TW202017975A - 光學膜 - Google Patents

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TW202017975A
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optical film
film
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optical
polyimide
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TW108133613A
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大松一喜
福井仁之
唐澤真義
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日商住友化學股份有限公司
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Abstract

本發明之課題在於提供一種廣角方向之視認性優異之光學膜。 本發明之光學膜係包含聚醯亞胺系樹脂及聚醯胺系樹脂且全光線透過率為85%以上，霧度為0.5%以下者， 於在上述光學膜面內將與製造時之機械行進方向平行之方向設為MD方向、將與該機械行進方向垂直之方向設為TD方向時， 關於上述光學膜之至少任一面，依據JIS K 7374於光梳之狹縫寬度為0.125 mm之情形時所獲得之自與上述光學膜之平面垂直之方向向上述MD方向傾斜60°之方向的第1反射圖像清晰度值CMD 、與自上述垂直方向向上述TD方向傾斜60°之方向之第2反射圖像清晰度值CTD 滿足： 式(1)： 45%≤CMD ≤100%・・・(1)、 式(2)： 30%≤CTD ≤100%・・・(2)、及 式(3)： 35%≤(CMD +CTD )/2≤100%・・・(3)。

Description

光學膜
本發明係關於一種包含選自由聚醯亞胺系樹脂及聚醯胺系樹脂所組成之群中之至少1種樹脂之光學膜、及具備該光學膜之可撓性顯示裝置。
先前，使用玻璃作為太陽電池或圖像顯示裝置等顯示構件之材料。然而，並不存在對於近年來之小型化、薄型化、輕量化及可撓性化之要求而言充分之材質。因此，正在研究各種膜作為玻璃之代替材料。作為此種膜，例如有聚醯亞胺膜(例如，專利文獻1)。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2009-215412號公報
[發明所欲解決之問題]
於將聚醯亞胺膜應用於可撓性顯示裝置之前面板等透明構件之情形時，由於存在要於圖像顯示面彎曲之狀態下顯示影像之情形，故而與非彎曲性之圖像顯示面相比，要求廣角方向之優異之視認性。然而，根據本發明者之研究，先前之聚醯亞胺系樹脂膜存在未能充分地滿足該廣角方向之視認性之情形。
因此，本發明之目的在於提供一種廣角方向之視認性優異之光學膜、及具備該光學膜之可撓性顯示裝置。 [解決問題之技術手段]
本發明者等人為了解決上述課題而進行了努力研究，結果發現於包含選自由聚醯亞胺系樹脂及聚醯胺系樹脂所組成之群中之至少1種樹脂且全光線透過率為85%以上、霧度為0.5%以下之光學膜中，只要將反射圖像清晰度值(CMD 、CTD )及其平均值{(CMD +CTD )/2}分別調整為特定範圍，便可解決上述課題，從而完成了本發明。即，本發明包含以下之態樣。
[1]一種光學膜，其包含選自由聚醯亞胺系樹脂及聚醯胺系樹脂所組成之群中之至少1種樹脂，且全光線透過率為85%以上，霧度為0.5%以下， 於在上述光學膜面內將與製造時之機械行進方向平行之方向設為MD方向(Machine direction，機械方向)、將與該機械行進方向垂直之方向設為TD方向(Transverse direction，橫向方向)時， 關於上述光學膜之至少任一面，依據JIS K 7374於光梳之狹縫寬度為0.125 mm之情形時獲得之自與上述光學膜之平面垂直之方向向該MD方向傾斜60°之方向之第1反射圖像清晰度值CMD 與自上述垂直方向向上述TD方向傾斜60°之方向之第2反射圖像清晰度值CTD 滿足： 式(1)： 45%≤CMD ≤100%・・・(1)、 式(2)： 30%≤CTD ≤100%・・・(2)、及 式(3)： 35%≤(CMD +CTD )/2≤100%・・・(3)。 [2]如[1]所記載之光學膜，其依據JIS K 5600-5-1之耐彎曲性試驗前後之上述霧度之差ΔHaze未達0.3%。 [3]如[1]或[2]所記載之光學膜，其依據JIS K 5600-5-1之耐彎曲性試驗前後之上述第1反射圖像清晰度值之差ΔCMD 及上述第2反射圖像清晰度值之差ΔCTD 未達15。 [4]如[1]～[3]中任一項所記載之光學膜，其厚度為10～150 μm。 [5]如[1]～[4]中任一項所記載之光學膜，其進而包含填料，且 上述填料之含量相對於光學膜之質量為5質量%以下。 [6]如[1]～[5]中任一項所記載之光學膜，其80℃下之拉伸彈性模數為4,000～9,000 MPa。 [7]如[1]～[6]中任一項所記載之光學膜，其於至少一面具有硬塗層。 [8]如[7]所記載之光學膜，其中上述硬塗層之厚度為3～30 μm。 [9]一種可撓性顯示裝置，其具備如[1]～[8]中任一項所記載之光學膜。 [10]如[9]所記載之可撓性顯示裝置，其進而具備觸控感測器。 [11]如[9]或[10]所記載之可撓性顯示裝置，其進而具備偏光板。 [發明之效果]
根據本發明，可提供一種廣角方向之視認性優異之光學膜、及具備該光學膜之可撓性顯示裝置。
以下，對本發明之實施形態詳細地進行說明。再者，本發明之範圍並不限定於要說明之實施形態，可於不脫離本發明之主旨之範圍內進行各種變更。又，於關於特定參數記載有複數個上限值及下限值之情形時，可將該等上限值及下限值中之任意上限值與下限值進行組合而設為適當之數值範圍。
＜光學膜＞ 本發明之光學膜包含選自由聚醯亞胺系樹脂及聚醯胺系樹脂所組成之群中之至少1種樹脂，且全光線透過率為85%以上，霧度為0.5%以下， 於在上述光學膜面內將與製造時之機械行進方向平行之方向設為MD方向，將與該機械行進方向垂直之方向設為TD方向時， 關於上述光學膜之至少任一面，依據JIS K 7374於光梳之狹縫寬度為0.125 mm之情形時所獲得之自與上述光學膜之平面垂直之方向向上述MD方向傾斜60°之方向之第1反射圖像清晰度值CMD 與自上述垂直方向向上述TD方向傾斜60°之方向之第2反射圖像清晰度值CTD 滿足： 式(1)： 45≤CMD ≤100・・・(1)、 式(2)： 30≤CTD ≤100・・・(2)、及 式(3)： 35≤(CMD +CTD )/2≤100・・・(3)。
[1.式(1)～式(3)] (MD方向、TD方向) MD方向係於光學膜面內與製造時之機械行進方向平行之方向，例如表示於利用溶液澆鑄法製造之情形時與搬送光學膜之方向平行之方向。TD方向係與上述機械行進方向垂直之方向，例如表示與搬送方向垂直之方向。光學膜面內之MD方向及TD方向於其方向不明確之情形時係藉由以下方法來確定。關於MD與TD，進行光學膜之至少20點以上之不同方向之剖面修面。更詳細而言，假定以光學膜之任意1點為中心點之圓，以自該光學膜中切出其半圓，進而將該半圓切斷後之扇形之中心角變得大致均等之方式將光學膜直線狀地切斷，進行20個以上之剖面修面。藉由雷射拉曼測定所獲得之複數個剖面之厚度之中心，將1,620 cm-1 附近之峰強度最大者設為MD方向。
(第1反射圖像清晰度值CMD ) 第1反射圖像清晰度值CMD 係依據日本工業標準(JIS)K 7374所獲得之自與光學膜之平面垂直之方向向MD方向傾斜60°之方向之反射圖像清晰度值。參照圖1對第1反射圖像清晰度值CMD 更具體地進行說明。圖1係表示第1反射圖像清晰度值之測定中之光軸之圖。以光學膜1之面上之任意點(第1照射位置11)為支點，沿著自與光學膜1垂直之軸(垂直軸3)向MD方向傾斜角度60°之軸(第1光軸14)對光學膜1照射第1照射光10(白色光：圖1中以實線表示)。繼而，使第1正反射光12(圖1中以虛線表示)透過與以第1照射位置11為支點自垂直軸3向MD方向傾斜-60°之第1方向垂直地延伸之第1光梳16。繼而，利用在第1方向上延伸之第1受光器19接收透過第1光梳16之第1透過光18(圖1中以單點鏈線表示)。第1光梳16具有使第1正反射光12透過之開口部及阻斷第1正反射光12之遮光部。第1光梳16之狹縫寬度(開口部之寬度)為0.125 mm。 在與第1光梳16之平面平行且第1光梳16中之狹縫所排列之方向(箭頭A之方向)上使第1光梳16移動特定單位寬度以接收第1透過光18，反覆進行該操作而獲得受光波形。根據所獲得之受光波形獲得相對光量之最大值M及最小值m。根據所獲得之M及m並基於式(5)
Figure 02_image001
算出第1反射圖像清晰度值CMD 。反射圖像清晰度值(第1反射圖像清晰度值、及下述第2反射圖像清晰度值)可使用圖像清晰度測定器進行測定。
當第1反射圖像清晰度值CMD 滿足式(1)時，光學膜於MD方向上之廣角方向之視認性優異。第1反射圖像清晰度值CMD 於式(1)中為45%以上，就進而提高光學膜之MD方向上之廣角方向之視認性之觀點而言，較佳為47%以上，更佳為48%以上，進而較佳為50%以上且100%以下。
(第2反射圖像清晰度值CTD ) 第2反射圖像清晰度值CTD 係依據JIS K 7374所獲得之自與光學膜之平面垂直之方向向TD方向傾斜60°之方向之反射圖像清晰度值。參照圖2對第2反射圖像清晰度值CTD 更具體地進行說明。圖2係表示第2反射圖像清晰度值之測定中之光軸之圖。以光學膜1之面上之任意點(第2照射位置21)為支點，沿著自與光學膜1垂直之軸(垂直軸3)向TD方向傾斜角度60°之軸(第2光軸24)對光學膜1照射第2照射光20(白色光：圖2中以實線表示)。繼而，使第2正反射光22(圖2中以虛線表示)透過與以第2照射位置21為支點自垂直軸3向TD方向傾斜-60°之第2方向垂直地延伸之第2光梳26。繼而，利用在第2方向上延伸之受光器29接收透過第2光梳26之第2透過光28(圖2中以單點鏈線表示)。第2光梳26具有使第2正反射光22透過之開口部及阻斷第2正反射光22之遮光部。第2光梳26之狹縫寬度(開口部之寬度)為0.125 mm。 在與第2光梳26之平面平行且第2光梳26中之狹縫所排列之方向(箭頭B之方向)上使第2光梳26移動特定單位寬度以接收第2透過光28，反覆進行該操作而獲得受光波形。根據所獲得之受光波形獲得相對光量之最大值M及最小值m。根據所獲得之M及m並基於式(5)算出第2反射圖像清晰度值CTD 。
當第2反射圖像清晰度值CTD 滿足式(2)時，光學膜於TD方向上之廣角方向之視認性優異。第2反射圖像清晰度值CTD 於式(2)中為30%以上，就進而提高光學膜之TD方向上之廣角方向之視認性之觀點而言，更佳為35%以上，進而較佳為38%以上，尤佳為40%以上，極佳為45%以上且100%以下。
