TW201945176A

TW201945176A - 電磁波透過性金屬光澤物品及加飾構件

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Publication number: TW201945176A
Application number: TW108114181A
Authority: TW
Inventors: 宮本幸大; 有本将治; 中井孝洋; 渡邉太一; 陳暁雷; 米澤秀行; 梨木智剛
Original assignee: 日商日東電工股份有限公司
Priority date: 2018-04-23
Filing date: 2019-04-23
Publication date: 2019-12-01
Also published as: CN112020422A; KR20210005585A; JP2019188806A; JP7319079B2

Abstract

本發明係有關一種電磁波透過性金屬光澤物品，其係具備：基體，被形成於前述基體上的金屬層，及光學調整層，
前述金屬層，係包括至少一部分處於互相不連續的狀態的複數的部分，
前述光學調整層，係包括至少1層折射率1.75以上的高折射率層。
以及有關一種加飾構件，其係具備：被黏著構件，及電磁波透過性金屬光澤物品，
前述電磁波透過性金屬光澤物品係經由由透明黏著劑所成的黏著劑層來貼附於前述被黏著構件。

Description

電磁波透過性金屬光澤物品及加飾構件

本發明是有關電磁波透過性金屬光澤物品及加飾構件。

以往，具有電磁波透過性及金屬光澤的構件因為兼備來自其金屬光澤的外觀的高級感及電磁波透過性，所以適用於收發電磁波的裝置。
例如，被要求對於前面進氣格柵(front grille)、標誌(emblem)等的汽車的前面部分所搭載的毫米波雷達的罩(cover)構件施以裝飾之兼備光輝性與電磁波透過性的雙方的金屬光澤物品。

毫米波雷達是將毫米波頻的電磁波(頻率約77GHz，波長約4mm)發送至汽車的前方，接收來自目標的反射波，測定、分析反射波，藉此可計測與目標的距離或目標的方向、大小。
計測結果是可利用於車間計測、速度自動調整、煞車自動調整等。
配置有如此的毫米波雷達的汽車的前面部分是所謂汽車的臉，給予使用者巨大的影響的部分，因此以金屬光澤調的前面裝飾來演出高級感為理想。然而，在汽車的前面部分使用金屬的情況，藉由毫米波雷達之電磁波的收發實質上不可能或被妨害。因此，為了不妨礙毫米波雷達的機能，不破壞汽車的設計性，而須兼備光輝性與電磁波透過性的雙方的金屬光澤物品。

此種的金屬光澤物品是不僅毫米波雷達，須通訊的各種的機器，例如設置智慧鑰匙(smart key)的汽車的門把手、車載通訊機器、行動電話、個人電腦等的電子機器等的應用被期待。而且，近年來隨著IoT技術的發達，以往無進行通訊等的冰箱等的家電製品、生活機器等廣泛領域的應用也被期待。

有關金屬光澤構件，在日本特開2007-144988號公報(專利文獻1)是揭示包括由鉻(Cr)或銦(In)所成的金屬被膜的樹脂製品。此樹脂製品是包括：包含樹脂基材及被成膜於該樹脂基材上的無機化合物的無機質底層膜，及在該無機質底層膜上藉由物理蒸鍍法所成膜的光輝性及不連續構造的鉻(Cr)或銦(In)所成的金屬皮膜。作為無機質底層膜，在專利文獻1是使用(a)金屬化合物的薄膜，例如氧化鈦(TiO、TiO₂ 、Ti₃ O₅ 等)等的鈦化合物；氧化矽(SiO、SiO₂ 等)、氮化矽(Si₃ N₄ 等)等的矽化合物；氧化鋁(Al₂ O₃ )等的鋁化合物；氧化鐵(Fe₂ O₃ )等的鐵化合物；氧化硒(CeO)等的硒化合物；氧化鋯(ZrO)等的鋯化合物；硫化鋅(ZnS)等的鋅化合物等、(b)無機塗料的塗膜，例如以矽、非晶質(amorphous)TiO_z 等(其他上述例示的金屬化合物)作為主成分的無機塗料之塗膜。

另一方面，在日本特開2009-298006號公報(專利文獻2)是揭示：不僅鉻(Cr)或銦(In)，也可以鋁(Al)、銀(Ag)、鎳(Ni)作為金屬膜形成的電磁波透過性光輝樹脂製品。
在日本特開2010-5999號公報(專利文獻3)是記載：在母材薄板形成金屬膜層，一面對母材薄板負荷張力，一面進行加熱處理，藉此製造具有龜裂的電磁波透過性的金屬膜加飾薄板之方法。
在日本特許第4601262號公報(專利文獻4)是記載：在透明樹脂成形品上，層疊具有藉由不連續的膜構造的金屬薄膜層所產生的金屬發色部分的加飾層之罩面板。
[先前技術文獻]
[專利文獻]

[專利文獻1] 日本特開2007-144988號公報
[專利文獻2] 日本特開2009-298006號公報
[專利文獻3] 日本特開2010-5999號公報
[專利文獻4] 日本特許第4601262號公報

(發明所欲解決的課題)

以往技術的金屬光澤物品，一般是在平滑面形成金屬層者。然而，對於金屬光澤物品的設計的需求多樣化，例如被著色的金屬光澤物品也期望。
本案發明是有鑑於上述而研發者，提供一種兼顧電磁波透過性與高的光輝性，被著色的電磁波透過性金屬光澤物品。

(用以解決課題的手段)

本發明者等為了解決上述課題，經深入檢討的結果發現，藉由將通常難形成不連續構造，例如由鋁(Al)等其他的金屬所成的金屬層設為不連續構造，且具備至少包含1層折射率1.75以上的高折射率層的光學調整層，可兼顧電磁波透過性與高的光輝性，取得被著色的金屬外觀，完成本發明。

