TW202111400A - 背光單元及顯示裝置 - Google Patents

Abstract

[課題]提供一種背光單元及顯示裝置，在製造步驟上可簡便地構成，且輝度不均抑制性及其再現性優異。 [解決手段]一種背光單元1，其具備：具有多個發光體32的背光30、與積層於背光30的複合型黏著劑層20，複合型黏著劑層20具有：含有光擴散微粒的光擴散黏著劑層21、與不含有光擴散微粒的透明黏著劑層22，透明黏著劑層22位於背光30側。

Description

背光單元及顯示裝置

本發明係關於顯示裝置、及能使用於顯示裝置等的背光單元者。

在近年來的攜帶電話機、智慧型手機、平板終端（tablet terminator）、遊戲機等電子設備中，作為顯示裝置（顯示器），大多使用液晶顯示裝置。由液晶面板等所構成的顯示部，因其不會自體發光，故使用此顯示部的顯示裝置具備照明該顯示部的背光。

至今，作為在如上述般的顯示裝置中之背光的光源的配置方式，一般為將光源配置在導光板的側部之側燈型。另一方面，最近，由畫面的亮度及對比之觀點而言，開始探討將光源配置在顯示部的正下方之正下方型背光。在正下方型背光中，在製造光量且同時作為顯示裝置之情形中，例如為了在畫面中央與畫面端部使光量均勻，正針對將多數的發光體典型而言為發光二極體（LED）設置在基板上的方向進行探討。

於此，在使用多數的發光體作為正下方型背光的光源之情形，發光體因耐水性低，故期望利用樹脂等密封該發光體。又，將具有多數的發光體之背光作為光源而製作顯示裝置之情形，由於發光體的存在區域與不存在區域，導致所得之影像中產生輝度不均。

在專利文獻1中，提案在前述背光的發光體上設置包含光散射性粒子的黏著劑層。然而，在專利文獻1中，因在背光上直接塗佈黏著劑而需要設置黏著劑層，在製造步驟上非常不便。又，依據該塗佈的狀態，光散射性粒子的密度會產生濃淡，有時無法充分地消除輝度不均，且輝度不均抑制的再現性亦有問題。 [先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本特許第5590582號公報

[發明概要] [發明所欲解決的課題]

本發明係有鑑於此種情況而完成者，目的在於提供一種背光單元及顯示裝置，其在製造步驟上可簡便地構成，且輝度不均抑制性及其再現性優異。 [用於解決課題的手段]

為了達成上述目的，第一，本發明提供一種背光單元，其係具備具有多個發光體的背光、與積層於前述背光的複合型黏著劑層之背光單元，其特徵在於，前述複合型黏著劑層具有：含有光擴散微粒的光擴散黏著劑層、與不含有光擴散微粒的透明黏著劑層，前述透明黏著劑層位於前述背光側（發明1）。

上述發明（發明1）中之複合型黏著劑層，係以容易低彈性率化且能維持高柔軟性的透明黏著劑層位於背光側之方式貼附該背光，因此容易嵌入由多個發光體所致之凹凸，可使發光體防水。此複合型黏著劑層可與背光分開獨立製造，並且，為了發揮優異的凹凸嵌入性，可藉由只是將該複合型黏著劑層對於背光進行貼附，而簡便地製造背光單元。又，上述複合型黏著劑層係以不含有光擴散微粒的透明黏著劑層位於具有凹凸的背光側之方式貼附該背光，因此可維持光擴散黏著劑層乃至複合型黏著劑層中之光擴散的均勻性。其結果，本實施形態之背光單元的輝度不均抑制性優異。再者，上述複合型黏著劑層因可事先以高精度製造，故上述輝度不均抑制性的再現性優異。

上述發明（發明1）中，前述背光為硬質體，前述複合型黏著劑層中之與前述背光側為相反側的面上可積層別的硬質體（發明2）。

上述發明（發明1、2）中，較佳為前述發光體為發光二極體（發明3）。

上述發明（發明1～3）中，較佳為前述複合型黏著劑層的霧度值為40％以上且99％以下（發明4）。

上述發明（發明1～4）中，較佳為前述複合型黏著劑層的厚度為30μm以上且3000μm以下（發明5）。

上述發明（發明1～5）中，較佳為前述複合型黏著劑層中之光擴散黏著劑層側對於鈉鈣玻璃的黏著力為1N／25mm以上且60N／25mm以下（發明6）。

上述發明（發明1～6）中，較佳為前述複合型黏著劑層在23℃之儲存模數G1為0.001MPa以上且0.2MPa以下（發明7）。

上述發明（發明1～7）中，較佳為前述光擴散黏著劑層及前述透明黏著劑層的至少一層係由活性能量線硬化性黏著劑所構成（發明8）。

上述發明（發明8）中，較佳為前述複合型黏著劑層之活性能量線照射後在23℃之儲存模數G2為0.08MPa以上且10MPa以下（發明9）。

上述發明（發明9）中，較佳為前述複合型黏著劑層之活性能量線照射後在23℃之儲存模數G2相對於前述複合型黏著劑層在23℃之儲存模數G1的比值，亦即儲存模數變化率ΔG’為1.1以上且100以下（發明10）。

上述發明（發明8～10）中，較佳為前述複合型黏著劑層中之光擴散黏著劑層側在活性能量線照射後對於鈉鈣玻璃的黏著力為10N／25mm以上且60N／25mm以下（發明11）。

第二，本發明提供一種顯示裝置，其特徵在於，具備：前述背光單元（發明1～11）、與積層於前述背光單元的前述複合型黏著劑層之顯示部（發明12）。 [發明效果]

本發明之背光單元及顯示裝置在製造步驟上可簡便地構成，輝度不均抑制性及其再現性優異。

[用於實施發明的形態]

以下，針對本發明的實施形態進行說明。 [背光單元] 本發明的一實施形態之背光單元具備：具有多個發光體的背光、與該積層於背光的複合型黏著劑層。複合型黏著劑層具有：含有光擴散微粒的光擴散黏著劑層、與不含有光擴散微粒的透明黏著劑層，透明黏著劑層位於上述背光側。背光單元因具有多個發光體，故在複合型黏著劑層側的表面大多具有凹凸。

上述複合型黏著劑層，對於背光單元，可直接接觸而被積層，亦可隔著其他層或零件而間接地被積層。

上述複合型黏著劑層中，可存在2層以上的透明黏著劑層。又，亦可存在2層以上的光擴散黏著劑層，但複合型黏著劑層的至少一側的最表層為透明黏著劑層，該透明黏著劑層位於背光側。但是，由複合型黏著劑層的霧度值控制之觀點而言，光擴散黏著劑層較佳為1層。

含有光擴散微粒的光擴散黏著劑層因有容易高彈性率化且柔軟性變低的傾向，故藉由黏著劑層嵌入背光的凹凸之性能（凹凸嵌入性）容易降低。本實施形態中之複合型黏著劑層，對於具有凹凸的背光，係以不含有光擴散微粒的透明黏著劑層位於背光側之方式被貼附。透明黏著劑層因容易低彈性率化且可維持高柔軟性，故透明黏著劑層以及複合型黏著劑層容易嵌入凹凸，抑制在凹凸附近產生氣泡及浮起等，可使發光體防水。因此，對於具有凹凸的背光，不需要直接塗佈具有光擴散性的黏著劑層，藉由只是將分開獨立製造的複合型黏著劑層進行貼附，可簡便地製造背光單元。亦即，本實施形態中之複合型黏著劑層可分開獨立製造，且因發揮優異的凹凸嵌入性，故可實現背光單元之製造步驟的簡便化。

又，將含有光擴散微粒的光擴散黏著劑層積層於背光的凹凸之情形，該光擴散黏著劑層由於背光的凹凸而導致被壓縮或變形。藉此，光擴散黏著劑層的光擴散微粒的密度會不均，損及光擴散的均勻性，變得產生輝度不均。本實施形態之背光單元的複合型黏著劑層，對於具有凹凸的背光，係以不含有光擴散微粒的透明黏著劑層位於背光側之方式被貼附。藉此，由於背光單元的凹凸，而導致抑制光擴散黏著劑層被壓縮或變形，可維持光擴散黏著劑層乃至複合型黏著劑層中之光擴散的均勻性。其結果，本實施形態之背光單元係成為藉由複合型黏著劑層而輝度不均抑制性優異者。又，本實施形態中之複合型黏著劑層，因可非被直接塗佈於背光而是事先另外以高精度進行製造，故變得可實現上述輝度不均抑制性的再現性提升。

於此，使用溶劑系的材料而形成厚膜的黏著劑層之情形，一般為積層多層黏著劑層而形成。在積層多層光擴散黏著劑層而獲得具有所期望的霧度值尤其係高霧度值的黏著劑層之情形，若各光擴散黏著劑層的霧度值偏離目標霧度值，則在積層多層光擴散黏著劑層時，偏離目標霧度值的程度變大，會變得無法獲得具有所期望的霧度值的黏著劑層。因此，有所謂製造產率容易降低的問題。相對於此，藉由如本實施形態中之複合型黏著劑層般使用光擴散黏著劑層及透明黏著劑層，可減少光擴散黏著劑層的數量（較佳為成為1層）並同時利用透明黏著劑層製造厚度。藉此，容易獲得使所期望的霧度值穩定且具有厚膜的黏著劑層（複合型黏著劑層），可使產品穩定性提升。

本實施形態中之複合型黏著劑層中，較佳為光擴散黏著劑層及透明黏著劑層的至少一層係由活性能量線硬化性黏著劑所構成。此外，本說明書中之「活性能量線硬化性黏著劑」，係指藉由活性能量線的照射而硬化的黏著劑。因此，藉由以往活性能量線的照射已硬化至不會再進一步硬化的黏著劑不被包含在「活性能量線硬化性黏著劑」中。

此情形，在將複合型黏著劑層貼附於背光而製造背光單元後，或者，將顯示部等貼附於背光單元的複合型黏著劑層後，藉由活性能量線照射而使複合型黏著劑層硬化。藉此，該複合型黏著劑層係成為在高溫高濕條件下的凹凸嵌入性優異者。

又，含有光擴散微粒的光擴散黏著劑層因黏著力容易降低，故在高溫下及經時後與會發生滲出氣體的零件（例如塑膠板）進行貼合之情形，容易發生氣泡及浮起、剝落等起泡。本實施形態中之複合型黏著劑層，對於會發生滲出氣體的零件，可使黏著力高且不含有光擴散微粒的透明黏著劑層接觸並貼合。本實施形態中，亦較佳為透明黏著劑層及光擴散黏著劑層中任一者係藉由活性能量線硬化性的黏著劑所構成，再者，更佳為使複合型黏著劑層整體為活性能量線硬化性。此等情形，在將複合型黏著劑層貼附於背光而製造背光單元製造後，或者，將顯示部等貼附於背光單元的複合型黏著劑層後，藉由活性能量線照射而使複合型黏著劑層硬化，藉此該複合型黏著劑層成為耐起泡性優異者。藉此，例如，即使將背光中之發光體進行固定的零件（基板等）為容易起泡者，亦可藉由經活性能量線硬化的複合型黏著劑層而抑制起泡的發生，獲得耐久性優異的背光單元。

本實施形態中之複合型黏著劑層的霧度值（遵循JIS K7136：2000所測定的值），較佳為40％以上，更佳為50％以上，特佳為60％以上，再佳為80％以上。藉此，容易獲得良好的光擴散性乃至良好的輝度不均防止性。另一方面，由顯示裝置的視認性之觀點而言，複合型黏著劑層的霧度值較佳為99％以下，更佳為98％以下，特佳為97％以下，再佳為96％以下。此外，複合型黏著劑層的霧度值，在活性能量線照射前與活性能量線照射後，無實質上的變化。

本實施形態中之複合型黏著劑層的全透光度（遵循JIS K7361－1：1997所測定的值），作為下限值，較佳為70％以上，特佳為90％以上，再佳為99％以上。藉由複合型黏著劑層的全透光度為上述，作為顯示裝置的視認性成為良好。另一方面，複合型黏著劑層的全透光度的上限值未被特別限定，但通常為100％以下。此外，複合型黏著劑層的全透光度，在活性能量線照射前與活性能量線照射後，無實質上的變化。

本實施形態中之複合型黏著劑層在23℃的儲存模數G1，由在高溫高濕條件下的凹凸嵌入性之觀點而言，較佳為0.001MPa以上，更佳為0.01MPa以上，特佳為0.02MPa以上，再佳為0.04MPa以上。又，上述儲存模數G1較佳為0.2MPa以下，更佳為0.1MPa以下，特佳為0.09MPa以下，再佳為0.08MPa以下。藉此，初期的凹凸嵌入性變得更優異。此外，本說明書中之儲存模數，係遵循JIS K7244－6，利用測定頻率1Hz並藉由扭曲剪切法所測定的值。具體而言，係如同後述的試驗例所示。