當第1反射圖像清晰度值CMD 及第2反射圖像清晰度值CTD 之平均值{(CMD +CTD )/2}滿足式(3)時，光學膜於MD方向及TD方向上之廣角方向之視認性之差異較小。(CMD +CTD )/2為35%以上，就進而降低光學膜之MD方向及TD方向上之廣角方向之視認性之差異之觀點而言，較佳為38%以上，更佳為40%以上，進而較佳為44%以上，尤佳為45%以上且100%以下。
反射圖像清晰度值(更具體而言，第1反射圖像清晰度值CMD 及第2反射圖像清晰度值CTD )可藉由提高光學膜表面之平滑性而抑制光學膜表面之散射等進行調整。進而，光學膜表面之平滑性例如可藉由光學膜之組成(更具體而言，填料之種類、粒徑及含量等)、及光學膜之製造條件(更具體而言，乾燥溫度、乾燥時間、乾燥體系中之氣流、塗膜之厚度、乾燥步驟中之搬送速度及清漆中之溶劑量等)進行調整。於光學膜進而包含硬塗層之情形時，可藉由提高硬塗層表面之平滑性而抑制硬塗層表面之散射等進行調整。硬塗層之平滑性除上述光學膜之平滑性之製備方法以外，例如亦可藉由溶劑之種類、成分比、固形物成分濃度之調整及調平劑之添加等進行調整。
又，較佳為本發明之光學膜關於該光學膜之至少任一面滿足式(1)～式(3)，較佳為關於該光學膜之兩面滿足式(1)～式(3)。若關於兩面滿足式(1)～式(3)，則例如即便將光學膜之任一面採用於電子器件之圖像顯示面，對廣角方向之視認性亦優異。
[2.反射圖像清晰度值之耐彎曲性] 尤其是於將本發明之光學膜應用於可撓性器件之前面板之情形時，就進而提高廣角方向之視認性之觀點而言，依據JIS K 5600-5-1之耐彎曲性試驗前後之第1反射圖像清晰度值之差之絕對值ΔCMD 及第2反射圖像清晰度值之差之絕對值ΔCTD 較佳為分別未達15。若耐彎曲試驗前後之該反射圖像清晰度值之差未達15，則即便以尤其是可撓性器件之圖像顯示面彎曲之狀態使用及/或以彎曲之狀態使用之後，亦具有廣角方向之優異之視認性。ΔCMD 較佳為未達15，更佳為未達14，進而較佳為未達13。ΔCTD 更佳為未達15，進而較佳為未達，尤佳為未達13。
[3.全光線透過率] 本發明之光學膜之全光線透過率為85%以上，就進而提高視認性之觀點而言，較佳為87%以上，更佳為89%以上，進而較佳為90%以上，100%以下。光學膜之全光線透過率可依據JIS K 7136-1：1997進行測定。全光線透過率之測定方法於實施例中詳細地進行說明。
[4.霧度、霧度之差] 本發明之光學膜之霧度為0.5%以下，就進而提高視認性之觀點而言，較佳為0.4%以下，更佳為0.3%以下，進而較佳為0.2%以下。 本發明之光學膜依據JIS K 5600-5-1之耐彎曲性試驗前後之上述霧度之差之絕對值ΔHaze較佳為0.3%以下，更佳為0.2%以下。 光學膜之霧度可依據JIS K 7136：2000進行測定。霧度之測定方法及霧度之差之算出方法於實施例中詳細地進行說明。
本發明之光學膜之黃度(YI)就進而提高視認性之觀點而言，較佳為4.0以下，更佳為3.0以下，進而較佳為2.5以下，尤佳為2.0以下。YI之測定方法於實施例中詳細地進行說明。
[5.彎折次數] 本發明之光學膜之彎折次數就提高耐折性之觀點而言，較佳為20,000次以上，更佳為100,000次以上，進而較佳為200,000次以上，尤佳為350,000次以上，極佳為700,000次以上。若彎折次數為上述下限以上，則即便將光學膜彎折，亦不易產生龜裂或破裂等。又，彎折次數之上限通常50,000,000次以下。光學膜之彎折次數係於依據ASTM標準D2176-16之MIT耐折疲勞試驗中進行測定。MIT耐折疲勞試驗例如係實施例所記載之試驗。
[6.厚度] 本發明之光學膜之厚度較佳為10 μm以上，更佳為20 μm以上，進而較佳為25 μm以上，尤佳為30 μm以上，較佳為150 μm以下，更佳為100 μm以下，進而較佳為85 μm以下。厚度之測定方法於實施例中詳細地進行說明。
[7.拉伸彈性模數] 本發明之光學膜之80℃下之拉伸彈性模數較佳為4,000～9,000 MPa，更佳為4,500～8,500 MPa。該彈性模數之測定方法於實施例中詳細地進行說明。若拉伸彈性模數為上述範圍內，則光學膜不易產生凹陷缺陷。光學膜之拉伸彈性模數可依據JIS K 7127進行測定。拉伸彈性模數之測定方法於實施例中詳細地進行說明。
[8.硬塗層] 本發明之光學膜較佳為於至少一面具有硬塗層。於在兩面具有硬塗層之情形時，2個硬塗層所包含之成分可互為相同，亦可不同。
作為硬塗層，例如可列舉丙烯酸系、環氧系、胺基甲酸酯系、苄基氯系、乙烯系等公知之硬塗層。該等之中，就抑制光學膜之廣角方向之視認性之降低且提高耐彎曲性之觀點而言，可較佳地使用丙烯酸系、胺基甲酸酯系、及其等之組合之硬塗層。硬塗層係藉由照射活性能量線使硬化性化合物聚合並硬化而形成。作為聚合性化合物，例如可列舉多官能(甲基)丙烯酸酯系化合物。所謂多官能(甲基)丙烯酸酯系化合物，係分子中具有至少2個(甲基)丙烯醯氧基之化合物。
作為多官能(甲基)丙烯酸酯系化合物，例如係：乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基乙烷三(甲基)丙烯酸酯、四羥甲基甲烷三(甲基)丙烯酸酯、四羥甲基甲烷四(甲基)丙烯酸酯、戊丙三醇三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、甘油三(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、三((甲基)丙烯醯氧基乙基)異氰尿酸酯；於磷腈化合物之磷腈環導入有(甲基)丙烯醯氧基之磷腈系(甲基)丙烯酸酯化合物；藉由分子中具有至少2個異氰酸酯基之聚異氰酸酯與具有至少1個(甲基)丙烯醯氧基及羥基之多元醇化合物之反應而獲得之胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物；藉由分子中至少2個羧酸鹵化物與具有至少1個(甲基)丙烯醯氧基及羥基之多元醇化合物之反應而獲得之聚酯(甲基)丙烯酸酯化合物；以及上述各化合物之二聚物、三聚物等低聚物等。該等化合物可分別單獨使用或將2種以上混合使用。
硬化性化合物中除上述多官能(甲基)丙烯酸酯系化合物以外，亦可包含單官能(甲基)丙烯酸酯系化合物。作為單官能(甲基)丙烯酸酯系化合物，例如可列舉：(甲基)丙烯酸羥乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸羥基丁酯、(甲基)丙烯酸2-羥基-3-苯氧基丙酯、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯等。該等化合物單獨或將2種以上混合使用。單官能(甲基)丙烯酸酯系化合物之含量於將硬化性組合物中所包含之化合物之固形物成分設為100質量%時，較佳為10質量%以下。再者，於本說明書中，所謂固形物成分，意指將硬化性組合物中所包含之溶劑除外之所有成分。
形成硬塗層之硬化性組合物除多官能(甲基)丙烯酸酯系化合物及聚合性低聚物以外，亦可包含添加劑。作為添加劑，例如可列舉：聚合起始劑、二氧化矽、調平劑、溶劑等。作為溶劑，例如可列舉：甲基乙基酮、聚丙二醇單甲醚等。
又，硬化性化合物亦可含有聚合性低聚物。藉由含有聚合性低聚物，可調整硬塗層之硬度。作為聚合性低聚物，可列舉：末端(甲基)丙烯酸酯聚甲基丙烯酸甲酯、末端聚(甲基)丙烯酸苯乙烯基酯、末端(甲基)丙烯酸酯聚苯乙烯、末端(甲基)丙烯酸酯聚乙二醇、末端(甲基)丙烯酸酯丙烯腈-苯乙烯共聚物、末端(甲基)丙烯酸酯苯乙烯-(甲基)丙烯酸甲酯共聚物等巨單體。聚合性低聚物之含量於將硬化性組合物中所包含之化合物之固形物成分設為100質量%時，較佳為5～50質量%。
硬塗層之厚度就提高光學膜之硬度之觀點而言，較佳為3～30 μm，更佳為5～25 μm，進而較佳為5～20 μm。
[9.保護膜] 於本發明之一實施態樣中，光學膜可於至少一面(單面或兩面)具有保護膜。例如於在光學膜之單面具有功能層之情形時，保護膜可積層於光學膜側之表面或功能層側之表面，亦可積層於光學膜側與功能層側之兩者。於在光學膜之兩面具有功能層之情形時，保護膜可積層於單側功能層側之表面，亦可積層於兩功能層側之表面。保護膜係用以暫時保護光學膜或功能層之表面之膜，只要為可保護光學膜或功能層之表面之可剝離之膜，則並無特別限定。作為保護膜，例如可列舉：聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系樹脂膜；聚乙烯、聚丙烯膜等聚烯烴系樹脂膜、丙烯酸系樹脂膜等；較佳為選自由聚烯烴系樹脂膜、聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂膜及丙烯酸系樹脂膜所組成之群中。於光學膜具有2個保護膜之情形時，各保護膜可相同，亦可不同。
保護膜之厚度並無特別限定，通常為10～120 μm，較佳為10～110 μm，更佳為15～100 μm。於光學膜具有2個保護膜之情形時，各保護膜之厚度可相同，亦可不同。
[10.聚醯亞胺、聚醯胺系樹脂] 本發明之光學膜包含選自由聚醯亞胺系樹脂及聚醯胺系樹脂所組成之群中之至少1種樹脂。所謂聚醯亞胺系樹脂，表示選自由含有包含醯亞胺基之重複結構單元之樹脂(以下，有時記載為聚醯亞胺樹脂)、以及含有包含醯亞胺基及醯胺基之兩者之重複結構單元之樹脂(以下，有時記載為聚醯胺醯亞胺樹脂)所組成之群中之至少1種樹脂。又，所謂聚醯胺系樹脂，表示含有包含醯胺基之重複結構單元之樹脂(以下，有時記載為聚醯胺系樹脂)。
聚醯亞胺系樹脂較佳為具有式(10)所表示之重複結構單元。此處，G為四價有機基，A為二價有機基。聚醯亞胺系樹脂亦可包含G及/或A不同之2種以上之式(10)所表示之重複結構單元。 [化1]
Figure 02_image003
聚醯亞胺系樹脂亦可於無損光學膜之各種物性之範圍內包含選自由式(11)、式(12)及式(13)所表示之重複結構單元所組成之群中之1種以上之重複結構單元。
[化2]
Figure 02_image005
式(10)及式(11)中，G及G1 分別獨立地為四價有機基，較佳為可經烴基或經氟取代之烴基取代之有機基。作為G及G1 ，例示式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)或式(29)所表示之基以及四價碳數6以下之鏈式烴基。就容易抑制光學膜之黃度(YI值)之方面而言，其中，較佳為式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)或式(27)所表示之基。
[化3]
Figure 02_image007
式(20)～式(29)中， *表示鍵結鍵， Z表示單鍵、-O-、-CH2 -、-CH2 -CH2 -、-CH(CH3 )-、-C(CH3 )2 -、-C(CF3 )2 -、-Ar-、-SO2 -、-CO-、-O-Ar-O-、-Ar-O-Ar-、-Ar-CH2 -Ar-、-Ar-C(CH3 )2 -Ar-或-Ar-SO2 -Ar-。Ar表示可經氟原子取代之碳數6～20之伸芳基，作為具體例，可列舉伸苯基。