本發明之一形態，係有關一種電磁波透過性金屬光澤物品，其係具備：基體，被形成於前述基體上的金屬層，及至少1層的光學調整層，
前述金屬層，係包括至少一部分處於互相不連續的狀態的複數的部分，
前述光學調整層，係至少包括1層折射率1.75以上的高折射率層。

在本發明的電磁波透過性金屬光澤物品之一形態中，前述光學調整層的厚度亦可為10nm~1000nm。

在本發明的電磁波透過性金屬光澤物品之一形態中，設有前述光學調整層的側的波長380nm~780nm的範圍的反射率的最大值與最小值的差亦可為30%以上。

在本發明的電磁波透過性金屬光澤物品之一形態中，在前述基體與前述金屬層之間更具備含氧化銦層為理想。

在本發明的電磁波透過性金屬光澤物品之一形態中，前述含氧化銦層係以連續狀態設置為理想。

在本發明的電磁波透過性金屬光澤物品之一形態中，前述含氧化銦層，係包含氧化銦(In₂ O₃ )、銦錫氧化物(ITO)、或銦鋅氧化物(IZO)的任一者為理想。

在本發明的電磁波透過性金屬光澤物品之一形態中，前述含氧化銦層的厚度為1nm~1000nm為理想。

在本發明的電磁波透過性金屬光澤物品之一形態中，前述金屬層的厚度為20nm~100nm為理想。

在本發明的電磁波透過性金屬光澤物品之一形態中，前述金屬層的厚度與前述含氧化銦層的厚度的比(前述金屬層的厚度/前述含氧化銦層的厚度)亦可為0.02~100。

在本發明的電磁波透過性金屬光澤物品之一形態中，前述複數的部分係亦可形成島狀。

在本發明的電磁波透過性金屬光澤物品之一形態中，薄膜電阻為100Ω/□以上為理想。

在本發明的電磁波透過性金屬光澤物品之一形態中，前述金屬層，係鋁(Al)、鋅(Zn)、鉛(Pb)、銅(Cu)、銀(Ag)、或該等的合金的任一者。

在本發明的電磁波透過性金屬光澤物品之一形態中，前述基體，係基材薄膜、樹脂成型物基材、玻璃基材、或應賦予金屬光澤的物品的任一者。

在本發明的電磁波透過性金屬光澤物品之一形態中，更具備由透明黏著劑所成的黏著劑層為理想。

本發明之一形態，係有關一種加飾構件，其係具備：被黏著構件，及前述電磁波透過性金屬光澤物品，
前述電磁波透過性金屬光澤物品係經由前述黏著劑層來貼附於前述被黏著構件。

在本發明的加飾構件之一形態中，在前述被黏著構件側的反射光的CIE-Lab表色系中，a^* 值及b^* 值的二次方和的平方根為5.0以上為理想。

在本發明的加飾構件之一形態中，前述被黏著構件側的波長380nm~780nm的範圍的反射率的最大值與最小值的差為20%以上為理想。

[發明的效果]

若根據本發明，則可提供一種兼顧電磁波透過性與高的光輝性，具有被著色的金屬外觀之電磁波透過性金屬光澤物品及金屬薄膜。

以下，一面參照圖面，一面說明有關本發明之一個的適宜的實施形態。以下，為了說明的方便起見，只顯示本發明的適宜的實施形態，但當然本發明並非限於此。

＜1.基本構成＞
在圖1顯示本發明之一實施形態的電磁波透過性金屬光澤物品(以下稱為「金屬光澤物品」)1的概略剖面圖，在圖3顯示本發明之一實施形態的金屬光澤物品1的表面的電子顯微鏡照片(SEM畫像)。並且，在圖9顯示本發明之一實施形態的島狀構造的金屬層11的剖面的透過型電子顯微鏡照片(TEM畫像)。

金屬光澤物品1是包括基體10，被形成於基體10上的金屬層12及光學調整層13。

金屬層12是被形成於基體10上。金屬層12是包括複數的部分12a。金屬層12的該等的部分12a是至少一部分處於互相不連續的狀態，換言之，至少一部分藉由間隙12b來隔開。因為藉由間隙12b隔開，所以金屬光澤物品的薄膜電阻變大，與電波的相互作用降低，因此可容易使電波透過。該等的各部分12a是亦可為藉由將金屬蒸鍍、濺射等來形成的濺射粒子的集合體。

另外，在本說明書所謂的「不連續的狀態」是意思藉由間隙12b來互相隔開，此結果，彼此被電性絕緣的狀態。藉由被電性絕緣，薄膜電阻變大，可取得所望的電磁波透過性。亦即，若根據以不連續的狀態形成的金屬層12，則容易取得充分的光輝性，亦可確保電磁波透過性。不連續的形態不是被特別限定者，例如包含島狀構造、龜裂構造等。在此所謂「島狀構造」是如圖3所示般，金屬粒子彼此間各自獨立，該等的粒子彼此些微離間或部分接觸的狀態下鋪滿而成的構造。

所謂龜裂構造是金屬薄膜會藉由龜裂而被分斷的構造。
龜裂構造的金屬層12是例如可藉由在基材薄膜上設置金屬薄膜層，彎曲延伸使龜裂產生於金屬薄膜層而形成。此時，在基材薄膜與金屬薄膜層之間缺乏伸縮性，亦即藉由設置由容易因延伸而產生龜裂的素材所成的脆性層，可容易形成龜裂構造的金屬層12。

如上述般，金屬層12成為不連續的形態是不被特別限定，但從生產性的觀點，島狀構造為理想。

金屬光澤物品1的電磁波透過性是例如可藉由電波透過衰減量來評價。
另外，在微波頻帶(5GHz)的電波透過衰減量與毫米波雷達的頻帶(76~80GHz)的電波透過衰減量之間是有相關性，因為顯示比較接近的值，所以微波頻帶的電磁波透過性佳的金屬光澤物品是在毫米波雷達的頻帶的電磁波透過性也佳。
微波頻帶(5GHz)的電波透過衰減量是10[-dB]以下為理想，5[-dB]以下更理想，2[-dB]以下更加理想。若比10[-dB]大，則有90%以上的電波被遮斷的問題。