於此，在製造液晶顯示裝置等顯示裝置之情形，係在本實施形態之背光單元的複合型黏著劑層貼合由液晶面板等所構成的顯示部。此顯示部亦常由硬質體所構成。因背光亦通常係由硬質體所構成，故此情形則變成隔著複合型黏著劑層而貼合硬質體彼此。藉由本實施形態中之複合型黏著劑層在23℃的儲存模數G1在上述範圍，即使為硬質體彼此的貼合，在貼合時亦以複合型黏著劑層凹陷之方式進行變形，藉此可實現與薄膜的彎曲類似的狀態，硬質體彼此的貼合性變得良好。

此外，本說明書中之「硬質體」，係指結構不會進行不可逆的變形且能彎曲的角度小於90°的零件。該角度較佳為小於60°，更佳為小於45°，特佳為小於10°，再佳為小於5°。此外，所謂能彎曲的角度（彎曲角），係指在將硬質體載置於水平的面上並固定一側的端部且抬起相反側的端部時，從水平的面抬起的角度。硬質體可為由單層或單一零件所構成者，亦可為由多層或多個零件所構成者。在後者之情形中，係指在與複合型黏著劑層的貼合時，以由多層或多個零件所構成的一物的形態使用，且該物整體滿足上述彎曲角者，即使該物的一部分的層或零件不滿足上述的彎曲角，該物亦可稱為硬質體。

本實施形態中之複合型黏著劑層為活性能量線硬化性之情形，該複合型黏著劑層之活性能量線照射後在23℃之儲存模數G2，較佳為0.08MPa以上，更佳為0.09MPa以上，特佳為0.10MPa以上，再佳為0.11MPa以上。藉此，成為在高溫高濕條件下的凹凸嵌入性更優異者。又，上述儲存模數G2較佳為10MPa以下，更佳為5MPa以下，特佳為1MPa以下，再佳為0.2MPa以下。藉此，成為表現良好的黏著力且與被接著體的接著性更優異者。此外，所謂「活性能量線照射後」，係指以與在將活性能量線硬化性的黏著劑層（複合型黏著劑層）組入產品時所照射的活性能量線照射量為同等的照射量進行活性能量線照射後。本說明書中，雖將試驗例1所示之活性能量線的照射量設為基準，但不受限於此。

上述儲存模數G2相對於上述儲存模數G1的比值（儲存模數G2／儲存模數G1）亦即儲存模數變化率ΔG’，較佳為1.1以上，更佳為1.2以上，特佳為1.4以上，再佳為1.8以上。又，上述儲存模數變化率ΔG’較佳為100以下，更佳為10以下，特佳為5以下，再佳為2.5以下。藉由儲存模數變化率ΔG’在上述範圍內，可使初期的凹凸嵌入性、以及在高溫高濕條件下的凹凸嵌入性更優異。

本實施形態中之光擴散黏著劑層在23℃之儲存模數GD1，由在光擴散黏著劑層中穩定地保持光擴散微粒之觀點而言，較佳為0.001MPa以上，更佳為0.01MPa以上，特佳為0.02MPa以上，再佳為0.04MPa以上。又，上述儲存模數GD1較佳為0.2MPa以下，更佳為0.16MPa以下，特佳為0.12MPa以下，再佳為0.09MPa以下。藉此，可確保與透明黏著劑層的良好附著性。

光擴散黏著劑層係由活性能量線硬化性黏著劑所構成之情形，該光擴散黏著劑層之活性能量線照射後在23℃之儲存模數GD2，由耐起泡性之觀點而言，較佳為0.08MPa以上，更佳為0.10MPa以上，特佳為0.12MPa以上，再佳為0.15MPa以上。又，上述儲存模數GD2較佳為10MPa以下，更佳為5MPa以下，特佳為1MPa以下，再佳為0.3MPa以下。藉此，成為表現良好的黏著力且與被接著體的接著性更優異者。

上述儲存模數GD2相對於上述儲存模數GD1的比值（儲存模數GD2／儲存模數GD1）亦即儲存模數變化率ΔGD，較佳為1.1以上，更佳為1.4以上，特佳為1.8以上，再佳為2.1以上。又，上述儲存模數變化率ΔGD較佳為100以下，更佳為10以下，特佳為5以下，再佳為3以下。藉由儲存模數變化率ΔGD在上述範圍內，可使硬化後的黏著力的維持與耐起泡性之平衡良好。

本實施形態中之透明黏著劑層在23℃之儲存模數GT1，由在高溫高濕條件下的凹凸嵌入性之觀點而言，較佳為0.001MPa以上，更佳為0.01MPa以上，特佳為0.02MPa以上，再佳為0.04MPa以上。又，上述儲存模數GT1較佳為0.2MPa以下，更佳為0.1MPa以下，特佳為0.09MPa以下，再佳為0.08MPa以下。藉此，初期的凹凸嵌入性變得更優異。

透明黏著劑層係由活性能量線硬化性黏著劑所構成之情形，該透明黏著劑層之活性能量線照射後在23℃之儲存模數GT2，較佳為0.08MPa以上，更佳為0.09MPa以上，特佳為0.10MPa以上，再佳為0.11MPa以上。藉此，高溫高濕條件下的凹凸嵌入性變得更優異。又，上述儲存模數GT2較佳為10MPa以下，更佳為5MPa以下，特佳為1MPa以下，再佳為0.2MPa以下。藉此，成為表現良好的黏著力且與背光的接著性更優異者。

上述儲存模數GT2相對於上述儲存模數GT1的比值（儲存模數GT2／儲存模數GT1）亦及儲存模數變化率ΔGT，較佳為1.1以上，更佳為1.2以上，特佳為1.6以上，再佳為1.8以上。又，上述儲存模數變化率ΔGT較佳為100以下，更佳為10以下，特佳為5以下，再佳為3以下，再佳為2.5以下。藉由儲存模數變化率ΔGT在上述範圍內，可使初期的凹凸嵌入性、以及高溫高濕條件下的凹凸嵌入性更優異。

本實施形態中之複合型黏著劑層的凝膠分率(gel fraction)，由高溫高濕條件下的凹凸嵌入性之觀點而言，較佳為20％以上，更佳為30％以上，特佳為40％以上，再佳為50％以上。又，上述凝膠分率較佳為80％以下，更佳為70％以下，特佳為65％以下，再佳為60％以下。藉此，初期的凹凸嵌入性變得更優異。此外，本說明書中之黏著劑的凝膠分率的測定方法係如同後述的試驗例所示。

本實施形態中之複合型黏著劑層為活性能量線硬化性之情形，該複合型黏著劑層在活性能量線照射後的凝膠分率較佳為40％以上，更佳為50％以上，特佳為60％以上，再佳為65％以上。藉此，高溫高濕條件下的凹凸嵌入性變得更優異。又，上述凝膠分率較佳為99％以下，更佳為89％以下，特佳為80％以下，再佳為75％以下。藉此，成為表現良好的黏著力且與被接著體的接著性更優異者。

本實施形態中之光擴散黏著劑層的凝膠分率，由保持光擴散微粒的分散狀態等且使輝度不均抑制性有效地發揮之觀點而言，較佳為30％以上，更佳為40％以上，特佳為50％以上，再佳為55％以上。又，上述凝膠分率較佳為90％以下，更佳為80％以下，特佳為70％以下，再佳為65％以下。藉此，可確保與透明黏著劑層的良好附著性。

光擴散黏著劑層係由活性能量線硬化性黏著劑所構成之情形，該光擴散黏著劑層在活性能量線照射後的凝膠分率，由耐起泡性之觀點而言，較佳為40％以上，更佳為50％以上，特佳為60％以上，再佳為65％以上。又，上述凝膠分率較佳為99％以下，更佳為90％以下，特佳為85％以下，再佳為80％以下。藉此，成為表現良好的黏著力且與被接著體的接著性更優異者。

本實施形態中之透明黏著劑層的凝膠分率，由高溫高濕條件下的凹凸嵌入性之觀點而言，較佳為20％以上，更佳為30％以上，特佳為40％以上，再佳為50％以上。又，上述凝膠分率較佳為80％以下，更佳為70％以下，特佳為60％以下，再佳為55％以下。藉此，初期的凹凸嵌入性變得更優異。

透明黏著劑層係由活性能量線硬化性黏著劑所構成之情形，該透明黏著劑層在活性能量線照射後的凝膠分率，較佳為40％以上，更佳為50％以上，特佳為60％以上，再佳為65％以上。藉此，高溫高濕條件下的凹凸嵌入性變得更優異。又，上述凝膠分率較佳為98％以下，更佳為87％以下，特佳為75％以下，再佳為70％以下。藉此，成為表現良好的黏著力且與背光的接著性更優異者。

本實施形態中之複合型黏著劑層的光擴散黏著劑層側對於鈉鈣玻璃的黏著力，由處置性之觀點而言，較佳為1N／25mm以上，更佳為4N／25mm以上，特佳為8N／25mm以上，再佳為13N／25mm以上。又，上述黏著力較佳為60N／25mm以下，更佳為50N／25mm以下，特佳為40N／25mm以下，再佳為35N／25mm以下。藉此，獲得良好的重工性，變得即使在產生貼合失誤之情形亦能再利用被接著體。

本實施形態中之複合型黏著劑層為活性能量線硬化性之情形，該複合型黏著劑層中之光擴散黏著劑層側在活性能量線照射後對於鈉鈣玻璃的黏著力，較佳為10N／25mm以上，更佳為15N／25mm以上，特佳為20N／25mm以上，再佳為25N／25mm以上。藉此，耐起泡性變得更優異。又，上述黏著力較佳為60N／25mm以下，更佳為50N／25mm以下，特佳為45N／25mm以下，再佳為40N／25mm以下。藉此，獲得良好的重工性。

於此，本說明書中之黏著力基本上係指藉由遵循JIS　Z0237：2009的180度剝離法所測定的黏著力，但測定樣本係25mm寬、100mm長，將該測定樣本貼附於被接著體，以0.5MPa、50℃加壓20分鐘後，在常壓、23℃、50％RH的條件下放置24小時後，利用剝離速度300mm／min進行測定者。

本實施形態中之複合型黏著劑層的厚度，較佳為30μm以上，更佳為60μm以上，特佳為100μm以上，再佳為200μm以上。藉此，可良好地填埋背光所具有的凹凸，成為凹凸嵌入性更優異者。又，複合型黏著劑層的厚度較佳為3000μm以下，更佳為1000μm以下，特佳為500μm以下，再佳為300μm以下。藉此，成為加工性良好者，又，變得難以發生由按壓痕跡等所致之外觀不良。

再者，藉由本實施形態中之複合型黏著劑層的厚度在上述範圍，並且，本實施形態中之複合型黏著劑層在23℃的儲存模數G1在前述範圍，而變得容易在硬質體彼此的貼合時以複合型黏著劑層更凹陷之方式進行變形，成為硬質體彼此的貼合性更良好者。

本實施形態中之光擴散黏著劑層的厚度較佳為5μm以上，更佳為10μm以上，特佳為25μm以上，再佳為40μm以上。藉此，容易獲得所期望的光擴散性或霧度值，又，亦容易獲得所期望的黏著力。又，光擴散黏著劑層的厚度較佳為600μm以下，更佳為200μm以下，特佳為100μm以下，再佳為60μm以下。藉此，容易獲得所期望的光擴散性或霧度值，又，成為加工性亦良好者。

本實施形態的複合型黏著劑層中，位於背光的凹凸側之透明黏著劑層的厚度較佳為大於背光的凹凸高度。藉此，可藉由透明黏著劑層而吸收背光的凹凸，更有效地抑制光擴散黏著劑層因該凹凸而被壓縮或變形。因此，成為光擴散黏著劑層（複合型黏著劑層）中之光擴散的均勻性更高者。

具體而言，本實施形態中之透明黏著劑層的厚度較佳為25μm以上，更佳為50μm以上，特佳為75μm以上，再佳為160μm以上。藉此，成為複合型黏著劑層中之光擴散的均勻性及凹凸嵌入性更優異者。另一方面，透明黏著劑層的厚度較佳為2400μm以下，更佳為800μm以下，特佳為400μm以下，再佳為240μm以下。藉此，成為加工性良好者，又，變得難以發生由按壓痕跡等所致之外觀不良。此外，透明黏著劑層分開複數存在之情形（例如，存在於光擴散黏著劑層的兩側之情形），上述的厚度為1層的透明黏著劑層的厚度。

