實現的是，對冷卻流體壓力和冷卻流體溫度的表面變形之個別寄生效益剛好相對於彼此平衡，因此保持光學有效表面的最小熱致擾動或變形。

根據一具體實例，冷卻流體溫度和冷卻流體壓力的變化係至少部分基於初步校準，而在該初步校準的範圍內，為了產生查找表(lookup table)的目的，確定適合該補償的光源功率、冷卻流體溫度和冷卻流體壓力之個別值組合。

換句話說，冷卻流體溫度和冷卻流體壓力的變化可基於先前記錄的特徵，其中針對光源功率、冷卻流體溫度和冷卻流體壓力的不同參數值三元組來特定個別殘餘干擾或表面誤差的可變特徵（例如，當成RMS值）。然後，如果在光學系統或反射鏡操作期間需要改變兩參數（例如，光源功率和冷卻流體溫度），則在初步校準的基礎上，基於此特徵可直接確定應選擇給個別剩餘參數（例如冷卻流體壓力）之值，以將表面誤差設定為接近零之值。

根據另一具體實例，該確定係至少部分基於光學系統中的波前測量及/或反射鏡面形的干涉測量。

根據另一具體實例，冷卻流體溫度和冷卻流體壓力的此確定係至少部分基於模擬。

根據一具體實例，冷卻流體溫度和冷卻流體壓力的變型係至少部分基於在光學系統持續操作期間所執行當前波前特性的測量。

根據一具體實例，反射鏡設計成用於小於30 nm，特別是小於15 nm的工作波長。

根據一具體實例，光學系統為微影投影曝光裝置的投影透鏡或照明器件。

此外，本發明亦關於一種光學系統，其包含： -    至少一具有光學有效表面的反射鏡及反射鏡基板，其中至少一冷卻通道配置在反射鏡基板中，其中具有可變冷卻流體溫度和可變冷卻流體壓力的冷卻流體可流過冷卻通道，其目的係吸收由光源產生並入射到光學有效表面上的電磁輻射在反射鏡基板中產生之熱量；及 -    用於根據光源功率改變冷卻流體溫度和冷卻流體壓力之器件，使得由反射鏡基板中冷卻流體產生的溫度梯度所引起對光學有效表面變形之第一寄生效益、以及由從冷卻流體傳遞到反射鏡基板的機械壓力所引起對光學有效表面變形之第二寄生效益係至少部分相互補償。

根據一具體實例，器件構造成基於查找表來改變冷卻流體溫度和冷卻流體壓力，查找表包含光源功率、冷卻流體溫度和冷卻流體壓力的個別值之不同組合。

根據一具體實例，器件構造成基於模擬及/或測量或校準所獲得的特徵，來改變冷卻流體溫度和冷卻流體壓力，該特徵特定有關光源功率、冷卻流體溫度和冷卻流體壓力的不同參數值組合之反射鏡的光學有效表面的個別合成變形。光學系統尤其可包含記憶體或儲存器，其中存儲此所記錄的特徵（或特徵圖）。

從實施方式與附屬項可整個瞭解本發明的進一步組態。

以下將根據附圖所例示的示例性具體實例來更詳盡解釋本發明。

圖6首先示意顯示設計用於在EUV中操作的微影投影曝光裝置之可能設置的徑向剖面。

根據圖6，投影曝光裝置1包含照明器件2及投影透鏡10。投影曝光裝置1的照明器件2之具體實例具有光源或輻射源3，並具有用於照明物平面6內的物場5之照明光學單元4。在一替代具體實例中，光源3可亦設置為與其餘照明器件分開的模組。在這情況下，照明器件不包含光源3。

本文中，配置在物場5中的倍縮光罩7暴露出來。倍縮光罩7由倍縮光罩固持器8所固持，倍縮光罩固持器8可通過倍縮光罩位移驅動器9位移，特別是沿著掃描方向。為了便於解釋，圖6中描繪笛卡兒xyz坐標系統。x方向垂直於繪圖平面並進入後者，y方向沿著水平方向，並且z方向沿著垂直方向。圖6中的掃描方向沿y方向進行。z軸垂直於物平面6。

