TW202043830A - 具有光擴展耦合器之光學系統 - Google Patents

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Abstract

一種電子裝置可包括一顯示器，該顯示器產生用於一光學系統之光，該光學系統將該光朝向一可視範圍重導向。該光學系統可包括一波導、一非繞射輸入耦合器、一交叉耦合器、及一輸出耦合器。該交叉耦合器可使該光在一第一方向擴展。該交叉耦合器可對該光執行偶數次繞射，並可依適於全內反射的一角度將該光耦合回至該波導中。該輸出耦合器可使該光在一第二方向擴展，同時將該光耦合離開該波導。該交叉耦合器可包括嵌入在該波導內或形成在一分開之基材中的表面浮雕光柵或全像光柵。該光學系統可在無色散的情況中導引該光朝向該可視範圍，並且同時支援一經擴展視場及光學頻寬。

Description

具有光擴展耦合器之光學系統
本發明大致上係關於光學系統，且更具體地，係關於用於顯示器之光學系統。
電子裝置可包括呈現接近使用者眼睛的影像的顯示器。例如，諸如虛擬實境及擴增實境頭戴裝置的裝置可包括具有允許使用者觀看顯示器之光學元件的顯示器。
設計諸如此等的裝置可具有挑戰性。若不注意，使用於顯示內容的組件可能不美觀且龐大，並且無法展現所欲的光學性能位準。
諸如頭戴式裝置之電子裝置可具有對使用者產生影像的一或多個近眼顯示器。頭戴式裝置可係一副虛擬實境眼鏡，或可係允許觀看者觀看電腦產生之影像及觀察者周圍環境中之真實世界物體兩者的一擴增實境頭戴裝置。
近眼顯示器可包括：一顯示單元，其產生光；及一光學系統，該光學系統將來自該顯示器單元之光朝向一可視範圍(eye box)重導向。該光學系統可包括；一波導；一輸入耦合器，其在該波導上；一交叉耦合器，其在該波導上；及一輸出耦合器，其在該波導上。該輸入耦合器可係一非繞射輸入耦合器，諸如將光耦合至該波導中且朝向該交叉耦合器的一輸入稜鏡。該交叉耦合器可擴展在一第一方向耦合至該波導中的該光。該交叉耦合器可對該光執行偶數次繞射，並可依適於該波導中全內反射的一角度將該經繞射光耦合回至該波導中。該輸出耦合器可接收來自該交叉耦合器之該光。該輸出耦合器可使該光在與該第一方向垂直之一第二方向擴展，同時將該光耦合離開該波導。
該交叉耦合器可包括表面浮雕光柵、超穎光柵(meta-grating)、或全像相位光柵(holographic phase grating)，諸如嵌入在該波導內或形成在黏附至該波導之一外表面的一分開之基材中的體積全像片(volume hologram)。該光學系統可在無色散的情況中導引該光朝向該可視範圍，並且同時支援一經擴展視場及光學頻寬。
本申請案主張2020年3月26日申請的美國專利申請案第16/831,147號以及2019年5月30日申請的美國臨時專利申請案第62/854,905號的優先權，其等特此以引用方式將其全部併入本文中。
圖1顯示具有一或多個近眼顯示系統之一裝置的說明性系統。系統10可係具有一或多個顯示器（諸如安裝在支撐結構（殼體）8內的近眼顯示器20）的頭戴式裝置。支撐結構8可具有一副眼鏡（例如，支撐框架）之形狀、可形成具有頭盔形狀之殼體、或可具有其他組態，以有助於安裝及緊固近眼顯示器20之組件在使用者的頭部上或眼睛附近。近眼顯示器20可包括一或多個顯示模組（諸如顯示模組20A）及一或多個光學系統（諸如光學系統20B）。顯示模組20A可安裝在一支撐結構（諸如支撐結構8）中。各顯示模組20A可發射光38（影像光），該光係使用光學系統20B之一相關聯者朝向可視範圍24處的使用者眼睛重導向。
可使用控制電路系統16來控制系統10的操作。控制電路系統16可包括儲存器與處理電路系統，以用於控制系統10的操作。電路系統16可包括儲存器（諸如硬碟機儲存器）、非揮發性記憶體（例如，電可程式化唯讀記憶體，其經組態以形成固態硬碟）、揮發性記憶體（例如，靜態或動態隨機存取記憶體）等。控制電路系統16中的處理電路系統可基於一或多個微處理器、微控制器、數位信號處理器、基帶處理器、電力管理單元、音訊晶片、圖形處理單元、特殊應用積體電路、及其他積體電路。軟體程式碼可儲存在電路系統16中的儲存器上並在電路系統16中的處理電路系統上運行以實施系統10之操作（例如，資料蒐集操作、涉及使用控制信號來調整組件的操作、用以產生待顯示給一使用者之影像內容的影像演現操作等）。
系統10可具有輸入輸出電路系統，諸如輸入輸出裝置12。輸入輸出裝置12可用以允許由系統10接收來自外部設備（例如，繫連式電腦(tethered computer)、可攜式裝置（諸如手持式裝置或膝上型電腦）、或其他電氣設備）的資料，並允許使用者提供使用者輸入給頭戴式裝置10。亦可使用輸入輸出裝置12來蒐集系統10（例如，頭戴式裝置10）在其中操作之環境上的資訊。裝置12中之輸出組件可允許系統10提供輸出給使用者，並可用以與外部電氣設備通訊。輸入輸出裝置12可包括感測器及其他組件18（例如，用於蒐集與系統10中之顯示器上的虛擬物體以數位方式合併的真實世界物體之影像的影像感測器、加速度計、深度感測器、光感測器、觸感輸出裝置、揚聲器、電池、用於在系統10與外部電子設備等之間通訊的無線通訊電路等）。
顯示模組20A可係液晶顯示器、有機發光二極體顯示器、基於雷射的顯示器、反射顯示器、或其他類型的顯示器。光學系統20B可形成允許觀看者（例如，可視範圍24處的觀察者眼睛）觀看（多個）顯示器20上的影像的鏡片。可存在與使用者之各別左及右眼相關聯的兩個光學系統20B（例如，用於形成左鏡片及右鏡片）。一單一顯示器20可產生用於兩眼的影像，或一對顯示器20可用以顯示影像。在具有多個顯示器（例如左眼顯示器及右眼顯示器）的組態中，由光學系統20B形成之鏡片的焦距及位置可經選擇，使得存在於顯示器之間的任何間隙對使用者將不是可見的（例如，使得左顯示器及右顯示器的影像無縫地重疊或合併）。
若為所欲，光學系統20B可含有組件（例如，光學組合器等），以允許來自真實世界影像或物體28之真實世界影像光與虛擬（電腦產生之）影像（諸如影像光38中之虛擬影像）以光學方式組合。在此類型系統（有時稱為擴增實境系統）中，系統10的使用者可觀看真實世界內容及疊置在該真實世界內容之上的電腦產生之內容。在裝置10中亦可使用基於攝影機之擴增實境系統（例如，以攝影機擷取物體28之真實世界影像且此內容與在光學系統20B處之虛擬內容物以數位方式合併的配置）。
若為所欲，系統10可包括無線電路系統及/或其他電路系統以支援與電腦或其他外部設備（例如，供應影像內容給顯示器20的電腦）的通訊。在操作期間，控制電路系統16可供應影像內容至顯示器20。該內容可經遠端接收（例如，來自耦合至系統10的電腦或其他內容來源）及/或可藉由控制電路系統16產生（例如，文字、其他電腦產生之內容等）。由控制電路系統16供應給顯示器20的內容可由在可視範圍24處的觀看者觀看。
圖2係可在圖1之系統10中使用的說明性光學系統20B的俯視圖。如圖2中所示，光學系統20B可包括光學元件，諸如波導50、輸入光學器件58、輸出光學器件60、輸入耦合器52、交叉耦合器54、及輸出耦合器56。輸入光學器件58可包括準直鏡片或傳送影像光38至輸入耦合器52的其他光學組件。可藉由顯示模組20A中之顯示單元提供影像光38至光學系統20B（圖1）。顯示器單元可係基於液晶顯示器、有機發光二極體顯示器、陰極射線管、電漿顯示器、投影機顯示器（例如，基於微鏡陣列的投影機）、液晶覆矽(liquid crystal on silicon)顯示器、或其他合適類型的顯示器。光學系統20B可用以將從顯示單元輸出之光38呈現至可視範圍24。
在光學系統20B中之波導結構（諸如波導50）可由能夠經由全內反射引導光的聚合物、玻璃、或其他透明基材的一或多個堆疊層所形成。輸入耦合器52、交叉耦合器54、及輸出耦合器56可各部分地或完全地嵌入於波導50內或安裝至波導50之一表面。光學耦合器52、54、及56中之一些者可安裝至波導50之一表面，而耦合器52、54、及56中之其他者可嵌入於波導50內。輸出光學器件60可包括鏡片，該等鏡片有助於將藉由輸出耦合器56耦合離開波導50的光38聚焦在可視範圍24上。若為所欲，可省略輸入光學器件58及/或輸出光學器件60。