圖1揭示作為本實施形態之背光單元的一例之具體構成。 如圖1所示，一實施形態之背光單元1係具備背光30、與積層於背光30上的複合型黏著劑層20而構成。

1.構成要素 1－1.背光 背光30係具備1或2以上的基板31、與被設置在該基板31上的多個發光體32而構成。此背光30具有由多個發光體32所致之凹凸。

作為基板31，並未被特別限定，係使用一般能用於背光者。此基板31通常為印刷電路板（PCB基板；Printed Circuit Board）。此基板31通常由硬質體所構成，因此，背光30亦通常由硬質體所構成。

基板31可以集合搭載多個發光體32之方式被一體形成，亦可以在一個基板31上搭載一個發光體32之方式被各自分離而形成。在被分離而形成之情形中，各基板31通常被固定在框架、支持體、外殼等。在本實施形態中，如圖1所示，基板31較佳為以集合搭載多個發光體32之方式被一體形成。

在基板31的複合型黏著劑層20側的面上，可形成反射層，亦可設置反射零件。藉此，可使由背光30所致之輝度有效地提升。反射層及反射零件的材料可採用眾所周知者。

作為發光體32的種類，可列舉例如，發光二極體（LED）、雷射二極體（LD）、有機電致發光元件、無機電致發光元件等。此等之中，由複合型黏著劑層20所致之密封性之觀點而言，較佳為LED，特佳為迷你LED或微米LED。

發光體32的厚度較佳為5μm以上，更佳為50μm以上，特佳為100μm以上，再佳為200μm以上。又，發光體32的厚度較佳為1000μm以下，特佳為500μm以下，再佳為250μm以下。

又，彼此相鄰的發光體32的間隙寬度較佳為0.01mm以上，特佳為0.1mm以上，再佳為0.5mm以上。又，上述間隙寬度較佳為100mm以下，更佳為10mm以下，特佳為4mm以下，再佳為2mm以下。

發光體32的形狀未被特別限定，但通常為長方體狀、半球狀等。發光體32的大小未被特別限定，但由發光體密封性之觀點而言，俯視的一邊或直徑較佳為0.01～100mm，更佳為0.1～10mm，特佳為0.2～5mm，再佳為0.5～2mm。

1－2.複合型黏著劑層 本實施形態中之複合型黏著劑層20係1層的光擴散黏著劑層21與1層的透明黏著劑層22之積層體，透明黏著劑層22接觸由發光體32所致之凹凸。上述多個發光體32係藉由透明黏著劑層22而無空隙地被密封。藉由，耐水性提升，可使發光體32（尤其LED）防水。又，光擴散黏著劑層21係使由背光30所照射的光進行擴散，有效地抑制輝度不均的發生。

本實施形態中之複合型黏著劑層20可使用圖2所示之黏著片2而形成。如圖2所示，黏著片2係由2片的剝離片23a、23b、與由1層的光擴散黏著劑層21及1層的透明黏著劑層22所構成之複合型黏著劑層20所構成。複合型黏著劑層20係以接觸2片的剝離片23a、23b的剝離面之方式被該2片的剝離片23a、23b夾住。此外，本說明書中之剝離片的剝離面，係指剝離片中具有剝離性的面，亦包含已施以剝離處理的面及即使未施以剝離處理亦顯示剝離性的面之任一者。

光擴散黏著劑層21較佳為由含有光擴散微粒的黏著劑所構成。另一方面，透明黏著劑層22較佳為由不含有光擴散微粒的黏著劑所構成。此外，所謂「不含有光擴散微粒」，意指「實質上不含有光擴散微粒」，除了完全不含有光擴散微粒以外，亦包含以不損及本實施形態中之效果的量含有光擴散微粒之情形。其量較佳為0.1質量％以下，特佳為0.01質量％以下，再佳為0.001質量％以下，最佳為0質量％。

構成本實施形態之黏著片2的光擴散黏著劑層21及透明黏著劑層22的黏著劑種類未被特別限定。例如，可為丙烯酸系黏著劑、聚酯系黏著劑、聚胺基甲酸乙酯系黏著劑、橡膠系黏著劑、聚矽氧系黏著劑等之任一者。又，該黏著劑可為乳液型、溶劑型或無溶劑型之任一者，亦可為交聯型或非交聯型之任一者。其等之中，較佳為黏著物性、光學特性等優異的丙烯酸系黏著劑。作為丙烯酸系黏著劑，較佳為交聯型者，再佳為熱交聯型者。

又，如同前述，光擴散黏著劑層21及透明黏著劑層22的至少一層較佳為係由活性能量線硬化性黏著劑所構成，更佳為兩層皆係由活性能量線硬化性黏著劑所構成。

構成光擴散黏著劑層21的黏著劑及構成透明黏著劑層22的黏著劑，互相可為相同種類，亦可為不同種類，但較佳為皆為活性能量線硬化性的黏著劑，尤其活性能量線硬化性的丙烯酸系黏著劑。藉此，發揮優異的耐起泡性。此情形，光擴散微粒以外的組成可相同亦可不同。又，主聚合物的單體組成可相同亦可不同。此外，構成光擴散黏著劑層21的黏著劑及構成透明黏著劑層22的黏著劑，可其中一者為活性能量線硬化性的丙烯酸系黏著劑，另一者為活性能量線非硬化性的丙烯酸系黏著劑，亦可兩者皆為活性能量線非硬化性的丙烯酸系黏著劑。

構成光擴散黏著劑層21的黏著劑及構成透明黏著劑層22的黏著劑，由更加強聚合物彼此的凝聚力之觀點而言，較佳為將含有（甲基）丙烯酸酯聚合物（A）、交聯劑（B）、以及依據期望的活性能量線硬化性成分（C）之黏著性組合物（以下有時稱為「黏著性組合物P」）進行交聯而成者。在光擴散黏著劑層21之情形中，黏著性組合物P進一步含有光擴散微粒（D）。只要為具有上述組成的黏著性組合物P，則容易滿足前述的儲存模數、凝膠分率、霧度值、及黏著力等。

由此黏著性組合物P所得之黏著劑，能發揮優異的光學特性、黏著力、凹凸嵌入性等。此外，在本說明書中，所謂（甲基）丙烯酸，意指丙烯酸及甲基丙烯酸這兩者。其他類似用語亦同樣。又，「聚合物」中亦包含「共聚物」的概念。

（1）黏著性組合物的成分 （1－1）（甲基）丙烯酸酯聚合物（A） 本實施形態中之（甲基）丙烯酸酯聚合物（A），作為構成該聚合物的單體單元，較佳為包含在分子內具有與交聯劑（B）進行反應的反應性基之含反應性基的單體。源自此含反應性基的單體的反應性基會與交聯劑（B）進行反應，形成交聯結構（三維網格結構），而獲得具有所期望的凝聚力之黏著劑。

作為上述含反應性基的單體，較佳可列舉在分子內具有羥基的單體（含羥基的單體）、在分子內具有羧基的單體（含羧基的單體）、在分子內具有胺基的單體（含胺基的單體）等。此等之中，較佳為與交聯劑（B）的反應性優異的含羥基的單體或含羧基的單體。

作為含羥基的單體，可列舉例如，（甲基）丙烯酸2－羥乙酯、（甲基）丙烯酸2－羥基丙酯、（甲基）丙烯酸3－羥基丙酯、（甲基）丙烯酸2－羥基丁酯、（甲基）丙烯酸3－羥基丁酯、（甲基）丙烯酸4－羥基丁酯等（甲基）丙烯酸羥基烷酯等。其中，由所得之（甲基）丙烯酸酯聚合物（A）中之羥基的與交聯劑（B）的反應性及與其他單體的共聚合性之點而言，較佳為具有碳數為1～4的羥基烷基之（甲基）丙烯酸羥基烷酯。具體而言，可列舉例如，（甲基）丙烯酸2－羥乙酯、（甲基）丙烯酸4－羥基丁酯等，特佳可列舉為丙烯酸2－羥乙酯或丙烯酸4－羥基丁酯。此等可單獨使用，亦可組合二種以上而使用。

作為含羧基的單體，可列舉例如，丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸、順丁烯二酸、伊康酸、檸康酸等乙烯性不飽和羧酸。其中，所得之（甲基）丙烯酸酯聚合物（A）中之羧基的與交聯劑（B）的反應性及與其他單體的共聚合性之點而言，較佳為丙烯酸。此等可單獨使用，亦可組合二種以上而使用。

作為含胺基的單體，可列舉例如，（甲基）丙烯酸胺基乙酯、（甲基）丙烯酸n－丁基胺基乙酯等。此等可單獨使用，亦可組合二種以上而使用。此外，由此含胺基的單體排除後述含氮原子的單體。

（甲基）丙烯酸酯聚合物（A）中，作為構成該聚合物的單體單元，含反應性基的單體的下限值較佳為含有5質量％以上，特佳為含有10質量％以上，再佳為含有15質量％以上。又，（甲基）丙烯酸酯聚合物（A）中，作為構成該聚合物的單體單元，含反應性基的單體的上限值較佳為含有40質量％以下，特佳為含有30質量％以下，再佳為含有25質量％以下。若（甲基）丙烯酸酯聚合物（A）以上述量含有含反應性基的單體做為單體單元，則在所得之黏著劑中形成良好的交聯結構，變得容易獲得所期望的凝膠分率及儲存模數。又，含有光擴散微粒（D）之情形，所得之黏著劑中的光擴散微粒（D）的分散性有變得良好的傾向。

又，（甲基）丙烯酸酯聚合物（A）中，作為構成該聚合物的單體單元，亦較佳為不包含含羧基的單體。羧基因係酸成分，故藉由不含有含羧基的單體，而即使在黏著劑的貼附對象存在會因酸而產生不良者，例如錫摻雜氧化銦（ITO）等透明導電膜及金屬膜等之情形中，亦可抑制由酸所致之其等的不良（腐蝕、電阻值變化等）。但是，容許在不產生此不良的程度含有指定量的含羧基的單體。具體而言，在（甲基）丙烯酸酯聚合物（A）中，作為單體單元，容許以0.1質量％以下，較佳為以0.01質量％以下，再佳為以0.001質量％以下的量含有含羧基的單體。

（甲基）丙烯酸酯聚合物（A）中，作為構成該聚合物的單體單元，較佳為含有（甲基）丙烯酸烷酯。藉此，可表現良好的黏著性，且同時可導致所得之黏著劑的儲存模數降低。烷基可為直鏈狀或分支鏈狀。

作為（甲基）丙烯酸烷酯，由黏著性之觀點而言，較佳為烷基的碳數為1～20的（甲基）丙烯酸烷酯。作為烷基的碳數為1～20的（甲基）丙烯酸烷酯，可列舉例如，（甲基）丙烯酸甲酯、（甲基）丙烯酸乙酯、（甲基）丙烯酸丙酯、（甲基）丙烯酸n－丁酯、（甲基）丙烯酸n－戊酯、（甲基）丙烯酸n－己酯、（甲基）丙烯酸2－乙基己酯、（甲基）丙烯酸異辛酯、（甲基）丙烯酸n－癸酯、（甲基）丙烯酸n－十二酯、（甲基）丙烯酸十四酯、（甲基）丙烯酸十六酯、（甲基）丙烯酸十八酯等。其中，由使黏著性更提升之觀點、或導致儲存模數降低之觀點而言，較佳為烷基的碳數為4～8的（甲基）丙烯酸酯，特佳為（甲基）丙烯酸n－丁酯、（甲基）丙烯酸2－乙基己酯、或（甲基）丙烯酸異辛酯，再佳為丙烯酸n－丁酯、丙烯酸2－乙基己酯、或丙烯酸異辛酯。此外，此等可單獨使用，亦可組合二種以上而使用。

（甲基）丙烯酸酯聚合物（A）中，作為構成該聚合物的單體單元，較佳將（甲基）丙烯酸烷酯含有45質量％以上，特佳為含有55質量％以上，再佳為含有65質量％以上。若（甲基）丙烯酸烷酯的含量的下限值為上述，則（甲基）丙烯酸酯聚合物（A）可發揮較佳的黏著性。又，含有光擴散微粒（D）之情形，有可使光擴散微粒（D）在黏著劑中的分散性良好的傾向，（甲基）丙烯酸酯聚合物（A）會抑制損及所期望的黏著性的狀況。另一方面，（甲基）丙烯酸酯聚合物（A）中，作為構成該聚合物的單體單元，較佳為將（甲基）丙烯酸烷酯含有99質量％以下，更佳為含有95質量％以下，特佳為含有90質量％以下，再佳為含有75質量％以下。若（甲基）丙烯酸烷酯的含量的上限值為上述，則可在（甲基）丙烯酸酯聚合物（A）中導入較佳量的含反應性官能基的單體等其他單體成分。

