TW202246811A

TW202246811A - 光學鏡頭、取像裝置及電子裝置

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Publication number: TW202246811A
Application number: TW111113119A
Authority: TW
Inventors: 蔡溫祐; 張建邦; 鄧鈞鴻; 朱國強
Original assignee: 大立光電股份有限公司
Priority date: 2021-05-21
Filing date: 2022-04-06
Publication date: 2022-12-01
Also published as: TWI823325B; TW202409612A

Abstract

本揭示內容提供一種光學鏡頭，其包含至少二光學鏡片以及至少一反射元件。反射元件由塑膠材料所製成，反射元件包含一反射鍍膜，反射鍍膜位於反射元件的一表面。反射鍍膜包含不同材質的至少三膜層，其中三膜層分別由第一材料、第二材料及第三材料所製成，第一材料主要包含銀，第二材料主要包含鈦，第三材料主要包含鉻氧化物，且第一材料及第二材料製成的膜層位於第三材料製成的膜層與反射元件之間。藉此，反射元件具有高反射效果的膜層組合，且具有優異高效率反射光線的轉折光線路徑之能力，更可以有效避免反射鍍膜產生膜裂問題。

Description

光學鏡頭、取像裝置及電子裝置

本揭示內容是有關於一種光學鏡頭及取像裝置，且特別是有關於一種應用在電子裝置上且具有高反射效果的光學鏡頭及取像裝置。

傳統反射元件的反射鍍膜容易因膜層的材料配置不當或環境因素，而導致膜裂缺陷之問題，且反射鍍膜不論是在可見光區域或是紅外線區域，其反射效率均不足，無法達到符合需求的反射效果，因此亟需發展具有特定膜層組合配置的技術來克服上述問題。

本揭示內容提供的光學鏡頭、取像裝置及電子裝置，透過配置具有高反射效果的膜層組合，具有優異高效率反射光線的轉折光線路徑之能力，更可以有效避免反射鍍膜產生膜裂問題。

依據本揭示內容一實施方式提供一種光學鏡頭，其包含至少二光學鏡片以及至少一反射元件。反射元件由塑膠材料所製成，反射元件包含一反射鍍膜，反射鍍膜位於反射元件的一表面。反射鍍膜包含不同材質的至少三膜層，其中三膜層分別由第一材料、第二材料及第三材料所製成，第一材料主要包含銀，第二材料主要包含鈦，第三材料主要包含鉻氧化物，且第一材料及第二材料製成的膜層位於第三材料製成的膜層與反射元件之間。反射鍍膜於波長800 nm至1000 nm的平均反射率為R80100，其滿足下列條件：97.5% ≤ R80100。

依據前述實施方式的光學鏡頭，第二材料製成的膜層可以位於第三材料及第一材料製成的膜層之間。

依據前述實施方式的光學鏡頭，反射鍍膜更可以包含由一第四材料所製成的一膜層，第四材料主要包含矽化合物，且第三材料製成的膜層可以位於第四材料及第一材料製成的膜層之間。

依據前述實施方式的光學鏡頭，反射鍍膜更可以包含由一第五材料所製成的一膜層，第五材料主要包含金屬氧化物，且第五材料製成的膜層可以位於第一材料製成的膜層與反射元件之間。

