TW202217372A - 偏光板的製造方法 - Google Patents

Abstract

本發明之目的在於提供經抑制外觀不良之單面保護偏光板的製造方法。本發明所提供之偏光板的製造方法係包含：第1步驟，係在偏光膜之一面經由水系接著劑層而貼合保護膜，並且在前述偏光膜之另一面經由揮發性液體而積層剝離膜；及第2步驟，係藉由加熱使前述水系接著劑層乾燥，並且使前述揮發性液體揮發。其中，前述剝離膜之偏光膜側表面之JIS B0601-2001規定之最大高度Rz為70nm以下。

Description

偏光板的製造方法

本發明係關於在偏光膜之一面貼合有保護膜之偏光板的製造方法。

偏光板係被廣泛地使用作為液晶顯示裝置等顯示裝置中之偏光的供給元件、或偏光之檢測元件。關於偏光板之構成，一般而言，係在偏光膜使用接著劑而貼合有保護膜。

伴隨著偏光板薄膜輕量化之市場需求，已提案有各種能夠實現該輕量化之偏光板的構成，其代表例之一係僅在偏光膜之一面貼合有保護膜的單面保護偏光板(例如專利文獻1)。

[先前技術文獻]

[專利文獻]

[專利文獻1]日本特開第2009-109860號公報

當製造單面保護偏光板時，係在偏光膜之一面經由接著劑層而貼合保護膜，而且為了暫時保護未貼合保護膜之偏光膜的另一面，一般會在該另一面先積層能夠剝離的剝離膜。該剝離膜係例如在將單面保護偏光板貼合於液晶單元之步驟中被剝離除去。

然而，在剝離了剝離膜後的偏光板，有在原本剝離膜所積層之面產生凹痕等缺陷、並發生外觀不良之問題。本發明之目的在於提供一種經抑制外觀不良之單面保護偏光板的製造方法。

本發明係提供以下所例示之偏光板的製造方法及單面保護偏光板。

〔1〕一種偏光板的製造方法，係包含：

第1步驟，係在偏光膜之一面經由水系接著劑層而貼合保護膜，並且在前述偏光膜之另一面經由揮發性液體而積層剝離膜；及

第2步驟，係藉由加熱使前述水系接著劑層乾燥，並且使前述揮發性液體揮發；

其中，前述剝離膜之偏光膜側表面之JIS B0601-2001規定之最大高度Rz為70nm以下。

〔2〕如〔1〕所述之偏光板的製造方法，其中，前述剝離膜係在偏光膜側表面形成有塗覆層(coating layer)。

〔3〕如〔2〕所述之偏光板的製造方法，其中，前述剝離膜之塗覆層的厚度為30μm以下。

〔4〕如〔2〕或〔3〕所述之偏光板的製造方法，其中，前述剝離膜之塗覆層係由(甲基)丙烯酸系樹脂之硬化物所構成。

〔5〕如〔1〕至〔4〕中任一項所述之偏光板的製造方法，其中，前述保護膜及前述剝離膜之至少一者之透濕度為400g/m²‧24hr以上。

〔6〕如〔1〕至〔5〕中任一項所述之偏光板的製造方法，其中，前述水系接著劑層之厚度為10nm以上1μm以下。

〔7〕如〔1〕至〔6〕中任一項所述之偏光板的製造方法，其中，前述保護膜之厚度為1μm以上90μm以下。

〔8〕如〔1〕至〔7〕中任一項所述之偏光板的製造方法，其中，前述偏光膜之厚度為1μm以上40μm以下。

〔9〕如〔1〕至〔8〕中任一項所述之偏光板的製造方法，其更包含：第3步驟，係將前述剝離膜從前述偏光膜剝離。

〔10〕如〔9〕所述之偏光板的製造方法，其中，前述第3步驟中，前述偏光膜與前述剝離膜之間的剝離力為0.01N/25mm以上2.0N/25mm以下。

〔11〕一種單面保護偏光板，係具有：偏光膜、與貼合在前述偏光膜之一面的保護膜；

其中，前述偏光膜之與前述保護膜相反側表面之JIS B0601-2001規定的最大高度Rz為60nm以下。

〔12〕一種單面保護偏光板，係具有：偏光膜、與貼合在前述偏光膜之一面的保護膜；

其中，於前述偏光膜之與前述保護膜相反側表面，寬度為0.5mm以上2.0mm以下且深度為0.1μm以上1.0μm以下之凹痕為10個/m²以下。

依據本發明，可製造經抑制外觀不良之單面保護偏光板。

1:單面保護偏光板

2:附剝離膜之單面保護偏光板

3:附黏著劑層之單面保護偏光板

4:雙面保護偏光板

5:偏光膜

10:剝離膜

20:第1保護膜

21:第2保護膜

25:第1接著劑層

26:第2接著劑層

30:黏著劑層

40:貼合輥

50:揮發性液體

55:水系接著劑

60:導輥

70:乾燥裝置

80,81:注入裝置

圖1係顯示單面保護偏光板之基本之層結構的截面示意圖。

圖2係顯示單面保護偏光板之另一例的截面示意圖。

圖3係顯示單面保護偏光板之另一例的截面示意圖。

圖4係顯示使用單面保護偏光板可獲得的雙面保護偏光板之層結構的截面示意圖。

圖5係示意性地顯示本發明之單面保護偏光板的製造方法及用於該製造方法之製造裝置之一例的側面圖。

圖6係在實施例1之單面保護偏光板中與保護膜相反側的偏光膜表面的原子力顯微鏡影像。(A)係表面之平面圖、(B)係表面之三維形狀圖。

圖7係在比較例1之單面保護偏光板中與保護膜相反側的偏光膜表面的原子力顯微鏡影像。(A)係表面之平面圖，(B)係表面之三維形狀圖。

<偏光板的製造方法>

本發明係關於單面保護偏光板的製造方法。本發明中，「單面保護偏光板」係指僅在偏光膜之一面貼合有保護膜的偏光板，該保護膜通常係經由接著劑層而貼合於偏光膜。單面保護偏光板之基本結構係顯示於圖1。如圖1所示之單面 保護偏光板1般，本發明之單面保護偏光板係包含偏光膜5、與經由第1接著劑層25而貼合在該偏光膜5的一面之第1保護膜20作為基本結構者。

如後所述，本發明之製造方法係包含：第1步驟，係在偏光膜之一面經由水系接著劑層而貼合保護膜(第1保護膜)，並且在另一面經由揮發性液體而積層剝離膜；及第2步驟，係藉由加熱使水系接著劑層乾燥，並且使揮發性液體揮發。經過此等第1步驟及第2步驟而得之單面保護偏光板，係如圖2所示之附剝離膜之單面保護偏光板2般，更具備：積層在偏光膜5之另一面的剝離膜10。

