TW201802911A - 基板處理方法及基板處理裝置 - Google Patents

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Abstract

於將內側杯部(24)之上端配置於較外側杯部(25)之上端靠下方之外側杯對向狀態下，一面以藉由外側杯部(25)之內側面接取自上面(91)飛濺之液體之方式使基板(9)以較高之轉速旋轉，一面朝上面(91)上依序供給純水、混合液及有機溶劑。接著，於內側杯部(24)之內側面被配置於基板(9)之周圍之內側杯對向狀態下，朝上面(91)供給充填材溶液，於上面(91)上充填充填材溶液。藉此，防止充填材溶液與純水在內側杯部(24)內混合，進而防止充填材溶液之膠狀化等。藉由供給將有機溶劑與純水混合之混合液，抑制形成於上面(91)之圖案要素之倒塌。

Description

基板處理方法及基板處理裝置
本發明係關於一種基板處理方法及基板處理裝置。
習知，於半導體基板(以下，簡稱為「基板」)之製造步驟中，使用基板處理裝置對基板實施各種各樣之處理。例如，藉由對表面上形成有光阻之圖案之基板供給藥液，對基板之表面進行蝕刻等之處理。於供給藥液之後，還進行對基板供給純水以除去表面之藥液之沖洗處理、及使基板高速旋轉而除去表面之純水之乾燥處理。
於基板之表面形成有多數之微細圖案要素的情況下，若依序進行純水之沖洗處理及乾燥處理，則於乾燥途中，會於相鄰之2個圖案要素之間形成純水之液面。於該情況下，有可能因作用在圖案要素之純水之表面張力而造成圖案要素倒塌。因此，提出有一種方法，其藉由將充填材溶液充填於多數之圖案要素之間，且以乾式蝕刻等使固化之充填材料昇華，以防止在乾燥處理中之圖案要素之倒塌。
再者，於日本專利特開2014-72439號公報(文獻1)中，記載有以下之問題：當於沖洗處理之執行後，使純水滯留於基板之表面而形成積水(puddle)狀態之液膜，並以IPA(異丙醇)取代該液膜中含有之純水，而形成積水狀態之IPA之液膜時，在疏水性高 之基板或大徑之基板中，於純水液膜之形成中，會於液膜產生龜裂而使基板表面露出。此外，於文獻1中，揭示有一種在沖洗處理後，朝基板之表面供給純水與IPA之混合液之方法。於該方法中，因混合液具有較低之表面張力，可良好地擴散於基板之表面上，從而可以含水之狀態之液膜覆蓋基板之表面全域。
然而，於朝主表面上供給充填材溶液時，為了將充填材溶液充填於圖案要素之間，會將基板之轉速設定為較低。因此，於具有複數個杯部之基板處理裝置中，自主表面上溢出之充填材溶液，係藉由最內側之杯部接取。此外，根據充填材溶液之種類，充填材溶液因與純水混合而有可能變成膠狀。於該情況下，會將設置於內側杯部之排液管路堵塞，因此要求能抑制純水朝內側杯部內之流入，防止充填材溶液與純水混合。
另一方面，為了將充填材溶液適宜地充填於圖案要素之間的間隙內，較佳可於供給充填材溶液之前，在基板之主表面上形成IPA之液膜。例如，於進行了純水之沖洗處理後的基板之主表面上形成有較厚之純水之液膜的狀態下，藉由朝主表面上供給IPA，而形成IPA之液膜。然而，於純水之液膜之形成中，需要減小基板之轉速，因此純水會落下於內側杯部內。因此，為了防止充填材溶液與純水在內側杯部內混合，要求不用形成純水之液膜，而形成IPA之液膜。實際上若於純水之沖洗處理後，不形成純水之液膜，而直接將IPA供給於主表面上，則根據圖案要素之形狀或大小、配置等，確認圖案要素會發生倒塌。
此外，於吐出純水等之噴嘴與吐出IPA之噴嘴互不相同之基板處理裝置中，於純水之供給後形成有純水之液膜之狀態 下，需要將兩個噴嘴互換。然而，於為了防止充填材溶液與純水在內側杯部內混合而省去純水之液膜的形成之情況下，在交換兩個噴嘴之期間，基板之主表面會產生局部乾燥，進而恐有圖案要素倒塌之虞。