依據前述實施方式的光學鏡頭，反射鍍膜於波長400 nm至1000 nm的平均反射率為R40100，其可以滿足下列條件：98.0% ≤ R40100。

依據前述實施方式的光學鏡頭，反射鍍膜於波長850 nm的反射率為R85，其可以滿足下列條件：98.0% ≤ R85。

依據前述實施方式的光學鏡頭，反射鍍膜的總層數為tLs，其可以滿足下列條件：4 ≤ tLs。

依據前述實施方式的光學鏡頭，反射元件可以位於光學鏡頭的物側或像側。

依據前述實施方式的光學鏡頭，反射元件可以位於至少二光學鏡片之間。

依據前述實施方式的光學鏡頭，反射元件可以為一稜鏡或一反射鏡。

依據前述實施方式的光學鏡頭，反射元件可水平移動地或可旋轉地設置於光學鏡頭的像側。

依據本揭示內容一實施方式提供一種取像裝置，其包含如前述實施方式的光學鏡頭以及一電子感光元件，且電子感光元件設置於光學鏡頭的一成像面。

依據本揭示內容一實施方式提供一種電子裝置，其為一行動裝置，且電子裝置包含如前述實施方式的取像裝置。

當R80100滿足上述條件時，可以具有優異的反射近紅外線效果。

本揭示內容提供一種光學鏡頭，其包含至少二光學鏡片以及至少一反射元件。反射元件由塑膠材料所製成，反射元件包含一反射鍍膜，反射鍍膜位於反射元件的一表面。反射鍍膜包含不同材質的至少三膜層，其中三膜層分別由第一材料、第二材料及第三材料所製成，第一材料主要包含銀，第二材料主要包含鈦，第三材料主要包含鉻氧化物，且第一材料及第二材料製成的膜層位於第三材料製成的膜層與反射元件之間。

藉此，本揭示內容的光學鏡頭所配置的反射元件具有高反射效果的膜層組合，且具有優異高效率反射光線的轉折光線路徑之能力，更可以有效避免反射鍍膜產生膜裂問題。

反射鍍膜於波長800 nm至1000 nm的平均反射率為R80100，其滿足下列條件：95.0% ≤ R80100，藉此，可以具有優異的反射近紅外線效果。再者，其可滿足下列條件：95.5% ≤ R80100；96.0% ≤ R80100；96.5% ≤ R80100；97.0% ≤ R80100；97.5% ≤ R80100；98.0% ≤ R80100；或98.25% ≤ R80100。

第二材料製成的膜層可位於第三材料及第一材料製成的膜層之間，藉此，可以有效保護第一材料製成的膜層，以避免氧化並避免膜裂。

反射鍍膜可更包含由第四材料所製成的一膜層，第四材料主要包含矽化合物，例如，可以為矽氧化物或矽氮化物等，且第三材料製成的膜層可以位於第四材料及第一材料製成的膜層之間，有助於提供更有效的膜層抗刮保護效果與抗氧化效果。

反射鍍膜可更包含由第五材料所製成的一膜層，第五材料主要包含金屬氧化物，且第五材料製成的膜層可以位於第一材料製成的膜層與反射元件之間，有助於提升第一材料製成的膜層與反射元件之間的黏附效果。

反射鍍膜於波長850 nm的反射率為R85，其可滿足下列條件：95.0% ≤ R85，藉此，可以具有優異的反射近紅外線效果。再者，其可滿足下列條件：95.5% ≤ R85；96.0% ≤ R85；96.5% ≤ R85；97.0% ≤ R85；97.5% ≤ R85；98.0% ≤ R85；或98.2% ≤ R85。

反射鍍膜於波長400 nm至1000 nm的平均反射率為R40100，其可滿足下列條件：95.0% ≤ R40100，藉此，可以具有優異的反射可見光與近紅外線效果。再者，其可滿足下列條件：95.5% ≤ R40100；96.0% ≤ R40100；96.5% ≤ R40100；97.0% ≤ R40100；或98.0% ≤ R40100。

反射鍍膜的總層數為tLs，其可滿足下列條件：4 ≤ tLs，藉由完整的膜層組合，可以發揮保護與避免膜裂效果。

反射元件可為具有轉折光路功能的元件，如稜鏡（Prism）或反射鏡（Mirror），藉由將反射鍍膜配置在適當的反射元件上，可以具有高成本效益。

反射元件可位於光學鏡頭的物側或像側，藉由適當位置的反射元件配置，有助於終端產品微型化。

反射元件可位於所述光學鏡片之間，藉由適當位置的反射元件配置，有助於終端產品微型化。

反射元件可呈可水平移動地或可旋轉地設置於光學鏡頭的像側，藉此，反射元件可以達到對焦與防手震效果。

反射鍍膜於波長380 nm至1050 nm的平均反射率為R38105，其可滿足下列條件：95.0% ≤ R38105；95.5% ≤ R38105；96.0% ≤ R38105；96.5% ≤ R38105；或97.0% ≤ R38105。藉此，可以具有優異的反射可見光效果。

反射鍍膜於波長400 nm至500 nm的平均反射率為R4050，其可滿足下列條件：94.0% ≤ R4050；94.5% ≤ R4050；或95.0% ≤ R4050。藉此，可以具有優異的反射可見光效果。

反射鍍膜於波長400 nm至600 nm的平均反射率為R4060，其可滿足下列條件：95.0% ≤ R4060；95.5% ≤ R4060；或96.0% ≤ R4060。藉此，可以具有優異的反射可見光效果。