剝離膜10係能夠從偏光膜5剝離的膜，於必要時(例如，在將單面保護偏光板貼合於液晶單元時)，能夠藉由將此剝離膜剝離除去而獲得圖1之單面保護偏光板1。例如，為了貼合液晶單元，本發明之單面保護偏光板可如圖3所示之附黏著劑層之單面保護偏光板3般，更具備：積層在偏光膜5之另一面的黏著劑層30。

此外，本發明之單面保護偏光板1及附剝離膜之單面保護偏光板2亦可適合利用於作為在偏光膜之兩面貼合有保護膜之雙面保護偏光板的製造中間體。參照圖4，可藉由在偏光膜5之與第1保護膜20相反側的面經由第2接著劑層26貼合第2保護膜21，而獲得雙面保護偏光板4。

剝離膜10之偏光膜5側表面之JIS B0601-2001規定之最大高度Rz為70nm以下，較佳係50nm以下，更佳係30nm以下，再更佳係20nm以下。最大高度Rz可超過0nm，亦可為5nm以上。第1步驟中，偏光膜5上所積層之剝離膜10之表面粗糙度為上述範圍時，就所製造之單面保護偏光板1而言，可獲得使偏光膜5側表面之凹痕被抑制且使外觀不良被抑制之單面保護偏光板。 藉由抑制單面保護偏光板之外觀不良，可抑制在單面保護偏光板之製造中之產率惡化。

以下，係參照圖5且顯示實施型態而針對本發明之單面保護偏光板的製造方法進行詳細地說明。本發明之單面保護偏光板的製造方法包含下述步驟：

(1)第1步驟，係在偏光膜之一面經由水系接著劑層貼合第1保護膜，並且在該偏光膜之另一面經由以揮發性液體所構成之層來積層剝離膜；及

(2)第2步驟，係藉由加熱使上述水系接著劑層乾燥，並且使上述揮發性液體揮發。

圖5係示意性地顯示本發明之單面保護偏光板的製造方法及用於該製造方法之製造裝置之一例的側面圖。一般而言，如單面保護偏光板之偏光板，係可如圖5所示般在連續地捲出並搬運長形膜的同時在各步驟實施處理，藉此可連續地製造長形品。惟本發明之製造方法並非限於使用如此之長形膜而連續生產者，亦可為使用單片膜的方法。

(1)第1步驟

參照圖5，於本步驟中，首先準備長形的偏光膜5之捲輪(roll，捲繞品)、長形的第1保護膜20之捲輪、及長形的剝離膜10之捲輪，將此等捲輪使用無圖示之捲出裝置連續地捲出並同時進行膜搬運。各膜係以使該等膜之長邊方向成為搬運方向之方式搬運。膜之搬運路徑中，適宜地設置有用以支撐移動的膜之導輥60。圖5中之箭頭係表示膜之搬運方向或各種輥之旋轉方向。通常，偏光膜5之搬運方向(膜長邊方向)與第1保護膜20之搬運方向(膜長邊方向)與剝離膜10之搬運方向(膜長邊方向)係平行。

本步驟中，係在偏光膜5之一面經由屬於水系接著劑層之第1接著劑層25(未示於圖5中)貼合第1保護膜20，並且在偏光膜5之另一面經由以揮發性液體50所構成之層來積層剝離膜10。第1保護膜20之貼合及剝離膜10之積層係可如圖5所示般藉由下述方式進行：將第1保護膜20、偏光膜5及剝離膜10以此等之長邊方向(搬運方向)成為平行之方式重疊並通過一對貼合輥40、40之間，藉此以貼合輥40、40從上下按壓積層的膜。

此時，藉由在通過貼合輥40、40間之前，使用注入裝置80、81而在偏光膜5與第1保護膜20之間注入水系接著劑55，並且在偏光膜5與剝離膜10之間注入揮發性液體50，藉此可使此等膜之間分別隔介存在有由水系接著劑55所構成之層(第1接著劑層25)、由揮發性液體50所構成之層。

又，用於使由水系接著劑55所構成之層(第1接著劑層25)及由揮發性液體50所構成之層隔介存在之裝置，並非限定於圖5所示之注入裝置80、81，亦可為例如因應水系接著劑55及揮發性液體50之黏度等而適宜選擇如刮刀法、線棒塗佈法、模塗法、逗號式塗佈機(comma coater，又稱刮刀式塗佈機)法、凹版塗佈法、浸塗法、澆鑄法等塗佈方式，將水系接著劑55及揮發性液體50塗佈在要重疊之至少一個膜的貼合面。

以往之單面保護偏光板的製造方法中，由於並未在偏光膜面隔介特殊層而直接積層剝離膜，因此，在製造單面保護偏光板之步驟中，有偏光膜容易破裂之問題。在偏光膜之一面經由水系接著劑層而貼合保護膜之情況下，為了獲得單面保護偏光板，需要有使水系接著劑層乾燥之步驟，惟在以往之製造方法中，尤其容易於該乾燥步驟發生偏光膜的破裂。

相對於此，依據在偏光膜5與剝離膜10之間隔介由揮發性液體50所構成之層而將剝離膜10積層於偏光膜5之本發明的製造方法，則即使在使由水系接著劑55所構成之層(第1接著劑層25)乾燥之步驟(第2步驟)中，亦可有效地抑制偏光膜5之破裂。此外，使偏光膜5與剝離膜10之間隔介由揮發性液體50所構成之層一事，亦具有在製造單面保護偏光板之步驟中抑制在單面保護偏光板產生皺褶之效果。

因為隔介之揮發性液體50可在使第1接著劑層25乾燥之步驟(第2步驟)中揮發，故本發明之製造方法中不需要另設用於揮發除去揮發性液體50之步驟。

當在偏光膜5貼合第1保護膜20時，在偏光膜5及/或第1保護膜20之貼合面，可為了使接著性提高而進行如電漿處理、電暈處理、紫外線照射處理、火焰(flame)處理、皂化處理等易接著處理。此等之中，較佳係進行電漿處理、電暈處理或皂化處理。例如，於第1保護膜20係由環狀聚烯烴系樹脂所構成之情況下，在第1保護膜20之貼合面可實施電漿處理和電暈處理。此外，於第1保護膜20係由纖維素酯系樹脂所構成之情況下，在第1保護膜20之貼合面可實施皂化處理。就皂化處理而言，可列舉浸漬在如氫氧化鈉和氫氧化鉀等鹼性水溶液中之方法。

〔偏光膜〕

偏光膜5可為在經單軸延伸之聚乙烯醇系樹脂膜中使二色性色素吸附定向者。關於構成聚乙烯醇系樹脂膜之聚乙烯醇系樹脂，可使用將聚乙酸乙烯酯系樹脂予以皂化而成者。就聚乙酸乙烯酯系樹脂而言，除了屬於乙酸乙烯酯的均聚物之聚乙酸乙烯酯以外，亦可例示乙酸乙烯酯與能夠和乙酸乙烯酯共聚合的其它 單體之共聚物。關於該能夠和乙酸乙烯酯共聚合之其它單體，可列舉例如：不飽和羧酸類、烯烴類、乙烯基醚類、不飽和磺酸類、具有銨基之(甲基)丙烯酸醯胺類等。