本發明係著眼於一種基板處理裝置之基板處理方法，該基板處理裝置，係具備圍繞在一主表面形成有圖案之基板的周圍之外側杯部、及配置於外側杯部之內側之內側杯部，且該基板處理方法之目的，在於防止充填材溶液與純水在內側杯部內混合，並抑制在充填材溶液之供給前之圖案要素的倒塌。
本發明之一基板處理方法，其包含以下之步驟：a)於將上述內側杯部之上端配置於較上述外側杯部之上端更靠下方之第1狀態下，朝藉由基板旋轉機構而旋轉之上述基板之朝向上方之上述主表面供給純水，並藉由上述外側杯部之內側面接取自上述主表面飛濺之上述純水之步驟；b)於上述第1狀態下，朝旋轉之上述基板之上述主表面供給將既定之有機溶劑與純水混合之混合液，並藉由上述外側杯部之上述內側面接取自上述主表面飛濺之上述混合液之步驟；c)於上述第1狀態下，朝旋轉之上述基板之上述主表面供給上述有機溶劑，並藉由上述外側杯部之上述內側面接取自上述主表面飛濺之上述有機溶劑之步驟；d)一面於上述主表面上保持覆蓋上述主表面之上述有機溶劑之液膜，一面藉由使上述內側杯部相對於上述基板相對地上昇而形成使上述內側杯部之內側面配置於上述基板之周圍之第2狀態之步驟；及e)於上述第2狀態下，藉由朝上述主表面供給比重較上述有機溶劑大之充填材溶液，而於上述主表面上充填上述充填材溶液之步驟。
根據本發明，可抑制純水朝內側杯部內之流入，防止充填材溶液與純水混合，並可抑制在充填材溶液之供給前之圖案要素之倒塌。
本發明之一較佳形態中，上述基板處理裝置更具備有與上述主表面對向之噴嘴，在上述a)步驟中自上述噴嘴吐出上述純水、在上述b)步驟中自上述噴嘴吐出上述混合液、及在上述c)步驟中自上述噴嘴吐出上述有機溶劑。
該情況下，較佳為，於上述b)步驟中逐漸升高上述混合液中之上述有機溶劑之濃度。
本發明之另一較佳形態中，自固定於較上述主表面更靠上方之既定位置之固定噴嘴，至少吐出上述混合液，與來自上述固定噴嘴之吐出動作同步，使被利用於上述a)步驟之上述純水之供給、或較上述a)步驟更靠前之處理液之供給的第1噴嘴，自與上述主表面對向之位置朝自上述主表面之上方遠離之待機位置移動，並且，使配置於自上述主表面之上方遠離之另一待機位置之第2噴嘴，朝與上述主表面對向之位置移動，於上述c)步驟中自上述第2噴嘴吐出上述有機溶劑。
本發明之另一基板處理方法，其包含以下之步驟：a)於將上述內側杯部之上端配置於較上述外側杯部之上端更靠下方之第1狀態下，自固定於較上述主表面更靠上方之既定位置之固定噴嘴，連續地朝藉由基板旋轉機構而旋轉之上述基板之朝向上方之上述主表面供給純水，並藉由上述外側杯部之內側面接取自上述主表面飛濺之上述純水之步驟；b)與上述a)步驟同步，使被利用於較上述a)步驟更靠前之處理液之供給的第1噴嘴，自與上述主表面對 向之位置朝自上述主表面之上方遠離之待機位置移動，並且，使配置於自上述主表面之上方遠離之另一待機位置之第2噴嘴，朝與上述主表面對向之位置移動之步驟；c)於上述第1狀態下，自上述第2噴嘴朝旋轉之上述基板之上述主表面供給既定之有機溶劑，並藉由上述外側杯部之上述內側面接取自上述主表面飛濺之上述有機溶劑之步驟；d)一面於上述主表面上保持覆蓋上述主表面之上述有機溶劑之液膜，一面藉由使上述內側杯部相對於上述基板相對地上昇而形成使上述內側杯部之內側面配置於上述基板之周圍之第2狀態之步驟；及e)於上述第2狀態下，藉由朝上述主表面供給比重較上述有機溶劑大之充填材溶液，而於上述主表面上充填上述充填材溶液之步驟。