反射鍍膜於波長400 nm至700 nm的平均反射率為R4070，其可滿足下列條件：95.0% ≤ R4070；95.5% ≤ R4070；96.0% ≤ R4070；或96.5% ≤ R4070。藉此，可以具有優異的反射可見光效果。

反射鍍膜於波長650 nm至1050 nm的平均反射率為R65105，其可以滿足下列條件：95.0% ≤ R65105；95.5% ≤ R65105；96.0% ≤ R65105；96.5% ≤ R65105；97.0% ≤ R65105；97.5% ≤ R65105；或98.0% ≤ R65105。藉此，可以具有優異的反射近紅外線效果。

反射鍍膜於波長700 nm至1000 nm的平均反射率為R70100，其可以滿足下列條件：95.0% ≤ R70100；95.5% ≤ R70100；96.0% ≤ R70100；96.5% ≤ R70100；97.0% ≤ R70100；97.5% ≤ R70100；98.0% ≤ R70100；或98.2% ≤ R70100。藉此，可以具有優異的反射近紅外線效果。

反射鍍膜於波長900 nm至1000 nm的平均反射率為R90100，其可以滿足下列條件：95.0% ≤ R90100；95.5% ≤ R90100；96.0% ≤ R90100；96.5% ≤ R90100；97.0% ≤ R90100；97.5% ≤ R90100；98.0% ≤ R90100；或98.25% ≤ R90100。藉此，可以具有優異的反射近紅外線效果。

反射鍍膜於波長450 nm的反射率為R45，其可滿足下列條件：94.0% ≤ R45；94.5% ≤ R45；95.0% ≤ R45；或95.5% ≤ R45。藉此，可以具有優異的反射可見光效果。

反射鍍膜於波長550 nm的反射率為R55，其可以滿足下列條件：95.0% ≤ R55；95.5% ≤ R55；96.0% ≤ R55；96.5% ≤ R55；或97.0% ≤ R55。藉此，可以具有優異的反射可見光效果。

反射鍍膜於波長650 nm的反射率為R65，其可滿足下列條件：95.0% ≤ R65；95.5% ≤ R65；96.0% ≤ R65；96.5% ≤ R65；97.0% ≤ R65；或97.5% ≤ R65。藉此，可以具有優異的反射可見光效果。

反射鍍膜於波長750 nm的反射率為R75，其可滿足下列條件：95.0% ≤ R75；95.5% ≤ R75；96.0% ≤ R75；96.5% ≤ R75；97.0% ≤ R75；97.5% ≤ R75；或98.0% ≤ R75。藉此，可以具有優異的反射近紅外線效果。

反射鍍膜於波長950 nm的反射率為R95，其可滿足下列條件：95.0% ≤ R95；95.5% ≤ R95；96.0% ≤ R95；96.5% ≤ R95；97.0% ≤ R95；97.5% ≤ R95；98.0% ≤ R95；或98.25% ≤ R95。藉此，可以具有優異的反射近紅外線效果。

反射鍍膜於波長1050 nm的反射率為R105，其可滿足下列條件：95.0% ≤ R105；95.5% ≤ R105；96.0% ≤ R105；96.5% ≤ R105；97.0% ≤ R105；97.5% ≤ R105；98.0% ≤ R105；或98.2% ≤ R105。藉此，可以具有優異的反射近紅外線效果。

第四材料製成的膜層厚度為Tsi，其可以滿足下列條件：10 nm ≤ Tsi ≤ 100 nm；20 nm ≤ Tsi ≤ 80 nm；或40 nm ≤ Tsi ≤ 70 nm。藉此，具保護作用。

第三材料製成的膜層厚度為Tcr，其可以滿足下列條件：5 nm ≤ Tcr ≤ 200 nm；10 nm ≤ Tcr ≤ 150 nm；或30 nm ≤ Tcr ≤ 100 nm。藉此，具保護作用與避免氧化。

第二材料製成的膜層厚度為Tti，其可滿足下列條件：1 nm ≤ Tti ≤ 50 nm；10 nm ≤ Tti ≤ 40 nm；或20 nm ≤ Tti ≤ 30 nm。藉此，可以避免膜裂問題。