輸入耦合器52可經組態以將來自顯示模組的光38耦合至波導50中，而輸出耦合器32可經組態以將來自波導50內的光38耦合離開波導50且朝向可視範圍24。例如，當來自輸入光學器件58之光38照射輸入耦合器52時，輸入耦合器52可將光38重導向，使得該光在波導50內經由全內反射朝向輸出耦合器56（例如，在X軸之方向）傳播。當光38照射輸出耦合器56時，輸出耦合器56可將光38離開波導50而朝向可視範圍24（例如，沿Z軸）重導向。
在圖2之實例中，交叉耦合器54係以光學方式插置在輸入耦合器52與輸出耦合器56之間。在此實例中，輸入耦合器52可將光38朝向交叉耦合器54重導向。交叉耦合器54可使光38在一第一方向擴展，並且亦可將經擴展之光耦合回至波導50中。波導50經由全內反射傳播由交叉耦合器54所擴展之光至輸出耦合器56。若為所欲，接著，輸出耦合器56使接收自交叉耦合器54之光在一第二方向擴展，該第二方向不同於（例如，垂直於）該第一方向。若為所欲，輸出耦合器56可提供一光學功率至經耦合離開波導的光。考慮一實例，其中藉由輸入耦合器52耦合至波導50中的光38包括一光瞳。藉由交叉耦合器54及輸出耦合器56擴展光38可作用以使光瞳在多個（例如，正交）維度擴展，藉此允許一相對大的可視範圍24被以具有跨可視範圍之整個區域的充分且實質上均勻之強度的光瞳38填充。
輸入耦合器52、交叉耦合器54、及輸出耦合器56可基於反射及折射光學器件，或可基於全像（例如，繞射）光學器件。在耦合器52、54或56由反射及折射光學器件形成的配置中，該等耦合器可包括一或多個反射器（例如，微鏡、半反射鏡、或其他反射器之陣列）。在耦合器52、54或56係基於全像光學器件的配置中，耦合器52、54及56可包括全像介質，諸如光聚合物、明膠（諸如重鉻酸明膠）、銀鹵化物、全像聚合物分散型液晶、或其他合適的體積全像介質。全像記錄（例如，全像相位光柵，在本文中有時稱為全像片）可儲存在全像介質中。全像介質在本文中有時可稱為光柵介質。
可在一光敏光學材料（諸如全像介質）內將全像記錄儲存為一光學干涉圖案（例如，交替的不同折射率區域）。光學干涉圖案可建立全像相位光柵，當以用給定光源照明時，該全像相位光柵使光繞射以建立全像記錄的三維重建。全像相位光柵可係經編碼有一永久干涉圖案的一不可切換式繞射光柵，或可係一可切換式繞射光柵，其中可藉由控制施加至全像記錄介質的電場來調變經繞射光。若為所欲，多個全像相位光柵（全像片）可係記錄（例如，疊置）在光柵介質的相同體積內。全像相位光柵可係例如光柵介質中的體積全像片。
若為所欲，可使用其他類型的繞射光柵結構（諸如表面浮雕光柵結構）來實施耦合器52、54及56中之一或多者。表面浮雕光柵結構包括經機械切割、蝕刻、或以其他方式形成在表面浮雕光柵介質中的繞射光柵（例如，表面浮雕光柵）。表面浮雕光柵繞射入射在表面浮雕光柵上的光。藉由跨介質之側向區域來改變介質的實體厚度而產生表面浮雕光柵，而非調變光柵介質中的折射率（如執行以建立全像相位光柵，諸如體積全像片）。若為所欲，可在表面浮雕光柵介質之相同體積內多工多個表面浮雕光柵（例如，兩個表面浮雕光柵）。
在一適合的配置（有時在本文中描述為一實例）中，輸入耦合器52係非繞射輸入耦合器（例如，不包括繞射光柵（諸如表面浮雕光柵或全像相位光柵）的輸入耦合器）。例如，輸入耦合器52可包括一輸入稜鏡、波導50之一成角度表面（邊緣）等。使用非繞射輸入耦合器（諸如輸入稜鏡）可允許光38耦合至波導50中，而不產生以其他方式與使用繞射元件之輸入耦合相關聯的色散。在另一合適的配置中，可使用繞射光柵（諸如體積全像片或其他光柵結構）來形成輸入耦合器52。在這些情境中，可藉由輸出耦合器將光繞射離開波導（例如，在輸出耦合器包括全像相位光柵（諸如體積全像片）的情境中），而使由輸入耦合器引入之任何色散逆轉。
交叉耦合器54可包括繞射光柵結構，該等繞射光柵結構繞射由（非繞射）輸入耦合器52耦合至波導50中的光38。交叉耦合器54中的光柵結構可包括表面浮雕光柵結構（例如，一或多個表面浮雕光柵）或諸如體積全像光柵結構的相位光柵結構（例如，一組至少部分重疊的體積全像片）。交叉耦合器54中的光柵結構可經組態以使光38繞射偶數次。該等繞射中之至少一者可作用以使光38在一第一方向（例如，沿Y軸延伸進入及/或離開圖2之平面）擴展。該等繞射之至少一者可作用以依一角度將該經擴展光重導向回至波導50中，使得該光藉由全內反射傳播至輸出耦合器54。藉由使光繞射偶數次，與使光繞射一次相關聯的任何色散效應可係藉由使光繞射對應的後續次來逆轉。此可作用以減輕輸送至輸出耦合器56之光的色散。
輸出耦合器56可包括繞射光柵結構，諸如體積全像光柵結構或其他全像相位光柵。在另一合適的配置中，輸出耦合器56可包括反射鏡結構，諸如百葉式鏡(louvred mirror)。輸出耦合器56可反射或繞射光38。藉由輸出耦合器56反射/繞射光38可作用以使光38在第二方向（例如，沿X軸）擴展，並將經擴展光耦合離開波導50而朝向可視範圍24。
圖3係波導50的前視圖，其顯示交叉耦合器54可如何包括擴展光38的光柵結構，同時亦使光38繞射偶數次時間來減輕色散。如圖3中所示，波導50可包括具有一側向（外部）表面114的一波導基材。非繞射輸入耦合器52（諸如輸入稜鏡70）可安裝至表面114。輸入稜鏡70可將光38向下（例如，在+Z方向）耦合至波導50中並朝向交叉耦合器54。交叉耦合器54可形成在波導50中之一波導基材之一側向表面上，或可嵌入於波導50內。
交叉耦合器54可包括一第一繞射光柵結構72與一第二繞射光柵結構74。（例如，在重疊區域76內）第一光柵結構72可至少部分地重疊第二光柵結構74。在重疊區域76內，光柵結構72與74可例如在光柵介質之相同體積（面積）內疊置在彼此上。重疊區域76可具有大約等於（例如，大於或等於）輸入稜鏡70之寬度的寬度（例如，平行於Y軸）。這僅是說明性的。重疊區域76可具有小於或等於輸入稜鏡70之寬度的寬度，或可具有其他形狀。重疊區域76不需要具有一均勻寬度。
耦合至平行於X軸之波導50中的光38（在本文中有時稱為DC光86）可藉由交叉耦合器54導引回至波導50中並朝向輸出耦合器56，而不在垂直方向擴展。DC光86可經由全內反射沿波導50之長度傳播至輸出耦合器56。依相對於X軸呈非零角度耦合至波導50中的光38可係藉由第一光柵結構72及/或第二光柵結構74而垂直地擴展（例如，藉由使光在平行於Y軸的方向（有時在本文中稱為「第一方向」）垂直地繞射）。第一光柵結構72及/或第二光柵結構74可經組態以藉由在光藉由全內反射而重新進入波導50以用於傳播至輸出耦合器56時，使光38累積地繞射偶數次（例如，以減輕由單一繞射例項所產生的色散）。
作為一實例，在相對於DC光86呈一正角度的光38可耦合至波導50中且導引朝向交叉耦合器54，如箭頭88所示。第一光柵結構72可包括條紋78，該等條紋相對於第二光柵結構74中的條紋78以非平行角度定向。第一光柵結構72與第二光柵結構74可包括表面浮雕光柵或全像相位光柵，諸如體積全像片。在光柵結構72與74由全像相位光柵所形成的情境中，條紋78可表示光柵介質的恆定折射率線。在光柵結構72與74使用表面浮雕光柵所形成的情境中，條紋78可表示光柵介質的恆定厚度線。條紋78係由一週期Λ（例如，折射率的調變週期，或光柵介質厚度的調變週期）及一定向（例如，由光柵結構72與74的光柵向量之方向所界定，其中光柵向量經定向而垂直於條紋78）特徵化。條紋78亦可具有相對於側向表面114之法向表面所界定的相關聯之條紋角度。