又，本說明書中，「(甲基)丙烯酸」係意指選自由丙烯酸及甲基丙烯酸之至少一者。記載「(甲基)丙烯醯基」及「(甲基)丙烯酸酯」等時亦為同樣定義。

聚乙烯醇系樹脂之皂化度可在80.0至100.0莫耳%之範圍，惟較佳係90.0至99.5莫耳%之範圍，更佳係94.0至99.0莫耳%之範圍。皂化度若未達80.0莫耳%，則獲得的單面保護偏光板之耐水性及耐濕熱性會降低。在使用皂化度超過99.5莫耳之聚乙烯醇系樹脂時，會有染色速度變慢、生產性降低、而且無法獲得具有充分的偏光性能之偏光膜5的情況。

皂化度係將在屬於聚乙烯醇系樹脂原料的聚乙酸乙烯酯系樹脂所含有的乙酸基(乙醯氧基：-OCOCH₃)因皂化步驟而轉變為羥基之比例以單位比(莫耳%)表示者，並以下述式定義之：

皂化度(莫耳%)=100×(羥基之數)/(羥基之數+乙酸基之數)。

皂化度可依據JIS K 6726(1994)而求出。皂化度越高，則顯示羥基之比例越高，因而顯示妨礙結晶化之乙酸基比例較低。

聚乙烯醇系樹脂之平均聚合度較佳係100至10000，更佳係1500至8000，再更佳係2000至5000。聚乙烯醇系樹脂之平均聚合度亦可依據JIS K 6726(1994)而求出。平均聚合度未達100時會難以獲得較佳的偏光性能，超過10000時則對溶媒之溶解性惡化而難以形成聚乙烯醇系樹脂膜。

偏光膜5可經由下述步驟而製造：將聚乙烯醇系樹脂膜進行單軸延伸之步驟；藉由將聚乙烯醇系樹脂膜以二色性色素染色而使二色性色素吸附之步驟；以硼酸水溶液處理吸附有二色性色素之聚乙烯醇系樹脂膜之步驟；以及藉由硼酸水溶液處理後進行水洗之步驟。

聚乙烯醇系樹脂膜係將上述聚乙烯醇系樹脂進行製膜而成者。製膜方法並無特別限定，可採用如熔融擠出法、溶劑澆注法等習知的方法。聚乙烯醇系樹脂膜之厚度係例如為1至150μm左右。

聚乙烯醇系樹脂膜之單軸延伸可以是在二色性色素之染色前進行、與染色同時進行、或在染色後進行。當在染色後進行單軸延伸之情況下，該單軸延伸可以是在硼酸處理之前或硼酸處理中進行。此外，亦可在此等之複數個階段中進行單軸延伸。

在單軸延伸時，可以是於轉速相異之輥間在單軸進行延伸，亦可使用熱輥而在單軸進行延伸。此外，單軸延伸可為在大氣中進行延伸的乾式延伸，亦可為使用溶劑並在已使聚乙烯醇系樹脂膜膨潤之狀態下進行延伸的濕式延伸。延伸倍率通常為3至8倍左右。

將聚乙烯醇系樹脂膜以二色性色素進行染色的方法，係可採用例如將聚乙烯醇系樹脂膜浸漬在含有二色性色素之水溶液(染色溶液)中的方法。聚乙烯醇系樹脂膜較佳係在染色處理之前實施浸漬於水之處理(膨潤處理)。

偏光膜5中所含有(吸附定向)的二色性色素可為碘或二色性有機染料。在使用碘作為二色性色素之情況下，通常係採用將聚乙烯醇系樹脂膜浸漬在含有碘及碘化鉀之水溶液中並進行染色的方法。此染色水溶液中之碘含量通常係相對於每100重量份水而為0.01至1重量份左右。此外，碘化鉀之含量通 常係相對於每100重量份水而為0.5至20重量份左右。染色水溶液之溫度通常係20至40℃左右。此外，浸漬於染色水溶液之時間(染色時間)通常係20至1800秒左右。

另一方面，在使用二色性有機染料作為二色性色素之情況下，通常係採用將聚乙烯醇系樹脂膜浸漬在包含水溶性之二色性有機染料的染色水溶液中並進行染色的方法。染色水溶液中之二色性有機染料的含量通常係相對於每100重量份水而為1×10^-4至10重量份左右，較佳係1×10^-3至1重量份左右。此染色水溶液可含有硫酸鈉等無機鹽作為染色助劑。染色水溶液之溫度通常係20至80℃左右。此外，浸漬於染色水溶液之時間(染色時間)通常係10至1800秒左右。

在以二色性色素染色後之硼酸處理，係可藉由將經染色的聚乙烯醇系樹脂膜浸漬在含硼酸之水溶液中而進行。

在含硼酸之水溶液中之硼酸的量，通常係相對於每100重量份水而為2至15重量份左右，較佳係5至12重量份。在使用碘作為二色性色素之情況下，此含硼酸之水溶液較佳係含有碘化鉀。在含硼酸之水溶液中之碘化鉀之量，通常係相對於每100重量份水而為0.1至15重量份左右、較佳係5至12重量份左右。在含硼酸之水溶液之浸漬時間通常係60至1200秒左右，較佳係150至600秒左右，更佳係200至400秒左右。含硼酸之水溶液之溫度通常係50℃以上，較佳係50至85℃，更佳係60至80℃。

硼酸處理後之聚乙烯醇系樹脂膜通常會進行水洗處理。水洗處理可藉由例如將經硼酸處理之聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於水而進行。水洗處理中之水的溫度通常係1至40℃左右。此外，浸漬時間通常係1至120秒左右。

水洗後係實施乾燥處理而獲得偏光膜5。乾燥處理的方法係有吹附熱風之方法、與熱輥接觸之方法、以IR加熱器進行加熱之方法等各種方法，可適宜使用任意者。就因為乾燥效率提升而可縮短乾燥時間、並且能夠抑制膜之寬度方向的收縮而寬幅化等之觀點而言，係以與熱輥接觸而乾燥之方法為合適。又，在吹附熱風之方法和如IR加熱器等設置乾燥爐之乾燥設備之情況下，乾燥步驟中之乾燥溫度係意指乾燥爐內之環境溫度；在為如熱輥等接觸型之乾燥設備之情況下，乾燥溫度係意指熱輥之表面溫度。乾燥處理之溫度通常係30至100℃左右，較佳係50至80℃。乾燥處理之時間通常係60至600秒左右，較佳係120至600秒。