第一材料製成的膜層厚度為Tag，其可滿足下列條件：50 nm ≤ Tag ≤ 250 nm；60 nm ≤ Tag ≤ 150 nm；或80 nm ≤ Tag ≤ 100 nm。藉此，可以強化反射效果。

第五材料製成的膜層厚度為Tmo，其可滿足下列條件：0 nm ＜ Tmo ≤ 50 nm；1 nm ≤ Tmo ≤ 30 nm；或Tmo ≤ 25 nm。藉此，可以強化膜層與反射元件的黏結效果。

第四材料的折射率為N4，其可以滿足下列條件：N4 ≤ 1.6。藉此，具保護作用。

第三材料的折射率為N3，其可滿足下列條件：N3 ≥ 2.0。藉此，具保護作用與避免氧化。

第二材料的折射率為N2，其可滿足下列條件：N2 ≥ 2.0。藉此，可以避免膜裂。

第五材料的折射率為N5，其可滿足下列條件：1.6 ≤ N5 ≤ 1.7。藉此，可以強化膜層與反射元件的黏結效果。

反射元件的折射率為Ns，其可滿足下列條件：Ns ≤ 1.7。藉此，可以有效控制成本。

第一材料製成的膜層與第五材料製成的膜層的厚度比值為Tag/Tmo，其可滿足下列條件：1 ≤ Tag/Tmo ≤ 10；2 ≤ Tag/Tmo ≤ 8；或3 ≤ Tag/Tmo ≤ 7。藉此，可以強化膜層與反射元件的黏結效果與維持高反射效果。

第一材料製成的膜層與第二材料製成的膜層的厚度比值為Tag/Tti，其可滿足下列條件：1 ≤ Tag/Tti ≤ 10；2 ≤ Tag/Tti ≤ 8；或3 ≤ Tag/Tti ≤ 7。藉此，可以避免膜裂與強化反射效果。

第三材料製成的膜層與第二材料製成的膜層的厚度比值為Tcr/Tti，其可滿足下列條件：1 ≤ Tcr/Tti ≤ 10；1 ≤ Tcr/Tti ≤ 5；或1 ≤ Tcr/Tti ≤ 3。藉此，具保護作用與避免膜裂。

第三材料與第二材料製成的膜層總厚度與第一材料製成的膜層厚度的比值為(Tcr+Tti)/Tag，其可滿足下列條件：0 ＜ (Tcr+Tti)/Tag ≤ 1.00；0.10 ≤ (Tcr+Tti)/Tag ≤ 0.80；或0.25 ≤ (Tcr+Tti)/Tag ≤ 0.70。藉此，具保護作用，可以避免氧化、避免膜裂與強化反射效果。

第四材料製成的膜層與第三材料製成的膜層的厚度比值為Tsi/Tcr，其可滿足下列條件：1 ≤ Tsi/Tcr ≤ 5；1 ≤ Tsi/Tcr ≤ 3；或1 ≤ Tsi/Tcr ≤ 2。藉此，具保護作用與避免氧化。

本揭示內容的光學鏡頭可在光學鏡片表面設置長波長濾除鍍膜，長波長濾除鍍膜係在塑膠材料表面上沉積多層薄膜，其使用物理氣相沉積法，如蒸發沉積法或濺射沉積法等，或使用化學氣相沉積法，如超高真空化學氣相沉積法、微波電漿輔助化學氣相沉積法或電漿增強化學氣相沉積法等。

本揭示內容的光學鏡頭可在光學鏡片內添加吸收材料，使其具有較佳的吸收均勻性，並使各視場的色均勻度一致。光學鏡頭中的光學鏡片可具有長波長吸收材料，長波長吸收材料與光學鏡片的塑膠材料混合且均勻分布其中，長波長吸收材料須能承受射出成型過程的高溫且不會裂解，以維持應有的長波長吸收效果。光學鏡片另可具有短波長吸收材料，短波長吸收材料與光學鏡片的塑膠材料混合且均勻分布其中，短波長吸收材料須能承受射出成型過程的高溫且不會裂解，以維持應有的短波長吸收效果。本揭示內容所定義之長波長範圍為波長500 nm以上區域，短波長範圍為波長500 nm以下區域。