光柵結構72與74的週期、定向、及條紋角度可組態光柵結構，以使來自特定範圍之入射角且在特定範圍之波長的光在特定範圍之輸出角度內繞射。此等因素可經選擇以組態交叉耦合器54以對於包括在光38中之波長（顏色）及在藉由輸入稜鏡70提供光至之交叉耦合器的入射角內，使光38垂直擴展，同時使光繞射偶數次，且同時依該光可經由全內反射而沿波導50傳播的角度使該光繞射回至波導50中。
考慮到使用表面浮雕光柵形成光柵結構72與74的一實例。在此實例中，光柵結構74可經組態以執行第一繞射，其中在與箭頭88相關聯的入射角之光（例如，在+X、-Y、及-Z方向入射之光）依一對應輸出角度（如箭頭90所示（例如，在+Y及+X方向之一輸出角度）繞射。光柵結構74亦可經組態以執行（後續）第二繞射，其中在與箭頭90相關聯的入射角之光（例如，第一繞射的輸出角度）依一對應輸出角度（如箭頭92所示（例如，在+X、-Y、及+Z方向之一輸出角度）繞射。第一繞射可引入色散，其中不同波長之入射光38依稍微不同之輸出角度繞射。第二繞射可逆轉由第一繞射引入的色散（例如，針對各波長，藉由將來自第一繞射的光依相同輸出角度繞射回至波導50中）。產生箭頭92的第二繞射可依一角度導引光回至波導50中，使得該光能夠藉由全內反射沿波導50之長度傳播至輸出耦合器56。
類似地，光柵結構72可經組態以執行一第一繞射，其中在與箭頭88’相關聯的入射角之光（例如，在+X、+Y、及-Z方向入射之光）依一對應輸出角度（如箭頭90’所示（例如，在-Y及+X方向之一輸出角度）繞射。光柵結構72亦可經組態以執行一（後續）第二繞射，其中在與箭頭90’相關聯的入射角之光（例如，第一繞射的輸出角度）依一對應輸出角度（如箭頭92’所示（例如，在+X、+Y、及+Z方向之一輸出角度）繞射。第一繞射可引入色散，其中不同波長之入射光38依稍微不同之輸出角度繞射。第二繞射可逆轉由第一繞射引入的色散。與箭頭92’相關聯的第二繞射可依一角度導引光回至波導50中，使得該光能夠藉由全內反射沿波導50之長度傳播至輸出耦合器56。
藉由光柵結構72及74在垂直方向（例如，在+Y/-Y方向）的繞射可作用以使光38在垂直方向（例如，平行於Y軸）擴展。輸出耦合器56可繞射或反射接收自交叉耦合器54的光朝向可視範圍（如箭頭84所示），同時亦使光在一水平方向擴展，該水平方向不同於（例如，正交於）垂直方向（例如，輸出耦合器56可使光在平行於X軸之方向擴展，如箭頭82所示）。此可允許在可視範圍處接收光時，耦合至波導50中的光中之光瞳在兩個維度擴展。
光柵結構72與74可各執行關於DC光86在一角度範圍內的第一繞射（例如，光柵結構72可繞射在介於箭頭88與X軸之間的連續入射角範圍內的光38，而光柵結構74繞射在箭頭88’與X軸之間的連續入射角範圍內的光38）。藉由光柵結構72與74所執行的第二繞射可類似地在對應的入射角範圍內執行。若為所欲，繞射光柵結構（例如，體積全像片、表面浮雕光柵等）（諸如可選的繞射光束截止器(diffractive beam dump) 77）可形成在波導50上。繞射光束截止器77可經組態以將低角度光（諸如DC光86）繞射至除了輸出耦合器56以外的位置（例如，朝向其他光學器件、光槽(light sink)（諸如吸收材料）等），如箭頭79所示。此可例如有助於確保提供均勻強度之光至輸出耦合器56（例如，因為DC光86可比經繞射光92’及92更亮）。
表面浮雕光柵展現相對寬的波長頻寬。若為所欲，此可允許各使用一單一表面浮雕光柵來實施光柵結構72與74，同時仍展現針對光38之各波長（例如，跨可見光譜）的令人滿意之繞射效率。換言之，交叉光耦合器54可使用僅兩個表面浮雕光柵（例如，在光柵結構72中的一表面浮雕光柵，及光柵結構74中之另一表面浮雕光柵）而針對光38之各波長繞射及擴展光38。在另一合適的配置中，可在交叉耦合器54中包括多於兩個表面浮雕光柵。在這些情境中，表面浮雕光柵介質之額外層可堆疊在彼此之上，其中各層包括一或兩個相關聯之表面浮雕光柵。
使用全像相位光柵（諸如體積全像片）來實施在光柵結構72與74的情境中，與表面浮雕光柵相比，各體積全像片展現遠為更窄的波長頻寬。例如，針對比相似的表面浮雕光柵所繞射之波長範圍遠為更窄的特定波長範圍，體積全像片使來自特定範圍之入射角的光依特定範圍之輸出角度繞射。為了繞射光38中之各波長，光柵結構72及74可各包括一組對應的多工體積全像片（或其他全像相位光柵）。在該組中的各體積全像片可經組態以使來自不同的各別波長範圍及/或入射角範圍的光繞射（例如，布拉格匹配於該光），但可各使入射光依相同範圍的輸出角度繞射。在該組中的各體積全像片可至少部分重疊。例如，在該組中的各體積全像片可疊置在光柵介質的相同體積內，或可被劃分在光柵介質的不同層之間（例如，其中各層包括來自該組的至少一個體積全像片）。以此方式，交叉耦合器54中的全像相位光柵（例如，體積全像片）可對寬範圍之波長且在由輸入稜鏡70所提供的入射角之各者內的入射光共同執行偶數次繞射（例如，藉由箭頭88、90、92、88’、90’及92’表示的繞射）。光柵結構72中的該組體積全像片在本文中有時可稱為體積全像結構。類似地，在光柵結構74中的該組體積全像片在本文中有時可稱為體積全像結構。
圖3的實例僅顯示由各光柵結構所執行的兩次繞射操作。這僅是說明性的。若為所欲，各光柵結構可執行四次繞射操作、六次繞射操作、八次繞射操作、或任何其他所欲之偶數次繞射。以此方式執行偶數次繞射可允許藉由對應的額外繞射來逆轉與第一繞射相關聯的任何色散，並可允許光朝向輸出耦合器56重導向。若僅執行單一繞射操作（或任何其他奇數次繞射操作），則光可被導引在系統別處（例如，遠離輸出耦合器56，如由箭頭94所示）。在這些情境中，若為所欲，輸出耦合器56可經重新定位或擴展大小，使得在輸出耦合器處亦接收與箭頭94相關聯之雜散光。除了已繞射偶數次的光之外，耦合至波導中的一些影像光可通行至輸出耦合器，而未曾被交叉耦合器所繞射（例如，對於影像之某些部分，圖3之架構可不需與交叉耦合器互動）。
在另一合適的配置中，可使用超穎光柵結構來實施交叉耦合器54（例如，光柵結構72與74可各使用各別的超穎光柵所形成）。其他類型的繞射光柵（例如，非超穎光柵）一般展現週期性結構及色散。例如，由光柵在第一繞射的傳播角度隨波長而變化，且結果上，不同波長的光瞳複製將在波導內空間上分開。傳播角度係藉由光柵而在第二繞射上回復（例如，補償分散）。然而，光瞳分離可對影像產生顏色不均勻。
相比之下，超穎光柵是高折射率介電質共振器的非週期性總成（例如，形成在波導50的表面114上、或波導上或波導中的其他表面上）。光柵結構72與74中的超穎光柵可例如形成在波導50的表面114上。超穎光柵中的各介電質共振器可經設計以賦予一相位延遲至入射光。可針對一不同波長來獨立地控制各介電質共振器之相位延遲。透過介電質共振器之分佈的合適組態，可獲得波長相依的相位輪廓，使得使所有波長依相同輸出角度繞射。以此方式，光瞳可傳播及擴展而不會引入色彩分離。
其中交叉耦合器54具有矩形形狀的圖3之實例僅係說明性的。大致上，交叉耦合器54（例如，第一光柵結構72、第二光柵結構74、及/或重疊區域76）可具有其具有任何所欲數目之筆直及/或彎曲邊緣的任何所欲形狀（例如，三角形形狀、梯形形狀、其他多邊形形狀、圓形形狀、橢圓形形狀、此等的組合等）。圖4係交叉耦合器54之一可行形狀的圖。如圖4所示，交叉耦合器54可具有五個側邊，且重疊區域76可具有五個側邊。第一光柵結構72與第二光柵結構74可具有非均勻長度（例如，平行於X軸）。例如，交叉耦合器54之形狀可經選擇以最大化在輸出耦合器56（圖3）處所接收之光量。可使用其他形狀。輸出耦合器56亦可具備任何所欲形狀且不需要係矩形。若為所欲，可僅使用第一光柵結構72或第二光柵結構74中之一者來形成交叉耦合器54。若為所欲，光柵結構72與74可非重疊（例如，可省略重疊區域76）。