本發明還著眼於一種基板處理裝置。基板處理裝置，其包含：基板保持部，其於使形成有圖案之基板之主表面朝向上方的狀態下保持上述基板；基板旋轉機構，其使上述基板保持部與上述基板一同旋轉；外側杯部，其圍繞於上述基板之周圍；內側杯部，其配置於上述外側杯部之內側；升降機構，其使上述內側杯部相對於上述基板相對地升降；純水供給部，其朝上述主表面供給純水；混合液供給部，其朝上述主表面供給將既定之有機溶劑與純水混合之混合液；有機溶劑供給部，其朝上述主表面供給上述有機溶劑；充填材溶液供給部，其朝上述主表面供給比重較上述有機溶劑大之充填材溶液；及控制部，其於將上述內側杯部之上端配置於較上述外側杯部之上端更靠下方之第1狀態下，一面藉由上述純水供給部、上述混合液供給部及上述有機溶劑供給部，朝藉由上述基板旋轉機構而旋轉之上述基板之上述主表面，依序供給上述純水、上述 混合液及上述有機溶劑，一面藉由上述外側杯部之內側面接取自上述主表面飛濺之液體，然後，一面於上述主表面上保持覆蓋上述主表面之上述有機溶劑之液膜，一面藉由上述升降機構使上述內側杯部相對於上述基板相對地上昇而形成使上述內側杯部之內側面配置於上述基板之周圍之第2狀態，於上述第2狀態下，藉由上述充填材溶液供給部朝上述主表面供給上述充填材溶液，而於上述主表面上充填上述充填材溶液。
上述之目的及其他目的、特徵、形式及長處，藉由參照所附圖式且以下進行之本發明的詳細說明，自可明瞭。
1、1a‧‧‧基板處理裝置
5‧‧‧艙體
9‧‧‧基板
10‧‧‧控制部
21‧‧‧旋轉馬達
22‧‧‧旋轉吸盤
23‧‧‧杯單元
24‧‧‧內側杯部
25‧‧‧外側杯部
26‧‧‧防濺部升降機構
31‧‧‧第1噴嘴
32‧‧‧第2噴嘴
32a‧‧‧第3噴嘴
33‧‧‧第1噴嘴移動機構
34‧‧‧第2噴嘴移動機構
34a‧‧‧第2‧第3噴嘴移動機構
35‧‧‧固定噴嘴
41‧‧‧藥液供給部
42‧‧‧純水供給部
43‧‧‧有機溶劑供給部
44‧‧‧充填材溶液供給部
45‧‧‧連接部
50‧‧‧封閉空間
51‧‧‧艙體底部
52‧‧‧艙體上底部
53‧‧‧艙體內側壁部
54‧‧‧艙體外側壁部
55‧‧‧艙體頂蓋部
91‧‧‧(基板之)上面
221‧‧‧軸
230‧‧‧取液部
231‧‧‧基部
232‧‧‧環狀底部
233‧‧‧內側周壁部
234‧‧‧外側周壁部
241‧‧‧內側防濺部
242‧‧‧卡合部
243‧‧‧內側排液管路
249‧‧‧上部
251‧‧‧外側防濺部
252‧‧‧卡合部
253‧‧‧外側排液管路
331‧‧‧臂
450‧‧‧開閉閥
451‧‧‧流量控制閥
452‧‧‧開閉閥
453‧‧‧流量控制閥
454‧‧‧開閉閥
459‧‧‧開閉閥
461‧‧‧開閉閥
471、472‧‧‧開閉閥
473‧‧‧開閉閥
475‧‧‧開閉閥
476‧‧‧開閉閥
541‧‧‧搬出入口
542‧‧‧蓋部
911‧‧‧液膜
J1‧‧‧中心軸
圖1為顯示基板處理裝置之構成之圖。
圖2為顯示基板之處理流程之圖。
圖3為顯示基板處理裝置之剖視圖。
圖4為顯示基板處理裝置之剖視圖。
圖5為用以說明比較例之處理之圖。
圖6為用以說明比較例之處理之圖。
圖7為顯示基板處理裝置之另一例之圖。
圖8為顯示基板之處理之一部分流程之圖。
圖9為顯示基板處理裝置之剖視圖。
圖10為顯示基板處理裝置之剖視圖。
圖11為顯示混合液中之有機溶劑之濃度、及混合液與純水之溶解性的關係之圖。
圖12為顯示混合液中之有機溶劑之濃度、及混合液與純水之 溶解性的關係之圖。