式(12)中，G2 為三價有機基，較佳為可經烴基或經氟取代之烴基取代之有機基。作為G2 ，例示式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)或式(29)所表示之基之鍵結鍵之任一個被取代為氫原子之基以及三價之碳數6以下之鏈式烴基。
式(13)中，G3 為二價有機基，較佳為可經烴基或經氟取代之烴基取代之有機基。作為G3 ，例示式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)或式(29)所表示之基之鍵結鍵中不鄰接之兩個被取代為氫原子之基及碳數6以下之鏈式烴基。
式(10)～式(13)中，A、A1 、A2 及A3 分別獨立地為二價有機基，較佳為可經烴基或經氟取代可經烴基或經氟取代之烴基取代之有機基。作為A、A1 、A2 及A3 ，例示：式(30)、式(31)、式(32)、式(33)、式(34)、式(35)、式(36)、式(37)或者式(38)所表示之基；其等經甲基、氟基、氯基或者三氟甲基取代之基；以及碳數6以下之鏈式烴基。
[化4]
Figure 02_image009
式(30)～式(38)中， *表示鍵結鍵， Z1 、Z2 及Z3 分別獨立地表示單鍵、-O-、-CH2 -、-CH2 -CH2 -、-CH(CH3 )-、-C(CH3 )2 -、-C(CF3 )2 -、-SO2 -或-CO-。 一例係Z1 及Z3 為-O-，且Z2 為-CH2 -、-C(CH3 )2 -、-C(CF3 )2 -或-SO2 -。Z1 與Z2 相對於各環之鍵結位置、及Z2 與Z3 相對於各環之鍵結位置分別較佳為相對於各環為間位或對位。
聚醯亞胺系樹脂就容易提高視認性之觀點而言，較佳為至少具有式(10)所表示之重複結構單元與式(13)所表示之重複結構單元之聚醯胺醯亞胺樹脂。又，聚醯胺系樹脂較佳為至少具有式(13)所表示之重複結構單元。
於本發明之一實施態樣中，聚醯亞胺系樹脂係使二胺及四羧酸化合物(醯氯化合物、四羧酸二酐等四羧酸化合物類似物)、以及視需要之二羧酸化合物(醯氯化合物等二羧酸化合物類似物)、三羧酸化合物(醯氯化合物、三羧酸酐等三羧酸化合物類似物)等反應(縮聚)而獲得之縮合型高分子。式(10)或式(11)所表示之重複結構單元通常係自二胺及四羧酸化合物衍生。式(12)所表示之重複結構單元通常係自二胺及三羧酸化合物衍生。式(13)所表示之重複結構單元通常係自二胺及二羧酸化合物衍生。
於本發明之一實施態樣中，聚醯胺系樹脂係使二胺與二羧酸化合物反應(縮聚)而獲得之縮合型高分子。即，式(13)所表示之重複結構單元通常係自二胺及二羧酸化合物衍生。
作為四羧酸化合物，可列舉：芳香族四羧酸二酐等芳香族四羧酸化合物；及脂肪族四羧酸二酐等脂肪族四羧酸化合物。四羧酸化合物可單獨使用，亦可將2種以上併用。四羧酸化合物除二酐以外，亦可為醯氯化合物等四羧酸化合物類似物。
作為芳香族四羧酸二酐之具體例，可列舉：4,4'-氧二鄰苯二甲酸二酐、3,3',4,4'-二苯甲酮四羧酸二酐、2,2',3,3'-二苯甲酮四羧酸二酐、3,3',4,4'-聯苯四羧酸二酐、2,2',3,3'-聯苯基四羧酸二酐、3,3',4,4'-二苯基碸四羧酸二酐、2,2-雙(3,4-二羧基苯基)丙烷二酐、2,2-雙(2,3-二羧基苯基)丙烷二酐、2,2-雙(3,4-二羧基苯氧基苯基)丙烷二酐、4,4'-(六氟亞異丙基)二鄰苯二甲酸二酐(6FDA)、1,2-雙(2,3-二羧基苯基)乙烷二酐、1,1-雙(2,3-二羧基苯基)乙烷二酐、1,2-雙(3,4-二羧基苯基)乙烷二酐、1,1-雙(3,4-二羧基苯基)乙烷二酐、雙(3,4-二羧基苯基)甲烷二酐、雙(2,3-二羧基苯基)甲烷二酐及4,4'-(對苯二氧基)二鄰苯二甲酸二酐及4,4'-(間伸苯基二氧基)二鄰苯二甲酸二酐。該等可單獨或將2種以上組合使用。
作為脂肪族四羧酸二酐，可列舉環式或非環式之脂肪族四羧酸二酐。所謂環式脂肪族四羧酸二酐，係具有脂環式烴結構之四羧酸二酐，作為其具體例，可列舉：1,2,4,5-環己烷四羧酸二酐、1,2,3,4-環丁烷四羧酸二酐、1,2,3,4-環戊烷四羧酸二酐等環烷烴四羧酸二酐；二環[2.2.2]-7-辛烯-2,3,5,6-四羧酸二酐、二環己基-3,3',4,4'-四羧酸二酐及該等之位置異構物。該等可單獨或將2種以上組合使用。作為非環式脂肪族四羧酸二酐之具體例，可列舉：1,2,3,4-丁烷四羧酸二酐、1,2,3,4-戊烷四羧酸二酐等；該等可單獨或將2種以上組合使用。又，亦可將環式脂肪族四羧酸二酐及非環式脂肪族四羧酸二酐組合使用。
上述四羧酸二酐之中，就高透明性及低著色性之觀點而言，較佳為1,2,4,5-環己烷四羧酸二酐、二環[2.2.2]-7-辛烯-2,3,5,6-四羧酸二酐及4,4'-(六氟亞異丙基)二鄰苯二甲酸二酐、以及該等之混合物。又，作為四羧酸，亦可使用上述四羧酸化合物之酐之水加成物。
作為三羧酸化合物，可列舉：芳香族三羧酸、脂肪族三羧酸及其等之類似之醯氯化合物、酸酐等；亦可將2種以上併用。 作為具體例，可列舉：1,2,4-苯三羧酸之酐；2,3,6-萘三羧酸-2,3-酐；鄰苯二甲酸酐與苯甲酸經單鍵、-CH2 -、-C(CH3 )2 -、-C(CF3 )2 -、-SO2 -或者伸苯基連結之化合物。
作為二羧酸化合物，可列舉：芳香族二羧酸、脂肪族二羧酸及其等之類似之醯氯化合物、酸酐等；亦可將其等之2種以上併用。作為其等之具體例，可列舉：對苯二甲醯氯(對苯二甲醯氯(TPC))；間苯二甲醯氯；萘二甲醯氯；4,4'-聯苯基二羧醯二氯；3,3'-聯苯基二羧醯二氯；4,4'-氧基雙(苯甲醯氯)(OBBC)；碳數8以下之鏈式烴之二羧酸化合物及2個苯甲酸經單鍵、-CH2 -、-C(CH3 )2 -、-C(CF3 )2 -、-SO2 -或者伸苯基連結之化合物。
作為二胺，例如可列舉脂肪族二胺、芳香族二胺或該等之混合物。再者，於本實施形態中，所謂「芳香族二胺」，表示胺基與芳香環直接鍵結之二胺，其結構之一部分亦可包含脂肪族基或其他取代基。芳香環可為單環亦可為縮合環，例示苯環、萘環、蒽環及茀環等，但並不限定於該等。該等之中，芳香環較佳為苯環。又，所謂「脂肪族二胺」，表示胺基與脂肪族基直接鍵結之二胺，其結構之一部分亦可包含芳香環或其他取代基。
作為脂肪族二胺，例如可列舉：六亞甲基二胺等非環式脂肪族二胺及1,3-雙(胺基甲基)環己烷、1,4-雙(胺基甲基)環己烷、降𦯉烷二胺、4,4'-二胺基二環己基甲烷等環式脂肪族二胺等。該等可單獨或將2種以上組合使用。
作為芳香族二胺，例如可列舉：對苯二胺、間苯二胺、2,4-甲苯二胺、間苯二甲胺、對苯二甲胺、1,5-二胺基萘、2,6-二胺基萘等具有1個芳香環之芳香族二胺；4,4'-二胺基二苯甲烷、4,4'-二胺基二苯基丙烷、4,4'-二胺基二苯基醚、3,4'-二胺基二苯基醚、3,3'-二胺基二苯基醚、4,4'-二胺基二苯基碸、3,4'-二胺基二苯基碸、3,3'-二胺基二苯基碸、1,4-雙(4-胺基苯氧基)苯、1,3-雙(4-胺基苯氧基)苯、4,4'-二胺基二苯基碸、雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]碸、雙[4-(3-胺基苯氧基)苯基]碸、2,2-雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]丙烷、2,2-雙[4-(3-胺基苯氧基)苯基]丙烷、2,2'-二甲基聯苯胺、2,2'-雙(三氟甲基)聯苯胺、(2,2'-雙(三氟甲基)-4,4'-二胺基聯苯(TFMB))、4,4'-雙(4-胺基苯氧基)聯苯、9,9-雙(4-胺基苯基)茀、9,9-雙(4-胺基-3-甲基苯基)茀、9,9-雙(4-胺基-3-氯苯基)茀、9,9-雙(4-胺基-3-氟苯基)茀等具有2個以上之芳香環之芳香族二胺。該等可單獨或將2種以上組合使用。
上述二胺之中，就高透明性及低著色性之觀點而言，較佳為使用選自由具有聯苯結構之芳香族二胺所組成之群中之1種以上，更佳為使用選自由2,2'-二甲基聯苯胺、2,2'-雙(三氟甲基)聯苯胺、4,4'-雙(4-胺基苯氧基)聯苯及4,4'-二胺基二苯基醚所組成之群中之1種以上，進而較佳為使用2,2'-雙(三氟甲基)聯苯胺。
聚醯亞胺系樹脂係藉由利用慣用之方法、例如攪拌等方法將上述二胺、四羧酸化合物、三羧酸化合物、二羧酸化合物等各原料進行混合後，於醯亞胺化觸媒及視需要之脫水劑之存在下使所獲得之中間物進行醯亞胺化而獲得。聚醯胺系樹脂係藉由慣用方法、例如攪拌等方法將上述二胺、二羧酸化合物等各原料進行混合而獲得。
作為於醯亞胺化步驟中使用之醯亞胺化觸媒，並無特別限定，例如可列舉：三丙基胺、二丁基丙基胺、乙基二丁基胺等脂肪族胺；N-乙基哌啶、N-丙基哌啶、N-丁基吡咯啶、N-丁基哌啶、及N-丙基六氫氮呯等脂環式胺(單環式)；氮雜雙環[2.2.1]庚烷、氮雜雙環[3.2.1]辛烷、氮雜雙環[2.2.2]辛烷、及氮雜雙環[3.2.2]壬烷等脂環式胺(多環式)；以及2-甲基吡啶、3-甲基吡啶、4-甲基吡啶、2-乙基吡啶、3-乙基吡啶、4-乙基吡啶、2,4-二甲基吡啶、2,4,6-三甲基吡啶、3,4-環戊烯并吡啶、5,6,7,8-四氫異喹啉、及異喹啉等芳香族胺。
作為於醯亞胺化步驟中使用之脫水劑，並無特別限定，例如可列舉：乙酸酐、丙酸酐、異丁酸酐、特戊酸酐、丁酸酐、異戊酸酐等。
於各原料之混合及醯亞胺化步驟中，反應溫度並無特別限定，例如為15～350℃，較佳為20～100℃。反應時間亦無特別限定，例如為10分鐘～10小時左右。可視需要於惰性環境或減壓之條件下進行反應。又，反應可於溶劑中進行，作為溶劑，例如可列舉作為清漆之製備所使用之溶劑所例示者。反應後對聚醯亞胺系樹脂或聚醯胺系樹脂進行精製。作為精製方法，例如可列舉如下方法等：向反應液中添加不良溶劑，藉由再沈澱法使樹脂析出，進行乾燥，取出沈澱物，視需要利用甲醇等溶劑將沈澱物洗淨並進行乾燥。 再者，聚醯亞胺系樹脂之製造例如亦可參照日本專利特開2006-199945號公報或日本專利特開2008-163107號公報所記載之製造方法。又，聚醯亞胺系樹脂亦可使用市售品，作為其具體例，可列舉：三菱瓦斯化學(股)製造之Neoprim(註冊商標)、河村產業(股)製造之KPI-MX300F等。
聚醯亞胺系樹脂或聚醯胺系樹脂之重量平均分子量較佳為200,000以上，更佳為250,000以上，進而較佳為300,000以上，尤佳為350,000以上，較佳為600,000以下，更佳為550,000以下，進而較佳為500,000以下，尤佳為450,000以下。有聚醯亞胺系樹脂或聚醯胺系樹脂之重量平均分子量越大，越容易表現出膜化時較高之耐彎曲性之傾向。因此，就提高光學膜之耐彎曲性之觀點而言，較佳為重量平均分子量為上述下限以上。另一方面，有聚醯亞胺系樹脂或聚醯胺系樹脂之重量平均分子量越小，越容易降低清漆之黏度從而越容易提高加工性之傾向。又，有聚醯亞胺系樹脂或聚醯胺系樹脂之延伸性容易提高之傾向。因此，就加工性及延伸性之觀點而言，較佳為重量平均分子量為上述上限以下。再者，於本案中，關於重量平均分子量，可進行凝膠滲透層析(GPC)測定並藉由標準聚苯乙烯換算而求出，例如可藉由實施例所記載之方法算出。聚醯亞胺系樹脂或聚醯胺系樹脂亦可將2種以上混合使用。