圖5係在使用一表面浮雕光柵結構來形成交叉耦合器54的一實例中之波導50的截面俯視圖（例如，如圖3之箭頭95的方向觀看）。如圖5中所示，波導50可包括一或多個波導基材，諸如基材108及基材110。全像記錄介質（諸如光柵介質106）可係插置（層疊）在基材108與110之間。光柵介質106的側向（例如，平面）表面120可接觸基材108。光柵介質106的側向表面122可接觸基材110。輸出耦合器56可形成在光柵介質106內（例如，使用記錄在光柵介質106中的體積全像片或其他全像相位光柵、嵌入在光柵介質106中的百葉式鏡等）。若為所欲，在輸出耦合器56處，可選的抗反射塗層118可層疊在表面120及/或表面122上。例如，在輸出耦合器56內全像相位光柵之寫入（記錄）期間，抗反射塗層118可防止光柵介質106內的非所要光反射。
輸入稜鏡70可安裝至基材108之外部表面114。輸入稜鏡70可將影像光38耦合至波導50中且朝向交叉耦合器54。交叉耦合器54可包括一表面浮雕光柵結構，例如表面浮雕光柵結構100。表面浮雕光柵結構100可用以形成第一光柵結構72（例如，表面浮雕光柵結構100可包括執行與圖3之箭頭88’、90’及92’相關聯的至少第一繞射與第二繞射的一表面浮雕光柵），可用以形成第二光柵結構74（例如，表面浮雕光柵結構100可包括執行與圖3之箭頭88、90及92相關聯的至少第一繞射及第二繞射的一表面浮雕光柵），或可用以形成重疊區域76（例如，表面浮雕光柵結構100可包括用以形成第一光柵結構72的一表面浮雕光柵、及用以形成第二光柵結構74的一表面浮雕光柵，該等表面浮雕光柵疊置在相同區域內）。
如圖5所示，表面浮雕光柵結構100可形成在一基材（諸如表面浮雕光柵基材（介質）112）內。作為一實例，表面浮雕光柵結構100中的（多個）表面浮雕光柵可由在表面浮雕光柵基材112之厚度中的脊（峰）102與槽（最低處104）來界定。在圖5的實例中，表面浮雕光柵結構100係一種二元結構，其中該光柵係由與峰102相關聯之一第一厚度或與槽104相關聯之一第二厚度來界定。這僅是說明性的。若為所欲，表面浮雕光柵結構100可係非二元的（例如可包括遵循任何所欲輪廓的任何所欲數目個厚度，可包括相對於Y軸以非平行條紋角度成角度的峰102等）。表面浮雕光柵基材112可展現相對高的折射率（例如，大於光柵介質106整體折射率的折射率）。可使用黏著劑層115將表面浮雕光柵基材112黏附至波導基材110之表面116。黏著劑層115可具有相對低的折射率（例如，小於表面浮雕光柵基材112之折射率）。例如，表面浮雕光柵結構100可與波導50中的輸出耦合器56分開地製造，且可在製造後黏附至波導50。
輸入稜鏡70可影像將光38耦合至波導50中且朝向表面浮雕光柵結構100。表面浮雕光柵結構100可使光38繞射及偶數次，同時作用以使光38在平行於Y軸之方向擴展。由表面浮雕光柵結構100執行的最終繞射可使光38（例如，作為經擴展光）依一角度耦合回至波導50中，使得光繼續藉由全內反射沿波導50的長度傳播。然後藉由輸出耦合器56使光38耦合離開波導50，如箭頭38’所示。輸出耦合器56亦可使光38在平行於X軸的方向擴展。依此方式，輸出耦合器56及交叉耦合器54可在提供經擴展光至可視範圍之前共同地使光38在兩個維度擴展。
使用一表面浮雕光柵結構來形成交叉耦合器54可允許相對於使用體積全像片之情境中更高的光通量。使用交叉耦合器54執行偶數次繞射可減輕由表面浮雕光柵結構所產生的任何色散。使用非繞射輸入耦合器（諸如輸入稜鏡70）可允許光38耦合至波導50中而不引入色散。這些實例僅係說明性的，且若為所欲，可使用體積全像片來實施截面54，且可使用其他輸入耦合結構來實施輸入稜鏡70（例如，全像片或其他繞射光柵、波導50的成角度表面等）。在另一配置中，可省略基材110，且表面浮雕光柵基材112可經放置成與光柵介質106的表面122接觸。
若為所欲，可選的光均質化結構（諸如一或多層之分光器124）可嵌入在光柵介質106內。可使用金屬塗層、介電塗層、具有不同折射率之介電層、或其他部分反射結構來形成分光器124。若為所欲，一或多個分光器124可安裝至表面120、表面122、表面114、及/或表面116。分光器124可透射光38之第一部分，同時反射光38之第二部分。此可作用以側向複製提供至表面浮雕光柵結構100的光38之光瞳至輸出耦合器56，且最終至可視範圍（例如，以確保均勻強度之光填充可視範圍）。在波導50中提供多於一個分光器124的情境中，該等分光器可部分重疊、完全重疊、或非重疊。若為所欲，分光器可展現一可變反射率（例如，該等分光器在一端部處可展現比該等分光器之一相對端部處更大的反射率）。反射率可持續變化或依離散步階變化。
在另一合適的配置中，表面浮雕光柵結構100可嵌入在光柵介質106內。圖6係顯示表面浮雕光柵結構100可如何嵌入在光柵介質106內的圖。如圖6所示，可省略基材110，且表面浮雕光柵基材112可經放置成與光柵介質106的表面122接觸（例如，光柵介質106可經模製在表面浮雕光柵基材112上方）。表面浮雕光柵結構100可嵌入在光柵介質106內。若為所欲，可選的透明介電質塗層130可層疊於表面浮雕光柵結構100上方（例如，塗層130可插置在表面浮雕光柵結構100與光柵介質106之間）。塗層130可作用以增加繞射效率，且擴大表面浮雕光柵結構100之角度回應。塗層130可由氧化鈦、氮化矽、五氧化二鉭、或任何其他所欲材料所形成。
其中表面浮雕光柵結構100形成在與輸入稜鏡70相對的波導50之側上的圖5及圖6實例僅是說明性的。若為所欲，表面浮雕光柵結構100可形成在與輸入稜鏡70相同的波導50之側上，如圖7及圖8所示。
如圖7之實例中所示，可使用黏著劑層115將表面浮雕光柵基材112安裝至基材108的表面114。輸入稜鏡70可安裝至表面浮雕光柵基材112。輸入稜鏡70可將光耦合至波導50中。經向內耦合的光可反射離開波導50之一或多個表面而至表面浮雕光柵結構100。
如圖8的實例中所示，可省略基材108，且表面浮雕光柵基材112可經放置成與光柵介質106的表面120接觸。表面浮雕光柵結構100可嵌入在光柵介質106內。輸入稜鏡70可安裝至表面浮雕光柵基材112。輸入稜鏡70可將光耦合至波導50中。經向內耦合的光可直接在表面浮雕光柵結構100處接收，或可反射離開波導50之一或多個表面而朝向表面浮雕光柵結構100。
這些實例僅係說明性的。若為所欲，可在波導50上提供多於一個表面浮雕光柵結構。在這些情境中，具有相關聯表面浮雕光柵結構之多個表面浮雕光柵基材112可層疊在彼此上方。可使用任何所欲的輸入耦合結構。若為所欲，可在圖6至圖8之波導中提供圖5之分光器124及/或抗反射塗層118。若為所欲，圖6之塗層130可層疊在圖8之表面浮雕光柵結構100下。
表面浮雕光柵基材112可具備相對高的折射率（例如，大於基材108與110之折射率且大於光柵介質106的整體折射率）。圖9係k空間圖，其顯示如何形成具有一相對高折射率之表面浮雕光柵基材112可允許輸入稜鏡70之整個視場被耦合回至波導50中，以用於藉由針對光38之各波長的全內反射而傳播至輸出耦合器56。
如圖9所示，水平軸標繪kx /kmedia ，及垂直軸標繪ky /kmedia ，其中針對傳播穿過光學系統20B之光，kx /kmedia 表示X分量，且ky /kmedia 表示k向量的Y分量。為了清楚起見，從圖9省略Z分量（例如，圖9繪示三維k空間的二維投影）。區域150表示來自輸出耦合器56之視場（例如，如在可視範圍處所提供）。區域158表示藉由輸入稜鏡70耦合至波導50中的光38。因為輸入稜鏡70不引入色散，所以在k空間中，由相同區域158來表示耦合至波導50中的光，無論波長為何。類似地，因為光被耦合離開波導時減輕引入至系統中的任何色散，所以在k空間中，由相同區域150來表示來自輸出耦合器56之視場，無論波長為何。