投影透鏡10用來將物場5成像於像平面12中的像場10內。倍縮光罩7上的結構成像於晶圓13的感光層上，其中晶圓排在像平面12中像場11的區域內。晶圓13由晶圓固持器14所固持，晶圓固持器14可通過晶圓位移驅動器15位移，特別是沿著y方向。一方面通過倍縮光罩位移驅動器9位移倍縮光罩7，另一方面通過晶圓位移驅動器15位移晶圓13可彼此同步方式發生。

輻射源3為EUV輻射源。輻射源3尤其發射EUV輻射，其以下亦稱為使用輻射或照明輻射。尤其是，使用輻射具有範圍在5 nm和30 nm之間的波長。輻射源3可為例如電漿源、同步加速器型輻射源或自由電子雷射（FEL）。從輻射源3發出的照明輻射16由集光器17聚焦，並通過中間焦平面18中的中間焦點傳播到照明光學單元4中。照明光學單元4包含偏轉鏡19；以及配置在光束路徑中的偏轉鏡下游的第一分面鏡20（具有示意性指示的小分面21）和第二分面鏡22（具有示意性指示的小分面23）。

投影透鏡10包含複數個反射鏡Mi（i = 1、2、...），其根據其在投影曝光裝置1的光路中之配置順序編號。在圖6所示的範例中，投影透鏡10包含六個反射鏡M1至M6。使用四、八、十、十二個或任何其他數量的反射鏡Mi之替代方案亦同樣可能。倒數第二反射鏡M5和最後一反射鏡M6之每一者具有用於照明輻射16的貫穿開口。投影透鏡10是雙重遮光的光學單元。投影透鏡10的像側數值孔徑大於0.5，可亦大於0.6，並可例如0.7或0.75。

在微影投影曝光裝置1的操作期間，入射到反射鏡的光學有效表面上的電磁輻射被部分吸收，並且如介紹中所解釋，導致加熱和相關的熱膨脹或變形，這進而導致光學系統成像特性受損。因此，根據本發明的概念可特別有利應用於圖6中微影投影曝光裝置1之任何反射鏡。

本發明不限於在設計用於EUV範圍內操作的投影曝光裝置中之應用。尤其是，本發明可亦有利應用在設計用於DUV範圍中（亦即在小於250 nm，尤其小於200 nm的波長）操作的投影曝光裝置中，或者在不同的光學系統中。

圖1僅以示意圖顯示根據本發明的反射鏡100之可能示例性具體實例。反射鏡100具有反射鏡基板101（例如，由ULE ^TM製成）和反射層系統（例如，以鉬（Mo）-矽（Si）多層堆疊的形式），圖1中未示出。在反射鏡基板101內有複數個空腔110（在示例性具體實例中基本上成形為容器），再次，空腔彼此無關，可在每種情況下經由導向反射鏡基板101外部區域的流體入口110a和流體出口110b向其供應流體。根據反射鏡尺寸適當選擇各個空腔110或容器的尺寸和個別距離，使得通過對各個空腔110單獨施加流體壓力，首先仍然可在反射鏡100的表面輪廓上獲得足夠空間解析變化，但是其次，仍然可獲得連續的變形輪廓，這是由於反射鏡基板101內之空腔110的配置距光學有效表面足夠「深」的結果。

在示例性具體實例中，各個空腔110或容器距光學有效表面的距離可在2 mm至100 mm的範圍內，特別是3 mm至50 mm，更特別是5 mm至20 mm。此外，舉例來說，空腔110或容器的橫向尺寸可在5 mm至150 mm的範圍內。同樣以純粹示例性方式（並且本發明不限於此），可根據反射鏡尺寸選擇空腔110或容器的橫向尺寸，例如使用一方式，使得反射鏡100的橫向截面積的大約80％被空腔或容器「覆蓋」，因此剩餘20%的橫向反射鏡面積對應於空腔110或容器之間的空隙。