金屬光澤物品1的薄膜電阻也與電磁波透過性有相關。
金屬光澤物品1的薄膜電阻是100Ω/□以上為理想，此情況微波頻帶(5GHz)的電波透過衰減量是成為10~0.01[-dB]程度。
金屬光澤物品1的薄膜電阻是200Ω/□以上更理想，600Ω/□以上更加理想。
並且，特別理想是1000Ω/□以上。
金屬光澤物品1的薄膜電阻是可遵照JIS-Z2316-1：2014，藉由渦電流測定法來測定。

金屬光澤物品1的電波透過衰減量及薄膜電阻是依金屬層12的材質或厚度等而受影響。
並且，在金屬光澤物品1具備含氧化銦層11的情況，也依含氧化銦層11的材質或厚度等而受影響。

在本實施形態的電磁波透過性金屬光澤物品中，設有光學調整層的側的波長380nm~780nm的範圍的反射率的最大值與最小值的差為30%以上為理想。若反射率的最大值與最小值的差為30%以上，則可將金屬外觀的著色設為濃者。從著色的濃度的觀點，35%以上更理想，40%以上更加理想。另外，反射率的最大值與最小值的差的上限是不被特別限制。反射率是可藉由實施例記載的方法來測定。

＜2.基體＞
在本實施形態的電磁波透過性金屬光澤物品中，從電磁波透過性的觀點，基體10是可舉樹脂、玻璃、陶瓷等。
基體10是亦可為基材薄膜、樹脂成型物基材、玻璃基材、或應賦予金屬光澤的物品的任一者。
更具體而言，基材薄膜是例如可使用由聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、聚對荼二甲酸乙二酯(PEN)、聚對苯二甲酸丁二酯、聚醯胺、聚氯乙烯、聚碳酸酯(PC)、環烯烴聚合物(COP)、聚苯乙烯、聚丙烯(PP)、聚乙烯、聚環烯烴、聚氨酯、丙烯酸(PMMA)、ABS等的單獨聚合物或共聚合物所成的透明薄膜。

若根據該等的構件，則亦無影響光輝性或電磁波透過性的情形。但，從之後形成含氧化銦層11或金屬層12的觀點，可耐於蒸鍍或濺射等的高溫者為理想，因此上述材料之中，例如，聚對苯二甲酸乙二酯、聚對荼二甲酸乙二酯、丙烯酸、聚碳酸酯、環烯烴聚合物、ABS、聚丙烯、聚氨酯為理想。其中又從耐熱性與成本的平衡佳的觀點，聚對苯二甲酸乙二酯或環烯烴聚合物、聚碳酸酯、丙烯酸為理想。

基材薄膜是亦可為單層薄膜，或亦可為層疊薄膜。從加工的容易度等，基材薄膜的厚度是例如6μm~250μm程度為理想。為了增強與含氧化銦層11或金屬層12的附著力，亦可實施電漿處理或易黏著處理等。
基體10為基材薄膜時，金屬層12是只要設於基材薄膜上的至少一部分即可，亦可只設在基材薄膜的一面，或亦可設在兩面。

基材薄膜是亦可因應所需，形成平滑性或防眩性硬塗層。藉由設置硬塗層，可使金屬薄膜的擦傷性提升。藉由設置平滑性硬塗層，金屬光澤感會增加，相反的，藉由防眩性硬塗層，可防止眩光。硬塗層是可藉由塗佈含有硬化性樹脂的溶液來形成。

硬化性樹脂是可舉熱硬化型樹脂、紫外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂等。硬化性樹脂的種類是可舉聚酯系、丙烯酸系、胺基甲酸乙酯系、丙烯酸聚氨酯系、醯胺系、矽酮系、矽酸鹽系、環氧系、三聚氰胺系、噁丁環系、丙烯酸聚氨酯系等的各種的樹脂。該等硬化性樹脂是可適當地選擇使用一種或二種以上。該等之中又以丙烯酸系樹脂、丙烯酸聚氨酯系樹脂、及環氧系樹脂為理想，因為硬度高，紫外線硬化可能，生產性佳。

在此，應注意基材薄膜只是可在其表面上形成金屬層12的對象(基體10)之一例的點。基體10是如上述般除了基材薄膜以外，亦包括樹脂成型物基材、玻璃基材、應賦予金屬光澤的物品本身。作為樹脂成型物基材及應賦予金屬光澤的物品是例如可舉車輛用構造零件、車輛搭載用品、電子機器的框體、家電機器的框體、構造用零件、機械零件、各種的汽車用零件、電子機器用零件、傢具、廚房用品等的家居傾向用途、醫療機器、建築資材的零件、其他的構造用零件或外裝用零件等。

金屬層12是可形成於該等全部的基體上，亦可形成於基體的表面的一部分，或亦可形成於基體的表面的全部。此情況，應賦予金屬層12的基體10是符合與上述的基材薄膜同樣的材質、條件為理想。

＜3.含氧化銦層＞
又，一實施形態的電磁波透過性金屬光澤物品1是如圖2所示般，亦可在基體10與金屬層12之間更具備含氧化銦層11。含氧化銦層11是亦可直接設於基體10的面，或亦可經由被設在基體10的面的保護膜等來間接地設置。含氧化銦層11是在應賦予金屬光澤的基體10的面以連續狀態換言之無間隙設置為理想。藉由以連續狀態設置，可使含氧化銦層11、進一步金屬層12或金屬光澤物品1的平滑性或耐蝕性提升，且亦容易面內無偏差形成含氧化銦層11。