由箭頭168示意性地表示由表面浮雕光柵結構100執行的第一繞射。因為第一繞射引入色散，所以不同波長之光被繞射至對於k空間中的不同區域（諸如區域162、164及166）。僅作為一實例，區域162可對應於一藍色波長，區域164可對應於一綠色波長，及區域166可對應於一紅色波長。為了清楚起見，圖9之實例僅繪示在水平軸下方的區域158之部分的繞射。實務上，水平軸上方的區域158之部分亦係在第一繞射中繞射至在水平軸下方的額外區域（例如，對應於區域162、164及166的額外區域）。
曲線152表示仍可由波導50支援的全內反射之下限。若從區域158的繞射產生落在曲線152內的光，則該光將以波導50無法支援全內反射的角度而繞射，且光將無法適當地傳播至輸出耦合器。曲線154表示由表面浮雕光柵基材112所支援的繞射之上限。若從區域158的繞射產生落在曲線154外的光，則表面浮雕光柵結構100將無法對該光執行額外的繞射（例如，以將光耦合回至波導中）。換言之，從區域158的第一繞射需要產生落於曲線152與曲線154之間的光，以被提供至輸出耦合器56。然而，如圖9中所示，針對一些波長（例如，針對與區域166相關聯的波長），由第一繞射所產生的色散可產生落於此區域外的光。此可使交叉耦合器無法導引一些波長之光38至輸出耦合器56。
為了減輕這些效應，表面浮雕光柵基材112可具備具有相對高折射率的材料（例如，相對高折射率玻璃或其他材料）。表面浮雕光柵基材112的折射率可例如大於光柵介質106的整體折射率。依此方式，提供具有相對高折射率之表面浮雕光柵介質可擴展曲線154至曲線154’，如箭頭160所示。由於區域162、164及166之各者落於曲線154’與152之間，所以來自第一繞射的各波長之光可依適合全內反射的一角度令人滿意地繞射回至波導中（例如，使得光適當地導引朝向輸出耦合器）。由於表面浮雕光柵結構100執行偶數次繞射，所以藉由表面浮雕光柵結構100中的對應後續繞射而逆轉與箭頭168相關聯之色散（例如，藉由與圖3的箭頭92及92’相關聯的第二繞射）。
圖10係顯示如何交叉耦合器54可係如何形成全像相位光柵（諸如體積全像片）的圖。如圖10所示，一額外的光柵介質180可層疊在基材110的表面116上。可在光柵介質180下提供一額外的波導基材182。交叉耦合器54可包括在光柵介質180中的體積全像結構184。體積全像結構184可包括一或多個至少部分重疊體積全像片（例如，一組體積全像片，其各依相同範圍的輸出角度繞射各別範圍之波長及/或入射角）。體積全像片可提供在光柵介質的分開層中，或可以光柵介質的相同層之相同體積疊置。
輸入稜鏡70可將光38耦合至波導50中並且朝向體積全像結構184。體積全像結構184可對經向內耦合的光執行偶數次繞射、可使光在平行於Y軸的方向擴展、及可依適合於全內反射的一角度將光繞射回至波導50中。若為所欲，體積全像結構184中的體積全像片可具有其具有恆定節距、可變週期、及/或可變條紋角度的條紋。週期（例如，Λ）係指如沿光柵向量（即，正交於條紋的向量）所測得的條紋之間的間距；節距（例如，ρ）係指如沿光柵表面（例如，表面116或基材182的表面）所測得之條紋之間的距離；且條紋角度係指光柵表面法線（例如，Z軸）與光柵向量之間的角度。換言之，該週期可跨結構184變化（例如，可依據沿圖10之X軸的位置而變化），該節距可跨結構184係恆定的，且該條紋角度可跨結構184而變化（例如，可依據沿圖10之X軸的位置而變化）。恆定節距、可變週期的光柵有助於針對一給定波長維持跨入射角範圍的高繞射效率。此類型的體積相位全像光柵可繼而有助於避免光學系統中的非所欲之色偏、效率損失、及亮度變化。此實例僅係說明性的，且若為所欲，可使用其他類型的體積全像片或其他全像相位光柵。若為所欲，光柵介質180可提供在基材108的表面114處。若為所欲，額外的光柵介質可層疊在光柵介質180上方。若為所欲，一或多個分光器124（圖5）可提供在圖10之光柵介質106內或在波導50中或該波導上的別處。若為所欲，圖5之抗反射塗層130可提供在圖10之輸出耦合器56處。
實務上，DC光86（圖3）可具有比提供至輸出耦合器56之經垂直擴展光更大的亮度（例如，如藉由圖3之箭頭92及92’所示）。為了減輕此亮度差異，輸出耦合器56可具備依據沿Y軸之位置而變化的一繞射效率。圖11係顯示輸出耦合器56如何可具備一可變繞射效率的圖。
如圖11中所示，輸出耦合器200可具有接收DC光86之中心區域200。該DC光可具有比在周邊區域202內入射於輸出耦合器200上之經繞射光更大的亮度。為了減輕此亮度差異，輸出耦合器56可具備在周邊區域202內比在中心區域200內大之繞射效率。此可允許提供至該可視範圍之光展現跨整個可視範圍之均勻亮度。
若為所欲，輸出耦合器56可包括具有不同繞射效率的任何所欲數目個區域（例如，其中較接近輸出耦合器56之中心水平軸的區域展現比較遠離中心水平軸的區域更大的一繞射效率）。在另一合適的配置中，輸出耦合器56的繞射效率可依據沿Y軸之位置而連續地變化。標繪圖206顯示輸出耦合器56之一例示性連續繞射效率。如曲線204所示，繞射效率可係一平滑變化曲線，其展現輸出耦合器56之中心處的最小值及在輸出耦合器56之邊緣處的最大值。此僅係說明性的，且一般而言，曲線204可展現任何其他所欲形狀。若為所欲，輸出耦合器56之繞射效率可沿X軸或任何其他軸離散地或連續地變化。
輸出耦合器56的繞射效率隨位置變化的圖11之實例僅是說明性的。若為所欲，交叉耦合器54之繞射效率可依據位置而變化。可例如用交叉耦合器54取代圖11之輸出耦合器56（例如，交叉耦合器54可具有如上文關於圖11之輸出耦合器56所述的可變繞射效率）。若為所欲，交叉耦合器54及輸出耦合器56兩者皆可具有依據沿一或多個軸之位置而連續地或離散地變化的繞射效率。若為所欲，用以形成交叉耦合器54及/或輸出耦合器56的全像片可經梳形偏移(comb-shift)。經梳形偏移的全像片可包括在光柵介質之第一區域中的一組全像片及在光柵介質之相鄰第二區域中的第二組全像片。第二組的光柵頻率可各自位於第一組之光柵頻率之間的相鄰頻率間隙內（例如，其中第一組及第二組的光柵向量經定向在相同方向）。例如，此可允許跨可視範圍之更均勻繞射。
上述其交叉耦合器54具有兩個光柵結構72與74以用於擴展光38、同時亦將光38繞射偶數次以減輕色散的實例僅係說明性的。在另一合適的配置中，交叉耦合器54可包括具有條紋的一單一光柵結構，該等條紋經定向在相同方向以用於擴展光38，同時亦將光38繞射偶數次以減輕色散。圖12係顯示交叉耦合器54可如何包括具有條紋的一單一光柵結構，該等條紋經定向在相同方向以用於擴展光38，同時亦將光38繞射偶數次以減輕色散。
如圖12中所示，交叉耦合器54可包括具有條紋78的一單一光柵結構236，該等條紋經定向在單一方向（例如，具有光柵向量的條紋經定向在單一方向且由一週期Λ特徵化）。交叉耦合器54之至少一些者可（例如，沿X軸）側向插置在輸入稜鏡70與輸出耦合器56之間（例如，其中輸入稜鏡70側向插置在交叉耦合器54之至少一些者與波導50之左邊緣220之間）。輸入稜鏡70可將光38耦合至波導50中，如箭頭222所示。光柵結構236可使經向內耦合的光38在第一方向擴展（而輸出耦合器56可使光在第二方向擴展），且可提供光至輸出耦合器56，如箭頭226所示。光柵結構236可經組態以在光到達輸出耦合器56時或將光耦合回至波導中以用於藉由全內反射傳播時，使光38繞射偶數次（例如，以減輕由單一繞射例項所產生的色散）。
圖12的實例僅係說明性的。具有光柵結構224的交叉耦合器54可插置在波導50的其他邊緣與輸出耦合器56之間。例如，如圖13中所示，用於交叉耦合器54的光柵結構224之至少一些者可側向插置於波導50的頂部邊緣230與輸出耦合器56之間。輸入稜鏡70可側向插置在光柵結構224之至少一些者與邊緣230之間。在此實例中，輸入稜鏡38可沿Y軸方向將光38耦合至波導50中，如箭頭232所示。在提供光至輸出耦合器56之前，光柵結構224可擴展光38，並可使光38繞射偶數次，如箭頭234所示。輸出耦合器56可使光在與由光柵結構224所提供之擴展方向不同的方向擴展。在圖12與圖13之實例中，光柵結構224可包括表面浮雕光柵、超穎光柵、全像相位光柵（諸如體積全像片）等。光柵結構224可提供在波導50的層中（如圖5至圖8及圖10所示），或在波導50上之任何其他所欲位置。