本發明在各個空腔110或容器的幾何形狀方面沒有進一步限制，然而為了避免在反射鏡基板材料中出現不希望的機械應力峰值，而且從製造的角度來看，圖1中以示例性方式例示的圓形結構是較佳的。

在本發明的具體實例中，各個空腔110或容器尤其在每種情況下可至光學有效表面具有相同的距離（使得空腔110在反射鏡基板101深度中的配置遵循光學有效表面的表面形式或輪廓）。

較佳是，反射鏡100使用此一方式製造，使得反射鏡基板101由分離的反射鏡基板部件組裝而成，進而在成品反射鏡中形成的空腔110之邊界表面又被結合到這些部件中。

施加到根據本發明之調適反射鏡100中的空腔110或容器的流體可在本發明不限於此下特別是冷卻流體，其中可例如根據光學系統中的源功率來設定個別流體溫度，以避免或減少由於電磁輻射對其的衝擊而引起反射鏡100的不期望熱致變形。不過，本發明並不受限於此。在這方面，圖2顯示一具體實例（在其他方面與圖1非常相似），其中用於施加到各個空腔或容器210的流體不具有額外冷卻功能。因此，由於也不需要流過空腔210，所以根據圖2的各個空腔210或容器僅具有流體入口210a（並且沒有額外的流體出口）。

為了簡化製造製程，根據圖2中空腔210的流體入口210a或根據圖1的冷卻流體入口和出口110a、110b可分別配置在與相關聯空腔210和110相同的水平或深度，並且為此可在製造期間併入相對的基板部件中。然而，在其他具體實例中可亦實現不同平面中的饋線配置，如圖3中純示意性所示。因此，在圖3的範例中（其以非常簡化的方式示出具有反射鏡基板301和反射層系統302的反射鏡300），在三個空腔310的配置中的中心饋線310a（每個空腔具有流體饋線310a）在與導向相鄰空腔310的饋線310a相比，都在距光學有效表面更大深度或更大距離處引導到外部（亦即進入反射鏡基板301的外部區域）。在這情況下，通過在饋線310a中出現流體壓力，避免對通過供應流體給空腔310而產生變形輪廓的可能非期望影響，同時接受增加的製造費用。

圖4a-4c顯示用於解釋根據本發明之另一具體實例的調適性反射鏡400之結構與功能性的示意圖。根據此具體實例，在每種情況下，彼此堆疊於光學有效表面方向上的成對空腔410、411係配置在反射鏡基板401內，其中相關空腔410、411能夠彼此獨立受到衝擊（通過未在圖4a-4c之任一者中例示但以類似於前述具體實例方式配置的流體入口）。為了分離在每種情況下彼此堆疊的空腔410、411，可在其間配置由例如金屬材料製成並具有大約1 mm示例性厚度的板子。在這情況下，本發明尤其可利用此事實，即在光學系統操作期間，在有流過空腔410、411的情況下，於板件的區域中存在有效冷卻，因此選擇性可不使用具有超低熱膨脹的材料，諸如ULE ^TM（原則上同樣可使用）。

如圖4b所示，分別屬於具有不同流體壓力的同一對空腔410、411之撞擊現在最終同樣具有光學有效表面的變形，因此如圖4c所示並同樣類似於已知的雙金屬效應。然而，由於與基於圖1至圖3的前述具體實例相比的這種變形最初是由沿光學有效表面作用之分力所引起（對應於空腔410、411在橫向或沿光學有效表面延伸的方向上之不同擴展，如圖4b所示），可另外輔助基本理想的連續變形輪廓之形成（在避免各個空腔的局部嚴格分離變形效果的含義內）。