若藉由如此在基體10與金屬層12之間更具備含氧化銦層11，亦即在基體10上形成含氧化銦層11，在其上形成金屬層12，則容易以不連續的狀態形成金屬層12，因此為理想。其機構的詳細未必明確，但可思考藉由金屬的蒸鍍或濺射之濺射粒子在基體上形成薄膜時，在基體上的粒子的表面擴散性會影響薄膜的形狀，基體的溫度高，金屬層對於基體的浸潤性小，金屬層的材料的融點低較容易形成不連續構造。而且，藉由在基體上設置含氧化銦層，其表面上的金屬粒子的表面擴散性會被促進，容易使金屬層以不連續的狀態成長。

作為含氧化銦層11，亦可使用氧化銦(In₂ O₃ )本身，或例如亦可使用銦錫氧化物(ITO)或銦鋅氧化物(IZO)之類的含金屬物。但，含有第二金屬的ITO或IZO在濺射工程的放電安定性較高的點，更理想。藉由使用該等的含氧化銦層11，亦可容易沿著基體的面來形成連續狀態的膜，且此情況容易將被層疊於含氧化銦層上的金屬層例如設為島狀的不連續構造，因此為理想。而且，如後述般，此情況，在金屬層中，不僅鉻(Cr)或銦(In)，容易含通常難形成不連續構造，難適用於本用途的鋁等的各種的金屬。

在ITO所含的氧化錫(SnО₂ )的質量比率之含有率(含有率=(SnO₂ /(In₂ O₃ +SnO₂ ))×100)是未被特別限定，例如2.5wt%~30wt%，更理想是3wt%~10wt%。並且，在IZO所含的氧化鋅(ZnO)的質量比率之含有率(含有率=(ZnO/(In₂ O₃ +ZnO))×100)是例如2wt%~20wt%。
含氧化銦層11的厚度，從薄膜電阻或電磁波透過性、生產性的觀點，通常1000nm以下為理想，50nm以下更理想，20nm以下更加理想。另一方面，為了容易將被層疊的金屬層12設為不連續狀態，1nm以上為理想，為了容易確實地形成不連續狀態，2nm以上更理想，5nm以上更加理想。

＜4.金屬層＞
金屬層12是被形成於基體上，包括至少一部分處於互相不連續的狀態的複數的部分。
當金屬層12在基體上為連續狀態時，雖可取得充分的光輝性，但電波透過衰減量非常大，因此無法確保電磁波透過性。

金屬層12在基體上成為不連續狀態的機構的詳細未必明確，但大致可推測如其次般。亦即，在金屬層12的薄膜形成製程中，不連續構造的形成容易度是與在被賦予金屬層12的基體上的表面擴散有關聯性，基體的溫度高，金屬層對於基體的浸潤性小，金屬層的材料的融點低較容易形成不連續構造。因此，有關在以下的實施例特別使用的鋁(Al)以外的金屬，鋅(Zn)、鉛(Pb)、銅(Cu)、銀(Ag)等的比較融點低的金屬也可思考以同樣的手法來形成不連續構造。

在此，所謂複數的部分12a的平均粒徑是意思複數的部分12a的相當於圓的直徑的平均值。所謂部分12a的相當於圓的直徑是相當於部分12a的面積之完全的圓形的直徑。複數的部分12a的平均粒徑是可以實施例的欄記載的方法來測定。
金屬層12的部分12a的相當於圓的直徑是不被特別限定，但通常為10~1000nm程度。又，各部分12a彼此間的距離是不被特別限定，但通常是10~1000nm程度。

藉由將金屬層所含的處於互相不連續的狀態的複數的部分12a的平均粒徑設為上述的範圍，可在維持高的電磁波透過性之下，更提升光輝性。

金屬層12當然是可發揮充分的光輝性，最好融點比較低者。因為金屬層12是藉由使用濺射的薄膜成長來形成為理想。基於如此的理由，作為金屬層12是融點約為1000℃以下的金屬為適，例如，從鋁(Al)、鋅(Zn)、鉛(Pb)、銅(Cu)、銀(Ag)選擇的至少一種的金屬、及以該金屬作為主成分的合金的任一者為理想。特別是基於物質的光輝性或安定性、價格等的理由，Al及該等的合金為理想。又，使用鋁合金時，將含鋁量設為50質量%以上為理想。

金屬層12的厚度是以發揮充分的光輝性的方式，通常20nm以上為理想，另一方面，從薄膜電阻或電磁波透過性的觀點，通常100nm以下為理想。例如，20nm~100nm為理想，30nm~70nm更理想。此厚度是也適於生產性佳形成均一的膜，且最終製品的樹脂成形品的美觀亦佳。另外，金屬層12的厚度是可以實施例的欄記載的方法來測定。

並且，基於同樣的理由，金屬層的厚度與含氧化銦層的厚度的比(金屬層的厚度/含氧化銦層的厚度)是0.1~100的範圍為理想，0.3~35的範圍更理想。

金屬層的薄膜電阻是100Ω/□以上為理想。此情況，電磁波透過性是在5GHz的波長，成為10~0.01[-dB]程度。更理想是1000Ω/□以上。

更設置含氧化銦層時，作為金屬層與含氧化銦層的層疊體的薄膜電阻是100Ω/□以上為理想。此情況，電磁波透過性是在5GHz的波長，成為10~0.01[-dB]程度。更理想是1000Ω/□以上。此薄膜電阻的值是當然受金屬層的材質或厚度影響，從底層的含氧化銦層的材質或厚度也受到大的影響。因此，設置含氧化銦層時，與含氧化銦層的關係也須考慮後設定。