藉由乾燥處理，使偏光膜5之水分率係減低至實用程度。其水分率通常調整成5至45重量%，更佳係調整成8至40重量%。在低於5重量%之情況下，有偏光膜5喪失可撓性並且偏光膜5在該乾燥後有損傷、破裂之情況，在高於45重量%之情況下，則變得難以充分地顯現與保護膜之密著性，且容易發生外觀不良和膜於產線中破裂而污染步驟之問題。

偏光膜5之厚度通常係1至40μm左右，較佳係2至20μm，更佳係2至10μm。就偏光板之薄膜化之觀點而言，偏光膜5之厚度係以越薄為較佳，惟通常來說，偏光膜5之厚度若是變薄，則因在偏光膜5產生之凹痕所引起的外觀不良會容易變得明顯。依據本發明，即使在使用厚度較薄之偏光膜之情況下，亦可抑制在偏光板發生的外觀不良。

〔第1保護膜〕

第1保護膜20可為由熱可塑性樹脂所構成之透明樹脂膜，該熱塑性樹脂可舉例如：如鏈狀聚烯烴系樹脂(聚丙烯系樹脂等)、環狀聚烯烴系樹脂(降莰烯系樹 脂等)等聚烯烴系樹脂；如三乙酸纖維素、二乙酸纖維素等纖維素酯系樹脂；如聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯等聚酯系樹脂；聚碳酸酯系樹脂；如聚甲基丙烯酸甲酯系樹脂等(甲基)丙烯酸系樹脂；或此等之混合物、共聚物等。

鏈狀聚烯烴系樹脂可列舉如聚乙烯樹脂、聚丙烯樹脂等鏈狀烯烴之均聚物以及由2種以上之鏈狀烯烴所構成之共聚物。更具體之例係包含：聚丙烯系樹脂(屬於丙烯之均聚物的聚丙烯樹脂、及以丙烯作為主體的共聚物)、聚乙烯系樹脂(屬於乙烯之均聚物的聚乙烯樹脂、及以乙烯作為主體的共聚物)。

環狀聚烯烴系樹脂係以環狀烯烴作為聚合單位聚合而成的樹脂之統稱，係可列舉例如日本特開平1-240517號公報、日本特開平3-14882號公報、日本特開平3-122137號公報等所記載之樹脂。環狀聚烯烴系樹脂之具體例可列舉：環狀烯烴之開環(共)聚合物，環狀烯烴之加成聚合物，環狀烯烴與如乙烯、丙烯等鏈狀烯烴之共聚物(代表性者為無規共聚物)，及將此等以不飽和羧酸或其衍生物改質後的接枝聚合物，以及此等之氫化物等。其中，較佳係使用採用了降莰烯和多環降莰烯系單體等降莰烯系單體作為環狀烯烴的降莰烯系樹脂。

纖維素酯系樹脂係纖維素與脂肪酸之酯。纖維素酯系樹脂之具體例包含：三乙酸纖維素(cellulose triacetate)、二乙酸纖維素、三丙酸纖維素、二丙酸纖維素。此外，亦可使用此等之共聚物、和羥基之一部分經其它取代基修飾者。此等之中，特佳係三乙酸纖維素(三乙醯纖維素：Triacetylcellulose，TAC)。

聚酯系樹脂係具有酯鍵之樹脂，一般而言係由多元羧酸或其衍生物與多元醇之縮聚物所構成。多元羧酸或其衍生物可使用2元之二羧酸或其衍生物，可列舉例如對苯二甲酸、間苯二甲酸、對苯二甲酸二甲酯、萘二羧酸二甲 酯等。多元醇可使用2元之二醇，可列舉例如乙二醇、丙二醇、丁二醇、新戊二醇、環己烷二甲醇等。適合之聚酯系樹脂之例子係包含聚對苯二甲酸乙二酯。

聚碳酸酯系樹脂係由「經由碳酸酯基而鍵結有單體單位的聚合物」所構成之工程塑膠(engineering plastic)，其為具有高耐衝撃性、耐熱性、阻燃性、透明性的樹脂。聚碳酸酯系樹脂可為：為了降低光彈性係數而修飾聚合物骨架之被稱為經改質之聚碳酸酯的樹脂、和經改良波長依賴性的共聚合聚碳酸酯等。

(甲基)丙烯酸系樹脂係以具有(甲基)丙烯醯基之化合物作為主要構成單體的樹脂。(甲基)丙烯酸系樹脂之具體例係包含例如：如聚甲基丙烯酸甲酯等聚(甲基)丙烯酸酯；甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸共聚物；甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸酯共聚物；甲基丙烯酸甲酯-丙烯酸酯-(甲基)丙烯酸共聚物；(甲基)丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚物(MS樹脂等)；甲基丙烯酸甲酯與具有脂環族烴基之化合物的共聚物(例如甲基丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸環己酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸降莰酯共聚物等)。較佳係使用以如聚(甲基)丙烯酸甲酯等聚(甲基)丙烯酸C_1-6烷基酯作為主成分的聚合物，更佳係使用以甲基丙烯酸甲酯作為主成分(50至100重量%、較佳係70至100重量%)的甲基丙烯酸甲酯系樹脂。

第1保護膜20亦可為如相位差膜、增亮膜等兼具光學功能之保護膜。例如，將由上述材料所構成之透明樹脂膜進行延伸(單軸延伸或二軸延伸等)、或在該膜上形成液晶層等，藉此可獲得經賦予任意的相位差值之相位差膜。

在第1保護膜20之與偏光膜5相反側表面，亦可形成如硬塗層、防眩層、抗反射層、抗靜電層、防污層等表面處理層(塗覆層)。在保護膜表面形成表面處理層之方法並無特別限定，可使用習知的方法。

第1保護膜20之厚度較佳係1至90μm以下，更佳係1至60μm，再更佳係1至50μm。

第1保護膜及後述剝離膜之至少一者之透濕度較佳係400g/m²‧24hr以上。第1保護膜20之透濕度較佳係400g/m²‧24hr以上、更佳係420g/m²‧24hr以上。透濕度在該範圍時，因為在之後的第2步驟中可使由水系接著劑55所構成之層有效率地乾燥，故可提高生產性。此外，剝離膜之透濕度為400g/m²‧24hr以上之情況下，第1保護膜之透濕度可為未達400g/m²‧24hr，亦可為100g/m²‧24hr以下。

〔水系接著劑〕

形成第1接著劑層25之水系接著劑55，係使接著劑成分溶解在水中而成者或使接著劑成分分散於水中而成者。較適用的水系接著劑係例如使用聚乙烯醇系樹脂或胺甲酸乙酯樹脂作為主成分的接著劑組成物。由水系接著劑所形成的第1接著劑層25之厚度通常係10nm至1μm以下。