上述（甲基）丙烯酸酯聚合物（A），作為構成該聚合物的單體單元，亦較佳為含有在分子內具有脂環結構的單體（含脂環結構的單體）。含脂環結構的單體會使聚合物的玻璃轉移溫度上升，使所得之黏著劑的儲存模數增加。又，含脂環結構的單體因體積大，故藉由使此存在於聚合物中，而推測會擴大聚合物彼此的間隔，降低塗工液黏度，黏著劑層的厚膜化變得容易。

含脂環結構的單體中之脂環結構的碳環，可為飽和結構者，亦可為在局部具有不飽和鍵者。又，脂環結構可為單環的脂環結構，亦可為二環、三環等多環的脂環結構。由將所得之黏著劑的儲存模數調節成高，且同時將黏著劑層進行厚膜化之觀點而言，上述脂環結構較佳為多環的脂環結構（多環結構）。再者，考慮到（甲基）丙烯酸酯聚合物（A）與其他成分的相容性，上述多環結構特佳為二環至四環。又，由與上述同樣地提高儲存模數之觀點、或厚膜化之觀點而言，脂環結構的碳數（係指形成環的部分的全部碳數，在多個環係獨立存在之情形中，係指其合計的碳數）通常較佳為5以上，特佳為7以上。另一方面，脂環結構的碳數的上限未被特別限制，但由與上述同樣之觀點而言，較佳為15以下，特佳為10以下。

作為上述含脂環結構的單體，具體而言，可列舉（甲基）丙烯酸環己酯、（甲基）丙烯酸二環戊酯、（甲基）丙烯酸金剛烷酯、（甲基）丙烯酸異莰酯、（甲基）丙烯酸二環戊烯酯、（甲基）丙烯酸二環戊烯基氧基乙酯等，其中，較佳為發揮更優異的凹凸嵌入性之（甲基）丙烯酸二環戊酯（脂環結構的碳數：10）、（甲基）丙烯酸金剛烷酯（脂環結構的碳數：10）或（甲基）丙烯酸異莰酯（脂環結構的碳數：7），特佳為（甲基）丙烯酸異莰酯，再佳為丙烯酸異莰酯。此等可單獨使用一種，亦可組合二種以上而使用。

（甲基）丙烯酸酯聚合物（A）在含有含脂環結構的單體作為構成該聚合物的單體單元之情形，由將所得之黏著劑的儲存模數調節成較佳範圍之觀點而言，較佳為將該含脂環結構的單體含有1質量％以上，特佳為含有5質量％以上，再佳為含有10質量％以上。又，由與上述同樣之觀點而言，較佳為將含脂環結構的單體的含量設為25質量％以下，特佳為設為20質量％以下，再佳為設為15質量％以下。

上述（甲基）丙烯酸酯聚合物（A）亦較佳為含有含氮原子的單體作為構成該聚合物的單體單元。藉由使含氮原子的單體作為構成單元而存在於聚合物中，會對黏著劑賦予指定的極性，可做成即使對於如玻璃般的具有某程度的極性之被接著體，親和性亦優異者。作為上述含氮原子的單體，由使（甲基）丙烯酸酯聚合物（A）具有適當剛性之觀點而言，較佳為具有含氮雜環的單體。又，由提高所構成之黏著劑的高次結構（higher order structure）中源自上述含氮原子的單體的部分的自由度之觀點而言，該含氮原子的單體，較佳為除了在用於形成（甲基）丙烯酸酯聚合物（A）的聚合中所使用之1個聚合性基以外不含有反應性不飽和雙鍵基。

作為具有含氮雜環的單體，可列舉例如，N－（甲基）丙烯醯基𠰌啉、N－乙烯基－2－吡咯啶酮、N－（甲基）丙烯醯基吡咯啶酮、N－（甲基）丙烯醯基哌啶、N－（甲基）丙烯醯基吡咯啶、N－（甲基）丙烯醯基吖𠰂、吖丙啶基乙基（甲基）丙烯酸酯、2－乙烯基吡啶、4－乙烯基吡啶、2－乙烯基吡

、1－乙烯基咪唑、N－乙烯基咔唑、N－乙烯基酞醯亞胺等，其中，較佳為發揮更優異黏著力之N－（甲基）丙烯醯基𠰌啉，特佳為N－丙烯醯基𠰌啉。此等可單獨使用一種，亦可組合二種以上而使用。

（甲基）丙烯酸酯聚合物（A）在含有含氮原子的單體作為構成該聚合物的單體單元之情形，較佳為將該含氮原子的單體含有1質量％以上，特佳為含有2質量％以上，再佳為含有4質量％以上。又，（甲基）丙烯酸酯聚合物（A）中，作為構成該聚合物的單體單元，較佳為將該含氮原子的單體含有24質量％以下，特佳為含有16質量％以下，再佳為含有8質量％以下。若含氮原子的單體的含量在上述範圍內，則所得之黏著劑可充分地發揮對於玻璃的優異黏著力。

（甲基）丙烯酸酯聚合物（A）依據期望亦可含有其他單體作為構成該聚合物的單體單元。作為其他單體，為了不阻礙含反應性官能基的單體的前述作用，亦較佳為不含反應性官能基的單體。作為此單體，可列舉例如，（甲基）丙烯酸甲氧基乙酯、（甲基）丙烯酸乙氧基乙酯等（甲基）丙烯酸烷氧基烷酯、乙酸乙烯酯、苯乙烯等。此等可單獨使用，亦可組合二種以上而使用。

（甲基）丙烯酸酯聚合物（A）較佳為直鏈狀的聚合物。藉由為直鏈狀的聚合物，變得容易引起分子鏈的纏繞，可期待凝聚力的提升，因此容易獲得高溫高濕條件下的凹凸嵌入性及耐起泡性優異的黏著劑。

又，（甲基）丙烯酸酯聚合物（A）較佳為藉由溶液聚合法而得之溶液聚合物。藉由為溶液聚合物，變得容易獲得高分子量的聚合物，可期待凝聚力的提升，因此容易獲得在高溫高濕條件下的凹凸嵌入性及耐起泡性優異的黏著劑。

（甲基）丙烯酸酯聚合物（A）的聚合態樣可為隨機共聚物，亦可為嵌段共聚物。

（甲基）丙烯酸酯聚合物（A）的重量平均分子量較佳為20萬以上，更佳為30萬以上，特佳為40萬以上。藉此，以成為在高溫高濕條件下的凹凸嵌入性更優異者之方式，可提高所得之黏著劑的儲存模數及凝膠分率。又，該重量平均分子量再佳為50萬以上。藉此，可獲得即使在含有光擴散微粒（D）的黏著劑中亦發揮充分凝聚力的程度之高儲存模數。再者，有可使光擴散微粒（D）在黏著劑中的分散性良好的傾向。

又，（甲基）丙烯酸酯聚合物（A）的重量平均分子量，作為上限值，較佳為150萬以下，更佳為120萬以下，特佳為100萬以下，再佳為80萬以下。若（甲基）丙烯酸酯聚合物（A）的重量平均分子量的上限值為上述，則所得之黏著劑的儲存模數的值容易成為較佳者，初期的凹凸嵌入性變得更優異。本說明書中之重量平均分子量係藉由凝膠滲透層析法（GPC）法所測定之標準聚苯乙烯換算的值。

此外，黏著性組合物P中，（甲基）丙烯酸酯聚合物（A）可單獨使用一種，亦可組合二種以上而使用。

（1－2）交聯劑（B） 作為交聯劑（B），只要為與（甲基）丙烯酸酯聚合物（A）所具有的反應性基進行反應者即可，可列舉例如，異氰酸酯系交聯劑、環氧系交聯劑、胺系交聯劑、三聚氰胺系交聯劑、吖𠰂系交聯劑、肼系交聯劑、醛系交聯劑、㗁唑啉系交聯劑、金屬烷氧化物系交聯劑、金屬螯合系交聯劑、金屬鹽系交聯劑、銨鹽系交聯劑等。上述之中，較佳為使用與羥基及羧基的反應性優異的異氰酸酯系交聯劑、或者與羧基的反應性優異的環氧系交聯劑。此外，交聯劑（B）可單獨一種或組合二種以上而使用。

異氰酸酯系交聯劑係至少包含聚異氰酸酯化合物者。作為聚異氰酸酯化合物，可列舉例如，甲苯二異氰酸酯、二苯基甲烷二異氰酸酯、伸茬基二異氰酸酯等芳香族聚異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯等脂肪族聚異氰酸酯、異佛酮二異氰酸酯、氫化二苯基甲烷二異氰酸酯等脂環式聚異氰酸酯等、及其等的縮二脲、三聚異氰酸酯（isocyanurate）、再者與乙二醇、丙二醇、新戊二醇、三羥甲丙烷、蓖麻油等低分子含活性氫的化合物的反應物亦即加成物等。其中，由與羥基的反應性之觀點而言，較佳為三羥甲丙烷改質的芳香族聚異氰酸酯，特佳為三羥甲丙烷改質甲苯二異氰酸酯及三羥甲丙烷改質伸茬基二異氰酸酯。

作為環氧系交聯劑，可列舉例如，1,3－雙（N,N－二環氧丙基胺基甲基）環己烷、N,N,N’,N’－四環氧丙基－m－伸茬基二胺、乙二醇二環氧丙基醚、1,6－己烷二醇二環氧丙基醚、三羥甲丙烷二環氧丙基醚、二環氧丙基苯胺、二環氧丙基胺等。其中，由與羧基的反應性之觀點而言，較佳為1,3－雙（N,N－二環氧丙基胺基甲基）環己烷。

黏著性組合物P中之交聯劑（B）的含量，相對於（甲基）丙烯酸酯聚合物（A）100質量份，較佳為0.01質量份以上，特佳為0.05質量份以上，再佳為0.1質量份以上。又，該含量較佳為10質量份以下，更佳為5質量份以下，特佳為1質量份以下，再佳為0.4質量份以下，最佳為0.2質量份以下。藉由交聯劑（B）的含量在上述範圍，所得之黏著劑的儲存模數、凝膠分率、黏著力等容易成為較佳者。

（1－3）活性能量線硬化性成分（C） 在將含有活性能量線硬化性成分（C）的黏著性組合物P進行交聯而成的黏著劑進行活性能量線硬化的黏著劑中，推測活性能量線硬化性成分（C）會互相聚合，其已聚合的活性能量線硬化性成分（C）係與（甲基）丙烯酸酯聚合物（A）的交聯結構（三維網格結構）纏繞者。具有此高次結構的黏著劑，其使儲存模數及凝膠分率增加指定程度，成為在高溫高濕條件下的凹凸嵌入性特別優異者。

活性能量線硬化性成分（C）只要為藉由活性能量線的照射而硬化，且能獲得上述效果的成分則未被特別限制，可為單體、寡聚物或聚合物之任一者，亦可為其等之混合物。其中，可較佳地列舉耐起泡性更優異的多官能丙烯酸酯系單體。

作為多官能丙烯酸酯系單體，可列舉例如，1,4－丁二醇二（甲基）丙烯酸酯、1,6－己烷二醇二（甲基）丙烯酸酯、新戊二醇二（甲基）丙烯酸酯、聚乙二醇二（甲基）丙烯酸酯、新戊二醇己二酸酯二（甲基）丙烯酸酯、羥基三甲基乙酸新戊二醇二（甲基）丙烯酸酯、二環戊基二（甲基）丙烯酸酯、三環癸烷二甲醇（甲基）丙烯酸酯、己內酯改質二環戊烯基二（甲基）丙烯酸酯、乙烯氧化物改質磷酸二（甲基）丙烯酸酯、二（丙烯醯氧基乙基）三聚異氰酸酯、烯丙基化環己基二（甲基）丙烯酸酯、乙氧基化雙酚A二丙烯酸酯、9,9－雙［4－（2－丙烯醯基氧基乙氧基）苯基］茀等二官能型；三羥甲丙烷三（甲基）丙烯酸酯、二新戊四醇三（甲基）丙烯酸酯、丙酸改質二新戊四醇三（甲基）丙烯酸酯、新戊四醇三（甲基）丙烯酸酯、丙烯氧化物改質三羥甲丙烷三（甲基）丙烯酸酯、參（丙烯醯氧基乙基）三聚異氰酸酯、ε－己內酯改質參－（2－（甲基）丙烯醯氧基乙基）三聚異氰酸酯等三官能型；二甘油四（甲基）丙烯酸酯、新戊四醇四（甲基）丙烯酸酯等四官能型；丙酸改質二新戊四醇五（甲基）丙烯酸酯等五官能型；二新戊四醇六（甲基）丙烯酸酯、己內酯改質二新戊四醇六（甲基）丙烯酸酯等六官能型等。此等可單獨使用一種，亦可組合二種以上而使用。又，由與（甲基）丙烯酸酯聚合物（A）的相容性之觀點而言，多官能丙烯酸酯系單體較佳為分子量小於1000者。