光學膜中之聚醯亞胺系樹脂之醯亞胺化率較佳為95～100%，更佳為97～100%，進而較佳為98～100%，尤佳為100%。就清漆之穩定性、所獲得之光學膜之機械物性之觀點而言，較佳為醯亞胺化率為上述下限以上。再者，醯亞胺化率可藉由IR(Infrared Radiation，紅外線輻射)法、NMR(Nuclear magnetic resonance，核磁共振)法等求出。就上述觀點而言，較佳為清漆中所包含之聚醯亞胺系樹脂之醯亞胺化率為上述範圍內。
於本發明之較佳之一實施形態中，本發明之光學膜中所包含之聚醯亞胺系樹脂或聚醯胺系樹脂例如可包含可藉由上述含氟取代基等導入之氟原子等鹵素原子。於聚醯亞胺系樹脂或聚醯胺系樹脂包含鹵素原子之情形時，容易提高光學膜之彈性模數且降低黃度(YI值)。若光學膜之彈性模數較高，則容易抑制該膜中之傷痕及褶皺等之產生，又，若光學膜之黃度較低，則容易提高該膜之透明性。鹵素原子較佳為氟原子。作為用以使聚醯亞胺系樹脂或聚醯胺系樹脂含有氟原子之較佳之含氟取代基，例如可列舉氟基及三氟甲基。
聚醯亞胺系樹脂或聚醯胺系樹脂中之鹵素原子之含量以聚醯亞胺系樹脂或聚醯胺系樹脂之質量為基準，較佳為1～40質量%，更佳為5～40質量%，進而較佳為5～30質量%。若鹵素原子之含量處於上述範圍，則有容易進一步提高膜化時之彈性模數、降低吸水率、進一步降低黃度(YI值)、進一步提高透明性，又，合成變得困難之傾向。
於本發明之一實施形態中，光學膜中之聚醯亞胺系樹脂及/或聚醯胺系樹脂之含量以光學膜之總質量為基準，較佳為40質量%以上，更佳為50質量%以上，進而較佳為70質量%以上。就容易提高耐彎曲性等觀點而言，較佳為聚醯亞胺系樹脂及/或聚醯胺系樹脂之含量為上述下限以上。再者，光學膜中之聚醯亞胺系樹脂及/或聚醯胺系樹脂之含量以光學膜之總質量為基準，通常為100質量%以下。
本發明之光學膜較佳為包含選自由聚醯亞胺系樹脂及聚醯胺系樹脂所組成之群中之2種以上之樹脂。若光學膜包含上述2種以上之樹脂，換言之，例如若於下述光學膜之製造方法中清漆包含上述2種以上之樹脂，則可容易地將清漆之黏度向適當之範圍調整。尤其是於上述製造方法之塗佈步驟中容易將清漆塗佈於基材而形成均勻之塗膜。其結果為容易將所製造之光學膜調整為式(1)～式(3)之範圍。於該情形時，光學膜之廣角方向之視認性進一步提高。
作為上述2種以上之樹脂，例如為2種以上之聚醯亞胺系樹脂、2種以上之聚醯胺系樹脂、及1種以上之聚醯亞胺系樹脂與1種以上之聚醯胺系樹脂之組合。 尤其是上述2種以上之樹脂之中，較佳為具有互不相同之重量平均分子量之2種以上之聚醯亞胺系樹脂或2種以上之聚醯胺系樹脂。2種以上之聚醯亞胺系樹脂或2種以上之聚醯胺系樹脂之中，可為至少一種聚醯亞胺系樹脂或至少一種聚醯胺系樹脂之重量平均分子量為250,000～500,000，亦可為另外之至少1種聚醯亞胺系樹脂或另外之至少1種聚醯胺系樹脂之重量平均分子量為200,000～450,000。 尤其是上述2種以上之樹脂之中，更佳為具有互不相同之重量平均分子量之2種聚醯亞胺系樹脂或2種聚醯胺系樹脂。2種聚醯亞胺系樹脂或2種聚醯胺系樹脂之中，可為一種聚醯亞胺系樹脂或一種聚醯胺系樹脂之重量平均分子量為250,000～500,000，亦可為另一種聚醯亞胺系樹脂或另一種聚醯胺系樹脂之重量平均分子量為200,000～450,000。
於光學膜包含2種聚醯亞胺系樹脂或2種聚醯胺系樹脂之情形時，一種聚醯亞胺系樹脂或一種聚醯胺系樹脂與另一種聚醯亞胺系樹脂或另一種聚醯胺系樹脂之重量比率(前者/後者)可根據樹脂之種類或所需清漆之固形物成分濃度適當選擇，例如可為5/95～95/5。
[11.添加劑] 本發明之光學膜亦可進而包含添加劑。作為此種添加劑，例如可列舉：填料、紫外線吸收劑、增白劑、抗氧化劑、pH值調整劑及調平劑。其中，本發明之光學膜較佳為實質上不包含填料(例如二氧化矽粒子)。具體而言，填料之含量較佳為相對於光學膜之質量為5質量%以下，較佳為3質量%以下，更佳為1質量%以下。
(紫外線吸收劑) 本發明之光學膜亦可進而包含紫外線吸收劑。作為紫外線吸收劑，例如可列舉：三𠯤系紫外線吸收劑、二苯甲酮系紫外線吸收劑、苯并***系紫外線吸收劑、苯甲酸酯系紫外線吸收劑、及氰基丙烯酸酯系紫外線吸收劑等。該等可單獨使用，亦可將2種以上併用。作為適當之市售之紫外線吸收劑，例如可列舉：Sumika Chemtex(股)製造之Sumisorb(註冊商標)340、ADEKA(股)製造之Adekastab(註冊商標)LA-31、及BASF JAPAN(股)製造之TINUVIN(註冊商標)1577等。紫外線吸收劑之含量以本發明之光學膜中所包含之樹脂之質量為基準，較佳為1 phr以上且10 phr以下，更佳為3 phr以上且6 phr以下。
本發明之光學膜之用途並無特別限定，可用於各種用途。本發明之光學膜如上所述般可為單層，亦可為積層體，亦可直接使用本發明之光學膜，進而亦可作為與其他膜之積層體而使用。本發明之光學膜具有優異之面品質，有效用作圖像顯示裝置等中之光學膜。再者，於光學膜為積層體之情形時，將積層於光學膜之單面或兩面之所有層包含在內稱為光學膜。
本發明之光學膜之用途並無特別限定，可使用於各種用途。本發明之光學膜由於廣角方向之視認性優異，故而有效用作圖像顯示裝置等中之光學膜。尤其是本發明之光學膜有效用作圖像顯示裝置之前面板、尤其是可撓性顯示器之前面板(窗膜)。可撓性顯示器例如具有可撓性功能層及與可撓性功能層重疊並作為前面板發揮功能之上述光學膜。即，可撓性顯示器之前面板配置於可撓性功能層之上之視認側。該前面板具有保護可撓性功能層之功能。
[12.光學膜之製造方法] 本發明之光學膜並無特別限定，例如可藉由包含以下步驟之方法製造： (a)製備包含上述樹脂及上述填料之液體(以下，有時記載為清漆)之步驟(清漆製備步驟)、 (b)將清漆塗佈於基材而形成塗膜之步驟(塗佈步驟)、及 (c)使經塗佈之液體(塗膜)乾燥而形成光學膜之步驟(光學膜形成步驟)。
於清漆製備步驟中，將上述樹脂溶解於溶劑中，添加上述填料及視需要之添加劑並進行攪拌混合，藉此製備清漆。
清漆之製備所使用之溶劑只要可溶解上述樹脂，則並無特別限定。作為該溶劑，例如可列舉：N,N-二甲基乙醯胺(DMAc)、N,N-二甲基甲醯胺等醯胺系溶劑；γ-丁內酯(GBL)、γ-戊內酯等內酯系溶劑；二甲基碸、二甲基亞碸、環丁碸等含硫系溶劑；碳酸乙二酯、碳酸丙二酯等碳酸酯系溶劑；及其等之組合。該等之中，較佳為醯胺系溶劑或內酯系溶劑。該等溶劑可單獨或將兩種以上組合使用。又，清漆中亦可包含水、醇系溶劑、酮系溶劑、非環狀酯系溶劑、醚系溶劑等。清漆之固形物成分濃度較佳為1～25質量%，更佳為5～20質量%。
於塗佈步驟中，藉由公知之塗佈方法於基材上塗佈清漆而形成塗膜。作為公知之塗佈方法，例如可列舉：線棒塗佈法、反向塗佈、凹版塗佈等輥塗法、模嘴塗佈法、卡馬塗佈法、浸漬塗佈法、網版塗佈法、噴注式塗佈法、流涎成形法等。
於光學膜形成步驟中，使塗膜乾燥(稱為第1乾燥)，自基材剝離後使乾燥塗膜進而乾燥(稱為第2乾燥或後烘烤處理)，藉此形成光學膜。第1乾燥可視需要於惰性環境或減壓之條件下實施。第1乾燥較佳為於相對低溫下花費些時間進行。若於相對低溫下花費些時間進行第1乾燥，則所製作之光學膜之反射圖像清晰度值容易滿足式(1)～式(3)。
此處，於在工業上生產本發明之光學膜之情形時，與實驗室級(Lab level)下之製造環境相比，實際之製造環境對於提高廣角方向之視認性而言不利之情形較多，其結果為難以提高光學膜之廣角方向之視認性。較佳為於相對低溫下花費些時間進行第1乾燥如上所述，於實驗室等級下，於進行第1乾燥時，可於密閉乾燥器內進行乾燥，故而不易產生因外界因素而導致產生之光學膜之表面之粗糙。相對於此，於在工業上生產光學膜之情形時，例如由於在第1乾燥中必須對較寬之面積進行加熱，故而於加熱時亦可使用送風裝置。其結果為光學膜之表面狀態容易粗糙，難以提高光學膜之廣角方向之視認性。
藉由加熱進行乾燥之情形時，尤其是於在工業上生產光學膜時，若考慮到如上述之外界因素，則第1乾燥之溫度較佳為60～150℃，更佳為60～130℃，進而較佳為70～120℃。第1乾燥之時間較佳為5～60分鐘，更佳為10～40分鐘。尤其是於在工業上生產光學膜時，若考慮到如上述之外界因素，則第1乾燥較佳為於3階段以上之乾燥溫度條件下實施。關於多階段之條件，於各階段中，可以相同或不同之溫度條件及/或乾燥時間實施，例如可於3～10階段、較佳為3～8階段進行乾燥。若於3階段以上之多階段條件下實施第1乾燥，則所製作之光學膜之反射圖像清晰度值容易滿足式(1)～式(3)，而廣角方向之視認性提高。於3階段以上之多階段條件下之態樣中，較佳為第1乾燥之溫度分佈包含升溫及降溫。即，光學膜形成步驟中之第1乾燥條件較佳為溫度分佈包含升溫及降溫之3階段以上之加熱溫度條件。作為此種溫度分，若列舉4階段之情形為例，則第1乾燥之溫度依序為70～90℃(第1溫度)、90～120℃(第2溫度)、80～120℃(第3溫度)及80～100℃(第4溫度)。於該例中，第1乾燥之溫度自第1溫度向第2溫度升溫，繼而自第2溫度向第3溫度降溫，進而自第3溫度降溫至第4溫度。此處，第1乾燥之時間於各階段中例如為5～15分鐘。較佳為以乾燥塗膜之溶劑殘存量相對於乾燥塗膜之質量成為較佳為5～15質量%、更佳為6～12質量%之方式實施第1乾燥。若溶劑殘存量為上述範圍，則乾燥塗膜自基材之剝離性變得良好，所製作之光學膜之反射圖像清晰度值容易滿足式(1)～式(3)。
第2乾燥之溫度較佳為150～300℃，更佳為180～250℃，進而較佳為180～230℃。第2乾燥之時間較佳為10～60分鐘，更佳為30～50分鐘。
第2乾燥亦可以單片式進行，於在工業上生產之情形時，就製造效率之觀點而言，較佳為以輥對輥方式進行。於單片式下，較佳為於沿面內方向均勻地伸長之狀態下乾燥。 於輥對輥方式下，就容易滿足式(1)～式(3)之範圍之觀點而言，較佳為使乾燥塗膜於沿搬送方向伸長之狀態下乾燥，搬送速度較佳為0.1～5 m/min，更佳為0.2～3 m/min，進而較佳為0.7～2.5 m/min。第2乾燥可於1階段或多階段之條件下實施。多階段之條件較佳為於各階段中，可以選自相同或不同之溫度條件、乾燥時間及熱風之風速中之至少1種實施，例如可於3～10階段、較佳為3～8階段中進行乾燥，就光學膜容易滿足式(1)～式(3)之範圍之觀點而言，較佳為於多階段之條件下實施。又，於各階段中，熱風之風速就所製作之光學膜之反射圖像清晰度值容易滿足式(1)～式(3)之觀點而言，較佳為5～20 m/min，更佳為10～15 m/min，進而較佳為11～14 m/min。
於本發明之光學膜具備硬塗層之情形時，硬塗層例如可於光學膜之至少一面塗佈硬化性組合物而形成塗膜，對該塗膜照射高能量線，使塗膜硬化而形成。