＜5.光學調整層＞
光學調整層是至少包含1層，折射率1.75以上的高折射率層。
光學調整層是設在金屬層12會被視認的側為理想，可直接設在金屬層12上，亦可經由其他的層來設置。例如，在一實施形態的金屬光澤物品1中，如圖1所示般，亦可設在與金屬層12的基體10側相反的面上，如圖2所示般，亦可設在金屬層12與基體10之間。另外，將光學調整層13直接設在金屬層12上時，光學調整層13是只要被層疊於金屬層12上即可，亦可不一定要完全填埋間隙12b。

若高折射率層的折射率為1.75以上，則可取得著色的金屬外觀，可設為設計性佳的金屬光澤物品。為了取得顏色更濃的金屬外觀，高折射率層的折射率是1.8以上為理想，1.9以上更理想。並且，從厚度控制性的觀點，3.5以下為理想，3.0以下更理想。
光學調整層是亦可為至少1層的折射率不同的層的層疊體。
作為高折射率層的材料，例如CeO₂ (2.30)、Nd₂ O₃ (2.15)、Nb₂ O₅ (2.20)、SiN(2.03)、Sb₂ O₃ (2.10)、TiO₂ (2.35)、Ta₂ O₅ (2.10)、ZrO₂ (2.05)、ZnO(2.10)、ZnS(2.30)等的無機物〔上述各材料的括弧內的數值是折射率〕或其混合物為理想，氧化鈮(Nb₂ O₅ )或SiN(2.03)為理想。

光學調整層的厚度是10nm~1000nm為理想。從成本的觀點，800nm以下更理想，500nm以下更加理想。又，從顏色的觀點，15nm以上為理想，20nm以上更理想，30nm以上更加理想。

＜6.黏著劑層＞
黏著劑層14是由透明黏著劑所成的層。本實施形態的金屬光澤物品1是亦可經由黏著劑層14來貼附於被黏著構件15而使用。例如，當基體10為基材薄膜或玻璃基材時，經由黏著劑層14來貼附於透明的被黏著構件15，可從內側裝飾被黏著構件15。

形成黏著劑層14的黏著劑是只要為透明黏著劑即可，不被特別限定，例如丙烯酸系黏著劑、橡膠系黏著劑、矽酮系黏著劑、聚酯系黏著劑、胺基甲酸乙酯系黏著劑、環氧系黏著劑、及聚醚系黏著劑的單獨任一者，或組合2種類以上使用。從透明性、加工性及耐久性等的觀點，使用丙烯酸系黏著劑為理想。

黏著劑層14的厚度是不被特別限定，但藉由形成薄，可使可視光透過性或膜厚精度、平坦性提升，因此100μm以下為理想，75μm以下更理想，50μm以下更加理想。

黏著劑層14全體的全光線透過率是不被特別限定，但遵照JIS K7361來測定的任意的可視光波長的值，10%以上為理想，30%以上更理想，50%以上更加理想。黏著劑層14的全光線透過率是越高越理想。

又，構成黏著劑層14的透明黏著劑是亦可被著色。
此情況，由於金屬層12會通過被著色的黏著劑層14來視認，因此可發現被著色的金屬光澤。

將透明黏著劑著色的方法是不被特別限定，例如可藉由微量添加色素來著色。

在黏著劑層14上，至貼附於被黏著構件15時為止，為了保護黏著劑層14，亦可設置剝離襯墊。

在本實施形態的金屬光澤物品，只要可取得本發明的效果，除了上述的金屬層12、含氧化銦層11、光學調整層13、黏著劑層14以外，亦可按照用途來設置其他的層。作為其他的層是可舉用以調整顏色等的外觀的高折射材料等的光學調整層(顏色調整層)、用以使耐濕性或耐擦傷性等的耐久性提升的保護層(耐擦傷性層)、屏障層(腐蝕防止層)、易黏著層、硬塗層、反射防止層、光取出層、防眩膜(anti-glare)層等。

＜7.金屬光澤物品的製造＞
說明有關金屬光澤物品1的製造方法之一例。雖未特別說明，但有關使用基材薄膜以外的基體的情況也可以同樣的方法製造。

在基體10上形成金屬層12時，例如可使用真空蒸鍍、濺射等的方法。
作為光學調整層13的形成方法，例如可舉真空蒸鍍法、濺射法、離子電鍍法、塗工法等，可按照材料的種類及必要的膜厚來採用適當的方法。

並且，在基體10上形成含氧化銦層11時，在金屬層12的形成之前，藉由真空蒸鍍、濺射、離子電鍍(ion plating)等來形成含氧化銦層11。但，從大面積也可嚴格地控制厚度的點，濺射為理想。

在設置黏著劑層14時，可藉由在設置黏著劑層14的面塗佈黏著劑組成物等來形成。
黏著劑組成物的塗佈是可使用慣用的塗佈機(coater)，例如凹版輥塗佈機、倒轉輥塗佈機、接觸輥塗佈機、浸塗輥塗佈機、桿塗佈機、刀塗佈機、噴霧塗佈機等來進行。乾燥溫度是可適當採用，理想是40℃~200℃，更理想是50℃~180℃，特別理想是70℃~120℃。乾燥時間是可採用適當、適切的時間。上述乾燥時間，理想是5秒~20分，更理想是5秒~10分，特別理想是10秒~5分。

另外，在基體10與金屬層12之間設置含氧化銦層11時，不使其他的層介於含氧化銦層11與金屬層12之間，使直接接觸為理想。

＜8.加飾構件＞
本實施形態的加飾構件是具備被黏著構件及上述的電磁波透過性金屬光澤物品，前述電磁波透過性金屬光澤物品(金屬光澤物品1)會經由前述黏著劑層來貼附於前述被黏著構件。