在使用聚乙烯醇系樹脂作為接著劑之主成分之情況下，就該聚乙烯醇系樹脂而言，除了可為部分皂化聚乙烯醇、完全皂化聚乙烯醇以外，亦可為如經羧基改質之聚乙烯醇、經乙醯乙醯基改質之聚乙烯醇、經羥甲基改質之聚乙烯醇、經胺基改質之聚乙烯醇等經改質的聚乙烯醇系樹脂。就聚乙烯醇系樹脂而言，除了可為將屬於乙酸乙烯酯之均聚物的聚乙酸乙烯酯進行皂化處理而得的乙烯醇均聚物以外，亦可為將乙酸乙烯酯與能夠和乙酸乙烯酯共聚合的其它單體之共聚物進行皂化處理而得的聚乙烯醇系共聚物。

以聚乙烯醇系樹脂作為接著劑成分之水系接著劑，通常係聚乙烯醇系樹脂的水溶液。接著劑中之聚乙烯醇系樹脂的濃度，相對於水100重量份，通常係1至10重量份，較佳係1至5重量份。

在由聚乙烯醇系樹脂之水溶液所構成之接著劑中，為了提升接著性，較佳係添加如多元醛(polyaldehyde)、三聚氰胺系化合物、氧化鋯化合物、鋅化合物、乙二醛、水溶性環氧樹脂等硬化性成分和交聯劑。水溶性環氧樹脂可適宜使用例如使聚醯胺基胺與環氧氯丙烷反應而得的聚醯胺聚胺環氧樹脂，前述聚醯胺基胺係由二伸乙三胺、三伸乙四胺等聚伸烷基多胺與己二酸等二羧酸反應而得者。這種聚醯胺聚胺環氧樹脂之市售品可列舉「Sumirez Resin 650」(田岡化學工業股份有限公司製)、「Sumirez Resin 675」(田岡化學工業股份有限公司製)、「WS-525」(日本PMC股份有限公司製)等。此等硬化性成分及交聯劑之添加量(於硬化性成分及交聯劑均添加之情況下，為硬化性成分及交聯劑之總量)，相對於聚乙烯醇系樹脂100重量份，通常係1至100重量份，較佳係1至50重量份。在上述硬化性成分及交聯劑之添加量相對於聚乙烯醇系樹脂100重量份若未達1重量份之情況下，則有著使接著性提高效果變小之傾向，此外，在上述硬化性成分及交聯劑之添加量相對於聚乙烯醇系樹脂100重量份超過100重量份之情況下，則有著使接著劑層變脆弱之傾向。

此外，在使用胺甲酸乙酯樹脂作為接著劑之主成分之情況下，適當之接著劑組成物之例子可列舉聚酯系離子聚合物型胺甲酸乙酯樹脂與具有縮水甘油氧基之化合物的混合物。聚酯系離子聚合物型胺甲酸乙酯樹脂係指具有聚酯骨架之胺甲酸乙酯樹脂，且為於其中導入有少量離子性成分(親水成分)者。 因為該離子聚合物型胺甲酸乙酯樹脂係不使用乳化劑而直接在水中乳化成為乳液，因而適合作為水系接著劑。

〔剝離膜〕

剝離膜10係在積層於偏光膜5後於所期望之時機能夠剝離的膜。「能夠剝離」係意指可在不破壞或損傷偏光膜5及剝離膜10之情況下將偏光膜5與剝離膜10分離。

有鑑於處理性、透明性、低價性等，剝離膜10可為由下列者所構成之透明樹脂膜：如聚乙烯系樹脂、聚丙烯系樹脂等鏈狀聚烯烴系樹脂；三乙酸纖維素、二乙酸纖維素等纖維素酯系樹脂；如聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯等聚酯系樹脂；如聚甲基丙烯酸甲酯系樹脂等(甲基)丙烯酸系樹脂；或此等之混合物、共聚物等。亦可使用由此等之1種或2種以上成形為單層或多層狀之膜作為剝離膜10。其中，可適宜使用由聚對苯二甲酸乙二酯、三乙酸纖維素、聚甲基丙烯酸甲酯系樹脂所構成之膜。

偏光膜5與剝離膜10之間的剝離力係例如0.01N/25mm至2.0N/25mm，較佳係0.01N/25mm至0.5N/25mm。剝離力在0.01N/25mm以上時，可防止偏光膜5與剝離膜10之局部性剝離。剝離力在2.0N/25mm以下時，於後述第3步驟中容易將剝離膜10從偏光膜5剝離。

上述剝離力係藉由下述方式而求出：將積層有剝離膜10的單面保護偏光板裁切成寬度25mm而取得測定樣品，使用島津製作所股份有限公司製之精密萬能試驗機「Autograph AGS-50NX」抓持測定樣品之剝離膜10與單面保護偏光板，測定在180°方向剝離時之力。剝離力之測定係在剝離速度300mm/分鐘、溫度23±2℃、相對濕度50±5%之環境下進行。

剝離膜10之厚度係例如5至100μm左右，較佳係10至80μm左右，更佳係10至60μm。

剝離膜10之透濕度較佳係400g/m²‧24hr以上，更佳係420g/m²‧24hr以上，再更佳係450g/m²‧24hr以上，又再更佳係500g/m²‧24hr以上。透濕度在該範圍時，可在後述第2步驟中有效地使揮發性液體50揮發除去，因而可防止因乾燥不良所致之光學特性劣化和外觀不良等品質方面的不良狀況。

剝離膜10在80℃加熱5分鐘後之收縮率(加熱收縮率)較佳係0.15%以下，更佳係0.1%以下。當剝離膜10之加熱收縮率大時，在第2步驟之加熱處理中於剝離膜10會變得容易產生皺褶，隨之，在單面保護偏光板會變得容易產生皺褶。加熱收縮率在上述範圍內之樹脂材料之例子係包含：聚對苯二甲酸乙二酯、三乙酸纖維素、聚甲基丙烯酸甲酯系樹脂。「加熱收縮率係0.15%以下」係意指MD收縮率及TD收縮率這兩者係0.15%以下。

將剝離膜10之偏光膜5側表面之對於揮發性液體50的接觸角設為50至80°、較佳係設為50至75°時，偏光膜5與剝離膜10之間的剝離力係成為上述範圍內之適度者，就可較容易剝離剝離膜10之觀點而言乃屬有利。同理，偏光膜5之剝離膜10側表面之對於揮發性液體50之接觸角較佳係50至110°，更佳係50至100°。接觸角可依據例如用以下之方法測定。將待測對象面(偏光膜之剝離膜側表面或剝離膜之偏光膜側表面)設為外側，將偏光膜或剝離膜使用黏著劑貼合在玻璃基板，以作為測定樣品。以使待測對象表面成為上表面之方式，將測定樣品以水平方式設置在接觸角計(協和界面科學股份有限公司製之圖像處理式接觸角計：FACE CA-X型)，在待測對象表面滴下1μL之揮發性液體，測定對於揮發性液體的接觸角。