作為基材之例，只要為金屬系，只要為SUS(Steel Use Stainless，不鏽鋼)板、樹脂系，則可列舉：PET(Polyethylene terephthalate，聚對苯二甲酸乙二酯)膜、PEN(Polyethylene naphthalate，聚萘二甲酸乙二酯)膜、其他聚醯亞胺系樹脂或聚醯胺系樹脂膜、環烯烴系聚合物(COP)膜、丙烯酸系膜等。其中，就平滑性、耐熱性優異之觀點而言，較佳為PET膜、COP膜等，進而就與光學膜之密接性及成本之觀點而言，更佳為PET膜。
於本發明之光學膜具備硬塗層之情形時，硬塗層例如係使用硬塗層形成用組合物而形成。硬塗層形成用組合物例如包含單體及/或低聚物、光起始劑、二氧化矽、調平劑、以及溶劑。作為單體，例如可列舉多官能單體(更具體而言，2官能單體及3官能單體等)。作為低聚物，例如可列舉10官能胺基甲酸酯低聚物。作為溶劑，例如可列舉：甲基乙基酮、聚丙二醇單甲醚等。
於硬塗層形成步驟中，對塗膜照射高能量線(例如活性能量線)，使塗膜硬化而形成硬塗層。照射強度係根據硬化性組合物之組成適當決定，並無特別限定，較佳為對聚合起始劑之活化有效之波長區域之照射。照射強度較佳為0.1～6,000 mW/cm2 ，更佳為10～1,000 mW/cm2 ，進而較佳為20～500 mW/cm2 。若照射強度為上述範圍內，則可確保適當之反應時間，可抑制因自光源輻射之熱及硬化反應時之發熱而導致產生之樹脂之黃變及劣化。照射時間只要根據硬化性組合物之組成適當選擇即可，並無特別限制，係以作為上述照射強度與照射時間之積而表示之累計光量成為較佳為10～10,000 mJ/cm2 、更佳為50～1,000 mJ/cm2 、進而較佳為80～500 mJ/cm2 之方式設定。若累計光量為上述範圍內，則可產生足夠量之源自聚合起始劑之活性種，從而可使硬化反應更確實地進行，又，照射時間不會過長而可維持良好之生產性。又，藉由經過該範圍內之照射步驟，可進而提高硬塗層之硬度，故而有用。就提高硬塗層之平滑性從而進而提高光學膜之廣角方向之視認性之觀點而言，可列舉溶劑之種類、成分比、固形物成分濃度之最佳化及調平劑之添加等。
＜可撓性圖像顯示裝置＞ 本發明包含具備上述光學膜之可撓性顯示裝置。本發明之光學膜較佳為於可撓性圖像顯示裝置中用作前面板，該前面板有時被稱為窗膜。該可撓性圖像顯示裝置包含可撓性圖像顯示裝置用積層體及有機EL(Electroluminescence，電致發光)顯示面板，相對於有機EL顯示面板將可撓性圖像顯示裝置用積層體配置於視認側並構成為可彎折。作為可撓性圖像顯示裝置用積層體，亦可進而含有偏光板、觸控感測器，其等之積層順序任意，較佳為設為自視認側起為窗膜、偏光板、觸控感測器或窗膜、觸控感測器、偏光板之依序積層。若偏光板存在於較觸控感測器更靠視認側，則觸控感測器之圖案不易被視認到而顯示圖像之視認性變得良好，因此較佳。各構件可使用接著劑、黏著劑等積層。又，亦可具備形成於上述窗膜、偏光板、觸控感測器之任一層之至少一面之遮光圖案。
[偏光板] 本發明之可撓性顯示裝置如上所述，具備偏光板、較佳為圓偏光板。圓偏光板係具有藉由於直線偏光板積層λ/4相位差板而僅使右或左旋圓偏振光成分透過之功能之功能層。例如係用於將把外界光轉換成右旋圓偏振光並於有機EL面板反射而成為左旋圓偏振光之外界光遮斷，而僅使有機EL之發光成分透過，藉此抑制反射光之影響而容易看見圖像。為了達成圓偏振光功能，直線偏光板之吸收軸與λ/4相位差板之遲相軸理論上必須為45°，實際使用中為45±10°。直線偏光板與λ/4相位差板未必必須相鄰地積層，只要吸收軸與遲相軸之關係滿足上述範圍即可。較佳為於總波長中達成完整之圓偏振光，但於實際使用中未必必須如此，因此本發明中之圓偏光板亦包含橢圓偏光板。亦較佳為藉由於直線偏光板之視認側進而積層λ/4相位差膜，使出射光成為圓偏振光而提高佩戴有偏振光太陽眼鏡之狀態下之視認性。
直線偏光板係具有使於透過軸方向上振動之光通過並將與其垂直之振動成分之偏振光遮斷之功能之功能層。上述直線偏光板亦可為單獨具備直線偏光元件或具備直線偏光元件及貼附於其至少一面之保護膜之構成。上述直線偏光板之厚度可為200 μm以下，較佳為0.5～100 μm。若直線偏光板之厚度處於上述範圍，則有直線偏光板之柔軟性不易降低之傾向。
上述直線偏光元件亦可為藉由對聚乙烯醇(以下，有時簡稱為PVA)系膜進行染色、延伸而製造之膜型偏光元件。藉由使碘等二色性色素吸附於藉由延伸而配向之PVA系膜或於吸附於PVA之狀態下延伸而使二色性色素配向，從而發揮偏振光性能。於上述膜型偏光元件之製造中，此外亦可具有膨潤、藉由硼酸進行之交聯、藉由水溶液進行之洗淨、乾燥等步驟。延伸或染色步驟可以單獨之PVA系膜進行，亦可於與如聚對苯二甲酸乙二酯之其他膜積層之狀態下進行。所使用之PVA系膜之厚度較佳為10～100 μm，上述延伸倍率較佳為2～10倍。
進而作為上述偏光元件之另一例，可列舉塗佈液晶偏振光組合物而形成之液晶塗佈型偏光元件。上述液晶偏振光組合物可包含液晶性化合物及二色性色素化合物。上述液晶性化合物只要具有顯示出液晶狀態之性質即可，尤其是若具有層列相等高次配向狀態，則可發揮較高之偏振光性能，故而較佳。又，液晶性化合物較佳為具有聚合性官能基。 上述二色性色素化合物係與上述液晶化合物一起配向而顯示出二色性之色素，可具有聚合性官能基，又，二色性色素本身亦可具有液晶性。
液晶偏振光組合物中所包含之化合物之任一者具有聚合性官能基。上述液晶偏振光組合物可進而包含起始劑、溶劑、分散劑、調平劑、穩定劑、界面活性劑、交聯劑、矽烷偶合劑等。
上述液晶偏光層係藉由於配向膜上塗佈液晶偏振光組合物而形成液晶偏光層來製造。液晶偏光層與膜型偏光元件相比，可將厚度形成為較薄，其厚度較佳為0.5～10 μm，更佳為1～5 μm。
上述配向膜例如係藉由於基材上塗佈配向膜形成組合物，並藉由摩擦、偏振光照射等賦予配向性而製造。上述配向膜形成組合物包含配向劑，進而亦可包含溶劑、交聯劑、起始劑、分散劑、調平劑、矽烷偶合劑等。作為上述配向劑，例如可列舉：聚乙烯醇類、聚丙烯酸酯類、聚醯胺酸類、聚醯亞胺類。於使用藉由偏振光照射賦予配向性之配向劑之情形時，較佳為使用包含肉桂酸酯基之配向劑。用作上述配向劑之高分子之重量平均分子量例如為10,000～1,000,000左右。上述配向膜之厚度較佳為5～10,000 nm，就充分表現出配向限制力之方面而言，更佳為10～500 nm。
上述液晶偏光層可自基材剝離後轉印而積層，亦可直接積層上述基材。亦較佳為上述基材承擔作為保護膜或相位差板、窗膜之透明基材之作用。
作為上述保護膜，只要為透明之高分子膜即可，可使用與上述窗膜之透明基材所使用之材料或添加劑相同者。又，亦可為塗佈環氧樹脂等陽離子硬化組合物或丙烯酸酯等自由基硬化組合物並進行硬化而獲得之塗佈型之保護膜。該保護膜亦可視需要包含如塑化劑、紫外線吸收劑、紅外線吸收劑、顏料或染料之著色劑、螢光增白劑、分散劑、熱穩定劑、光穩定劑、抗靜電劑、抗氧化劑、潤滑劑、溶劑等。該保護膜之厚度較佳為200 μm以下，更佳為1～100 μm。若保護膜之厚度處於上述範圍，則有該膜之柔軟性容易降低之傾向。
上述λ/4相位差板係對與入射光之行進方向正交之方向(膜之面內方向)賦予λ/4之相位差之膜。上述λ/4相位差板亦可為藉由使纖維素系膜、烯烴系膜、聚碳酸酯系膜等高分子膜延伸而製造之延伸型相位差板。上述λ/4相位差板亦可視需要包含如相位差調整劑、塑化劑、紫外線吸收劑、紅外線吸收劑、顏料或染料之著色劑、螢光增白劑、分散劑、熱穩定劑、光穩定劑、抗靜電劑、抗氧化劑、潤滑劑、溶劑等。
上述延伸型相位差板之厚度較佳為200 μm以下，更佳為1～100 μm。若延伸型相位差板之厚度處於上述範圍，則有該延伸型相位差板之柔軟性不易降低之傾向。
進而，作為上述λ/4相位差板之另一例，可列舉塗佈液晶組合物而形成之液晶塗佈型相位差板。
上述液晶組合物包含顯示向列、膽固醇狀、層列等液晶狀態之液晶性化合物。上述液晶性化合物具有聚合性官能基。
上述液晶組合物可進而包含起始劑、溶劑、分散劑、調平劑、穩定劑、界面活性劑、交聯劑、矽烷偶合劑等。
上述液晶塗佈型相位差板與上述液晶偏光層同樣地，可藉由將液晶組合物塗佈於基底上並進行硬化而形成液晶相位差層。液晶塗佈型相位差板與延伸型相位差板相比，可將厚度形成為較薄。上述液晶偏光層之厚度較佳為0.5～10 μm，更佳為1～5 μm。
上述液晶塗佈型相位差板可自基材剝離後轉印而積層，亦可直接積層上述基材。亦較佳為上述基材承擔作為保護膜或相位差板、窗膜之透明基材之作用。
一般而言，波長越短顯示越大之雙折射、波長越長顯示越小之雙折射之材料較多。於該情形時，無法於總可見光區域中達成λ/4之相位差，因此以相對於視感度較高之560 nm附近成為λ/4之方式、以面內相位差成為較佳為100～180 nm、更佳為130～150 nm之方式進行設計。使用具有與通常相反之雙折射率波長分散特性之材料之逆分散λ/4相位差板於視認性變得良好之方面而言較佳。作為此種材料，例如延伸型相位差板可使用日本專利特開2007-232873號公報等所記載者，液晶塗佈型相位差板可使用日本專利特開2010-30979號公報等所記載者。
又，作為其他方法，亦已知有藉由與λ/2相位差板進行組合而獲得寬頻帶λ/4相位差板之技術(例如，日本專利特開平10-90521號公報等)。λ/2相位差板亦係利用與λ/4相位差板相同之材料方法製造。延伸型相位差板與液晶塗佈型相位差板之組合任意，但均可藉由使用液晶塗佈型相位差板而使厚度較薄。
已知有為了提高傾斜方向之視認性，而於上述圓偏光板上積層正C平板之方法(例如，日本專利特開2014-224837號公報等)。正C平板可為液晶塗佈型相位差板，亦可為延伸型相位差板。該相位差板之厚度方向之相位差較佳為-200～-20 nm，更佳為-140～-40 nm。
[觸控感測器] 本發明之可撓性顯示裝置如上所述，較佳為具備觸控感測器。觸控感測器可用作輸入機構。作為觸控感測器，可列舉：電阻膜方式、表面彈性波方式、紅外線方式、電磁感應方式、靜電電容方式等各種方式；較佳為列舉靜電電容方式。 靜電電容方式觸控感測器被分為活性區域及位於上述活性區域之外廓部之非活性區域。活性區域係與顯示面板中顯示畫面之區域(顯示部)對應之區域，並且係感知使用者之觸碰之區域，非活性區域係與顯示裝置中未顯示畫面之區域(非顯示部)對應之區域。觸控感測器可包含：具有可撓性特性之基板、形成於上述基板之活性區域之感知圖案、及形成於上述基板之非活性區域且用以經由上述感知圖案及焊墊部與外部之驅動電路連接之各感測線。作為具有可撓性特性之基板，可使用與上述窗膜之透明基板相同之材料。
上述感知圖案可具備形成於第1方向上之第1圖案及形成於第2方向上之第2圖案。第1圖案與第2圖案係配置於互不相同之方向上。第1圖案及第2圖案形成於同一層，為了感知所觸碰之地點，必須將各圖案電性連接。第1圖案係複數個單位圖案經由接頭相互連接之形態，但第2圖案成為複數個單位圖案相互分離成島嶼形態之結構，因此為了將第2圖案電性連接，需要另外之橋接電極。用以連接第2圖案之電極可應用周知之透明電極。作為該透明電極之素材，例如可列舉：銦錫氧化物(ITO)、銦鋅氧化物(IZO)、鋅氧化物(ZnO)、銦鋅錫氧化物(IZTO)、銦鎵鋅氧化物(IGZO)、鎘錫氧化物(CTO)、PEDOT(poly(3,4-ethylenedioxythiophene)，聚(3,4-伸乙二氧基噻吩))、奈米碳管(CNT)、石墨烯、金屬線等；較佳為列舉ITO。該等可單獨使用或將2種以上混合使用。金屬線所使用之金屬並無特別限定，例如可列舉：銀、金、鋁、銅、鐵、鎳、鈦、硒、鉻等；該等可單獨使用或將2種以上混合使用。