金屬光澤物品1是亦可貼附於透明的被黏著構件2的內側的面而使用。透明的被黏著構件15是例如可使用由玻璃或塑膠所成的構件，但並非限於此。

在圖4中，顯示本發明之一實施形態的加飾構件2的概略剖面圖。本發明之一實施形態的加飾構件2是金屬光澤物品1會被貼附於被黏著構件15的狀態的概略剖面圖。本實施形態的加飾構件2是具備金屬層12、含氧化銦層11、光學調整層13、基體10(基材薄膜)及黏著劑層14的金屬光澤物品1會被貼附於被黏著構件15。

圖5是本發明之一實施形態的加飾構件的概略剖面圖。加飾構件2是圖5所示的構成的金屬光澤物品1會被貼附於被黏著構件15。在圖5中，金屬光澤物品1會經由黏著劑層14來對於與透明的被黏著構件15所被視認的側(以下亦稱為外側)的面2a相反側(以下亦稱為內側)的面2b貼附，通過被黏著構件15及黏著劑層14來視認光學調整層13及金屬層12。亦即，本實施形態的金屬光澤物品1是可從內側來裝飾透明的被黏著構件15。
本實施形態的加飾構件2是將金屬光澤物品1貼附於被黏著構件15的內側而取得，因此可取得不易受傷被著色的金屬外觀。並且，可一面照原樣發揮被黏著構件15的質感，一面裝飾被黏著構件15。

將金屬光澤物品1貼附於被黏著構件2的方法是不被特別限定，例如可藉由真空成形來貼附。所謂真空成形是將金屬光澤物品1一面加熱軟化一面展開，將金屬光澤物品1的被黏著構件側的空間減壓，因應所需將相反側的空間加壓，藉此按照被黏著構件的表面的三次元立體形狀來一面將金屬光澤物品1成形一面貼附層疊的方法。
金屬光澤物品1是可援用上述的說明。

本實施形態的加飾構件是在被黏著構件側的反射光的CIE-L^* a^* b^* 表色系中，a^* 值及b^* 值的二次方和的平方根為5.0以上為理想。因為若a^* 值及b^* 值的二次方和的平方根為5.0以上，則著色成為充分。a^* 值及b^* 值的二次方和的平方根是10以上更理想，15以上更加理想。a^* 值及b^* 值的二次方和的平方根的上限值無特別限制，但70以下為理想，65以下更理想，60以下更加理想。

CIE-L^* a^* b^* 表色系是CIE(國際照明委員會)在1976年推薦的表色系，L^* 是表示明度，從0到100，數值越大越明亮。色度是以a^* 、b^* 來表示，a^* 是表示從色調的紅到綠的程度的指數，若a^* 的值在正方向大，則形成紅色的色調。而且，b^* 是表示從色調的黃到藍的程度的指數。當a^* ，b^* 皆0時成為無彩色。

本實施形態的加飾構件2是被黏著構件側的波長380nm~780nm的範圍的反射率的最大值與最小值的差為20%以上為理想。從著色的濃度的觀點，35%以上更理想，40%以上更加理想。
反射率的最大值與最小值的差的上限值無特別限制，但90%以下為理想，85%以下更理想，80%以下更加理想。

＜9.金屬光澤物品及加飾構件的用途＞
由於本實施形態的金屬光澤物品1及金屬薄膜是具有電磁波透過性，因此使用在收發電磁波的裝置或物品及其零件等為理想。例如，可舉車輛用構造零件、車輛搭載用品、電子機器的框體、家電機器的框體、構造用零件、機械零件、各種的汽車用零件、電子機器用零件、傢具、廚房用品等的家居傾向用途、醫療機器、建築資材的零件、其他的構造用零件或外裝用零件等。
更具體而言，就車輛關係而言，可舉儀表板、中央置物箱、門把、門內飾板、變速桿、踏板類、手套箱、保險槓、引擎蓋、擋泥板、車後行李箱、車門、車頂、支柱、座位、方向盤、ECU箱、電裝零件、引擎周邊零件、驅動系･齒輪周邊零件、吸氣･排氣系零件、冷卻系零件等。
作為電子機器及家電機器，更具體而言，可舉冰箱、洗衣機、吸塵器、微波爐、空調、照明機器、電熱水器、電視、時鐘、換氣扇、投影機、揚聲器等的家電製品類、個人電腦、行動電話、智慧型手機、數位相機、平板型PC、攜帶型音樂撥放器、攜帶型遊戲機、充電器、電池等電子資訊機器等。

[實施例]

以下，舉實施例及比較例，更具體說明本發明。準備金屬光澤物品，評價反射率、CIE-L^* a^* b^* 表示系的a^* 值及b^* 值、電波透過衰減量(-dB)、薄膜電阻。另外，基體10是使用基材薄膜。
電波透過衰減量是有關電磁波透過性的評價。電波透過衰減量的值小較為理想。
評價方法的詳細是如以下般。

(1)分光反射率
使用Hitachi High-Technologies Corporation製的分光光度計U-4100，針對波長380nm~780nm的範圍的可視光線，以5nm間隔，測定照射至金屬光澤物品的一方的面而反射的光的分光反射率。
另外，測定時是使上述可視光線對於被黏著構件表面射入，在表1中作為反射率(有糊劑)記載。並且，在表1中，顯示波長380nm~780nm的範圍的分光反射率(%)的最大值(max)、最小值(min)、及最大值(max)與最小值(min)的差。

(2)CIE-L^* a^* b^* 表示系的a^* 值及b^* 值
利用以上述分光光度計U-4100測定後的波長380~780nm的分光反射率、及CIE標準光源D65的相對分光分布，來計算CIE-L^* a^* b^* 表示系的a^* 值及b^* 值。將a^* 值、b^* 值、a^* 值及b^* 值的二次方和的平方根顯示於表1。

(3)電波透過衰減量
以方形導波管測定評價治具WR-187來夾住樣品，使用Anritsu Company製光譜分析儀MS4644B來測定5GHz的電波透過衰減量。