圖1為顯示本發明之一實施形態的基板處理裝置1之構成之圖。基板處理裝置1之各構成要素，係藉由控制部10所控制。基板處理裝置1具備旋轉吸盤22、旋轉馬達21、杯單元23及艙體5。圓板狀之基板9，係載置於基板保持部即旋轉吸盤22上。旋轉吸盤22係藉由吸引吸附基板9之下面，以水平之姿勢保持基板9。以下之說明中，將朝向上方之基板9之主表面91稱為「上面91」。於上面91形成有既定之圖案，該圖案包含例如直立之多個圖案要素。
於旋轉吸盤22連接有朝上下方向(鉛垂方向)延伸之軸221。軸221係垂直於基板9之上面91，且軸221之中心軸J1，係通過基板9之中心。基板旋轉機構即旋轉馬達21，係使軸221旋轉。藉此，旋轉吸盤22及基板9，以朝向上下方向之中心軸J1為中心進行旋轉。
杯單元23具備取液部230、內側防濺部241、及外側防濺部251。取液部230具備基部231、環狀底部232、內側周壁部233、及外側周壁部234。基部231係以中心軸J1為中心之筒狀。基部231係嵌入後述之艙體內側壁部53，而被安裝於艙體內側壁部53之外側面。環狀底部232係以中心軸J1為中心之圓環板狀，且自基部231之下端部朝外側伸展。外側周壁部234及內側周壁部233，皆為以中心軸J1為中心之筒狀。外側周壁部234係自環狀底部232之外周部朝上方突出，內側周壁部233係於環狀底部232上且在基部231與外側周壁部234之間朝上方突出。基部231、環狀 底部232、內側周壁部233及外側周壁部234，較佳可作為一個構件而一體形成。
內側防濺部241及外側防濺部251，皆為以中心軸J1為中心之大致圓筒狀之構件，且圍繞於旋轉吸盤22之周圍。內側防濺部241，係配置於外側防濺部251與旋轉吸盤22之間。於內側防濺部241之下部設置有在與內側周壁部233之間形成微小間隙的卡合部242。卡合部242與內側周壁部233，係被維持非接觸狀態。內側防濺部241，係藉由防濺部升降機構26而可在上下方向移動。於外側防濺部251之下部也設置有卡合部252，在卡合部252與外側周壁部234之間形成有微小之間隙。卡合部252與外側周壁部234，係被維持非接觸狀態。外側防濺部251，也藉由防濺部升降機構26而可與內側防濺部241分別在上下方向移動。
於外側防濺部251與基板9在水平方向直接對向之狀態下，若朝旋轉之基板9之上面91供給處理液，則自該上面91飛濺之該處理液，藉由外側防濺部251所接取。該處理液係於環狀底部232，貯留在內側周壁部233與外側周壁部234之間的區域，且經由設置於該區域之外側排液管路253朝外部排出。於杯單元23中，藉由包含外側周壁部234之取液部230之一部分、及外側防濺部251，構成圍繞在基板9之周圍之外側杯部25。
此外，於內側防濺部241與基板9在水平方向直接對向之狀態下(參照後述之圖4)，若朝旋轉之基板9之上面91供給處理液，則自該上面91飛濺之該處理液，藉由內側防濺部241所接取。該處理液係於環狀底部232，貯留在基部231與內側周壁部233之間的區域，且經由設置於該區域之內側排液管路243朝外部排 出。於杯單元23中，藉由包含內側周壁部233之取液部230之一部分、及內側防濺部241，構成配置於外側杯部25之內側之內側杯部24。內側杯部24及外側杯部25，也可包含其他之構成要素。於基板處理裝置1中，也可設置包含內側杯部24及外側杯部25之3個以上之杯部。
艙體5具備艙體底部51、艙體上底部52、艙體內側壁部53、艙體外側壁部54、及艙體頂蓋部55。艙體底部51係為板狀，且覆蓋旋轉馬達21及杯單元23之下方。艙體上底部52，係以中心軸J1為中心之大致圓環板狀。艙體上底部52，係於艙體底部51之上方，覆蓋旋轉馬達21之上方，並覆蓋旋轉吸盤22之下方。艙體內側壁部53係以中心軸J1為中心之大致圓筒狀。艙體內側壁部53，係自艙體上底部52之外周部朝下方延伸至艙體底部51。艙體內側壁部53，係位於杯單元23之徑向內側。