橋接電極可於感知圖案上部隔著絕緣層形成於上述絕緣層上部，且可於基板上形成橋接電極，並於其上形成絕緣層及感知圖案。上述橋接電極可以與感知圖案相同之素材形成，亦可以鉬、銀、鋁、銅、鈀、金、鉑、鋅、錫、鈦或該等中之2種以上之合金形成。
第1圖案與第2圖案必須電性絕緣，因此於感知圖案與橋接電極之間形成絕緣層。該絕緣層亦可僅形成於第1圖案之接頭與橋接電極之間、或以覆蓋感知圖案整體之層之形式形成。於覆蓋感知圖案整體之層之情形時，橋接電極可經由形成於絕緣層之接觸孔而連接第2圖案。
上述觸控感測器可於基板與電極之間進而包含光學調節層作為用以適當補償透光率之差之機構，該透光率之差係因形成有感知圖案之圖案區域與未形成感知圖案之非圖案區域之間之透過率之差、具體而言該等區域中之折射率之差而誘發。該光學調節層可包含無機絕緣物質或有機絕緣物質。光學調節層可將包含光硬化性有機黏合劑及溶劑之光硬化組合物塗佈於基板上而形成。上述光硬化組合物可進而包含無機粒子。可藉由上述無機粒子提高光學調節層之折射率。
上述光硬化性有機黏合劑可於無損本發明之效果之範圍內例如包含丙烯酸酯系單體、苯乙烯系單體、羧酸系單體等各單體之共聚物。上述光硬化性有機黏合劑例如亦可為包含含環氧基之重複單元、丙烯酸酯重複單元、羧酸重複單元等互不相同之各重複單元之共聚物。
作為上述無機粒子，例如可列舉：氧化鋯粒子、二氧化鈦粒子、氧化鋁粒子等。
上述光硬化組合物亦可進而包含光聚合起始劑、聚合性單體、硬化輔助劑等各添加劑。
[接著層] 形成上述可撓性圖像顯示裝置用積層體之各層(窗膜、圓偏光板、觸控感測器)以及構成各層之膜構件(直線偏光板、λ/4相位差板等)可藉由接著劑接合。作為該接著劑，可使用水系接著劑、水系溶劑揮發型接著劑、有機溶劑系、無溶劑系接著劑、固體接著劑、溶劑揮散型接著劑、濕氣硬化型接著劑、加熱硬化型接著劑、厭氧硬化型、活性能量線硬化型接著劑、硬化劑混合型接著劑、熱熔融型接著劑、感壓型接著劑(黏著劑)、再濕型接著劑等通常使用之接著劑等，較佳為可使用水系溶劑揮散型接著劑、活性能量線硬化型接著劑、黏著劑。接著劑層之厚度可對應於所要求之接著力等適當進行調節，較佳為0.01～500 μm，更佳為0.1～300 μm。上述可撓性圖像顯示裝置用積層體存在複數個接著層，各層之厚度及種類可相同，亦可不同。
作為上述水系溶劑揮散型接著劑，可將聚乙烯醇系聚合物、澱粉等水溶性聚合物、乙烯-乙酸乙烯酯系乳膠、苯乙烯-丁二烯系乳膠等水分散狀態之聚合物用作主劑聚合物。除上述主劑聚合物與水以外，亦可調配交聯劑、矽烷系化合物、離子性化合物、交聯觸媒、抗氧化劑、染料、顏料、無機填料、有機溶劑等。於藉由上述水系溶劑揮散型接著劑接著之情形時，可將上述水系溶劑揮散型接著劑注入被接著層間而將被著層貼合後進行乾燥，藉此賦予接著性。於使用上述水系溶劑揮散型接著劑之情形時，該接著層之厚度較佳為0.01～10 μm，更佳為0.1～1 μm。於將上述水系溶劑揮散型接著劑用於複數層之情形時，各層之厚度及種類可相同，亦可不同。
上述活性能量線硬化型接著劑可藉由照射活性能量線使包含形成接著劑層之反應性材料之活性能量線硬化組合物硬化而形成。上述活性能量線硬化組合物可含有與硬塗組合物中所包含者相同之自由基聚合性化合物及陽離子聚合性化合物之至少1種聚合物。上述自由基聚合性化合物可使用與硬塗組合物中之自由基聚合性化合物相同之化合物。
上述陽離子聚合性化合物可使用與硬塗組合物中之陽離子聚合性化合物相同之化合物。
作為活性能量線硬化組合物所使用之陽離子聚合性化合物，尤佳為環氧化合物。也屬較佳的是為了降低作為接著劑組合物之黏度而包含單官能之化合物作為反應性稀釋劑。
活性能量線組合物為了降低黏度而可包含單官能之化合物。作為該單官能之化合物，可列舉：1分子中具有1個(甲基)丙烯醯基之丙烯酸酯系單體或1分子中具有1個環氧基或氧雜環丁基之化合物、例如(甲基)丙烯酸縮水甘油酯等。
活性能量線組合物可進而包含聚合起始劑。作為該聚合起始劑，可列舉：自由基聚合起始劑、陽離子聚合起始劑、自由基及陽離子聚合起始劑等；該等可適當選擇後使用。該等聚合起始劑藉由活性能量線照射及加熱之至少一種而被分解，產生自由基或者陽離子而使自由基聚合與陽離子聚合進行。可使用於硬塗組合物之記載中可藉由照射活性能量線開始自由基聚合或陽離子聚合中之至少任一者之起始劑。
上述活性能量線硬化組合物可進而包含離子捕捉劑、抗氧化劑、鏈轉移劑、密接賦予劑、熱塑性樹脂、填充劑、流動黏度調整劑、塑化劑、消泡劑溶劑、添加劑、溶劑。於藉由上述活性能量線硬化型接著劑將2個被接著層接著之情形時，可藉由將上述活性能量線硬化組合物塗佈於被接著層之其中一者或兩者後貼合，並對任一被接著層或兩個被接著層照射活性能量線使其硬化而接著。於使用上述活性能量線硬化型接著劑之情形時，其接著層之厚度較佳為0.01～20 μm，更佳為0.1～10 μm。於將上述活性能量線硬化型接著劑用於複數個接著層形成之情形時，各層之厚度及種類可相同，亦可不同。
作為上述黏著劑，亦可根據主劑聚合物分類成丙烯酸系黏著劑、胺基甲酸酯系黏著劑、橡膠系黏著劑、聚矽氧系黏著劑等並使用任一者。黏著劑中除主劑聚合物以外，亦可調配交聯劑、矽烷系化合物、離子性化合物、交聯觸媒、抗氧化劑、黏著賦予劑、塑化劑、染料、顏料、無機填料等。將構成上述黏著劑之各成分溶解、分散於溶劑中而獲得黏著劑組合物，並於將該黏著劑組合物塗佈於基材上後進行乾燥，藉此形成黏著劑層接著層。黏著層可直接形成，亦可對另行形成於基材者進行轉印。為了覆蓋接著前之黏著面，亦較佳為使用離型膜。於使用上述活性能量線硬化型接著劑之情形時，其接著層之厚度較佳為0.1～500 μm，更佳為1～300 μm。於使用複數層上述黏著劑之情形時，各層之厚度及種類可相同，亦可不同。
[遮光圖案] 上述遮光圖案可作為上述可撓性圖像顯示裝置之邊框或外殼之至少一部分應用。藉由遮光圖案遮住配置於上述可撓性圖像顯示裝置之邊緣部之配線使之不易被視認，藉此提高圖像之視認性。上述遮光圖案為單層或複數層之形態均可。遮光圖案之顏色並無特別限制，可為黑色、白色、金屬色等各種顏色。遮光圖案可由用以體現顏色之顏料及丙烯酸系樹脂、酯系樹脂、環氧系樹脂、聚胺基甲酸酯、聚矽氧等高分子形成。該等亦可單獨或以2種以上之混合物使用。上述遮光圖案可利用印刷、微影術、噴墨等各種方法形成。遮光圖案之厚度較佳為1～100 μm，更佳為2～50 μm。又，亦較佳為於遮光圖案之厚度方向上賦予傾斜等形狀。 [實施例]
以下，藉由實施例對本發明進而詳細地進行說明。例中之「%」及「份」只要未特別說明，則意指質量%及質量份。首先，對評價方法進行說明。
＜1.光學膜之製造＞ [1-1.樹脂之製備] (製造例1：聚醯亞胺樹脂1之製備) 準備於可分離式燒瓶安裝有矽膠管、攪拌裝置及溫度計之反應容器及油浴。向設置於油浴中之反應容器內投入4,4'-(六氟亞異丙基)二鄰苯二甲酸酐(6FDA)75.6 g、2,2'-雙(三氟甲基)-4,4'-二胺基二苯基(TFMB)54.5 g。一面將反應容器內之內容物以400 rpm進行攪拌，一面將N,N-二甲基乙醯胺(DMAc)530 g進而投入反應容器內，持續進行攪拌直至反應容器內之內容物成為均勻之溶液。繼而，一面使用油浴以容器內溫度成為20～30℃之範圍之方式進行調整，一面進而持續攪拌20小時進行反應而生成聚醯胺酸。30分鐘後，將攪拌速度變更為100 rpm。攪拌20小時後，將反應體系溫度恢復至室溫(25℃)，進而將DMAc 650 g投入反應容器內，以聚合物濃度以反應容器內之內容物之總質量為基準成為10質量%之方式進行調整。進而，進而將吡啶32.3 g及乙酸酐41.7 g投入反應容器內，將反應容器內之內容物於室溫下攪拌10小時而進行醯亞胺化。自反應容器中取出聚醯亞胺清漆。將所獲得之聚醯亞胺清漆滴加至甲醇中進行再沈澱。利用過濾取出沈澱物，對所獲得之沈澱物進行加熱乾燥而將溶劑去除，作為固形物成分(粉體)獲得聚醯亞胺樹脂1。針對所獲得之聚醯亞胺樹脂1進行GPC測定，結果重量平均分子量為350,000。又，聚醯亞胺樹脂1之醯亞胺化率為98.8%。
(製造例2：聚醯亞胺樹脂2之製備) 將反應時間自20小時變更為16小時，除此以外，以與製造例1相同之方式獲得重量平均分子量280,000及醯亞胺化率98.3%之聚醯亞胺樹脂2。
(製造例3：聚醯胺醯亞胺樹脂1之製備) 準備於容量1 L可分離式燒瓶安裝有攪拌翼之反應容器及油浴。向設置於油浴中之反應容器內投入TFMB 45 g(140.52 mmol)及DMAc 768.55 g。於氮氣環境下將反應容器內之內容物於室溫下進行攪拌，使TFMB溶解於DMAc中。繼而，將6FDA 18.92 g(42.58 mmol)進而投入反應容器內，並將反應容器內之內容物於室溫下持續攪拌3小時。其後，將4,4'-氧基雙(苯甲醯氯)(OBBC)4.19 g(14.19 mmol)、繼而將對苯二甲醯氯(TPC)17.29 g(85.16 mmol)進而投入反應容器內，並於室溫下持續攪拌1小時。繼而，向反應容器內進而投入4-甲基吡啶4.63 g(49.68 mmol)與乙酸酐13.04 g(127.75 mmol)，並將反應容器內之內容物於室溫下攪拌30分鐘。其後，使用油浴將容器內溫度升溫至70℃。將容器內溫度維持為70℃並將反應容器內之內容物進而攪拌3小時，獲得反應液。 將所獲得之反應液冷卻至室溫為止，並呈線狀投入大量甲醇中。取出所析出之沈澱物，並於甲醇中浸漬6小時。其後，利用甲醇將沈澱物洗淨。繼而，於100℃下進行沈澱物之減壓乾燥，獲得聚醯胺醯亞胺樹脂1。聚醯胺醯亞胺樹脂1之重量平均分子量為400,000，醯亞胺化率為98.1%。
(製造例4：聚醯胺醯亞胺樹脂2之製備) 準備於容量1 L可分離式燒瓶安裝有攪拌翼之反應容器及油浴。向設置於油浴中之反應容器內投入TFMB 45 g(140.52 mmol)及DMAc 768.55 g。於氮氣環境下並於室溫下對反應容器內之內容物進行攪拌，使TFMB溶解於DMAc中。繼而，向反應容器內進而投入6FDA 19.01 g(42.79 mmol)，並將反應容器內之內容物於室溫下攪拌3小時。其後，將OBBC 4.21 g(14.26 mmol)、繼而將TPC 17.30 g(85.59 mmol)進而投入反應容器內，並將反應容器內之內容物於室溫下攪拌1小時。繼而，向反應容器內進而投入4-甲基吡啶4.63 g(49.68 mmol)與乙酸酐13.04 g(127.75 mmol)，並將反應容器內之內容物於室溫下攪拌30分鐘。其後，使用油浴將容器內之溫度升溫至70℃。將容器內溫度維持為70℃並進而攪拌3小時，獲得反應液。 將所獲得之反應液冷卻至室溫為止，並呈線狀投入至大量甲醇中，取出所析出之沈澱物，並於甲醇中浸漬6小時。其後，利用甲醇將沈澱物洗淨。繼而，於100℃下進行沈澱物之減壓乾燥，獲得聚醯胺醯亞胺樹脂2。所獲得之聚醯胺醯亞胺樹脂2之重量平均分子量為365,000，醯亞胺化率為98.3%。