剝離膜10可在偏光膜5側表面形成塗覆層。藉由在剝離膜10之表面形成塗覆層，可容易地獲得表面粗糙度小的剝離膜。由於在剝離膜表面容易附著有由剝離膜所致的微小異物(添加物和膜屑等)，故可能成為使偏光膜表面產生凹痕的原因，惟可藉由以塗覆層覆蓋此等異物，來抑制偏光膜表面之凹痕。此外，形成有塗覆層的剝離膜10，其與偏光膜5之間的剝離力良好，該剝離力係例如0.01N/25mm至2.0N/25mm，較佳係0.05N/25mm至0.5N/25mm。塗覆層可形成於剝離膜之兩面。

塗覆層係例如紫外線硬化型樹脂之硬化層。紫外線硬化型樹脂可列舉例如：(甲基)丙烯酸系樹脂、聚矽氧系樹脂、聚酯系樹脂、胺甲酸乙酯系樹脂、醯胺系樹脂、環氧系樹脂等。為了使硬度提高，塗覆層亦可包含添加劑。添加劑並無限定，可列舉無機系微粒子、有機系微粒子或此等之混合物。

剝離膜之塗覆層之厚度較佳係1μm以上30μm以下，更佳係1μm以上20μm以下，再更佳係1μm以上15μm以下。塗覆層之厚度在1μm以上時，容易抑制因上述剝離膜之異物所引起的偏光膜表面之凹痕。由於塗覆層過厚時透濕度容易降低，因此，就獲得屬於透濕度良好之剝離膜之觀點而言，塗覆層之厚度較佳係30μm以下。

〔揮發性液體〕

於偏光膜5與剝離膜10之間隔介存在的揮發性液體50，係可藉由第2步驟之加熱處理而揮發的液體，較佳係不對偏光膜5造成負面影響的液體。若不會造成負面影響，則可添加抗靜電劑。本發明中能夠使用的揮發性液體50之例子係可列舉例如：水、及水與親水性液體之混合物等。親水性液體係以在第2步驟之 加熱處理後不會殘留者為較佳，可列舉例如：甲醇、乙醇、1-丁醇、四氫呋喃、丙酮、乙腈、N,N-二甲基甲醯胺、二甲基亞碸、甲酸、乙酸等。

(2)第2步驟

本步驟係藉由加熱而使屬於水系接著劑層之第1接著劑層25乾燥並並且將揮發性液體50揮發除去之步驟。藉由此加熱處理，剝離膜10係以適度的密著力而直接積層在偏光膜5之表面。

參照圖5，上述加熱處理係可藉由將已通過貼合輥40、40間且由第1保護膜20、偏光膜5及剝離膜10所構成之積層膜導入至乾燥裝置70而進行。藉此，能夠獲得附剝離膜之單面保護偏光板2。乾燥裝置70並無特別限制，可使用熱風乾燥機和遠紅外線加熱器等。

乾燥溫度較佳係30至90℃。當未達30℃時，獲得的附剝離膜之單面保護偏光板2中，第1保護膜20會有容易從偏光膜5剝離之傾向。此外，當乾燥溫度超過90℃時，則會有偏光膜5之偏光性能因熱而惡化之虞。乾燥時間可設為10至1000秒左右，就生產性之觀點而言，較佳係60至750秒，更佳係150至600秒。

(3)其它步驟

上述第2步驟後，可於室溫以上之溫度實施至少半天(通常係數天以上)之熟化(aging)，以獲得充分的接著強度。就該熟化而言，典型上係在捲成捲輪狀之狀態下進行。較佳之熟化溫度係30至50℃之範圍，更佳係35至45℃。當熟化溫度超過50℃時，則在捲輪狀捲起之狀態下會容易發生所謂的「捲緊」。又，熟化時之濕度並無特別限定，惟較佳係以相對濕度成為0至70%RH左右之範圍的方式來選擇。熟化時間通常係1至10天左右，較佳係2至7天左右。

在上述第2步驟後，設置「將剝離膜10從附剝離膜之單面保護偏光板2之偏光膜5中剝離除去的第3步驟」及「在偏光膜5之積層有剝離膜10之面積層黏著劑層30的第4步驟」，亦可作成圖3所示之附黏著劑層之單面保護偏光板3。該黏著劑層30可用於將單面保護偏光板貼合於液晶單元。

黏著劑層30所用之黏著劑係可使用以往習知之適宜的黏著劑，可列舉例如：(甲基)丙烯酸系黏著劑、胺甲酸乙酯系黏著劑、聚矽氧系黏著劑、聚酯系黏著劑、聚醯胺系黏著劑、聚醚系黏著劑、氟系黏著劑、橡膠系黏著劑等。其中，就透明性、黏著力、可靠性、重工(rework)性等之觀點而言，較佳係使用(甲基)丙烯酸系黏著劑。就黏著劑層30而言，除了可藉由將黏著劑例如以有機溶劑溶液之型態使用且將其藉由模塗佈器及凹版塗佈器等而塗佈在偏光膜5上並使其乾燥之方法來設置以外，亦可藉由將在經實施脫模處理之塑膠膜(稱為分離膜)上所形成的片狀黏著劑轉印至偏光膜5之方法來設置。無論使用哪種方法，較佳係在黏著劑層30之表面貼附分離膜。黏著劑層30之厚度可為例如2至40μm。

或者，就取代設置上述第4步驟而言，亦可藉由在偏光膜5之積層有剝離膜10之面經由第2接著劑層26而貼合第2保護膜21以獲得雙面保護偏光板4。第2接著劑層26可為與第1接著劑層25相同的水系接著劑層，亦可為由其它接著劑所構成之層。其它接著劑可列舉能夠藉由如紫外線、可見光、電子射線、X射線等活性能量射線之照射而硬化的活性能量射線硬化性接著劑。此時，第2接著劑層26係該接著劑之硬化物層。

第2保護膜21亦可為如相位差膜、增亮膜等兼具光學功能的保護膜。雙面保護偏光板4可使用積層在第1保護膜20或第2保護膜21之外表面的黏著劑層30而貼合於液晶單元。

其中，關於形成第2接著劑層26之接著劑，更佳係使用以藉由陽離子聚合而硬化之環氧系化合物作為硬化性成分的活性能量射線硬化性接著劑，再更佳係以該環氧系化合物作為硬化性成分的紫外線硬化性接著劑。在此所謂的環氧系化合物，係意指在分子內具有平均1個以上(較佳係2個以上)之環氧基的化合物。環氧系化合物可僅單獨使用1種，亦可併用2種以上。