目標的黏著劑為活性能量線硬化性黏著劑之情形，黏著性組合物P中之活性能量線硬化性成分（C）的含量，由將活性能量線照射後的黏著劑的儲存模數之值及硬化前後的儲存模數變化率ΔG’設為較佳者、將高溫高濕條件下的凹凸嵌入性設為更優異者之觀點而言，相對於（甲基）丙烯酸酯聚合物（A）100質量份，作為下限值，較佳為1質量份以上，特佳為3質量份以上，再佳為4質量份以上。另一方面，上述含量，由活性能量線照射後的黏著劑的黏著力之觀點而言，作為上限值，較佳為20質量份以下，特佳為12質量份以下，再佳為8質量份以下。

（1－4）光擴散微粒（D） 光擴散微粒（D）只要為光擴散黏著劑層21及複合型黏著劑層20可滿足前述物性者即可。

作為光擴散微粒（D），可列舉例如，矽石、碳酸鈣、氫氧化鋁、氫氧化鎂、黏土、滑石、二氧化鈦等無機系微粒；丙烯酸樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚乙烯樹脂、環氧樹脂等有機系的透光性微粒；由如矽氧樹脂般的具有介於無機與有機中間的結構之含矽化合物所構成之微粒（例如Momentive Performance Materials Japan公司製的Tospearl系列）等。其中，較佳為由矽氧樹脂所構成的微粒。藉此，黏著片成為容易滿足前述霧度值及影像鮮明度者。以上的光擴散微粒（D）可單獨使用一種，亦可組合二種以上而使用。

作為光擴散微粒（D）的形狀，較佳為光擴散均勻的球狀微粒。光擴散微粒（D）的由離心沉澱光穿透法所致之平均粒徑的下限值，較佳為1.0μm以上，特佳為2.0μm以上，再佳為3.0μm以上。若上述平均粒徑的下限值為上述，則變得容易表現所期望的霧度。另一方面，上述平均粒徑的上限值，較佳為10μm以下，特佳為8μm以下，再佳為6μm以下。若上述平均粒徑的上限值為上述，則容易防止霧度值變得過高，可良好地顯示高精細的顯示影像。

此外，由上述離心沉澱光穿透法所致之平均粒徑，係將充分地攪拌微粒1.2g與異丙醇98.8g者作為測定用試料，使用離心式自動粒度分布測定裝置（堀場製作所公司製，CAPA－700）所測定者。

黏著性組合物P（光擴散黏著劑層用）中之光擴散微粒（D）的含量，只要為可滿足前述物性的量即可。具體而言，光擴散微粒（D）的含量較佳為1質量％以上，更佳為3質量％以上，特佳為6質量％以上，再佳為8質量％以上。又，光擴散微粒（D）的含量較佳為50質量％以下，更佳為40質量％以下，特佳為30質量％以下，再佳為25質量％以下。藉由光擴散微粒（D）的含量在上述範圍，變得容易滿足前述的霧度值、儲存模數及黏著力。

（1－5）光聚合起始劑（E） 在使用紫外線作為使活性能量線硬化性的黏著劑進行硬化的活性能量線之情形中，黏著性組合物P較佳為更含有光聚合起始劑（E）。如此，藉由含有光聚合起始劑（E），可使活性能量線硬化性成分（C）效率佳地聚合，又，可減少聚合硬化時間及活性能量線的照射量。

作為此種光聚合起始劑（E），可列舉例如，安息香、安息香甲醚、安息香乙基醚、安息香異丙基醚、安息香－n－丁基醚、安息香異丁基醚、苯乙酮、二甲基胺基苯乙酮、2,2－二甲氧基－2－苯基苯乙酮、2,2－二乙氧基－2－苯基苯乙酮、2－羥基－2－甲基－1－苯基丙烷－1－酮、1－羥基環己基苯基酮、2－甲基－1－［4－（甲基硫代）苯基］－2－𠰌啉基－丙烷－1－酮、4－（2－羥基乙氧基）苯基－2－（羥基－2－丙基）酮、二苯基酮、p－苯基二苯基酮、4,4’－二乙基胺基二苯基酮、二氯二苯基酮、2－甲基蒽醌、2－乙基蒽醌、2－三級－丁基蒽醌、2－胺基蒽醌、2－甲基氧硫𠮿

、2－乙基氧硫𠮿

、2－氯氧硫𠮿

、2,4－二甲基氧硫𠮿

、2,4－二乙基氧硫

、苄基二甲基縮酮、苯乙酮二甲基縮酮、p－二甲基胺基苯甲酸酯、寡聚［2－羥基－2－甲基－1［4－（1－甲基乙烯基）苯基］丙酮］、2,4,6－三甲基苯甲醯基－二苯基－膦氧化物、雙（2,4,6－三甲基苯甲醯基）－苯基膦氧化物等。此等可單獨使用，亦可組合二種以上而使用。

上述之中，即使在穿過含有紫外線吸收劑的塑膠零件而照射紫外線之情形中，亦容易開裂，容易使黏著劑確實地硬化，較佳為膦氧化物系的光聚合起始劑。具體而言，較佳為2,4,6－三甲基苯甲醯基－二苯基－膦氧化物、雙（2,4,6－三甲基苯甲醯基）－苯基膦氧化物等。

目標的黏著劑為活性能量線硬化性黏著劑之情形，黏著性組合物P中之光聚合起始劑（E）的含量，相對於活性能量線硬化性成分（C）100質量份，作為下限值，較佳為0.1質量份以上，特佳為1質量份以上，再佳為5質量份以上。又，作為上限值，較佳為30質量份以下，特佳為20質量份以下，再佳為12質量份以下。

（1－6）各種添加劑 黏著性組合物P中，依據所期望，可添加通常使用於丙烯酸系黏著劑的各種添加劑，例如矽烷偶合劑、防銹劑、紫外線吸收劑、抗靜電劑、黏著賦予劑、抗氧化劑、光安定劑、軟化劑、折射率調整劑等。此外，後述的聚合溶媒及稀釋溶媒不被包含在構成黏著性組合物P的添加劑中。

在上述之中，黏著性組合物P較佳為含有矽烷偶合劑。藉此，被接著體可為塑膠零件，亦可為玻璃零件，與該被接著體的附著性提升，成為在高溫高濕條件下的凹凸嵌入性及耐起泡性更優異者。

作為矽烷偶合劑，較佳為在分子內具有至少一個烷氧基矽基的有機矽化合物，其與（甲基）丙烯酸酯聚合物（A）的相容性佳，且具有光穿透性。

作為此矽烷偶合劑，可列舉例如，乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷等含有聚合性不飽和基的矽化合物、3－乙二醇氧基丙基三甲氧基矽烷、2－（3,4－環氧環己基）乙基三甲氧基矽烷等具有環氧結構的矽化合物、3－巰丙基三甲氧基矽烷、3－巰丙基三乙氧基矽烷、3－巰丙基二甲氧基甲基矽烷等含有巰基的矽化合物、3－胺基丙基三甲氧基矽烷、N－（2－胺基乙基）－3－胺基丙基三甲氧基矽烷、N－（2－胺基乙基）－3－胺基丙基甲基二甲氧基矽烷等含有胺基的矽化合物、3－氯丙基三甲氧基矽烷、3－異氰酸酯丙基三乙氧基矽烷、或者此等的至少1個與甲基三乙氧基矽烷、乙基三乙氧基矽烷、甲基三甲氧基矽烷、乙基三甲氧基矽烷等含有烷基的矽化合物之縮合物等。此等可單獨使用一種，亦可組合二種以上而使用。

黏著性組合物P中之矽烷偶合劑的含量，相對於（甲基）丙烯酸酯聚合物（A）100質量份，較佳為0.01質量份以上，特佳為0.05質量份以上，再佳為0.1質量份以上。又，該含量較佳為1.2質量份以下，特佳為0.8質量份以下，再佳為0.4質量份。

（2）黏著性組合物的製備 黏著性組合物P可藉由製造（甲基）丙烯酸酯聚合物（A），將所得之（甲基）丙烯酸酯聚合物（A）與交聯劑（B）進行混合，且同時依據所期望添加活性能量線硬化性成分（C）、光聚合起始劑（E）、添加劑等而製造。在光擴散黏著劑層21之情形中，進一步摻合光擴散微粒（D）。

（甲基）丙烯酸酯聚合物（A）可藉由利用通常的自由基聚合法將構成聚合物的單體的混合物進行聚合而製造。（甲基）丙烯酸酯聚合物（A）的聚合，較佳為依據所期望而使用聚合起始劑，藉由溶液聚合法而進行。但是，本發明不受限於此，亦可在無溶劑下進行聚合。作為聚合溶媒，可列舉例如，乙酸乙酯、乙酸n－丁酯、乙酸異丁酯、甲苯、丙酮、己烷、甲基乙基酮等，亦可併用二種類以上。

作為聚合起始劑，可列舉偶氮系化合物、有機過氧化物等，亦可併用二種類以上。作為偶氮系化合物，可列舉例如，2,2’－偶氮雙異丁腈、2,2’－偶氮雙（2－甲基丁腈）、1,1’－偶氮雙（環己烷1－甲腈）、2,2’－偶氮雙（2,4－二甲基戊腈）、2,2’－偶氮雙（2,4－二甲基－4－甲氧基戊腈）、二甲基2,2’－偶氮雙（2－甲基丙酸酯）、4,4’－偶氮雙（4－氰基纈草酸）、2,2’－偶氮雙（2－羥基甲基丙腈）、2,2’－偶氮雙［2－（2－咪唑咻－2-基）丙烷］等。

作為有機過氧化物，可列舉例如，過氧化苯甲醯、過氧苯甲酸三級丁酯、異丙苯氫過氧化物、二異丙基過氧基二碳酸酯、二－n－丙基過氧基二碳酸酯、二（2－乙氧基乙基）過氧基二碳酸酯、過氧新癸酸三級丁酯、過氧異丁酸三級丁酯、（3,5,5－三甲基己醯基）過氧化物、二丙醯基過氧化物、二乙醯基過氧化物等。

此外，在上述聚合步驟中，可藉由摻合2－巰基乙醇等鏈移動劑而調節所得之聚合物的重量平均分子量。

若獲得（甲基）丙烯酸酯聚合物（A），則在（甲基）丙烯酸酯聚合物（A）的溶液中添加交聯劑（B）、以及依據所期望的稀釋溶劑、活性能量線硬化性成分（C）、光擴散微粒（D）、光聚合起始劑（E）、添加劑等，並充分地混合，藉此獲得經溶劑稀釋的黏著性組合物P（塗佈溶液）。此外，在上述各成分之任一者中使用固體狀者之情形，或者，在未稀釋的狀態下與其他成分進行混合之際產生析出之情形中，可先將該成分單獨溶解於稀釋溶媒或進行稀釋後，再與其他成分進行混合。

作為上述稀釋溶劑，可使用例如，己烷、庚烷、環己烷等脂肪族烴、甲苯、二甲苯等芳香族烴、氯甲烷、氯化乙烯等鹵素化烴、甲醇、乙醇、丙醇、丁醇、1－甲氧基－2－丙醇等醇、丙酮、甲基乙基酮、2－戊酮、異佛酮、環己酮等酮、乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯、乙基賽路蘇等賽路蘇系溶劑等。

作為如此進行所製備的塗佈溶液的濃度、黏度，只要為能塗佈的範圍則未被特別限制，可因應狀況而適當選定。例如，以黏著性組合物P的濃度成為10～60質量％之方式進行稀釋。此外，在獲得塗佈溶液之際，稀釋溶劑等的添加並非必要條件，只要黏著性組合物P為能塗佈的黏度等，則亦可不添加稀釋溶劑。此情形，黏著性組合物P成為將（甲基）丙烯酸酯聚合物（A）的聚合溶媒直接作為稀釋溶劑的塗佈溶液。

（3）黏著劑層的形成 本實施形態中之光擴散黏著劑層21及透明黏著劑層22，較佳為分別由已交聯黏著性組合物P（的塗佈層）的黏著劑所構成。黏著性組合物P的交聯通常可藉由加熱處理而進行。此外，此加熱處理亦可兼任乾燥處理，所述乾燥處理係使稀釋溶劑等從已塗佈所期望的對象物之黏著性組合物P的塗佈層揮發之際的乾燥處理。