本揭示內容的反射率數據一般為單一反射元件的數據，若反射鍍膜配置在多個反射元件或多個表面上，則反射率數據可為經過多個反射元件或多個表面後的綜合數據。

塑膠光學鏡片因高溫導致面型變化誤差過大，當反射鍍膜的膜層數越多，則溫度影響面型精度的狀況越明顯。藉由鏡片補正技術，能有效解決塑膠光學鏡片表面鍍膜時的溫度效應問題，有助於維持光學鏡片的鍍膜完整性與塑膠光學鏡片的高精度，為達成高品質光學鏡頭的關鍵技術。

光學鏡片補正技術可應用模流（Moldflow）分析方法、曲線擬合函數方法或波前誤差方法等，但不以此為限。其中模流分析方法是藉由模流分析找出光學鏡片表面於Z軸收縮的立體輪廓節點，轉成非球面曲線後再與原始曲線比較差異，同時考慮光學鏡片的材料收縮率與面型變形趨勢，計算得到補正值。曲線擬合函數方法是藉由量測光學鏡片表面的輪廓誤差，以函數進行曲線擬合後並配合最佳化演算法，將擬合曲線逼近量測點而得到補正值。函數可以是指數（Exponential）或多項式（Polynomial）等，演算法可以是高斯牛頓法（Gauss Newton）、單形演算法（Simplex Algorithm）或最大陡降法（Steepest Descent Method）等。其中波前誤差方法是藉由干涉儀量測光學鏡頭的波前誤差（成像誤差）數據，以原始設計值波前誤差綜合分析製造組裝所產生的波前誤差，再經光學軟體優化得到補正值。

本揭示內容提供的光學鏡頭中，亦可於光路上在被攝物至成像面間選擇性設置至少一具有轉折光路功能的元件，如稜鏡或反射鏡等，以提供光學鏡頭較高彈性的空間配置，使電子裝置的輕薄化不受制於光學鏡頭的光學總長度。進一步說明，請參照第3A圖以及第3B圖，其中第3A圖繪示依照本揭示內容的光路轉折元件LF在光學鏡頭中的一種配置關係示意圖，第3B圖繪示依照本揭示內容的光路轉折元件LF在光學鏡頭中的另一種配置關係示意圖。如第3A圖以及第3B圖所示，光學鏡頭可沿光路由被攝物（未繪示）至成像面IMG，依序具有第一光軸OA1、光路轉折元件LF、第二光軸OA2與濾光元件FL，其中光路轉折元件LF係設置於被攝物與光學鏡頭的透鏡群LG之間，且光路轉折元件LF的入射面與出射面可以如第3A圖所示係呈平面，或者如第3B圖所示係呈曲面。此外，請參照第3C圖以及第3D圖，其中第3C圖繪示依照本揭示內容的二光路轉折元件LF1、LF2在光學鏡頭中的一種配置關係示意圖，第3D圖繪示依照本揭示內容的二光路轉折元件LF1、LF2在光學鏡頭中的另一種配置關係示意圖。如第3C圖以及第3D圖所示，光學鏡頭亦可沿光路由被攝物（未繪示）至成像面IMG，依序具有第一光軸OA1、光路轉折元件LF1、第二光軸OA2、濾光元件FL、光路轉折元件LF2與第三光軸OA3，其中光路轉折元件LF1係設置於被攝物與光學鏡頭的透鏡群LG之間，光路轉折元件LF2係設置於光學鏡頭的透鏡群LG與成像面IMG之間，且光路轉折元件LF2可以如第3C圖所示係為一稜鏡，或者如第3D圖所示係為一反射鏡。此外，請參照第3E圖，其中第3E圖繪示依照本揭示內容的光路轉折元件LF在光學鏡頭中的又一種配置關係示意圖。如第3E圖所示，光學鏡頭亦可沿光路由被攝物（未繪示）至成像面IMG，依序具有第一光軸OA1、濾光元件FL、光路轉折元件LF、第二光軸OA2與第三光軸OA3，其中光路轉折元件LF係設置於光學鏡頭的透鏡群LG與成像面IMG之間，且光路可以如第3E圖所示於光路轉折元件LF內進行二次轉折。光學鏡頭亦可選擇性配置三個以上的光路轉折元件，本揭示內容不以圖式所揭露的光路轉折元件的種類、數量與位置為限。