可適合使用之環氧系化合物之例子包含：使脂環式多元醇與環氧氯丙烷反應而得的氫化環氧系化合物(具有脂環式環之多元醇的縮水甘油醚)，其中，前述脂環式多元醇係藉由在芳香族多元醇之芳香環進行氫化反應而得者；脂肪族環氧系化合物，例如脂肪族多元醇或其環氧烷加成物之聚縮水甘油醚等；脂環式環氧系化合物，其係於分子內具有1個以上之鍵結於脂環式環之環氧基的環氧系化合物。

活性能量射線硬化性接著劑亦可更含有「自由基聚合性之(甲基)丙烯酸系化合物」作為硬化性成分。(甲基)丙烯酸系化合物可列舉：在分子內具有至少1個(甲基)丙烯醯氧基之(甲基)丙烯酸酯單體；在分子內具有至少2個(甲基)丙烯醯氧基之(甲基)丙烯酸酯低聚物等含(甲基)丙烯醯氧基之化合物，其係使2種以上的含官能基之化合物進行反應而得者。

在活性能量射線硬化性接著劑包含「藉由陽離子聚合而硬化的環氧系化合物」作為硬化性成分之情況下，較佳係含有光陽離子聚合起始劑。光陽離子聚合起始劑可列舉例如：芳香族重氮鹽；芳香族錪鹽及芳香族鋶鹽等鎓鹽； 鐵-芳烴錯合物等。此外，在活性能量射線硬化性接著劑含有如(甲基)丙烯酸系化合物等自由基聚合性硬化性成分之情況下，較佳係含有光自由基聚合起始劑。光自由基聚合起始劑可列舉例如：苯乙酮系起始劑、二苯基酮系起始劑、安息香醚系起始劑、9-氧硫雜蒽酮(thioxanthone)系起始劑、氧雜蒽酮(xanthone)、茀酮、樟腦醌、苯甲醛、蒽醌(anthraquinone)等。

在使用活性能量射線硬化性接著劑之情況下，實施使由該活性能量射線硬化性接著劑所構成之接著劑層硬化的硬化步驟。該接著劑層之硬化係可藉由照射活性能量射線進行。活性能量射線較佳係紫外線。

活性能量射線之光源並無特別限定，較佳係在波長400nm以下具有發光分布的活性能量射線，具體而言，較佳係使用低壓汞燈、中壓汞燈、高壓汞燈、超高壓汞燈、化學燈、黑光燈、微波激發汞燈、金屬鹵素燈等。

對由活性能量射線硬化性接著劑所構成之接著劑層的活性能量射線照射強度，係依據接著劑之組成而適宜決定，較佳係以使在聚合起始劑之活性化為有效的波長區域之照射強度成為0.1至6000mW/cm²之方式來設定。在照射強度為0.1mW/cm²以上之情況下，反應時間不會太長，在為6000mW/cm²以下之情況下，發生由從光源射出的熱及接著劑之硬化時的發熱所致之接著劑層的黃化和偏光膜5之劣化的疑慮較少。

針對活性能量射線之照射時間，係依據接著劑之組成而適宜決定，惟較佳係將由上述照射強度與照射時間之乘積表示的累積光量成為10至10000mJ/cm²之方式來設定。在累積光量為10mJ/cm²以上之情況下，可使源自聚合起始劑之活性物種產生充分量而更確實地進行硬化反應；在累積光量為10000mJ/cm²以下之情況下，照射時間不會太長，可維持良好的生產性。

針對第2保護膜21之材質及結構，係引用針對第1保護膜20所述之內容。第1保護膜20與第2保護膜21可為同種類之膜，亦可為不同種類之膜。

<單面保護偏光板>

本發明之一實施型態的單面保護偏光板1係具有：偏光膜5、與貼合在偏光膜5之一面的保護膜20。偏光膜5之與保護膜20相反側表面之JIS B0601-2001規定之最大高度Rz為60nm以下，較佳係50nm以下，更佳係30nm以下，再更佳係20nm以下。最大高度Rz可超過0nm，亦可為5nm以上。如此之單面保護偏光板係外觀不良受到抑制。單面保護偏光板可依據上述偏光板的製造方法進行製造。

本發明之一實施型態的單面保護偏光板1係具有：偏光膜5、與貼合在偏光膜5之一面的保護膜20。於偏光膜5之與保護膜20相反側表面，寬度為0.5mm以上2.0mm以下且深度為0.1μm以上1.0μm以下之凹痕為10個/m²以下，更佳係5個/m²以下。凹痕之密度可超過0個/m²，亦可為1個/m²以上。如此之單面保護偏光板係外觀不良受到抑制。單面保護偏光板可依據上述偏光板的製造方法來進行製造。凹痕之寬度係指偏光膜之面方向之長度的最大值。凹痕之深度係指從偏光膜表面算起之深度(與偏光膜垂直的方向之長度)的最大值。

[實施例]

以下，列舉實施例以更詳細地說明本發明，惟本發明並非限定於此等者。實施例中之透濕度、厚度、剝離力及表面粗糙度係依據以下之方法測定。

(1)保護膜及剝離膜之透濕度

依據JIS Z0208-1976，測定在40℃之透濕度(g/m²‧24hr)。

(2)層之厚度

膜之厚度係使用接觸式膜厚測定裝置(Nikon股份有限公司製：MS-5C)測定。接著劑層之厚度係使用雷射顯微鏡(奧林巴斯股份有限公司製：OLS3000)測定。

(3)偏光膜與剝離膜之間的剝離力

剝離力係藉由下述方式求出：將積層有剝離膜之單面保護偏光板裁切成寬度25mm而取得測定樣品，使用島津製作所股份有限公司製之精密萬能試驗機「Autograph AGS-50NX」抓持測定樣品之剝離膜與單面保護偏光板，測定在180°方向剝離時之力。剝離力之測定係在剝離速度300mm/分鐘、溫度23±2℃、相對濕度50±5%之環境下進行。

(4)表面粗糙度

偏光膜及剝離膜之表面粗糙度(JIS B0601-2001規定之最大高度Rz)係使用原子力顯微鏡(AFM，島津製作所股份有限公司製：SPM-9700HT)測定。

(5)偏光膜表面之凹凸的測定

使用光學顯微鏡(Keyence股份有限公司製：型號VHX-6000)，測定在偏光膜表面所存在之寬度0.5mm至2.0mm且深度0.1μm至1.0μm的凹痕之數目。

<實施例1>

(A)偏光膜之製作

將平均聚合度約2400、皂化度99.9莫耳%以上且厚度20μm之聚乙烯醇膜以乾式方式進行單軸延伸至約4倍，並進一步在保持緊繃之狀態下浸漬於40℃之純水中1分鐘後，在碘/碘化鉀/水之重量比為0.1/5/100之水溶液中以28℃浸漬60秒。其後，在碘化鉀/硼酸/水之重量比為10.5/7.5/100之水溶液中以68℃浸 漬300秒。繼而，以5℃之純水洗滌5秒後，以70℃乾燥180秒，獲得在經單軸延伸之聚乙烯醇膜中吸附定向有碘的偏光膜。偏光膜之厚度為8μm。偏光膜之剝離膜側表面的接觸角為50°。