加熱處理的加熱溫度較佳為50～150℃，特佳為70～120℃。又，加熱時間較佳為10秒鐘～10分鐘，特佳為50秒鐘～2分鐘。

加熱處理後，因應需要，亦可設置在常溫（例如，23℃、50％RH）且1～2週左右的熟化期間。在需要此熟化期間之情形，在熟化期間過後，形成黏著劑，而在不需要熟化期間之情形中，則在加熱處理結束後，形成黏著劑。

藉由上述的加熱處理（及熟化），透過交聯劑（B）而與（甲基）丙烯酸酯聚合物（A）充分交聯。

黏著片2中之複合型黏著劑層20，可藉由積層光擴散黏著劑層21及透明黏著劑層22而得。積層的時機點，可為熟化各黏著劑層之前，亦可為已熟化後。但是，為了更提高光擴散黏著劑層21及透明黏著劑層22的附著性，較佳為在熟化各黏著劑層之前進行積層。

（4）剝離片 剝離片23a、23b係直到黏著片2的使用時為止保護複合型黏著劑層20者，在使用黏著片2（複合型黏著劑層20）時會被剝離。在本實施形態之黏著片2中，剝離片23a、23b的一者或兩者並非必要者。

作為剝離片23a、23b，可使用例如，聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜、聚丁烯薄膜、聚丁二烯薄膜、聚甲基戊烯薄膜、聚氯乙烯薄膜、氯乙烯共聚物薄膜、聚對苯二甲酸乙二酯薄膜、聚萘二甲酸乙二酯（polyethylene naphthalate）薄膜、聚對苯二甲酸丁二酯（polybutylene terephthalate）薄膜、聚胺基甲酸乙酯薄膜、乙烯乙酸乙烯酯薄膜、離子聚合物樹脂薄膜、乙烯-（甲基）丙烯酸共聚物薄膜、乙烯-（甲基）丙烯酸酯共聚物薄膜、聚苯乙烯薄膜、聚碳酸酯薄膜、聚醯亞胺薄膜、氟樹脂薄膜等。又，亦能使用此等的交聯薄膜。再者，亦可為此等的積層薄膜。

對於上述剝離片23a、23b的剝離面（尤其與複合型黏著劑層20接觸的面），較佳為施以剝離處理。作為使用於剝離處理的剝離劑，可列舉例如，醇酸系、聚矽氧系、氟系、不飽和聚酯系、聚烯烴系、蠟系的剝離劑。

針對剝離片23a、23b的厚度並無特別限制，但通常為20～150μm左右。

（5）黏著片的製造 作為黏著片2的一製造例，係在一者的剝離片23a的剝離面塗佈用於形成透明黏著劑層22的黏著性組合物P的塗佈溶液，進行加熱處理將黏著性組合物P進行熱交聯，形成塗佈層，獲得附塗佈層的剝離片23a。又，在另一者的剝離片23b的剝離面塗佈用於形成光擴散黏著劑層21的黏著性組合物P的塗佈溶液，進行加熱處理將黏著性組合物P進行熱交聯，形成塗佈層，獲得附塗佈層的剝離片23b。然後，使附塗佈層的剝離片23a與附塗佈層的剝離片23b以兩塗佈層互相接觸之方式貼合。於此，可製作多片附塗佈層的剝離片，以所期望的數量、所期望的積層順序貼合所述塗佈層。在需要熟化期間之情形，藉由放置熟化期間，而上述經積層的塗佈層成為複合型黏著劑層20，在不需要熟化期間之情形，則上述經積層的塗佈層直接成為複合型黏著劑層20。藉此，獲得具有複合型黏著劑層20的上述黏著片2，所述複合型黏著劑層20為光擴散黏著劑層21與透明黏著劑層22的積層體。關於加熱處理及熟化的條件係如同前述。

此外，用於形成透明黏著劑層22的塗佈層及用於形成光擴散黏著劑層21的塗佈層，可分別藉由2片的剝離片夾住，在將用於形成透明黏著劑層22的塗佈層與用於形成光擴散黏著劑層21的塗佈層進行貼合時，可剝離各自的單側的剝離片。

作為塗佈上述黏著性組合物P的塗佈溶液的方法，可利用例如棒塗佈法、刮刀塗佈法、輥塗佈法、葉片塗佈（blade coating）法、模具塗佈法、凹版塗佈法等。

（6）黏著片的物性 上述黏著片2中之透明黏著劑層22側對於鈉鈣玻璃的黏著力，由在高溫高濕條件下的凹凸嵌入性及處置性之觀點而言，較佳為20N／25mm以上，更佳為30N／25mm以上，特佳為35N／25mm以上，再佳為40N／25mm以上。又，上述黏著力較佳為80N／25mm以下，更佳為70N／25mm以下，特佳為60N／25mm以下，再佳為50N／25mm以下。藉此，獲得良好的重工性，變得即使在產生貼合失誤之情形中亦能再利用背光30等。

透明黏著劑層22為活性能量線硬化性之情形，上述黏著片2中之透明黏著劑層22側在活性能量線照射後對於鈉鈣玻璃的黏著力，較佳為20N／25mm以上，更佳為30N／25mm以上，特佳為40N／25mm以上，再佳為45N／25mm以上。藉此，成為在高溫高濕條件下的凹凸嵌入性更優異者。又，上述黏著力較佳為80N／25mm以下，更佳為70N／25mm以下，特佳為60N／25mm以下，再佳為50N／25mm以下。藉此，獲得良好的重工性。

2.背光單元的製造 在製造本實施形態之背光單元1中，例如，剝離黏著片2的其中之一的剝離片23a，將黏著片2所露出的透明黏著劑層22貼合至背光30的存在發光體32的側的面。此外，在複合型黏著劑層20為活性能量線硬化性之情形，在此階段，可從剝離片23b側對於複合型黏著劑層20照射活性能量線，使複合型黏著劑層20硬化。

接著，利用所期望的時機點，從黏著片2的複合型黏著劑層20剝離另一剝離片23b。此剝離片23b的剝離，較佳為在製造後述顯示裝置10時進行，更佳為在其之前的期間藉由剝離片23b保護複合型黏著劑層20。

3.其他構成 在背光30與複合型黏著劑層20之間，可設置密封材。即使在該情形中，在密封材中之與背光30為相反側的面上亦常形成凹凸，可藉由複合型黏著劑層20的透明黏著劑層22而吸收此凹凸。

[顯示裝置] 本發明的一實施形態之顯示裝置係具備上述的實施形態之背光單元與積層在該背光單元的複合型黏著劑層之顯示部而構成。上述顯示部，對於複合型黏著劑層，可直接接觸而積層，亦可隔著其他層或零件而間接地積層。

作為顯示裝置的種類，可列舉例如，液晶（LCD）顯示器、發光二極體（LED）顯示器、有機發光二極體（有機EL）顯示器、電子紙等。該顯示裝置亦可為觸控面板。上述之中，較佳為背光的必要性高的液晶顯示器（液晶顯示裝置）。

將作為本實施形態中之一例的顯示裝置揭示於圖3。 如圖3所示，本實施形態之顯示裝置3係具備上述的背光單元1、與積層在背光單元1中之複合型黏著劑層20的光擴散黏著劑層21之顯示部40而構成。此顯示裝置3中之背光30係屬於正下方型背光。

作為顯示部40，可列舉例如液晶面板，但不限於此，例如亦可為液晶面板的構成零件的一部分、或為了將液晶面板的功能進行加成、強化等而併用的光學零件（例如，光擴散板及紫外線吸收過濾器等）。顯示部40可採用眾所皆知者。此顯示部40亦常由硬質體所構成。

在製造本實施形態之顯示裝置10中，將露出的複合型黏著劑層20的光擴散黏著劑層21與顯示部40進行貼合。此外，在將剝離片23b積層於複合型黏著劑層20之情形中，剝離該剝離片23b，使複合型黏著劑層20的光擴散黏著劑層21露出，再將該光擴散黏著劑層21與顯示部40進行貼合。

複合型黏著劑層20為活性能量線硬化性之情形，從所期望的側對於複合型黏著劑層20照射活性能量線，使複合型黏著劑層20硬化。所謂活性能量線，係指在電磁波或荷電粒子線之中具有能量量子者，具體而言，可列舉紫外線及電子射線等。在活性能量線之中，特佳為處理容易的紫外線。

紫外線的照射可藉由高壓水銀燈、Fusion H燈、氙燈等而進行，紫外線的照射量的照度較佳為50～1000mW／cm² 左右，更佳為100～500mW／cm² 左右。又，光量較佳為50～10000mJ／cm² ，更佳為200～7000mJ／cm² ，特佳為500～3000mJ／cm² 。另一方面，電子射線的照射可藉由電子射線加速器等而進行，電子射線的照射量較佳為10～1000krad左右。

在製造本實施形態之顯示裝置10時，可先將複合型黏著劑層20的光擴散黏著劑層21側貼附於顯示部40，之後將該複合型黏著劑層20（透明黏著劑層22）與背光30進行貼合。

於此，在複合型黏著劑層20與顯示部40之間、或顯示部40中之與複合型黏著劑層20為相反側的面上，可設置所期望的光學零件。作為此光學零件，可列舉例如，輝度提升薄膜、對比提升薄膜、視角補償薄膜、透明導電性薄膜、液晶聚合物薄膜、半穿透反射薄膜、飛散防止薄膜、光擴散板等。

以上說明的實施形態係用於容易理解本發明而被記載者，並非用於限定本發明而被記載者。因此，上述實施形態所揭示的各要素係亦包含屬於本發明的技術範圍的全部設計變更及均等物的趣旨。

例如，黏著片2中之剝離片23a、23b的任一者可被省略。又，例如，複合型黏著劑層20可為依序積層透明黏著劑層22、光擴散黏著劑層21、及透明黏著劑層22者。 [實施例]

以下，藉由實施例等而進一步具體地說明本發明，但本發明的範圍不受限於此等實施例等。

[製造例1]（光擴散黏著片的製作） 1.（甲基）丙烯酸酯聚合物的製備 藉由溶液聚合法，使丙烯酸2－乙基己酯65質量份、丙烯酸異莰酯15質量份、N－丙烯醯基𠰌啉5質量份及丙烯酸2－羥乙酯15質量份進行共聚合，製備（甲基）丙烯酸酯聚合物（A）。利用後述的方法測定此（甲基）丙烯酸酯聚合物（A）的分子量，結果重量平均分子量（Mw）為50萬。

2.黏著性組合物的製備 混合由上述步驟1所得之（甲基）丙烯酸酯聚合物（A）100質量份（固體成分換算值；以下相同）、作為交聯劑（B）的三羥甲丙烷改質甲苯二異氰酸酯（TOYOCHEM公司製，產品名「BHS8515」）0.20質量份、作為活性能量線硬化性成分（C）的ε－己內酯改質參－（2－丙烯醯氧基乙基）三聚異氰酸酯（新中村化學公司製，產品名「NK ester A－9300－1CL」）5.2質量份、作為光擴散微粒（D）的由矽氧樹脂（具有介於無機與有機中間的結構之含矽化合物）所構成的微粒（Momentive Performance Materials Japan公司製，產品名「Tospearl  145」，平均粒徑：4.5μm）5.0質量份、作為光聚合起始劑（E）的2,4,6－三甲基苯甲醯基－二苯基－膦氧化物0.5質量份、以及作為矽烷偶合劑的3－乙二醇氧基丙基三甲氧基矽烷0.2質量份，充分地攪拌，利用甲基乙基酮進行稀釋，藉此獲得黏著性組合物的塗佈溶液。

於此，在表1揭示將（甲基）丙烯酸酯聚合物（A）設為100質量份（固體成分換算值）之情形的黏著性組合物的各摻合（固體成分換算值）。此外，表1所記載之縮寫等的詳細內容係如同以下。 [（甲基）丙烯酸酯聚合物（A）] 2EHA：丙烯酸2－乙基己酯 IBXA：丙烯酸異莰酯 ACMO：N－丙烯醯基𠰌啉 HEA：丙烯酸2－羥乙酯 BA：丙烯酸n－丁酯 AA：丙烯酸 [交聯劑（B）] TDI系：三羥甲丙烷改質甲苯二異氰酸酯（TOYOCHEM公司製，產品名「BHS8515」） XDI系：三羥甲丙烷改質伸茬基二異氰酸酯（綜研化學公司製，產品名「TD－75」） 環氧系：1,3－雙（N,N－二環氧丙基胺基甲基）環己烷（三菱氣體化學公司製，產品名「TETRAD－C」） [光擴散微粒（D）] D1：由平均粒徑4.5μm的矽氧樹脂（具有介於無機與有機中間的結構之含矽化合物）所構成的微粒（Momentive Performance Materials Japan公司製，產品名「Tospearl 145」，折射率：1.43） D2：由平均粒徑2.0μm的矽氧樹脂（具有介於無機與有機中間的結構之含矽化合物）所構成的微粒（Momentive Performance Materials Japan公司製，產品名「Tospearl 120」，折射率：1.43） D3：平均粒徑4.0μm的真球狀聚甲基丙烯酸甲酯－聚苯乙烯共聚物微粒（積水化成品工業公司製，產品名「XX－30LA」，折射率：1.56）