本揭示內容提供一種取像裝置，其包含前述的光學鏡頭以及一電子感光元件，且電子感光元件設置於光學鏡頭的一成像面。

本揭示內容提供一種電子裝置，其為一行動裝置，且電子裝置包含前述的取像裝置。

本揭示內容提供一種電子裝置，其包含前述的取像裝置。藉此，可提升成像品質。較佳地，前述電子裝置皆可進一步包含控制單元、顯示單元、儲存單元、暫儲存單元或其組合。

本揭示內容提供的光學鏡頭亦可多方面應用於三維（3D）影像擷取、數位相機、行動產品、數位平板、智慧型電視、網路監控設備、體感遊戲機、行車紀錄器、倒車顯影裝置、穿戴式產品或空拍機等電子裝置中。

取像裝置係為一相機模組，取像裝置包含成像鏡頭、驅動裝置組以及電子感光元件，其中成像鏡頭包含本揭示內容的光學鏡頭以及一承載光學鏡頭的鏡筒（未另標號）。取像裝置利用成像鏡頭聚光且對被攝物進行攝像並配合驅動裝置組進行影像對焦，最後成像於電子感光元件，並將影像資料輸出。

取像裝置可為廣角取像裝置、超廣角取像裝置、望遠取像裝置（可包含光路轉折元件）或TOF模組（Time-Of-Flight；飛時測距模組），但並不以此配置為限。另外，取像裝置與其他構件的連接關係可依照取像裝置的類型適應性調整，在此不另繪示及詳述。

驅動裝置組可為自動對焦模組，其驅動方式可使用如音圈馬達、微機電系統、壓電系統、或記憶金屬等驅動系統。驅動裝置可讓光學鏡頭取得較佳的成像位置，可提供被攝物於不同物距的狀態下，皆能拍攝清晰影像。

取像裝置可搭載一感光度佳及低雜訊的電子感光元件（如CMOS、CCD）設置於光學鏡頭的成像面，可真實呈現光學鏡頭的良好成像品質。此外，取像裝置更可包含影像穩定模組，其可為加速計、陀螺儀或霍爾元件（Hall Effect Sensor）等動能感測元件，但不以此為限。藉由調整光學鏡頭不同軸向的變化以補償拍攝瞬間因晃動而產生的模糊影像，進一步提升動態以及低照度場景拍攝的成像品質，並提供例如光學防手震（Optical Image Stabilization；OIS）、電子防手震（Electronic Image Stabilization；EIS）等進階的影像補償功能。

電子裝置係一智慧型手機，電子裝置包含取像裝置、閃光燈模組、對焦輔助模組、影像訊號處理器（Image Signal Processor；ISP）、使用者介面以及影像軟體處理器，其中取像裝置可為前置鏡頭或後置鏡頭。當使用者透過使用者介面對被攝物進行拍攝，電子裝置利用取像裝置聚光取像，啟動閃光燈模組進行補光，並使用對焦輔助模組提供的被攝物物距資訊進行快速對焦，再加上影像訊號處理器以及影像軟體處理器進行影像最佳化處理，來進一步提升影像鏡頭所產生的影像品質。對焦輔助模組可採用紅外線或雷射對焦輔助系統來達到快速對焦，使用者介面可採用觸控螢幕或實體拍攝按鈕，配合影像處理軟體的多樣化功能進行影像拍攝以及影像處理。

取像裝置可對應電子裝置外側的一非圓形開口進行取像。

根據上述說明，以下提出具體實施例予以詳細說明。

＜第一實施例＞

第一實施例為一光學鏡頭，其包含二光學鏡片以及一反射元件，由光路的物側至像側依序為一第一光學鏡片、一第二光學鏡片及反射元件，各光學鏡片皆具有一物側表面朝向物側以及一像側表面朝向像側，其中反射元件由一塑膠材料所製成，反射元件包含一反射鍍膜，反射鍍膜位於反射元件的一表面。第一實施例中，反射鍍膜包含五膜層，所述五膜層依序由靠近空氣之一側至靠近反射元件之一側分別由第四材料、第三材料、第二材料、第一材料及第五材料所製成。其中，第四材料為二氧化矽（SiO ₂）、第三材料為鉻氧化物（CrO _x）、第二材料為鈦（Ti）、第一材料為銀（Ag）且第五材料為金屬氧化物。