實體環境係指，在無電子系統輔助的情況中，人可感測及/或與之互動的實體世界。實體環境（諸如實體公園）包括實體物品，諸如實體樹、實體建築物、及實體人。人可直接感測及/或與實體環境互動，諸如透過視覺、觸覺、聽覺、味覺、及嗅覺。
相比之下，電腦產生之實境(computer-generated reality, CGR)環境係指人經由電子系統（例如，包括本文所描述之顯示系統的電子系統）感測及/或與之互動的完全或部分模擬環境。在CGR中，人的實體動作之一子集或其表示受到追蹤，且回應地，以符合至少一項物理定律的方式來調整CGR環境中模擬的一或多個虛擬物體的一或多個特性。例如，CGR系統可偵測人的頭部轉向，且回應地，以類似於在實體環境中此類觀看及聲音將如何改變的方式來調整呈現給該人的圖形內容及音場。在一些情況中（例如，為了可達性(accessibility)的原因），可回應實體動作之表示（例如，語音命令）而調整在CGR環境中的（多個）虛擬物體之（多個）特性。
一人可使用其感覺（包括視覺、聲音、觸覺、味覺、及嗅覺）中之任一者感測及/或與CGR物體互動。例如，人可感測建立在3D空間中提供點音訊源之感知的3D或空間音訊環境的音訊物體及/或與該等音訊物體互動。在另一實例中，音訊物體可實現音訊透明度(audio transparency)，其選擇性地併入來自實體環境的環境聲音連同或不連同電腦產生之音訊。在一些CGR環境中，人可感測及/或僅與音訊物體互動。CGR之實例包括虛擬實境及混合實境。
虛擬實境(virtual reality, VR)環境係指經設計以完全基於針對一或多個感測的電腦產生之感測輸入的模擬環境。VR環境包含人可感測及/或與之互動的複數個虛擬物體。例如，樹、建築物、及表示人之虛擬化身的電腦產生之影像係虛擬物體之實例。可透過模擬人存在於電腦產生之環境內，及/或透過在電腦產生之環境內模擬人實體動作之一子集，人可感測在VR環境中之虛擬物體及/或與之互動。
對比於經設計以完全基於電腦產生之感官輸入的VR環境，混合實境(mixed reality, MR)環境係指經設計以除了包括電腦產生之感測輸入（例如，虛擬物體）外，亦併入來自實體環境之感測輸入或其表示的模擬環境。在虛擬連續(virtuality continuum)上，混合實境環境在一端部處的完全實體環境與在另一端部處虛擬實境環境之間（但不包括）的各處。
在一些MR環境中，電腦產生之感測輸入可回應於來自實體環境的感測輸入之變化。再者，用於呈現MR環境的一些電子系統可追蹤相對於實體環境的位置及/或定向，以使虛擬物體能夠與實體物體互動（即，來自實體環境的實體物品或其表示）。例如，一系統可考量移動，使得虛擬樹相對於實體地面看起來係靜態的。混合實境的實例包括擴增實境及擴增虛境。
擴增實境(augmented reality, AR)環境係指其中一或多個虛擬物體疊置在一實體環境或其表示上方的模擬環境。例如，用於呈現AR環境之電子系統可具有透明或半透明顯示器，人可透過該透明或半透明顯示器直接觀看實體環境。該系統可經組態以在該透明或半透明顯示器上呈現虛擬物體，使得使用該系統的人感知到疊置在實體環境上方的虛擬物體。替代地，系統可具有一不透明顯示器及擷取實體環境之影像或視訊的一或多個成像感測器，該等影像或視訊係實體環境之表示。該系統合成該等影像或視訊與虛擬物體，並將合成物呈現在不透明顯示器上。使用該系統的人藉由實體環境之影像或視訊來間接觀看實體環境，並且感知到疊置在實體環境上方的虛擬物體。如本文中所使用，顯示在不透明顯示器上的實體環境之視訊被稱為「直通視訊」(pass-through video)，意指系統使用一或多個影像感測器來擷取實體環境之影像，以及在不透明顯示器上呈現AR環境時使用該等影像。此外，替代地，系統可具有一投影系統，該投影系統將虛擬物體投射至實體環境中，例如，作為全像或在實體表面上，使得使用系統的人感知到疊置在實體環境上方的虛擬物體。
擴增實境環境亦指其中藉由電腦產生之感測資訊而轉換實體環境之表示的模擬環境。例如，在提供直通視訊時，系統可轉換一或多個感測器影像以強加不同於由該等成像感測器所擷取之視角的所選擇視角（例如，視點）。作為另一實例，實體環境之表示可藉由圖形上修改（例如，放大）其之部分而轉換，使得該經修改部分可係表示性的，但非原始擷取之影像的擬真版本。作為一進一步實例，實體環境之表示可藉由圖形上消除或模糊其之部分來轉換。
擴增虛境(augmented virtuality, AV)環境係指其中虛擬或電腦產生之環境併入來自實體環境之一或多個感測輸入的模擬環境。該等感測輸入可係實體環境之一或多個特性的表示。例如，AV公園可具有虛擬樹及虛擬建築物，但人具有從實體人拍攝之影像而擬真地重新產生的面部。作為另一實例，虛擬物體可採用藉由一或多個成像感測器而成像的實體物品之形狀或顏色。作為一進一步實例，虛擬物體可採用與實體環境中之太陽位置一致的陰影。
存在許多使人能夠感測各種CGR環境及/或與之互動的不同類型電子系統。實例包括頭戴式系統、基於投影之系統、抬頭顯示器(heads-up display, HUD)、具有整合式顯示能力之車輛擋風玻璃、具有整合式顯示能力之窗、經形成為經設計成放置在人眼上之鏡片的顯示器（例如，類似於隱形眼鏡）、頭戴式耳機/耳機、揚聲器陣列、輸入系統（例如，具有或不具有觸覺回饋的可穿戴式或手持式控制器）、智慧型手機、平板電腦、及桌上型電腦/膝上型電腦。頭戴式系統可具有一或多個揚聲器及一整合式不透明顯示器。替代地，頭戴式系統可經組態以接受外部的不透明顯示器（例如，智慧型手機）。頭戴式系統可併入一或多個成像感測器以擷取實體環境之影像或視訊，及/或一或多個麥克風以擷取實體環境之音訊。頭戴式系統可具有透明或半透明顯示器，而非不透明顯示器。透明或半透明顯示器可具有一介質，透過該介質導引表示影像的光至人的眼睛。顯示器可利用數位光投射、OLED、LED、uLED、液晶覆矽、雷射掃描光源、或此等技術之任何組合。該介質可係光學波導、全像介質、光學組合器、光學反射器、或其等之任何組合。在一實施例中，透明或半透明顯示器可經組態以選擇性變成不透明的。基於投影之系統可採用視網膜投影技術，其將圖形影像投射至人的視網膜上。投射系統亦可經組態以投射虛擬物體至實體環境中，例如作為全像或在實體表面上。本文所描述之顯示系統可用於這些類型的系統及用於任何其他所欲的顯示器配置。
根據一實施例，提供一種光學系統，其將由一顯示模組所產生的光朝向一可視範圍重導向，該光學系統包括：一波導；一非繞射輸入耦合器，其經組態以將由該顯示模組產生的該光耦合至該波導中；一交叉耦合器，其在該波導上，該交叉耦合器經組態以對藉由該非繞射輸入耦合器耦合至該波導中的該光執行偶數次繞射，該偶數次繞射經組態以使該光在一第一方向擴展，且該波導經組態以經由全內反射而傳播在該第一方向擴展之該光；及一輸出耦合器，其在該波導上，該輸出耦合器經組態以將藉由該交叉耦合器在該第一方向所擴展之該光耦合離開該波導，同時使該光在一第二方向擴展，該第二方向不同於該第一方向。
根據另一實施例，該交叉耦合器包括一表面浮雕光柵。
根據另一實施例，該表面浮雕光柵具有經定向在一第一方向的條紋。
根據另一實施例，該交叉耦合器進一步包括一額外表面浮雕光柵，該額外表面浮雕光柵具有經定向在一第二方向的條紋，該第二方向不同於該第一方向。
根據另一實施例，在該交叉耦合器之一重疊區域內，該表面浮雕光柵重疊該額外表面浮雕光柵。
根據另一實施例，該重疊區域具有一非均勻寬度。
根據另一實施例，該表面浮雕光柵與該額外表面浮雕光柵經形成在一第一表面浮雕光柵基材中，且該交叉耦合器進一步包括一第二表面浮雕光柵基材，該第二表面浮雕光柵基材包括至少一個額外表面浮雕光柵，且該第二表面浮雕光柵基材層疊在該第一表面浮雕光柵基材上。