艙體外側壁部54係大致筒狀，且位於杯單元23之徑向外側。艙體外側壁部54，係自艙體底部51之外周部朝上方延伸至艙體頂蓋部55之外周部。艙體頂蓋部55係為板狀，且覆蓋杯單元23及旋轉吸盤22之上方。於艙體外側壁部54設置有用以將基板9搬入及搬出艙體5內之搬出入口541。搬出入口541係藉由蓋部542而被封閉，艙體5之內部空間成為封閉空間50。
基板處理裝置1還具備第1噴嘴31、第2噴嘴32、第1噴嘴移動機構33、第2噴嘴移動機構34、藥液供給部41、純水供給部42、有機溶劑供給部43、及充填材溶液供給部44。第1噴嘴31例如為朝上下方向延伸之直管式噴嘴，且被安裝於第1噴嘴移動機構33之臂331。第1噴嘴移動機構33，藉由使臂331以 平行於中心軸J1之軸為中心進行轉動，選擇性地將第1噴嘴31配置於與基板9之上面91對向之對向位置、及自上面91之上方遠離之待機位置。配置於對向位置之第1噴嘴31，係與上面91之中央部對向。待機位置係於水平方向上自基板9分離之位置。第1噴嘴移動機構33，也可於上下方向升降臂331。第2噴嘴移動機構34，係與第1噴嘴移動機構33相同之構造，且也可藉由第2噴嘴移動機構34，選擇性地將第2噴嘴32配置於與基板9之上面91對向之對向位置、及自上面91之上方遠離之另一待機位置。
藥液供給部41，係經由開閉閥450而連接於連接部45。純水供給部42，係經由流量控制閥451及開閉閥452而連接於連接部45，有機溶劑供給部43，係經由流量控制閥453及開閉閥454而連接於連接部45。也可於藥液供給部41與連接部45之間設置流量控制閥。連接部45係經由開閉閥459而連接於第1噴嘴31。例如，藉由連接部45及靠近連接部45而設置之複數個開閉閥450、452、454、459，構成一個多通道閥裝置(混合閥)。充填材溶液供給部44，係經由開閉閥461而連接於第2噴嘴32。藉由藥液供給部41、純水供給部42、有機溶劑供給部43及充填材溶液供給部44，分別朝基板9之上面91供給處理液即藥液、純水、有機溶劑及充填材溶液。
圖2為顯示基板處理裝置1之基板9之處理流程之圖。首先，藉由外部之搬送機構將未處理之基板9經由搬出入口541搬入艙體5內，且以旋轉吸盤22進行保持(步驟S11)。於基板9之搬入時，藉由防濺部升降機構26使內側防濺部241及外側防濺部251下降，防止搬入之基板9接觸於兩者(於後述之基板9之搬出中 也相同)。搬送機構朝艙體5外移動之後，藉由蓋部542將搬出入口541封閉。
接著，外側防濺部251上昇至圖1所示之位置，將外側防濺部251之上端配置於較基板9靠上方。此外，內側防濺部241之上端，係位於較基板9靠下方。藉此，形成將內側杯部24之上端配置於較外側杯部25之上端靠下方之外側杯對向狀態(步驟S12)。於外側杯對向狀態下，外側防濺部251與基板9在水平方向直接對向。
藉由第1噴嘴移動機構33，將第1噴嘴31配置於與基板9之上面91之中央部對向之對向位置，且藉由旋轉馬達21以既定之轉速(旋轉速度)開始基板9之旋轉。然後，藉由開啟開閉閥450，朝連接部45之內部空間供給藥液，且藉由開啟開閉閥459而使藥液經由第1噴嘴31連續地供給於上面91(步驟S13)。上面91上之藥液，藉由基板9之旋轉而朝外緣部擴散，如圖3中粗線所示，將藥液供給於上面91整體。此外，自外緣部飛濺之藥液，藉由外側杯部25之內側面接取而被回收。藥液例如為包含稀釋氫氟酸(DHF)或氨水之洗淨液。藥液也可為被利用於基板9上之氧化膜之除去或顯影、或蝕刻等洗淨以外之處理者。藥液之供給繼續既定時間後，藉由關閉開閉閥450而被停止。於藥液之處理中，第1噴嘴31也可藉由圖1之第1噴嘴移動機構33而於水平方向擺動。