[1-2.硬塗層形成用組合物之製造] (製造例5：硬塗層形成用組合物之製造) 將10官能丙烯酸胺基甲酸酯低聚物(SHIN-A T&C公司製造「UV1000」)7質量%、2官能單體(M200、MIRAMER)38.5質量%、光起始劑(BASF公司製造之「Irgacure(註冊商標)184」)1.2質量%、調平劑(BYK公司製造之「BYK-3530」)0.3質量%、及甲基乙基酮(MEK)53質量%進行混合而製造硬塗層形成用組合物1。
[1-3.清漆之製備] (製造例6：清漆(1)及(3)之製備) 清漆(1)及(3)係以表1所示之組成使聚醯亞胺系樹脂溶解於溶劑而製造。 再者，表1中，欄「溶劑」之含量(單位wt%)表示特定溶劑之質量相對於全部溶劑之總質量之比率(單位：質量%)。欄「聚醯亞胺系樹脂」之含量(單位：wt%)表示特定聚醯亞胺系樹脂之質量相對於全部聚醯亞胺系樹脂之總質量之比率(單位：質量%)。欄「聚醯亞胺系樹脂」之PI-1、PI-2、PAI-1及PAI-2分別表示聚醯亞胺樹脂1、聚醯亞胺樹脂2、聚醯胺醯亞胺樹脂1及聚醯胺醯亞胺樹脂2。欄「添加劑」之含量表示添加劑之質量相對於清漆之總質量之比率。欄「固形物成分」之含量(單位：wt%)表示溶劑以外之成分之總質量相對於聚醯亞胺系樹脂之總質量之比率(單位：質量%)。
[表1]
Figure 108133613-A0304-0001
(製造例8：清漆(2)之製備) 清漆(2)係以表1所示之組成製造。具體而言，清漆(2)係於室溫下使聚合物溶解於GBL溶劑中，進而將作為紫外線吸收劑之Sumika Chemtex(股)製造之Sumisorb(註冊商標)340(UVA)以相對於聚合物之質量成為5.7質量%之方式添加，攪拌直至變得均勻而獲得清漆(2)。
[1-4.光學膜之製造] (實施例1：光學膜1之製造) 將清漆(1)於PET(聚對苯二甲酸丁二酯)膜(東洋紡織(股)製造之「A4100」、厚度188 μm、厚度分佈±2 μm)上藉由流涎成形以寬度700 mm成形塗膜。線速為0.4 m/min。依序於70℃下加熱8分鐘，於100℃下加熱10分鐘，於90℃下加熱8分鐘及於80℃下加熱8分鐘，藉此使塗膜乾燥，並自PET膜將塗膜剝離。針對所獲得之塗膜，使用將夾具用作固持具之拉幅式乾燥機(1～6室構成)，將乾燥機內之溫度設定為200℃，以夾具固持寬度25 mm、膜之搬送速度1.0 m/min、乾燥機入口之膜寬(夾具間距離)及乾燥爐出口之膜寬之比成為1.0之方式進行調整，將拉幅式乾燥機之各室中之風速以1室中成為13.5 m/秒、2室中成為13 m/秒、3～6室中成為11 m/秒之方式進行調整，獲得膜中之溶劑量為1質量%之厚度79 μm之光學膜1。 自乾燥機中取出之光學膜1離開夾具後，將該膜之與夾具相接之部分剪片後，進而於該膜貼合PET系保護膜，捲繞於ABS(Acrylonitrile Butadiene Styrene，丙烯腈-丁二烯-苯乙烯)製6英吋芯體而獲得捲筒膜。
(實施例2：光學膜2之製造) 將於製造例5中製作之硬塗層形成用組合物1以硬化後之厚度(第1硬塗層之厚度)成為20 μm之方式塗佈於實施例1中獲得之光學膜1之製膜時與基材之PET膜接觸之面，並於80℃之烘箱中乾燥1分鐘。其後，使用高壓水銀燈以光量350 mJ/cm2 照射光，使塗膜硬化而形成第1硬塗層。另一方面，將於製造例6中製作之硬塗層形成用組合物2以硬化後之厚度(第2硬塗層之厚度)成為15 μm之方式塗佈，並於80℃之烘箱中乾燥2分鐘。其後，使用高壓水銀燈以光量350 mJ/cm2 照射光，使塗膜硬化而形成第2硬塗層，獲得包含硬塗層之光學膜2。
(實施例3：光學膜3之製造) 將清漆(1)變更為清漆(2)，將線速自0.4 m/min變更為0.3 m/min，將塗膜之加熱條件自依序為70℃下8分鐘、100℃下10分鐘、90℃下8分鐘及80℃下8分鐘變更為80℃下10分鐘、100℃下10分鐘、90℃下10分鐘及80℃下10分鐘，除此以外，以與光學膜1之製造方法相同之方式製造膜中之溶劑量為0.7質量%之厚度49 μm之光學膜3。
(實施例4：光學膜4之製造) 將清漆(1)變更為清漆(3)，將線速自0.4 m/min變更為0.2 m/min，除此以外，以與光學膜1之製造方法相同之方式製造膜中之溶劑量為1.0質量%之厚度79 μm之光學膜4。
(比較例1：光學膜5之準備) 準備聚醯亞胺膜(宇部興產(股)製造之「UPILEX」、厚度50 μm)作為光學膜5。
將組合物之配方及光學膜之組成彙總於表2中。再者，表2中，欄「HC有無」表示光學膜具備硬塗層(有)、不具備硬塗層(無)。
[表2]
Figure 108133613-A0304-0002
＜2.測定方法＞ 於實施例及比較例中所獲得之光學膜具有保護膜之情形時，下述測定及評價係使用將保護膜剝離之狀態之光學膜而實施。 (2-1.光學膜之反射圖像清晰度值之測定) 依據JIS K 7374並使用圖像清晰度測定器(Suga Test Instruments(股)製造之「ICM-1」)，如下所述般利用反射法測定光學膜之反射圖像清晰度值。 將光學膜設置於圖像清晰度測定器。該光學膜係以於設置前利用乙醇輕輕擦拭兩面並進行乾燥，且將異物自表面去除之狀態設置。繼而，調整光量及截面積，將調整為平行光之白色光自相對於光學膜平面向MD方向傾斜60°之角度(入射角)照射至所設置之光學膜。此處，實施例1、3及4之光學膜之照射面係光學膜之製作時與基材接觸之面。實施例2及5之光學膜之照射面係於光學膜之製作時與基材接觸之面被覆有硬塗層之面。使來自光學膜之正反射光透過調整截面積而與正反射光之光軸垂直地延伸之光梳，並利用受光器接收透過光梳之光。 反覆進行使光梳(狹縫寬度：0.125 mm)沿著相對於光梳之平面平行且光梳中之狹縫排列之方向移動特定之單位寬度來接收光梳之透過光。其結果為獲得受光波形。根據所獲得之受光波形獲得相對光量之最大值M及最小值m。根據所獲得之M及m並基於式(5)算出第1反射圖像清晰度值CMD 。
將照射光之入射角變更為相對於光學膜平面自垂直方向向TD方向傾斜60°之角度，除此以外，以與第1反射圖像清晰度值相同之方式分別算出各第2反射圖像清晰度值。
(2-2.光學膜之全光線透過率及霧度) 光學膜之全光線透過率係依據JIS K 7361-1：1997，霧度係依據JIS K 7136：2000並使用Suga Test Instruments(股)製造之全自動直讀霧度計HGM-2DP進行測定。測定試樣係將實施例及比較例之光學膜切斷成30 mm×30 mm之大小而製作。
(2-3.光學膜之黃色指數) 藉由日本分光(股)製造之紫外可見近紅外分光光度計V-670測定光學膜之黃色指數(黃度：YI值)。於不存在樣品之狀態下進行後台測定後，將光學膜設置於樣品保持器，進行針對300～800 nm之光之透過率測定，求出3刺激值(X、Y、Z)。基於下述式算出YI值。再者，於在光學膜之與支持體相反之面積層有保護膜之情形時，將保護膜剝離，測定黃色指數。 YI值=100×(1.2769X-1.0592Z)/Y
(2-4.光學膜之拉伸彈性模數) 光學膜之拉伸彈性模數係依據JIS K 7127，使用電氣機械式萬能試驗機(INSTRON公司製造)，以試驗速度5 m/min及荷重元5 kN進行拉伸試驗並測定。
(2-5.光學膜之厚度) 使用測微計(Mitutoyo(股)製造之「ID-C112XBS」)測定10點以上之光學膜之厚度，並算出其平均值。
(2-6.聚醯亞胺系樹脂之分子量(重量平均分子量)) 凝膠滲透層析法(GPC)測定係使用島津製作所(股)製造之液相層析儀LC-10ATvp進行。 (1)預處理方法 將試樣溶解於γ-丁內酯(GBL)中製成20質量%溶液後，利用DMF(Dimethylformamide，二甲基甲醯胺)溶離液稀釋成100倍，將經過0.45 μm薄膜過濾器過濾所得者設為測定溶液。 (2)測定條件 管柱：TSKgel SuperAWM-H×2+SuperAW2500×1(6.0 mm I.D.×150 mm×3根) 溶離液：DMF(添加10 mmol之溴化鋰) 流量：0.6 mL/min 檢測器：RI檢測器 管柱溫度：40℃ 注入量：20 μL 分子量標準：標準聚苯乙烯
(2-7.醯亞胺化率) 醯亞胺化率係藉由1 H-NMR(Nuclear magnetic resonance，核磁共振)測定以如下方式求出。 (1)預處理方法 將使包含聚醯亞胺系樹脂之光學膜溶解於重氫化二甲基亞碸(DMSO-d6 )中製成2質量%溶液而成者作為測定試樣。 (2)測定條件 測定裝置：JEOL製造 400 MHz NMR裝置 JNM-ECZ400S/L1 標準物質：DMSO-d6 (2.5 ppm) 試樣溫度：室溫 累計次數：256次 緩和時間：5秒 (3)醯亞胺化率解析方法 (聚醯亞胺樹脂之醯亞胺化率) 於利用包含聚醯亞胺樹脂之測定試樣而獲得之1 H-NMR光譜中，將所觀測到之苯質子中源自於醯亞胺化前後不會變化之結構之苯質子A之積分值設為IntA 。又，將所觀測到之源自殘留於聚醯亞胺樹脂中之醯胺酸結構之醯胺質子之積分值設為IntB 。根據該等積分值並基於以下之式求出聚醯亞胺樹脂之醯亞胺化率。 醯亞胺化率(%)=100×(1-IntB /IntA )
(聚醯胺醯亞胺樹脂之醯亞胺化率) 於利用包含聚醯胺醯亞胺樹脂之測定試樣而獲得之1 H-NMR光譜中，將所觀測到之苯質子中源自於醯亞胺化前後不會變化之結構且不會受源自殘存於聚醯胺醯亞胺樹脂中之醯胺酸結構之結構影響之苯質子C之積分值設為IntC 。又，將所觀測到之苯質子中源自於醯亞胺化前後不會變化之結構且會受源自殘存於聚醯胺醯亞胺樹脂中之醯胺酸結構之結構影響之苯質子D之積分值設為IntD 。根據所獲得之IntC 及IntD 並藉由以下之式求出β值。 β=IntD /IntC 繼而，針對複數個聚醯胺醯亞胺樹脂求出上述式之β值及上述式之聚醯亞胺樹脂之醯亞胺化率，並根據該等結果獲得以下之關係式。 醯亞胺化率(%)=k×β+100 上述關係式中，k為常數。 將β代入關係式中獲得聚醯胺醯亞胺樹脂之醯亞胺化率(%)。
(2-8.耐彎曲性試驗) 針對光學膜，依據JIS K 5600-5-1實施耐彎曲性試驗。耐彎曲性試驗係使用小型桌上彎曲試驗機(Yuasa System機器製造)而實施。針對耐彎曲試驗後之光學膜，以與上述測定方法相同之方式分別測定反射圖像清晰度值及霧度。分別取耐彎曲試驗前後之反射圖像清晰度值及霧度之差之絕對值，分別算出反射圖像清晰度值之差(第1反射圖像清晰度值之差ΔCMD 、第2反射圖像清晰度值之差ΔCTD )及霧度之差(ΔHaze)。