3.光擴散黏著片的製造 利用刀式塗佈機，將由上述步驟2所得之黏著性組合物的塗佈溶液，塗佈於已利用聚矽氧系剝離劑將聚對苯二甲酸乙二酯薄膜的單面進行剝離處理的重剝離型剝離片（LINTEC公司製，產品名「SP－PET752150」）的剝離處理面後，以90℃進行1分鐘加熱處理，形成塗佈層（厚度：50μm）。

接著，將由上述所得之重剝離型剝離片上的塗佈層、與已利用聚矽氧系剝離劑將聚對苯二甲酸乙二酯薄膜的單面進行剝離處理的輕剝離型剝離片（LINTEC公司製，產品名「SP－PET381031」），以該輕剝離型剝離片的剝離處理面接觸塗佈層之方式進行貼合，製作由重剝離型剝離片／光擴散黏著劑層（a）的塗佈層（厚度：50μm）／輕剝離型剝離片的構成而成之光擴散黏著片。

此外，上述光擴散黏著劑層的厚度係遵循JIS　K7130並使用定壓厚度測定器（TECLOCK公司製，產品名「PG－02」）所測定的值（以下相同）。

[製造例2～7、9～10]（光擴散黏著片的製作） 除了將構成（甲基）丙烯酸酯聚合物（A）之各單體的種類及比例、（甲基）丙烯酸酯聚合物（A）的重量平均分子量（Mw）、交聯劑（B）的摻合量、活性能量線硬化性成分（C）的摻合量、光擴散微粒（D）的種類及摻合量、光聚合起始劑（E）的摻合量、以及矽烷偶合劑的摻合量變更成如表1所示般以外，與製造例1同樣地進行，製作具有光擴散黏著劑層（b）（製造例2）、光擴散黏著劑層（c）（製造例3）、光擴散黏著劑層（d）（製造例4）、光擴散黏著劑層（e）（製造例5）、光擴散黏著劑層（f）（製造例6）、光擴散黏著劑層（g）（製造例7）、光擴散黏著劑層（i）（製造例9）、及光擴散黏著劑層（j）（製造例10）的光擴散黏著片。但是，針對具有光擴散黏著劑層（j）（製造例10）的光擴散黏著片，利用與後述的試驗例1相同的條件，穿透過輕剝離型剝離片地照射活性能量線（紫外線），使光擴散黏著劑層事先硬化。

[製造例8]（透明黏著片的製作） 除了將構成（甲基）丙烯酸酯聚合物（A）之各單體的種類及比例、（甲基）丙烯酸酯聚合物（A）的重量平均分子量（Mw）、交聯劑（B）的摻合量、活性能量線硬化性成分（C）的摻合量、光擴散微粒（D）的摻合量（無摻合）、光聚合起始劑（E）的摻合量、以及矽烷偶合劑的摻合量變更成如表1所示般以外，與製造例1同樣地進行，製作具有透明黏著劑層（h）（製造例8）的透明黏著片。此外，針對用於使用於實施例9的具有透明黏著劑層（h）的透明黏著片，利用與後述的試驗例1相同的條件，穿透過輕剝離型剝離片地照射活性能量線（紫外線），使透明黏著劑層事先硬化。

前述的重量平均分子量（Mw）係使用凝膠滲透層析法（GPC）並利用以下的條件所測定（GPC測定）之聚苯乙烯換算的重量平均分子量。 ＜測定條件＞ ・GPC測定裝置：Tosoh公司製，HLC－8020 ・GPC管柱（依以下順序通過）：Tosoh公司製 TSK  guard  column  HXL－H TSK  gel  GMHXL（×2） TSK  gel  G2000HXL ・測定溶媒：四氫呋喃 ・測定溫度：40℃

[實施例1] 從由製造例1所製作的光擴散黏著片剝離輕剝離型剝離片，使光擴散黏著劑層（a）的塗佈層露出。又，從由製造例8所製作的透明黏著片剝離輕剝離型剝離片，使透明黏著劑層（g）的塗佈層露出。在光擴散黏著劑層（a）的塗佈層積層4層透明黏著劑層（g）的塗佈層，之後在23℃、50％RH的條件下進行7日熟化。如此進行而製造由重剝離型剝離片／光擴散黏著劑層（a）（50μm）／透明黏著劑層（g）（200μm）／重剝離型剝離片所構成之黏著片（光擴散黏著劑層＋透明黏著劑層＝複合型黏著劑層；厚度250μm）。

[實施例2～9、比較例1～3] 除了將光擴散黏著劑層及透明黏著劑層的種類變更成如表2所示般以外，與實施例1同樣地進行，製作黏著片。此外，在表2中，為了方便，比較例1亦在光擴散黏著劑層的欄位中記載透明黏著劑層，比較例2及3亦在透明黏著劑層的欄位中記載光擴散黏著劑層。比較例1係積層5層透明黏著劑層（h）。比較例2係積層5層光擴散黏著劑層（a）。比較例3係積層5層光擴散黏著劑層（j）（UV照射後）。

[試驗例1]（凝膠分率的測定） 將由各製造例所製作之黏著片（熟化後）、以及由實施例及比較例所得之黏著片裁斷成80mm×80mm的尺寸，將該黏著劑層包覆在聚酯製網格（網格尺寸200）中，利用精密天秤秤量其質量，減去上述網格單獨的質量，藉此算出僅黏著劑的質量。將此時的質量設為M1。

接著，使上述被聚酯製網格包覆的黏著劑，在室溫下（23℃）下浸漬在乙酸乙酯中24小時。之後，取出黏著劑，在溫度23℃、相對濕度50％的環境下，使其風乾24小時，再在80℃的烘箱中使其乾燥12小時。乾燥後，利用精密天秤秤量其質量，減去上述網格單獨的質量，藉此算出僅黏著劑的質量。將此時的質量設為M2。凝膠分率（％)係由（M2／M1）×100表示。藉此，導出黏著劑的凝膠分率（UV前）。將結果揭示於表2。

另一方面，對於由各製造例所製作的黏著片（熟化後）、以及由實施例及比較例所得的黏著片（製造例10及比較例3以外）的黏著劑層，穿透過輕剝離型剝離片地利用下述條件照射活性能量線（紫外線；UV），使黏著劑層硬化。針對此硬化後的黏著劑層的黏著劑，與上述同樣地進行，導出凝膠分率（UV後）。將結果揭示於表2。

＜活性能量線照射條件＞ ・使用高壓水銀燈 ・照度200mW／cm² ，光量1000mJ／cm² ・UV照度・光量計係使用Eye Graphics公司製「UVPF－A1」

[試驗例2]（儲存模數的測定） 從由各製造例所製作的黏著片（熟化後）、以及由實施例及比較例所得的黏著片剝去剝離片，以厚度成為800μm之方式積層多層的黏著劑層。從所得的黏著劑層的積層體，穿孔打出直徑8mm的圓柱體（高度800μm），將此作為樣本。

針對上述樣本，遵循JIS K7244－6，使用黏彈性測定裝置（Physica公司製，產品名「MCR300」）並藉由扭曲剪切法，利用以下的條件，測定23℃的儲存模數（GD1、GT1、G1）（UV前；MPa）。將結果揭示於表2。 測定頻率：1Hz 測定溫度：23℃

又，對於與上述同樣的樣本（製造例10及比較例3以外），利用與試驗例1同樣的條件照射活性能量線（紫外線；UV），使黏著劑硬化，藉此獲得活性能量線照射後的樣本。針對所得的活性能量線照射後的樣本，與活性能量線照射前的樣本同樣地進行，測定23℃的儲存模數（GD2、GT2、G2）（UV後；MPa）。將結果揭示於表2。

又，算出活性能量線照射後的儲存模數（GD2、GT2、G2）相對於活性能量線照射前的儲存模數（GD1、GT1、G1）之比（GD2／GD1，GT2／GT1，G2／G1），亦即儲存模數變化率（ΔGD、ΔGT、ΔG’）。將結果揭示於表2。

[試驗例3]（霧度值的測定） 將由實施例及比較例所製造的黏著片的複合型黏著劑層貼合於玻璃，將此作為測定用樣本。利用玻璃進行背景值測定，再針對上述測定用樣本，遵循JIS K7136：2000，使用霧度計（日本電色工業公司製，產品名「SH－7000」）測定霧度值（％）。將結果揭示於表2。

[試驗例4]（全透光度的測定） 將由實施例及比較例所製造的黏著片的複合型黏著劑層貼合於玻璃，將此作為測定用樣本。利用玻璃進行背景值測定，再針對上述測定用樣本，遵循JIS K7361－1：1997，使用霧度計（日本電色工業公司製，產品名「SH－7000」）測定全透光度（％）。將結果揭示於表2。

[試驗例5]（黏著力的測定） 從由實施例及比較例所得的黏著片剝離光擴散黏著劑層側的重剝離型剝離片，將露出的光擴散黏著劑層貼合於具有易接著層的聚對苯二甲酸乙二酯（PET）薄膜（東洋紡公司製，產品名「PET A4300」，厚度：100μm）的易接著層，獲得重剝離型剝離片／複合型黏著劑層／PET薄膜的積層體。將所得的積層體裁斷成25mm寬、100mm長。

在23℃、50％RH的環境下，從上述積層體剝離透明黏著劑層側的重剝離型剝離片，將露出的透明黏著劑層貼附於鈉鈣玻璃（日本板硝子公司製）後，利用栗原製作所公司製高壓釜，在0.5MPa、50℃下加壓20分鐘。之後，在23℃、50％RH的條件下放置24小時，將此作為樣本。然後，使用拉伸試驗機（ORIENTEC公司製，產品名「TENSILON」），在剝離速度300mm／min、剝離角度180度的條件下測定黏著力（透明黏著劑層-UV前；N／25mm）。除了此處記載以外的條件係遵循JIS Z0237:2009進行測定。

接著，對於上述樣本，穿透過PET薄膜地利用與試驗例1同樣的條件照射活性能量線，使複合型黏著劑層硬化。針對所述硬化後的複合型黏著劑層，與上述同樣地進行而測定黏著力（透明黏著劑層-UV後；N／25mm）。將結果揭示於表2。

又，與上述同樣地進行，測定光擴散黏著劑層側的UV前的黏著力（光擴散黏著劑層-UV前；N／25mm）及光擴散黏著劑層側的UV後的黏著力（光擴散黏著劑層-UV後；N／25mm）。將結果揭示於表2。

[試驗例6]（凹凸嵌入性的評價） 準備利用2片的剝離片夾住丙烯酸系的黏著劑層（厚度25μm）而成之黏著片（LINTEC公司製，產品名「MO－T015C」），剝離其中之一的剝離片。將露出的黏著劑層貼合於具有易接著層的PET薄膜（東洋紡公司製，產品名「PET A4300」，厚度：188μm）的易接著層，獲得剝離片／黏著劑層／PET薄膜的積層體。將所得的積層體裁斷成1mm寬、70mm長並作為黏著膠帶，製作多個此黏著膠帶。此黏著膠帶中之PET薄膜及黏著劑層的合計厚度為213μm。

從上述黏著膠帶剝離另一剝離片，將使黏著劑層露出的多個黏著膠帶，以相鄰的黏著膠帶的間隙的寬度成為1mm之方式，貼附於70mm×70mm的大小的鈉鈣玻璃板（日本板硝子公司製；厚度0.7mm；彎曲角0°），獲得表面具有指定凹凸形狀的準背光。

接著，從由實施例及比較例所得的黏著片剝去透明黏著劑層側的剝離片，將露出的透明黏著劑層貼附於上述準背光的凹凸形狀賦予面側，獲得準背光單元。再者，剝去所得的準背光單元中之複合型黏著劑層的光擴散黏著劑層側的剝離片，將露出的光擴散黏著劑層貼合於與前述不同的70mm×70mm的大小的鈉鈣玻璃板（日本板硝子公司製；厚度0.7mm；彎曲角0°）。