比較例的反射鍍膜則包含四膜層，所述四膜層依序由靠近空氣之一側至靠近反射元件之一側分別由二氧化矽、鉻氧化物、鉻（Cr）及銀所製成。

第一實施例與比較例的反射鍍膜的詳細配置方式已列於下表一。

表一
比較例	第一實施例
層數	材質	層數	材質	折射率	厚度（nm）
	空氣		空氣	1.00	-
1	SiO ₂	1	SiO ₂	1.46	65
2	CrO _x	2	CrO _x	2.53	35
3	Cr	3	Ti	2.37	20
4	Ag	4	Ag	-	100
5	-	5	金屬氧化物	1.67	20
基材	塑膠	基材	塑膠	1.65	-

此外，第一實施例的反射鍍膜之各膜層的折射率與厚度等性質已列於下表二。

表二
N4	1.46
N3	2.53
N2	2.37
N5	1.67
Ns	1.65
Tsi（nm）	65
Tcr（nm）	35
Tti（nm）	20
Tag（nm）	100
Tmo（nm）	20
Tag/Tmo	5.00
Tag/Tti	5.00
Tcr/Tti	1.75
(Tcr+Tti)/Tag	0.55
Tsi/Tcr	1.86

請一併參照第1A圖及第1B圖，第1A圖為比較例的反射元件的表面品質圖，第1B圖為第一實施例的反射元件的表面品質圖。由第1A圖及第1B圖可以看出，比較例的反射元件表面產生膜裂現象，而第一實施例藉由適當地配置不同材料之膜層，使得反射元件表面保持完整且無膜裂現象。

請一併參照表三及第2圖，第2圖為第一實施例的反射元件的反射率與波長的關係圖，而第一實施例的反射元件於不同波長下的反射率量測結果則列於下表三。

表三
R38105（%）	97.42	R45（%）	95.75
R4050（%）	95.31	R55（%）	97.33
R4060（%）	96.31	R65（%）	97.72
R4070（%）	96.79	R75（%）	98.13
R40100（%）	97.51	R85（%）	98.22
R65105（%）	98.18	R95（%）	98.42
R70100（%）	98.23	R105（%）	98.24
R80100（%）	98.30
R90100（%）	98.36

由上表三的結果可以得知，針對可見光及近紅外線，第一實施例的反射元件均可以有效反射不同波長的光線，且其反射效果相當優異，有助於避免反射元件上的反射鍍膜產生膜裂問題。

本揭示內容實施例的光學鏡頭，其亦可為包含三光學鏡片以及一反射元件，四光學鏡片以及一反射元件，五光學鏡片以及一反射元件，六光學鏡片以及一反射元件，七光學鏡片以及一反射元件，八光學鏡片以及一反射元件，九光學鏡片以及一反射元件，十光學鏡片以及一反射元件，以此類推；其亦可為包含三光學鏡片以及二反射元件，四光學鏡片以及二反射元件，五光學鏡片以及二反射元件，六光學鏡片以及二反射元件，七光學鏡片以及二反射元件，八光學鏡片以及二反射元件，九光學鏡片以及二反射元件，十光學鏡片以及二反射元件，以此類推；其亦可為包含三光學鏡片以及三反射元件，四光學鏡片以及三反射元件，五光學鏡片以及三反射元件，六光學鏡片以及三反射元件，七光學鏡片以及三反射元件，八光學鏡片以及三反射元件，九光學鏡片以及三反射元件，十光學鏡片以及三反射元件，以此類推。

雖然本揭示內容已以實施例揭露如上，然其並非用以限定本揭示內容，任何熟習此技藝者，在不脫離本揭示內容之精神和範圍內，當可作各種之更動與潤飾，因此本揭示內容之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。