(4)薄膜電阻
使用Napson Corporation製非接觸式電阻測定裝置NC-80MAP，遵照JIS-Z2316，藉由渦電流測定法來測定作為金屬層與含氧化銦層的層疊體的薄膜電阻。
此薄膜電阻是100Ω/□以上為理想，200Ω/□以上更理想，進一步600Ω/□以上更加理想。若比100Ω/□小，則有不能取得充分的電磁波透過性的問題。

(5)膜厚的評價方法
首先，從金屬光澤物品，如圖8所示般，適當地抽出一邊5cm的正方形區域3，以藉由將該正方形區域3的縱邊及橫邊各自的中心線A、B分別4等分而取得的合計5處的點「a」~「e」作為測定處。
其次，測定選擇的測定處各自如圖9所示般的剖面畫像(透過型電子顯微鏡照片(TEM畫像))，從取得的TEM畫像抽出含有5個以上的金屬部分12a的視野角區域。
將以視野角區域的橫寬來切開在5處的測定處各自被抽出的視野角區域的金屬層的總剖面積者設為各視野角區域的金屬層的厚度，將5處的測定處各自的各視野角區域的金屬層的厚度的平均值設為金屬層的厚度(nm)。

[實施例1]
使用在三菱樹脂公司製PET薄膜(厚度50μm)的一方的面形成厚度2000μm的熱硬化樹脂的薄膜，作為基材薄膜。
首先，在DC磁控管濺射裝置安裝ITO標靶，一邊導入Ar氣體與O₂ 氣體，一邊濺射，藉此沿著基材薄膜的面來直接形成5nm的厚度的ITO層。形成ITO層時的基材薄膜的溫度是設定成130℃。在ITO所含的氧化錫(SnО₂ )的含有率(含有率=(SnO₂ /(In₂ O₃ +SnO₂ ))×100)是10wt%。

在交流濺射裝置(AC：40kHz)安裝鋁(Al)標靶，一邊導入Ar氣體，一邊濺射，藉此在ITO層上形成35nm的厚度的Al層(金屬層)。取得的Al層是不連續層。形成Al層時的基材薄膜的溫度是設定成130℃。

(光學調整層的形成)
其次，在交流濺射裝置安裝Nb標靶(AC：40kHz)，將Ar氣體與O₂ 氣體一邊導入一邊濺射，藉此在Al層上形成110nm的Nb₂ O₅ 層作為光學調整層。

藉由以上，取得基材薄膜、含氧化銦層、金屬層、光學調整層的層疊體(以下稱為層疊體)。藉由上述的方法來測定取得的層疊體(金屬光澤物品)的反射率，在表1中作為反射率(無糊劑)記載。

＜黏著劑組成物的製造＞
另一方面，將含有丙烯酸丁酯100質量份、丙烯酸2-羥乙酯0.01質量份、及丙烯酸5份的單體混合物下料至具備冷卻管、氮導入管、溫度計及攪拌裝置的反應容器。而且，對於前述單體混合物100質量份，將2,2’-偶氮二異丁腈0.1質量份與乙酸乙酯100質量份一起下料，作為聚合引發劑，一邊緩和攪拌，一邊導入氮氣體，氮置換之後，將反應容器內的液溫保持於55℃附近進行8小時聚合反應，調製重量平均分子量(Mw)180萬，Mw/Mn=4.1的丙烯酸系聚合物的溶液(固態份濃度30質量%)。
對於取得的丙烯酸系聚合物溶液的固態份100質量份，將過氣化苯甲醯(日本油脂公司製、NYPER®BMT)調配0.3質量份，將異氰酸酯系交聯劑(TOSOH CORPORATION製、Coronate® L)調配1質量份，而取得黏著劑組成物。

＜金屬光澤物品的製造＞
對於上述取得的層疊體的金屬層側的面，以手推滾輪(Hand roller)來塗佈上述取得的黏著劑組成物而形成黏著劑層，藉此取得具有被著色的金屬光澤之金屬光澤物品。

＜加飾構件的製造＞
使用厚度1.2mm的玻璃，作為被黏著構件。
將上述取得的金屬光澤物品的黏著劑層側貼附於被黏著構件，取得加飾構件。

[實施例2~5]
如表1記載般，變更實施例1的光學調整層的厚度(nm)，取得加飾構件。

[實施例6及7]
除了在實施例1的光學調整層的形成時，將Si標靶安裝於交流濺射裝置，一邊導入Ar氣體與N₂ 氣體，一邊濺射，藉此在Al層上以表1記載的膜厚來形成SiN(光學調整層)以外是與實施例1同樣取得加飾構件。

[比較例1]
除了未設置實施例1的光學調整層以外是與實施例1同樣取得加飾構件。

[比較例2]
除了將實施例1的光學調整層從氧化鈮(Nb₂ O₅ )變更成氧化鋅(ZnO)、氧化矽(SiOx)及氧化鋁(Al₂ O₃ )的混合物(質量比，氧化鋅：氧化矽：氧化鋁=77：20：3)的燒結體，將濺射裝置變更成DC濺射裝置以外是與實施例1同樣取得加飾構件。

在以下的表1顯示評價結果。並且，將實施例5與比較例1的加飾構件的波長380nm~780nm的範圍的可視光線的波長與反射率(%)的關係顯示於圖6。而且，將實施例1~7、比較例1及2的加飾構件的a^* 值與b^* 值的關係顯示於圖7。

如由表1明示般，由於實施例1~7是包含折射率1.75以上的高折射率層，因此其CIE-Lab表色系的a^* 值及b^* 值的二次方和的平方根成為13~30，可取得被著色的金屬光澤物品及加飾構件。又，由於鋁層是包含被形成不連續的狀態的複數的部分12a，因此有關電磁波透過性可取得良好的結果。
另一方面，比較例1及2的金屬光澤物品及加飾構件是反射率的差小。並且，a^* 值及b^* 值的二次方和的平方根也小，著色成為不充分。