根據另一實施例，該波導包括第一波導基材與第二波導基材，及經插置在該第一波導基材與該第二波導基材之間的一介質，且該表面浮雕光柵及該額外表面浮雕光柵經形成在一表面浮雕光柵基材中，該表面浮雕光柵基材層疊在該第一波導基材上。
根據另一實施例，該輸出耦合器包括嵌入在該介質中的一百葉式鏡。
根據另一實施例，該介質包括一光柵介質，且該輸出耦合器包括經記錄在該光柵介質中的一組體積全像片。
根據另一實施例，該表面浮雕光柵具有一非二元輪廓。
根據另一實施例，該波導包括：一介質，其具有第一表面及第二表面；及一波導基材，其層疊在該第一表面介質上，該表面浮雕光柵經形成在一表面浮雕光柵介質中，該表面浮雕光柵介質層疊在該介質之該第二表面上，且該表面浮雕光柵經嵌入在該介質中。
根據另一實施例，該介質包括一光柵介質，且該輸出耦合器包括經記錄在該光柵介質中的一組體積全像片。
根據另一實施例，該光學系統包括一光學透明塗層，該光學透明塗層在該表面浮雕光柵上，且經插置在該表面浮雕光柵與該光柵介質之間。
根據另一實施例，該光學系統包括一抗反射層，該抗反射層在該輸出耦合器處的該波導基材之一表面上。
根據另一實施例，該光柵介質具有一整體折射率，且該表面浮雕光柵介質具有大於該光柵介質之該整體折射率的一折射率。
根據另一實施例，該輸出耦合器具有依據沿該第一方向之位置而變化的一繞射效率。
根據另一實施例，該輸出耦合器具有沿該輸出耦合器之一中心軸的一第一繞射效率及在該輸出耦合器之一周邊邊緣處的一第二繞射效率，該第二繞射效率大於該第一繞射效率。
根據另一實施例，該交叉耦合器具有隨位置而變化的一繞射效率。
根據另一實施例，該波導包括第一波導基材與第二波導基材，及經插置在該第一波導基材與該第二波導基材之間的一第一光柵介質，該交叉耦合器包括：一基材；一第二光柵介質；及在該第二光柵介質中之一組全像相位光柵，且該第二光柵介質經插置在該基材與該第一波導基材之間。
根據另一實施例，該組全像相位光柵包括複數個至少部分重疊的體積全像片。
根據另一實施例，該輸出耦合器包括在該第一光柵介質中的一組額外全像相位光柵。
根據另一實施例，該組全像相位光柵具有條紋，該等條紋在該基材處具有一恆定節距以及一可變週期。
根據另一實施例，該非繞射輸入耦合器包括一非繞射輸入耦合器，該非繞射輸入耦合器選自由下列所組成之群組：一稜鏡，其安裝至該波導；及該波導的一成角度邊緣。
根據另一實施例，該光學系統包括一部分反射分光器，該部分反射分光器經嵌入該波導中，藉由該非繞射輸入耦合器耦合至該波導中的該光經組態以在該交叉耦合器處接收之前，打在該部分反射分光器。
根據另一實施例，該交叉耦合器包括在該波導上之一超穎光柵。
根據一實施例，提供一種頭戴式裝置，其包括：一顯示模組，其產生影像光；一波導，其具有第一波導基材與第二波導基材，及經插置在該第一波導基材與該第二波導基材之間的一光柵介質；一表面浮雕光柵結構，其由該第二波導基材所形成且嵌入在該光柵介質內；一輸入稜鏡，其安裝至該第一波導基材，該輸入稜鏡經組態以將該影像光耦合至該波導中且朝向該表面浮雕光柵結構；及一輸出耦合器，其具有在該光柵介質中之一組體積全像片，該表面浮雕光柵結構經組態以：沿一第一軸擴展該影像光，對該影像光執行偶數次繞射，及導引該影像光至該波導中且朝向該輸出耦合器，該輸出耦合器經組態以沿垂直於該第一軸之一第二軸擴展該影像光且經組態以將該影像光耦合離開該波導。
根據另一實施例，該表面浮雕光柵結構包括經形成在該第二波導基材中的第一表面浮雕光柵及第二表面浮雕光柵，該第一表面浮雕光柵包括具有一第一定向的第一條紋，該第二表面浮雕光柵包括具有一第二定向的第二條紋，該第二定向不平行於該第一定向，且在該表面浮雕光柵結構之一重疊區域內，該第一表面浮雕光柵與該第二表面浮雕光柵重疊。
根據另一實施例，該頭戴式裝置包括一光學透明塗層，該光學透明塗層在該第一表面浮雕光柵及該第二表面浮雕光柵上，且經插置在該第二波導基材與該光柵介質之間。
根據另一實施例，該頭戴式裝置包括在該光柵介質上的一部分反射分光器，該表面浮雕光柵結構經組態以接收來自部分反射分光器的該影像光。
根據另一實施例，該組體積全像片具有依據沿該第一軸之位置而變化的一繞射效率。
根據一實施例，提供一種顯示系統，其包括：一波導；一輸入耦合器，其經組態以將光耦合至該波導中；一交叉耦合器，其在該波導上，該交叉耦合器包括：一第一繞射光柵結構，其具有經定向在一第一方向之第一條紋，及一第二繞射光柵結構，其具有經定向在一第二方向之第二條紋，在該交叉耦合器之一重疊區域內，該第一繞射光柵結構與該第二繞射光柵結構重疊，該重疊區域與該輸入耦合器對準，且該第一繞射光柵結構及該第二繞射光柵結構各經組態以對藉由該輸入耦合器耦合至該波導中的該光繞射偶數次；及一輸出耦合器，其在該波導上，該輸出耦合器經組態以接收由該交叉耦合器所繞射之該光、使該光在一給定方向擴展、及將該光耦合離開該波導。
根據另一實施例，該第一繞射光柵結構包括一第一表面浮雕光柵，該第二繞射光柵結構包括一第二表面浮雕光柵，該第一表面浮雕光柵及該第二表面浮雕光柵兩者皆形成在黏附至該波導之一外部表面的一表面浮雕光柵基材層中，該第一表面浮雕光柵及該第二表面浮雕光柵經組態以使藉由該輸入耦合器耦合至該波導中的該光在垂直於該給定方向的一額外方向擴展，且該輸出耦合器包括嵌入在該波導中之一組體積全像片。
根據另一實施例，該第一繞射光柵結構包括在該波導上之一第一超穎光柵，且該第二繞射光柵結構包括在該波導上的一第二超穎光柵。
前文僅係說明性的，並可對所述實施例作出各種修改。前述的實施例可個別或以任何組合來實施。
8:支撐結構/殼體 10:系統/頭戴式裝置/裝置 12:輸入輸出裝置/裝置 16:控制電路系統/電路系統 18:組件 20:近眼顯示器/顯示器 20A:顯示模組 20B:光學系統 24:可視範圍 28:物體 38:光/影像光/光瞳 38’:箭頭 50:波導 52:耦合器 54:耦合器 56:耦合器 58:輸入光學器件 60:輸出光學器件 70:輸入稜鏡 72:光柵結構 74:光柵結構 76:重疊區域 77:繞射光束截止器 78:條紋 79:箭頭 82:箭頭 84:箭頭 86:DC光 88:箭頭 88’:箭頭 90:箭頭 90’:箭頭 92:箭頭/經繞射光 92’:箭頭/經繞射光 94:箭頭 95:箭頭 100:表面浮雕光柵結構 102:脊/峰 104:槽/最低處 106:光柵介質 108:基材 110:基材 112:表面浮雕光柵基材 114:表面 115:黏著劑層 116:表面 118:抗反射塗層 120:表面 122:側向表面/表面 124:分光器 130:塗層 150:區域 152:曲線 154:曲線 154’:曲線 158:區域 160:箭頭 162:區域 164:區域 166:區域 168:箭頭 180:光柵介質 182:基材 184:體積全像結構/結構 200:輸出耦合器/中心區域 202:周邊區域 204:曲線 206:標繪圖 220:左邊緣 222:箭頭 224:光柵結構 226:箭頭 230:邊緣 232:箭頭 234:箭頭 236:光柵結構 kx/kmedia:X分量 ky/kmedia:Y分量 X:軸 Y:軸 Z:軸 Λ:週期