之後，在23℃、50％RH的環境下，使用積層機（FUJIPULA公司製，產品名「LPD3214」）進行積層，在50℃、0.5MPa的條件下進行30分鐘高壓釜處理後，在常壓、23℃、50％RH下放置24小時。

接著，穿透過上述鈉鈣玻璃板地利用與試驗例1同樣的條件照射活性能量線（比較例3以外），使複合型黏著劑層硬化，獲得由準背光／複合型黏著劑層（硬化後）／鈉鈣玻璃板所構成的準顯示裝置A。首先，針對此疑似顯示裝置A，目視準背光的凹凸與複合型黏著劑層之界面的狀態，基於以下的標準，評價凹凸嵌入性（初期）。將結果揭示於表2。 ◎…無浮起、剝落。 ○…雖無浮起、剝落，但發生氣泡。 ╳…發生浮起、剝落。

接著，將上述疑似顯示裝置A在85℃、85％RH的濕熱條件下保管72小時（耐久試驗），之後，與上述同樣地進行，評價嵌入性（耐久後）。將結果揭示於表2。

[試驗例7]（耐起泡性的評價） 從由實施例及比較例所得的黏著片剝去光擴散黏著劑層側的重剝離型剝離片，將露出的光擴散黏著劑層貼合於已在PC板上積層PMMA層的塑膠板（三菱氣體化學公司製，產品名「Iupilon Sheet MR58U」，厚度：0.7mm，含有紫外線吸收劑）的PC板側，獲得複合型附黏著劑層的塑膠板。

從由上述所得的複合型附黏著劑層的塑膠板剝離透明黏著劑層側的重剝離型剝離片，隔著露出的透明黏著劑層，將該塑膠板貼附於70mm×150mm的大小的鈉鈣玻璃板（日本板硝子公司製，厚度：0.7mm）。然後，在50℃、0.5MPa的條件下進行30分鐘高壓釜處理，在常壓、23℃、50％RH下放置24小時。

接著，對於上述複合型黏著劑層，穿透過上述塑膠板地利用與試驗例1同樣的條件照射活性能量線（比較例3以外），使複合型黏著劑層硬化，藉此獲得疑似顯示裝置B。

針對上述疑似顯示裝置B，在85℃、85％RH的高溫高濕條件下保管72小時。然後，藉由目視確認複合型黏著劑層與被接著體（塑膠板、鈉鈣玻璃板）的界面中之狀態，藉由以下的標準評價耐起泡性。將結果揭示於表2。 ◎…無氣泡、浮起、剝落。 ○…發生微小的氣泡。 ╳…全體性地發生氣泡、浮起、剝落。

[試驗例8]（輝度不均抑制性的評價） 作為面光源，準備平板終端（Apple製，產品名「iPad（註冊商標）」，解析度：264ppi）的液晶顯示裝置。在所述液晶顯示裝置的表面被覆不鏽鋼製網格，獲得準背光。此外，上述的液晶顯示裝置的條件及不鏽鋼製網格的詳細內容係如同以下。 ＜液晶顯示裝置＞ ・顯示色：白色 ・明亮度設定：最大 ・像素數：980×980 ＜不鏽鋼製網格＞ ・不鏽鋼種類：SUS316 ・編織方法：平織 ・線徑：50μm ・篩孔尺寸：204μm ・開口率：64.5％ ・網格數：100（／25.4mm）

另一方面，將由實施例及比較例所得之黏著片中的光擴散黏著劑層側的面貼合至鈉鈣玻璃板（日本板硝子公司製，厚度：0.7mm），獲得積層體。

將上述積層體以其透明黏著劑層側接觸準背光之方式載置於上述準背光上，獲得具有背光單元的疑似顯示裝置C。由該疑似顯示裝置C的正上方30cm的位置，進行是否能以目視確認金屬線的感官評價。基於其結果，藉由以下的基準評價輝度不均抑制性。將結果揭示於表2。 ◎…金屬線被遮蔽，輝度分布為一樣。 ○…若凝視則可確認金屬線，但輝度分布大略一樣。 ╳…可清楚確認金屬線，輝度分布不一樣。

[表1]

表1
	黏著劑層的種類	(甲基)丙烯酸酯聚合物(A)	交聯劑(B)	活性能量線硬化性成分(C)	光擴散微粒(D)	光聚合起始劑(E)	矽烷偶合劑
組 成	Mw	種類	質量份	質量份	種類	質量份	質量份	質量份
製造例1	光擴散黏著劑層(a)	2EHA/IBXA/ACMO/HEA =65/15/5/15	50萬	TDI系	0.20	5.2	D1	5.0	0.5	0.2
製造例2	光擴散黏著劑層(b)	0.20	5.2	10.0	0.5	0.2
製造例3	光擴散黏著劑層(c)	0.20	5.2	30.0	0.5	0.2
製造例4	光擴散黏著劑層(d)	0.20	5.2	15.0	0.5	0.2
製造例5	光擴散黏著劑層(e)	XDI系	0.20	5.2	15.0	0.5	0.2
製造例6	光擴散黏著劑層(f)	TDI系	0.20	5.2	D2	15.0	0.5	0.2
製造例7	光擴散黏著劑層(g)	0.20	5.2	D3	15.0	0.5	0.2
製造例8	透明黏著劑層(h)	0.20	5.2	-	-	0.5	0.2
製造例9	光擴散黏著劑層(i)	BA/AA=90/10	40萬	環氧系	0.05	10.0	D1	15.0	1.0	0.3
製造例10	光擴散黏著劑層(j) (UV照射後)	2EHA/IBXA/ACMO/HEA =60/10/10/20	50萬	TDI系	0.20	5.5	D1	10.0	0.5	0.3

[表2]

表2
	光擴散黏著劑層	透明黏著劑層	複合型黏著劑層	霧度值 (%)	全透光率 (%)	黏著力 (25mm/N)	凹凸 嵌入性	耐起泡性	輝度不均抑制性
種類	UV前 凝膠分率(%)	UV後 凝膠分率(%)	UV前儲存模數GD1 (MPa)	UV後儲存模數GD2 (MPa)	ΔGD	種類	UV前 凝膠分率(%)	UV後 凝膠分率(%)	UV前儲存模數GT1 (MPa)	UV後儲存模數GT2 (MPa)	ΔGT	UV前 凝膠分率(%)	UV後 凝膠分率(%)	UV前儲存模數G1 (MPa)	UV後儲存模數G2 (MPa)	ΔG’	光擴散黏著劑層	透明黏著劑層
UV前	UV後	UV前	UV後	初期	耐久後
實施例1	光擴散黏著劑層(a)	52	70	0.06	0.16	2.67	透明黏著劑層(h)	51	69	0.06	0.12	2.00	52	70	0.06	0.12	2.00	65	≧99	34	37	40	46	◎	◎	◎	〇
實施例2	光擴散黏著劑層(b)	58	72	0.06	0.16	2.67	透明黏著劑層(h)	51	69	0.06	0.12	2.00	55	70	0.06	0.12	2.00	85	≧99	31	34	40	46	◎	◎	◎	◎
實施例3	光擴散黏著劑層(c)	62	73	0.09	0.24	2.67	透明黏著劑層(h)	51	69	0.06	0.12	2.00	57	71	0.06	0.12	2.00	95	≧99	26	31	40	46	◎	◎	◎	◎
實施例4	光擴散黏著劑層(d)	60	72	0.07	0.20	2.86	透明黏著劑層(h)	51	69	0.06	0.12	2.00	56	71	0.06	0.12	2.00	92	≧99	31	31	40	46	◎	◎	◎	◎
實施例5	光擴散黏著劑層(e)	56	68	0.09	0.20	2.22	透明黏著劑層(h)	51	69	0.06	0.12	2.00	54	69	0.06	0.12	2.00	92	≧99	32	35	40	46	◎	◎	◎	◎
實施例6	光擴散黏著劑層(f)	61	76	0.07	0.20	2.86	透明黏著劑層(h)	51	69	0.06	0.12	2.00	56	73	0.06	0.12	2.00	95	≧99	27	32	40	46	◎	◎	◎	◎
實施例7	光擴散黏著劑層(g)	56	71	0.07	0.20	2.86	透明黏著劑層(h)	51	69	0.06	0.12	2.00	54	70	0.06	0.12	2.00	95	≧99	29	35	40	46	◎	◎	◎	◎
實施例8	光擴散黏著劑層(i)	59	79	0.10	0.22	2.20	透明黏著劑層(h)	51	69	0.06	0.12	2.00	55	74	0.06	0.12	2.00	89	≧99	15	28	40	46	◎	◎	◎	◎
實施例9	光擴散黏著劑層(b)	58	72	0.06	0.16	2.67	透明黏著劑層(h) (UV照射後)	-	69	-	0.12	2.00	64	71	0.06	0.12	2.00	85	≧99	31	34	-	46	◎	○	╳	◎
比較例1	(透明黏著劑層(h))	51	69	0.06	0.12	2.00	透明黏著劑層(h)	51	69	0.06	0.12	2.00	51	69	0.06	0.12	2.00	1＞	≧99	-	-	40	46	◎	◎	◎	╳
比較例2	光擴散黏著劑層(a)	52	70	0.06	0.16	2.67	(光擴散黏著劑層(a))	52	70	0.06	0.16	2.67	52	70	0.06	0.16	2.67	84	≧99	34	37	-	-	╳	╳	◎	◎
比較例3	光擴散黏著劑層(j) (UV照射後)	-	74	-	0.20	-	(光擴散黏著劑層(j)) (UV照射後)	-	74	-	0.20	-	-	74	-	0.13	-	95	≧99	-	42	-	-	╳	╳	╳	◎

如由表2可知般，若根據由實施例所製造的黏著片，則凹凸嵌入性及輝度不均抑制性優異。又，若根據由實施例1～8所製造的黏著片，則耐起泡性亦優異。 [產業可利用性]

本發明之背光單元及顯示裝置適於要求凹凸嵌入性及輝度不均抑制性的顯示裝置，尤其液晶顯示裝置等。

1:背光單元 20:複合型黏著劑層 21:光擴散黏著劑層 22:透明黏著劑層 30:背光 31:基板 32:發光體 2:黏著片 23a,23b:剝離片 10:顯示裝置 40:顯示部

圖1係本發明的一實施形態之背光單元的剖面圖。 圖2係本發明的一實施形態之背光單元的製造中可使用之黏著片的剖面圖。 圖3係本發明的一實施形態之顯示裝置的剖面圖。

1:背光單元

20:複合型黏著劑層

21:光擴散黏著劑層

22:透明黏著劑層

30:背光

31:基板

32:發光體

Claims (12)

1. 一種背光單元，其係具備具有多個發光體的背光、與積層於前述背光的複合型黏著劑層之背光單元，其特徵在於， 前述複合型黏著劑層具有：含有光擴散微粒的光擴散黏著劑層、與不含有光擴散微粒的透明黏著劑層， 前述透明黏著劑層位於前述背光側。
2. 如請求項1所述之背光單元，其中，前述背光為硬質體， 前述複合型黏著劑層中之與前述背光側為相反側的面上積層別的硬質體。
3. 如請求項1所述之背光單元，其中，前述發光體為發光二極體。
4. 如請求項1所述之背光單元，其中，前述複合型黏著劑層的霧度值為40％以上且99％以下。
5. 如請求項1所述之背光單元，其中，前述複合型黏著劑層的厚度為30μm以上且3000μm以下。
6. 如請求項1所述之背光單元，其中，前述複合型黏著劑層中之光擴散黏著劑層側對於鈉鈣玻璃的黏著力為1N／25mm以上且60N／25mm以下。
7. 如請求項1所述之背光單元，其中，前述複合型黏著劑層在23℃之儲存模數G1為0.001MPa以上且0.2MPa以下。
8. 如請求項1所述之背光單元，其中，前述光擴散黏著劑層及前述透明黏著劑層的至少一層係由活性能量線硬化性黏著劑所構成。
9. 如請求項8所述之背光單元，其中，前述複合型黏著劑層之活性能量線照射後在23℃之儲存模數G2為0.08MPa以上且10MPa以下。
10. 如請求項9所述之背光單元，其中，前述複合型黏著劑層之活性能量線照射後在23℃之儲存模數G2相對於前述複合型黏著劑層在23℃之儲存模數G1的比值，亦即儲存模數變化率ΔG’為1.1以上且100以下。
11. 如請求項8所述之背光單元，其中，前述複合型黏著劑層中之光擴散黏著劑層側在活性能量線照射後對於鈉鈣玻璃的黏著力為10N／25mm以上且60N／25mm以下。
12. 一種顯示裝置，其特徵在於，具備： 如請求項1至11中任一項所述之背光單元、與積層於前述背光單元的前述複合型黏著劑層之顯示部。

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