另外，有關在以上的實施例特別使用的鋁(Al)以外的金屬，鋅(Zn)、鉛(Pb)、銅(Cu)、銀(Ag)等的比較的融點低的金屬也可思考以同樣的手法來形成不連續構造。

本發明是不限於前述實施例，亦可在不脫離發明的主旨的範圍適當變更而具體化。

以上，說明有關本發明的理想的實施形態，但本發明是不限於上述的實施形態，可在不脫離本發明的範圍的範圍中，對上述的實施形態追加各種的變形及置換。
另外，本案是根據2018年4月23日申請的日本專利申請案(特願2018-082656)及2019年4月22日申請的日本專利申請案(特願2019-080625)者，其內容是在本案中作為參照而被援用。

[產業上的利用可能性]

本發明的金屬光澤物品是可使用於收發電磁波的裝置或物品及其零件等。例如，亦可利用在車輛用構造零件、車輛搭載用品、電子機器的框體、家電機器的框體、構造用零件、機械零件、各種的汽車用零件、電子機器用零件、傢具、廚房用品等的家居傾向用途、醫療機器、建築資材的零件、其他的構造用零件或外裝用零件等、被要求設計性與電磁波透過性的雙方的各種的用途。

1‧‧‧金屬光澤物品

2‧‧‧加飾構件

10‧‧‧基體

11‧‧‧含氧化銦層

12‧‧‧金屬層

12a‧‧‧部分

12b‧‧‧間隙

13‧‧‧光學調整層

14‧‧‧黏著劑層

15‧‧‧被黏著構件

圖1是本發明之一實施形態的電磁波透過性金屬光澤物品的概略剖面圖。

圖2是本發明之一實施形態的電磁波透過性金屬光澤物品的概略剖面圖。

圖3是表示本發明之一實施形態的電磁波透過性金屬光澤物品的表面的電子顯微鏡照片的圖。

圖4是本發明之一實施形態的加飾構件的概略剖面圖。

圖5是本發明之一實施形態的加飾構件的概略剖面圖。

圖6是表示實施例5與比較例1的加飾構件的波長380nm~780nm的範圍的可視光線的波長與反射率(%)的關係的圖。

圖7是表示實施例1~7、比較例1及2的加飾構件的a^* 值與b^* 值的關係的圖。

圖8是用以說明本發明之一實施形態的電磁波透過性金屬光澤物品的金屬層的膜厚的測定方法的圖。

圖9是表示本發明之一實施形態的金屬層的剖面的透過型電子顯微鏡照片(TEM畫像)的圖。

Claims

一種電磁波透過性金屬光澤物品，其特徵係具備：基體，被形成於前述基體上的金屬層，及至少1層的光學調整層，前述金屬層，係包括至少一部分處於互相不連續的狀態的複數的部分，前述光學調整層，係包括折射率1.75以上的高折射率層。
如申請專利範圍第1項之電磁波透過性金屬光澤物品，其中，前述光學調整層的厚度為10nm~1000nm。
如申請專利範圍第1或2項之電磁波透過性金屬光澤物品，其中，設有前述光學調整層的側的波長380nm~780nm的範圍的反射率的最大值與最小值的差為30%以上。
如申請專利範圍第1~3項中的任一項所記載之電磁波透過性金屬光澤物品，其中，在前述基體與前述金屬層之間更具備含氧化銦層。
如申請專利範圍第4項之電磁波透過性金屬光澤物品，其中，前述含氧化銦層係以連續狀態設置。
如申請專利範圍第4或5項之電磁波透過性金屬光澤物品，其中，前述含氧化銦層，係包含氧化銦(In₂ O₃ )、銦錫氧化物(ITO)、或銦鋅氧化物(IZO)的任一者。
如申請專利範圍第4~6項中的任一項所記載之電磁波透過性金屬光澤物品，其中，前述含氧化銦層的厚度為1nm~1000nm。
如申請專利範圍第1~7項中的任一項所記載之電磁波透過性金屬光澤物品，其中，前述金屬層的厚度為20nm~ 100nm。
如申請專利範圍第4~7項中的任一項所記載之電磁波透過性金屬光澤物品，其中，前述金屬層的厚度與前述含氧化銦層的厚度的比(前述金屬層的厚度/前述含氧化銦層的厚度)為0.02~100。
如申請專利範圍第1~9項中的任一項所記載之電磁波透過性金屬光澤物品，其中，薄膜電阻為100Ω/□以上。
如申請專利範圍第1~10項中的任一項所記載之電磁波透過性金屬光澤物品，其中，前述複數的部分係形成島狀。
如申請專利範圍第1~11項中的任一項所記載之電磁波透過性金屬光澤物品，其中，前述金屬層，係鋁(Al)、鋅(Zn)、鉛(Pb)、銅(Cu)、銀(Ag)、或該等的合金的任一者。
如申請專利範圍第1~12項中的任一項所記載之電磁波透過性金屬光澤物品，其中，前述基體，係基材薄膜、樹脂成型物基材、玻璃基材、或應賦予金屬光澤的物品的任一者。
如申請專利範圍第1~13項中的任一項所記載之電磁波透過性金屬光澤物品，其中，更具備由透明黏著劑所成的黏著劑層。
一種加飾構件，其特徵係具備：被黏著構件，及如申請專利範圍第14項記載的電磁波透過性金屬光澤物品，前述電磁波透過性金屬光澤物品係經由前述黏著劑層來貼附於前述被黏著構件。
如申請專利範圍第15項之加飾構件，其中，在前述被黏著構件側的反射光的CIE-Lab表色系中，a^* 值及b^* 值的二次方和的平方根為5.0以上。
如申請專利範圍第16項之加飾構件，其中，前述被黏著構件側的波長380nm~780nm的範圍的反射率的最大值與最小值的差為20%以上。