〔圖1〕係根據一些實施例之具有一顯示器之一說明性系統的圖。 〔圖2〕係根據一些實施例之用於包括一輸入耦合器、一交叉耦合器、及一輸出耦合器之一顯示器的一說明性光學系統的俯視圖。 〔圖3〕係根據一些實施例之具有一交叉耦合器且具有一輸出耦合器的一說明性光學系統的前視圖，該交叉耦合器將經向內耦合的光繞射偶數次同時使光在一第一方向擴展，該輸出耦合器使光在一第二方向擴展。 〔圖4〕係根據一些實施例之具有一非矩形形狀之一說明***叉耦合器的圖。 〔圖5〕係根據一些實施例之具有由在波導上之一表面浮雕光柵結構所形成之一交叉耦合器的一說明性波導的截面俯視圖。 〔圖6〕係根據一些實施例之具有由嵌入在一光柵介質中之一表面浮雕光柵結構所形成之一交叉耦合器的一說明性波導的截面俯視圖，該光柵介質用以形成波導之一輸出耦合器。 〔圖7〕係根據一些實施例之具有由在波導之與輸入耦合稜鏡的相同側上之一表面浮雕光柵結構所形成之一交叉耦合器的一說明性波導的截面俯視圖。 〔圖8〕係根據一些實施例之具有由在波導之與輸入耦合稜鏡的相同側處嵌入在一光柵介質中之一表面浮雕光柵結構所形成之一交叉耦合器的一說明性波導的截面俯視圖。 〔圖9〕係根據一些實施例之k空間圖，其繪示圖5至圖8中所示類型的表面浮雕光柵結構如何可形成在具有一相對高折射率之基材中，以用於確保不同波長之經向內耦合的光傳播穿過一波導。 〔圖10〕係根據一些實施例之具有由體積全像光柵結構所形成之一交叉耦合器的一說明性波導的截面俯視圖。 〔圖11〕係根據一些實施例之具有一可變繞射效率之一說明性輸出耦合器的前視圖。 〔圖12〕及〔圖13〕係根據一些實施例之具有一交叉耦合器且具有一輸出耦合器的一說明性光學系統的前視圖，該交叉耦合器具有將經向內耦合的光繞射偶數次之一單一光柵結構，同時使光在一第一方向擴展，該輸出耦合器使光在一第二方向擴展。
20B:光學系統
38:光/影像光/光瞳
50:波導
52:耦合器
54:耦合器
56:耦合器
70:輸入稜鏡
72:光柵結構
74:光柵結構
76:重疊區域
77:繞射光束截止器
78:條紋
79:箭頭
82:箭頭
84:箭頭
86:DC光
88:箭頭
88’:箭頭
90:箭頭
90’:箭頭
92:箭頭/經繞射光
92’:箭頭/經繞射光
94:箭頭
95:箭頭
114:表面
X:軸
Y:軸
Z:軸
Λ:週期

Claims (20)

  1. 一種光學系統，其將由一顯示模組所產生的光朝向一可視範圍重導向，該光學系統包含： 一波導； 一非繞射輸入耦合器，其經組態以將由該顯示模組產生的該光耦合至該波導中； 一交叉耦合器，其在該波導上，其中該交叉耦合器經組態以對藉由該非繞射輸入耦合器耦合至該波導中的該光執行偶數次繞射，其中該偶數次繞射經組態以使該光在一第一方向擴展，且其中該波導經組態以經由全內反射而傳播在該第一方向擴展之該光；及 一輸出耦合器，其在該波導上，其中該輸出耦合器經組態以將藉由該交叉耦合器在該第一方向所擴展之該光耦合離開該波導，同時使該光在一第二方向擴展，該第二方向不同於該第一方向。 如請求項1之光學系統，其中該交叉耦合器包含一表面浮雕光柵，其中該表面浮雕光柵具有經定向在一第一方向的條紋，其中該交叉耦合器進一步包含一額外表面浮雕光柵，該額外表面浮雕光柵具有經定向在一第二方向的條紋，該第二方向不同於該第一方向，且其中該表面浮雕光柵在該交叉耦合器之一重疊區域內重疊該額外表面浮雕光柵。
  2. 如請求項2之光學系統，其中該重疊區域具有一非均勻寬度。
  3. 如請求項2之光學系統，其中該表面浮雕光柵與該額外表面浮雕光柵經形成在一第一表面浮雕光柵基材中，且其中該交叉耦合器進一步包含一第二表面浮雕光柵基材，該第二表面浮雕光柵基材包括至少一個額外表面浮雕光柵，且該第二表面浮雕光柵基材層疊在該第一表面浮雕光柵基材上。
  4. 一種光學系統2，其中該波導包含第一波導基材與第二波導基材，及經插置在該第一波導基材與該第二波導基材之間的一介質，且其中該表面浮雕光柵及該額外表面浮雕光柵經形成在一表面浮雕光柵基材中，該表面浮雕光柵基材層疊在該第一波導基材上。
  5. 如請求項4之光學系統，其中該輸出耦合器包含嵌入在該介質中的一百葉式鏡(louvred mirror)。
  6. 如請求項4之光學系統，其中該介質包含一光柵介質，且其中該輸出耦合器包含經記錄在該光柵介質中的一組體積全像片(volume hologram)。
  7. 如請求項2之光學系統，其中該表面浮雕光柵具有一非二元輪廓。
  8. 如請求項2之光學系統，其中該波導包含：一介質，其具有第一表面及第二表面；及一波導基材，其層疊在該第一表面介質上，其中該表面浮雕光柵經形成在一表面浮雕光柵介質中，該表面浮雕光柵介質層疊在該介質之該第二表面上，且其中該表面浮雕光柵經嵌入在該介質中。
  9. 如請求項1之光學系統，其中該輸出耦合器具有依據沿該第一方向之位置而變化的一繞射效率，且其中該輸出耦合器具有沿該輸出耦合器之一中心軸的一第一繞射效率及在該輸出耦合器之一周邊邊緣處的一第二繞射效率，該第二繞射效率大於該第一繞射效率。
  10. 如請求項1之光學系統，其中該交叉耦合器具有隨位置而變化的一繞射效率。
  11. 如請求項1之光學系統，其中該波導包含第一波導基材與第二波導基材，及經插置在該第一波導基材與該第二波導基材之間的一第一光柵介質，其中該交叉耦合器包含：一基材；一第二光柵介質；及在該第二光柵介質中之一組全像相位光柵(holographic phase grating)，且其中該第二光柵介質經插置在該基材與該第一波導基材之間。
  12. 如請求項11之光學系統，其中該組全像相位光柵具有條紋，該等條紋在該基材處具有一恆定節距以及一可變週期。
  13. 如請求項1之光學系統，其進一步包含： 一部分反射分光器，其經嵌入該波導中，其中藉由該非繞射輸入耦合器耦合至該波導中的該光經組態以在該交叉耦合器處接收之前，打在該部分反射分光器。
  14. 如請求項1之光學系統，其中該交叉耦合器包含在該波導上之一超穎光柵(meta-grating)。
  15. 一種頭戴式裝置，其包含： 一顯示模組，其產生影像光； 一波導，其具有第一波導基材與第二波導基材，及經插置在該第一波導基材與該第二波導基材之間的一光柵介質； 一表面浮雕光柵結構，其由該第二波導基材所形成且嵌入在該光柵介質內； 一輸入稜鏡，其安裝至該第一波導基材，其中該輸入稜鏡經組態以將該影像光耦合至該波導中且朝向該表面浮雕光柵結構；及 一輸出耦合器，其具有在該光柵介質中之一組體積全像片，其中該表面浮雕光柵結構經組態以： 沿一第一軸擴展該影像光， 對該影像光執行偶數次繞射，及 導引該影像光至該波導中且朝向該輸出耦合器，該輸出耦合器經組態以沿垂直於該第一軸之一第二軸擴展該影像光且經組態以將該影像光耦合離開該波導。
  16. 如請求項15之頭戴式裝置，其中該表面浮雕光柵結構包含經形成在該第二波導基材中的第一表面浮雕光柵及第二表面浮雕光柵，其中該第一表面浮雕光柵包含具有一第一定向的第一條紋，其中該第二表面浮雕光柵包含具有一第二定向的第二條紋，該第二定向不平行於該第一定向，且其中在該表面浮雕光柵結構之一重疊區域內，該第一表面浮雕光柵與該第二表面浮雕光柵重疊。
  17. 如請求項15之頭戴式裝置，其中該組體積全像片具有依據沿該第一軸之位置而變化的一繞射效率。
  18. 一種顯示系統，其包含： 一波導； 一輸入耦合器，其經組態以將光耦合至該波導中； 一交叉耦合器，其在該波導上，其中該交叉耦合器包含： 一第一繞射光柵結構，其具有經定向在一第一方向之第一條紋，及 一第二繞射光柵結構，其具有經定向在一第二方向之第二條紋，其中在該交叉耦合器之一重疊區域內，該第一繞射光柵結構與該第二繞射光柵結構重疊，其中該重疊區域與該輸入耦合器對準，且其中該第一繞射光柵結構及該第二繞射光柵結構各經組態以對藉由該輸入耦合器耦合至該波導中的該光繞射偶數次；及 一輸出耦合器，其在該波導上，其中該輸出耦合器經組態以接收由該交叉耦合器所繞射之該光、使該光在一給定方向擴展、及將該光耦合離開該波導。
  19. 如請求項18之光學系統，其中該第一繞射光柵結構包含一第一表面浮雕光柵，該第二繞射光柵結構包含一第二表面浮雕光柵，該第一表面浮雕光柵及該第二表面浮雕光柵兩者皆形成在黏附至該波導之一外部表面的一表面浮雕光柵基材層中，該第一表面浮雕光柵及該第二表面浮雕光柵經組態以使藉由該輸入耦合器耦合至該波導中的該光在垂直於該給定方向的一額外方向擴展，且該輸出耦合器包含嵌入在該波導中之一組體積全像片。
  20. 如請求項19之光學系統，其中該第一繞射光柵結構包含在該波導上之一第一超穎光柵，且其中該第二繞射光柵結構包含在該波導上的一第二超穎光柵。
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