關於施加流體並且位於反射鏡基板內的空腔，本發明不限於根據圖1至圖3和圖4a至圖4c選擇的容器幾何形狀。尤其是，空腔可亦以通道的形式構造成，其中為了實現複數個區域的目的，可再次形成多個單獨的通道部分，其中流體壓力可彼此獨立施加到多個區域。在這方面，圖5再次僅顯示一示例性配置，其中提供複數個單獨的通道部分，在示例性具體實例中，每個通道部分都具有基本上蜿蜒的幾何形狀，並且每個都連接到流體入口，並且在反射鏡500中的反射鏡基板501內提供流體出口作為空腔510。這種形成空腔510的通道部分之幾何形狀可能是有利的，特別是在具有所使用流體作為冷卻流體的配置之具體實例中，以避免由於流動（冷卻）流體而將非所要隨時間變化的振動引入反射鏡500。

根據本發明的另一態樣，在將流體配置為流過反射鏡的反射鏡基板之冷卻流體的情況下，首先冷卻流體溫度和其次冷卻流體壓力的適當變化取決於產生入射到反射鏡上電磁輻射的來源之個別源功率，如此，首先在反射鏡基板內形成溫度梯度的寄生效應，其次流動的冷卻流體通過冷卻通道壁施加之機械壓力相互平衡。換句話說，冷卻流體壓力的適當調整可避免冷卻流體溫度改變（例如，由於增加源功率而變得必要）導致由於反射鏡基板內形成溫度梯度而產生不希望的寄生變形。

在這情況下，可（藉由模擬及/或測量或校準）特別是在本發明的具體實例中預先記錄適當特徵，該特徵針對源功率、冷卻流體溫度和冷卻流體壓力的不同參數值組合，特定反射鏡中光學有效表面的個別合成擾動或變形。因此，即使在高源功率的情況下，這可亦有效避免熱致變形，因為可有效避免冷卻流體在每種情況下流過的冷卻通道之寄生效益，即使在要引入個別反射鏡的冷卻功率增加之情況下。

儘管使用特定具體實例描述本發明，但是熟習該項技術者將能夠看出多種變化和替代具體實例，例如藉由組合及/或置換各個具體實例的特徵。因此，熟習該項技術者將明白，本發明亦涵蓋此變化與替代具體實例，並且本發明的範疇只受限於所附申請專利範圍及其均等的含意內。

1:投影曝光裝置 2:照明器件 3:輻射源 4:照明光學單元 5:物場 6:物平面 7:倍縮光罩 8:倍縮光罩固持器 9:倍縮光罩位移驅動器 10:投影透鏡 11:像場 12:像平面 13:晶圓 14:晶圓固持器 15:晶圓位移驅動器 16:照明輻射 17:集光器 18:中間焦平面 19:偏轉鏡 20:第一分面鏡 21,23:小分面 22:第二分面鏡 100,300,400,500:反射鏡 101,301,401,501:反射鏡基板 110,210,310,410,411,510:空腔 110a,210a:流體入口 110b:流體出口 302:反射層系統 310a:饋線

圖式中： 圖1顯示用於解釋根據本發明之一具體實例的反射鏡可能結構之示意圖； 圖2-3顯示用於解釋根據另一具體實例的反射鏡可能結構之示意圖； 圖4a-4c顯示用於解釋根據另一具體實例的反射鏡結構與功能性之示意圖； 圖5顯示用於解釋根據另一具體實例的反射鏡可能結構之示意圖； 圖6顯示設計用於在EUV中操作的微影投影曝光裝置可能結構之示意圖。

100:反射鏡

101:反射鏡基板

110:空腔

110a:流體入口

110b:流體出口

Claims (17)