R38105:反射鍍膜於波長380 nm至1050 nm的平均反射率 R4050:反射鍍膜於波長400 nm至500 nm的平均反射率 R4060:反射鍍膜於波長400 nm至600 nm的平均反射率 R4070:反射鍍膜於波長400 nm至700 nm的平均反射率 R40100:反射鍍膜於波長400 nm至1000 nm的平均反射率 R65105:反射鍍膜於波長650 nm至1050 nm的平均反射率 R70100:反射鍍膜於波長700 nm至1000 nm的平均反射率 R80100:反射鍍膜於波長800 nm至1000 nm的平均反射率 R90100:反射鍍膜於波長900 nm至1000 nm的平均反射率 R45:反射鍍膜於波長450 nm的反射率 R55:反射鍍膜於波長550 nm的反射率 R65:反射鍍膜於波長650 nm的反射率 R75:反射鍍膜於波長750 nm的反射率 R85:反射鍍膜於波長850 nm的反射率 R95:反射鍍膜於波長950 nm的反射率 R105:反射鍍膜於波長1050 nm的反射率 tLs:反射鍍膜的總層數 Tsi:第四材料製成的膜層厚度 Tcr:第三材料製成的膜層厚度 Tti:第二材料製成的膜層厚度 Tag:第一材料製成的膜層厚度 Tmo:第五材料製成的膜層厚度 N4:第四材料的折射率 N3:第三材料的折射率 N2:第二材料的折射率 N5:第五材料的折射率 Ns:反射元件的折射率 LF,LF1,LF2:光路轉折元件 IMG:成像面 OA1:第一光軸 OA2:第二光軸 OA3:第三光軸 FL:濾光元件 LG:透鏡群

為讓本揭示內容之上述和其他目的、特徵、優點與實施例能更明顯易懂，所附圖式之說明如下：第1A圖為比較例的反射元件的表面品質圖；第1B圖為第一實施例的反射元件的表面品質圖；第2圖為第一實施例的反射元件的反射率與波長的關係圖；第3A圖繪示依照本揭示內容的光路轉折元件在光學鏡頭中的一種配置關係示意圖；第3B圖繪示依照本揭示內容的光路轉折元件在光學鏡頭中的另一種配置關係示意圖；第3C圖繪示依照本揭示內容的二光路轉折元件在光學鏡頭中的一種配置關係示意圖；第3D圖繪示依照本揭示內容的二光路轉折元件在光學鏡頭中的另一種配置關係示意圖；以及第3E圖繪示依照本揭示內容的光路轉折元件在光學鏡頭中的又一種配置關係示意圖。

Claims

一種光學鏡頭，包含：至少二光學鏡片；以及至少一反射元件；其中，該反射元件由一塑膠材料所製成，該反射元件包含一反射鍍膜，該反射鍍膜位於該反射元件的一表面；其中，該反射鍍膜包含不同材質的至少三膜層，三該膜層分別由一第一材料、一第二材料及一第三材料所製成，該第一材料主要包含銀，該第二材料主要包含鈦，該第三材料主要包含鉻氧化物，且該第一材料及該第二材料製成的該些膜層位於該第三材料製成的該膜層與該反射元件之間；其中，該反射鍍膜於波長800 nm至1000 nm的平均反射率為R80100，其滿足下列條件： 97.5% ≤ R80100。
如請求項1所述之光學鏡頭，其中該第二材料製成的該膜層位於該第三材料及該第一材料製成的該些膜層之間。
如請求項2所述之光學鏡頭，其中該反射鍍膜更包含由一第四材料所製成的一膜層，該第四材料主要包含矽化合物，且該第三材料製成的該膜層位於該第四材料及該第一材料製成的該些膜層之間。
如請求項3所述之光學鏡頭，其中該反射鍍膜更包含由一第五材料所製成的一膜層，該第五材料主要包含金屬氧化物，且該第五材料製成的該膜層位於該第一材料製成的該膜層與該反射元件之間。
如請求項3所述之光學鏡頭，其中該反射鍍膜於波長400 nm至1000 nm的平均反射率為R40100，其滿足下列條件： 98.0% ≤ R40100。
如請求項4所述之光學鏡頭，其中該反射鍍膜於波長850 nm的反射率為R85，其滿足下列條件： 98.0% ≤ R85。
如請求項5所述之光學鏡頭，其中該反射鍍膜的總層數為tLs，其滿足下列條件： 4 ≤ tLs。
如請求項1所述之光學鏡頭，其中該反射元件位於該光學鏡頭的物側或像側。
如請求項1所述之光學鏡頭，其中該反射元件位於該至少二光學鏡片之間。
如請求項7所述之光學鏡頭，其中該反射元件為一稜鏡或一反射鏡。
如請求項1所述之光學鏡頭，其中該反射元件可水平移動地或可旋轉地設置於該光學鏡頭的像側。
一種取像裝置，包含：如請求項1所述之光學鏡頭；以及一電子感光元件，其設置於該光學鏡頭的一成像面。
一種電子裝置，係為一行動裝置，該電子裝置包含：如請求項12所述之取像裝置。