(B)水系接著劑之調製

將聚乙烯醇粉末(Kuraray股份有限公司製之商品名「KL-318」，平均聚合度1800)溶解在95℃之熱水中，調製出濃度3重量%之聚乙烯醇水溶液。在獲得的水溶液中以相對於聚乙烯醇粉末2重量份而為1重量份之比例混合交聯劑(田岡化學工業股份有限公司製之商品名「Sumirez Resin 650」)，以作為水系接著劑。

(C)保護膜

保護膜係使用厚度27μm之環狀聚烯烴系樹脂(COP)膜。保護膜之透濕度為5.5g/m²‧24hr。

(D)剝離膜

剝離膜係使用在厚度42μm之三乙酸纖維素(TAC)膜上具有厚度4μm之由甲基丙烯酸系樹脂硬化物所構成之塗覆層的膜(HC-TAC)。剝離膜之透濕度為540g/m²‧24hr。剝離膜之偏光膜側表面的接觸角為70°。

(E)附剝離膜之單面保護偏光板及單面保護偏光板之製作

使用與圖5所示之偏光板製造裝置相同的裝置，依據下述程序製作附剝離膜之單面保護偏光板。連續地搬運上述(A)所得的偏光膜，並且從保護膜之捲輪連續地捲出保護膜，而且，從剝離膜之捲輪連續地捲出剝離膜。其次，在偏光膜與保護膜之間注入上述(B)所得的水系接著劑，並且在偏光膜與剝離膜之間注入純水，通過貼合輥40、40間而作成由保護膜/水系接著劑層/偏光膜/純水/剝離膜所構成之積層膜(第1步驟)。繼而，搬運積層膜，通過乾燥裝置70，進行80℃、 300秒之加熱處理，藉此而使水系接著劑層乾燥，並且使隔介存在於偏光膜與剝離膜之間的純水揮發除去，獲得附剝離膜之單面保護偏光板(第2步驟)。水系接著劑層之厚度為75nm。將剝離膜從偏光膜剝離除去，獲得單面保護偏光板(第3步驟)。

在附剝離膜之單面保護偏光板之製造中，並未產生偏光膜之破裂及偏光板之皺褶。將在製造實施例1之偏光板時所用的偏光膜、保護膜及剝離膜之厚度、剝離力及表面粗糙度之測定結果列示於表1。

<比較例1及比較例2>

除了變更剝離膜之種類以外，係以與實施例1相同的方法來製作比較例1及比較例2之單面保護偏光板。比較例1係使用無塗覆層之厚度60μm的TAC膜作為剝離膜。比較例2係使用無塗覆層之厚度25μm的TAC膜作為剝離膜。將保護膜及剝離膜之厚度、剝離力及表面粗糙度之測定結果列示於表1。比較例1所使用的剝離膜之偏光膜側表面的接觸角為65°。比較例2所使用的剝離膜之偏光膜側表面的接觸角為65°。

針對所製造的單面保護偏光板，測定與保護膜相反側之偏光膜表面之最大高度及偏光膜表面之凹痕。將結果示於表1。

表1

相較於比較例1及比較例2之單面保護偏光板，實施例1所製造的單面保護偏光板係抑制了與保護膜相反側的偏光膜表面的凹痕。實施例1及比較例1之單面保護偏光板中，將剝離了剝離膜後的表面以原子力顯微鏡(島津製作所股份有限公司製：SPM-9700HT)觀察到的圖像係分別示於圖6及圖7。

<參考例1>

除了變更剝離膜之種類以外，係以與實施例1相同的方法來製造參考例1之單面保護偏光板。參考例1係使用無塗覆層之厚度為60μm之聚甲基丙烯酸甲酯系樹脂(PMMA)膜作為剝離膜。該剝離膜之透濕度為60g/m²‧24hr。

相較於參考例1之單面保護偏光板，實施例1所製造的單面保護偏光板係光學特性良好。亦即，將實施例1所製造的單面保護偏光板與參考例1 之單面保護偏光板相比時，在以相同穿透率進行比較之情況下，實施例1所製造的單面保護偏光板之偏光度為較高。推測是因為相較於參考例1之剝離膜，實施例1之剝離膜具有較高的透濕度之故。

1:單面保護偏光板

5:偏光膜

20:第1保護膜

25:第1接著劑層

Claims (12)

1. 一種偏光板的製造方法，係包含：

   第1步驟，係在偏光膜之一面經由水系接著劑層而貼合保護膜，並且在前述偏光膜之另一面經由揮發性液體而積層剝離膜；及

   第2步驟，係藉由加熱使前述水系接著劑層乾燥，並且使前述揮發性液體揮發；

   其中，前述剝離膜的偏光膜側表面之JIS B0601-2001規定的最大高度Rz為70nm以下。
2. 如請求項1所述之偏光板的製造方法，其中，前述剝離膜係在偏光膜側表面形成有塗覆層。
3. 如請求項2所述之偏光板的製造方法，其中，前述剝離膜之塗覆層的厚度為30μm以下。
4. 如請求項2或3所述之偏光板的製造方法，其中，前述剝離膜之塗覆層係由(甲基)丙烯酸系樹脂之硬化物所構成。
5. 如請求項1至4中任一項所述之偏光板的製造方法，其中，前述保護膜及前述剝離膜之至少一者之透濕度為400g/m²‧24hr以上。
6. 如請求項1至5中任一項所述之偏光板的製造方法，其中，前述水系接著劑層之厚度為10nm以上1μm以下。
7. 如請求項1至6中任一項所述之偏光板的製造方法，其中，前述保護膜之厚度為1μm以上90μm以下。
8. 如請求項1至7中任一項所述之偏光板的製造方法，其中，前述偏光膜之厚度為1μm以上40μm以下。
9. 如請求項1至8中任一項所述之偏光板的製造方法，其更包含：第3步驟，係將前述剝離膜從前述偏光膜剝離。
10. 如請求項9所述之偏光板的製造方法，其中，前述第3步驟中，前述偏光膜與前述剝離膜之間的剝離力為0.01N/25mm以上2.0N/25mm以下。
11. 一種單面保護偏光板，係具有：偏光膜、與貼合在前述偏光膜之一面的保護膜；

    其中，前述偏光膜的與前述保護膜相反側表面之JIS B0601-2001規定的最大高度Rz為60nm以下。
12. 一種單面保護偏光板，係具有：偏光膜、與貼合在前述偏光膜之一面的保護膜；

    其中，於前述偏光膜的與前述保護膜相反側表面，寬度為0.5mm以上2.0mm以下且深度為0.1μm以上1.0μm以下之凹痕為10個/m²以下。

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