(2-9.耐折性試驗(MIT)) 依據ASTM標準D2176-16，並以如下方式求出實施例及比較例中之光學膜之彎折次數。使用啞鈴切割機將該光學膜切成15 mm×100 mm之短條狀，製作測定試樣。將測定試樣放置於MIT耐折疲勞試驗機(東洋精機製作所(股)製造之「型號0530」)本體。具體而言，將測定試樣之一端固定於負載夾，將另一端固定於彎折夾，對測定試樣施加張力。於該狀態下，於試驗速度175 cpm、彎折角度135°、負載0.75 kgf、彎折夾之彎曲半徑R=3 mm之條件下進行朝向正背方向之往返彎曲運動直至測定試樣斷裂為止。測定上述彎折次數。
＜3.評價方法＞ (3-1.視認性) 將光學膜切成10 cm見方。將該尺寸(10 cm見方)之附黏著層之偏光板之MD方向與所切下之光學膜之MD方向對齊，將附黏著層之偏光板貼合於所切下之光學膜而製作評價用試樣。針對1個實施例及比較例之光學膜，分別製作2個評價用試樣。 將2個評價用試樣中之一個評價用試樣以螢光燈位於評價用試樣平面之垂直方向上且上述螢光燈之長度方向相對於評價用試樣之MD方向成為水平之方式固定於台上。 觀察者自相對於評價用試樣平面之垂直方向傾斜30°之角度利用目視觀察映於評價用試樣表面之螢光燈像。 將螢光燈之長度方向自水平變更為垂直，除此以外，以相同之方式將另一評價用試樣固定於台，觀察螢光燈像。 根據觀察結果並基於下述評價基準對視認性進行評價。 (視認性之評價基準) ◎：幾乎未視認到螢光燈像之變形。 ○：可視認些許螢光燈像之變形。 △：視認到螢光燈像之變形。 ×：明確視認到螢光燈像之變形。
＜4.評價結果＞ 針對實施例1～4及比較例1之光學膜測定全光線透過率、霧度、反射圖像清晰度值、黃度及彎折次數，對視認性進行評價。將測定及評價結果彙總於表3～5。再者，表3之欄「Tt(%)」表示光學膜之全光線透過率(單位：%)。表3之「Haze(%)」表示光學膜之霧度(單位：%)。
[表3]
Figure 108133613-A0304-0003
[表4]
Figure 108133613-A0304-0004
[表5]
Figure 108133613-A0304-0005
實施例1～4之光學膜均包含聚醯亞胺系樹脂，全光線透過率為85%以上，霧度為0.5%以下。又，光學膜1～4之第1反射圖像清晰度值CMD 及第2反射圖像清晰度值CTD 為45%≤CMD ≤100%、30%≤CTD ≤100%，其平均值(CMD +CTD )/2為35%以上且100%以下。即，光學膜1～4滿足式(1)～式(3)。 進而，實施例1～4之光學膜之視認性之評價結果為◎、○及△之任一者。
比較例1之光學膜之全光線透過率未達85%，霧度大於0.5%。進而，比較例1之光學膜均不滿足式(1)～式(3)。 進而，比較例1之光學膜之視認性之評價結果為×。
明確實施例1～4之光學膜與比較例1之光學膜相比，廣角方向之視認性優異。
又，亦確認到實施例1～4之光學膜之黃度較低且具有優異之耐折性。
1:光學膜 3:垂直軸 10:第1照射光 11:第1照射位置 12:第1正反射光 14:第1光軸 16:第1光梳 18:第1透過光 19:第1受光器 20:第2照射光 21:第2照射位置 22:第2正反射光 24:第2光軸 26:第2光梳 28:第2透過光 29:第2受光器 MD:機械方向 TD:橫向方向
圖1係表示第1反射圖像清晰度值之測定中之光軸之圖。 圖2係表示第2反射圖像清晰度值之測定中之光軸之圖。
1:光學膜
3:垂直軸
10:第1照射光
11:第1照射位置
12:第1正反射光
14:第1光軸
16:第1光梳
18:第1透過光
19:第1受光器
MD:機械方向
TD:橫向方向

Claims (11)

  1. 一種光學膜，其係包含選自由聚醯亞胺系樹脂及聚醯胺系樹脂所組成之群中之至少1種樹脂，且全光線透過率為85%以上，霧度為0.5%以下者， 於在上述光學膜面內將與製造時之機械行進方向平行之方向設為MD方向，將與該機械行進方向垂直之方向設為TD方向時， 關於上述光學膜之至少任一面，依據JIS K 7374於光梳之狹縫寬度為0.125 mm之情形時所獲得之自與上述光學膜之平面垂直之方向向上述MD方向傾斜60°之方向的第1反射圖像清晰度值CMD 、與自上述垂直方向向上述TD方向傾斜60°之方向之第2反射圖像清晰度值CTD 滿足： 式(1)： 45%≤CMD ≤100%・・・(1)、 式(2)： 30%≤CTD ≤100%・・・(2)、及 式(3)： 35%≤(CMD +CTD )/2≤100%・・・(3)。
  2. 如請求項1之光學膜，其依據JIS K 5600-5-1之耐彎曲性試驗前後之上述霧度之差ΔHaze未達0.3%。
  3. 如請求項1或2之光學膜，其依據JIS K 5600-5-1之耐彎曲性試驗前後之上述第1反射圖像清晰度值之差ΔCMD 及上述第2反射圖像清晰度值之差ΔCTD 未達15。
  4. 如請求項1或2之光學膜，其厚度為10～150 μm。
  5. 如請求項1或2之光學膜，其進而包含填料，且 上述填料之含量相對於光學膜之質量為5質量%以下。
  6. 如請求項1或2之光學膜，其80℃下之拉伸彈性模數為4,000～9,000 MPa。
  7. 如請求項1或2之光學膜，其至少一面具有硬塗層。
  8. 如請求項7之光學膜，其中上述硬塗層之厚度為3～30 μm。
  9. 一種可撓性顯示裝置，其具備如請求項1至8中任一項之光學膜。
  10. 如請求項9之可撓性顯示裝置，其進而具備觸控感測器。
  11. 如請求項9或10之可撓性顯示裝置，其進而具備偏光板。
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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2021148939A (ja) * 2020-03-18 2021-09-27 住友化学株式会社 光学フィルム及びフレキシブル表示装置
JP2021148936A (ja) * 2020-03-18 2021-09-27 住友化学株式会社 光学フィルム及びフレキシブル表示装置
JP2021148937A (ja) * 2020-03-18 2021-09-27 住友化学株式会社 光学フィルム及びフレキシブル表示装置
CN116034019A (zh) * 2020-08-19 2023-04-28 日本瑞翁株式会社 转印介质层叠体、偏振膜以及制造方法
KR102305521B1 (ko) * 2021-03-04 2021-09-30 주식회사 오플렉스 플렉서블 디스플레이용 백플레이트 필름 및 이를 포함하는 플렉서블 디스플레이

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3474033B2 (ja) 1995-08-08 2003-12-08 積水化学工業株式会社 光学用透明フィルム
JP4957592B2 (ja) 2008-03-10 2012-06-20 新日本理化株式会社 ポリイミド樹脂組成物及びその成形体
JP2010139379A (ja) 2008-12-11 2010-06-24 Mitsui Chemicals Inc 欠陥検出方法、欠陥検出装置、これらを用いたフィルムの製造方法及び装置
US8905610B2 (en) * 2009-01-26 2014-12-09 Flex Lighting Ii, Llc Light emitting device comprising a lightguide film
JP5871094B2 (ja) * 2014-07-03 2016-03-01 ダイキン工業株式会社 フィルム
WO2016093181A1 (ja) * 2014-12-11 2016-06-16 Ｊｘ日鉱日石エネルギー株式会社 透明シート、それを備えた透明スクリーン、およびそれを備えた画像投影装置
EP3223046A4 (en) * 2014-12-22 2018-11-14 JXTG Nippon Oil & Energy Corporation Sheet-shaped, transparent molding, transparent screen provided with same, and image projection device provided with same
EP3247745B1 (en) * 2015-01-23 2021-03-31 Akron Polymer Systems, Inc. Fluoropolymer-based polymer blends, polymer films, and polarizer protective films
KR101874616B1 (ko) 2015-07-22 2018-07-05 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 수지 필름, 적층체, 광학 부재, 가스 배리어재 및 터치 센서 기재
CN107850717A (zh) * 2015-08-20 2018-03-27 宇部兴产株式会社 光学膜和图像显示装置
EP3385787A4 (en) * 2015-12-02 2019-05-29 JXTG Nippon Oil & Energy Corporation REFLECTIVE TRANSPARENT VISOR AND IMAGE PROJECTION DEVICE THEREWITH
JP2017119821A (ja) * 2015-12-28 2017-07-06 宇部興産株式会社 ポリイミド材料およびその製造方法
JP6900152B2 (ja) * 2016-04-07 2021-07-07 株式会社カネカ ガラス代替材料用のフィルム
US10476037B2 (en) * 2016-04-22 2019-11-12 Samsung Sdi Co., Ltd. Flexible display apparatus
JP6917187B2 (ja) * 2016-05-10 2021-08-11 住友化学株式会社 光学フィルム、及びこれを用いたフレキシブルデバイス
WO2018012433A1 (ja) * 2016-07-13 2018-01-18 Ｊｘｔｇエネルギー株式会社 視認性向上フィルム、およびそれを備えた積層体、およびそれを備えた画像表示装置
JP6939319B2 (ja) * 2016-09-30 2021-09-22 大日本印刷株式会社 ポリイミドフィルム、積層体、及びディスプレイ用表面材
CN108373543B (zh) * 2017-02-01 2022-09-20 住友化学株式会社 聚酰亚胺膜
JP6430675B1 (ja) 2017-06-05 2018-11-28 住友化学株式会社 フィルム、フィルムの光学的均質性の評価方法及びフィルムの製造方法
JP6345894B1 (ja) * 2018-02-08 2018-06-20 リンテック株式会社 フレキシブルディスプレイ

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