1. 一種反射鏡，尤其用於微影投影曝光裝置，其中該反射鏡具有一光學有效表面，該反射鏡包含： ●    一反射鏡基板（101、201、301、401、501）；及 ●     複數個空腔（110、210、310、410、411、510），其配置在該反射鏡基板中並且可供應一流體給每個空腔； ●     其中藉由改變該等空腔（110、210、310、410、411、510）中的流體壓力將變形傳遞到該光學有效表面。
2. 如請求項1所述之反射鏡，其特徵在於該等空腔（110、210、310、410、411、510）之至少一子集至該光學有效表面具有相同的距離。
3. 如請求項1或2所述之反射鏡，其特徵在於該複數個空腔具有在該光學有效表面方向上彼此堆疊之成對空腔（410、411），可藉由向同一對的空腔（410、411）施加不同流體壓力，通過沿該光學有效表面作用的分力，產生對該光學有效表面變形的效益。
4. 如請求項1至3中任一項所述之反射鏡，其特徵在於該流體是流過該等空腔（110、410、411、510）的冷卻流體，其目的係用於吸收電磁輻射入射在該光學有效表面上而在該反射鏡基板（101、401、501）中產生之熱量。
5. 一種光學系統，其特徵在於該光學系統包含如請求項1至4中任一項所述之反射鏡。
6. 如請求項5所述之光學系統，其特徵在於該光學系統為微影投影曝光裝置的一投影透鏡或一照明器件。
7. 一種用於操作一光學系統的方法，其中該光學系統具有至少一具有一光學有效表面的反射鏡和一反射鏡基板，其中至少一冷卻通道配置在該反射鏡基板中； ●    其中一具有可變冷卻流體溫度和可變冷卻流體壓力的冷卻流體流過該冷卻通道，其目的係用於吸收由光源產生並入射到該光學有效表面上的電磁輻射而在該反射鏡基板中產生之熱量； ●    其中該冷卻流體溫度和冷卻流體壓力根據該光源的功率而變化；及 ●    其中該變化使得由該反射鏡基板中的該冷卻流體產生的溫度梯度所引起對該光學有效表面變形之第一寄生效益、以及由從該冷卻流體傳遞到該反射鏡基板的機械壓力所引起對該光學有效表面變形之第二寄生效益係至少部分相互補償。
8. 如請求項7所述之方法，其特徵在於該變化係至少部分基於一初步校準，而在該初步校準的範圍內，為了產生查找表的目的，確定適合該補償的光源功率、冷卻流體溫度和冷卻流體壓力之個別值組合。
9. 如請求項8所述之方法，其特徵在於該確定係至少部分基於該光學系統中的波前測量及/或該反射鏡面形的干涉測量。
10. 如請求項8或9所述之方法，其特徵在於該確定係至少部分基於模擬。
11. 如請求項7至10中任一項所述之方法，其特徵在於該變化係至少部分基於在該光學系統持續操作期間所執行當前波前特性的測量。
12. 如請求項7至11中任一項所述之方法，其特徵在於該反射鏡設計成用於小於30 nm，特別是小於15 nm的工作波長。
13. 如請求項7至12中任一項所述之方法，其特徵在於該光學系統為微影投影曝光裝置的一投影透鏡或一照明器件。
14. 一種光學系統，其包含： ●    至少一具有一光學有效表面的反射鏡及一反射鏡基板，其中至少一冷卻通道配置在該反射鏡基板中，其中一具有可變冷卻流體溫度和可變冷卻流體壓力的冷卻流體可流過該冷卻通道，其目的係用於吸收由光源產生並入射到該光學有效表面上的電磁輻射而在該反射鏡基板中產生之熱量；以及 ●    一用於根據光源功率改變冷卻流體溫度和冷卻流體壓力之器件，使得由該反射鏡基板中該冷卻流體產生的溫度梯度所引起對該光學有效表面變形之第一寄生效益、以及由從該冷卻流體傳遞到該反射鏡基板的機械壓力所引起對該光學有效表面變形之第二寄生效益係至少部分相互補償。
15. 如請求項14所述之光學系統，其特徵在於該器件構造成基於查找表來改變冷卻流體溫度和冷卻流體壓力，該查找表包含光源功率、冷卻流體溫度和冷卻流體壓力的個別值之不同組合。
16. 如請求項14或15所述之光學系統，其特徵在於該器件構造成基於藉由模擬及/或測量或校準獲得的特徵，來改變冷卻流體溫度和冷卻流體壓力，該特徵特定有關光源功率、冷卻流體溫度和冷卻流體壓力的不同參數值組合之該反射鏡的該光學有效表面的個別合成變形。
17. 如請求項14至16中任一項所述之光學系統，其特徵在於該光學系統為微影投影曝光裝置的一投影透鏡或一照明器件。

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