若完成藥液之處理後，藉由開啟開閉閥452，朝連接部45之內部空間供給沖洗液即純水，純水經由第1噴嘴31被連續地供給於上面91(步驟S14)。藉此，進行藉由純水沖洗上面91上之藥液之沖洗處理。於沖洗處理中，上面91整體藉由純水所覆蓋。 於純水之供給中，仍藉由旋轉馬達21以較高之轉速繼續基板9之旋轉(於後述之混合液及有機溶劑之供給時也相同)。此外，維持外側杯對向狀態，自基板9飛濺之純水，藉由外側杯部25之內側面接取後，被排出於外部。
若純水之供給被繼續既定時間，則維持開啟開閉閥452之狀態不變，將開閉閥454開啟。藉此，有機溶劑也與純水一同被供給於連接部45之內部空間，且於連接部45中生成將有機溶劑與純水混合之混合液(稀釋有機溶劑)。有機溶劑例如為IPA(異丙醇)、甲醇、乙醇、丙酮等，且表面張力較純水低。本實施形態中，作為有機溶劑，係利用IPA。
混合液經由第1噴嘴31被連續地供給於上面91，且自基板9飛濺之混合液，藉由外側杯部25之內側面所接取(步驟S15)。此時，控制部10藉由控制連接於有機溶劑供給部43之流量控制閥453之開度、及連接於純水供給部42之流量控制閥451之開度，調整有機溶劑與純水之混合比、即混合液中之有機溶劑之濃度。於本實施形態中，自有機溶劑供給部43朝連接部45之有機溶劑之供給流量，係被逐漸(階段性地)增大。此外，自純水供給部42朝連接部45之純水之供給流量，係被逐漸降低。因此，於步驟S15中，供給於上面91之混合液之有機溶劑之濃度，係自0%左右逐漸升高至100%左右。再者，也可於第1噴嘴31與連接部45之間設置管路混合器(In-Line mixer)等。
若自純水供給部42朝連接部45供給之純水的供給流量變為0，而變得無朝連接部45之純水之供給，則僅有機溶劑(純粹之有機溶劑)經由第1噴嘴31被連續地供給於上面91(步驟 S16)。藉此，上面91整體全部藉由有機溶劑覆蓋。自基板9飛濺之有機溶劑，藉由外側杯部25之內側面所接取。
若自僅為有機溶劑之供給開始經過既定時間，則使基板9之轉速降低、或者停止基板9之旋轉。此外，有機溶劑之供給也藉由流量控制閥453而被停止。藉此，形成有覆蓋上面91整體之較厚之有機溶劑之液膜。液膜係覆蓋基板9之上面91整體之連續的層、即所謂積水狀之液膜。
此外，藉由防濺部升降機構26使內側防濺部241自圖3所示之位置上昇至圖4所示之位置，以使外側防濺部251之上端、及內側防濺部241之上端兩者位於較基板9靠上方。藉此，形成將內側杯部24之內側面配置於基板9之周圍的內側杯對向狀態(步驟S17)。於內側杯對向狀態下，內側防濺部241與基板9在水平方向直接對向。
位於對向位置之第1噴嘴31，藉由第1噴嘴移動機構33朝自上面91之上方遠離之待機位置移動。此外，位於另一待機位置之第2噴嘴32，藉由第2噴嘴移動機構34朝與上面91之中央部對向之對向位置移動。於內側防濺部241上昇之期間、及交換第1噴嘴31與第2噴嘴32之期間，因於上面91上保持有有機溶劑之液膜，因此上面91不會乾燥。
接著，增大基板9之轉速，並藉由充填材溶液供給部44且經由第2噴嘴32朝上面91之中央部供給既定量之充填材溶液(步驟S18)。充填材溶液，例如包含丙烯酸樹脂等之聚合物。作為充填材溶液之溶媒，例示有乙醇等。充填材料係相對於該溶媒具有溶解性，例如，藉由加熱至既定溫度以上會產生交聯反應。
於完成充填材溶液之供給後，仍繼續既定時間基板9之旋轉。藉此，上面91上之充填材溶液自中央部朝外周部擴散，於上面91上之有機溶劑之液膜上形成充填材溶液之均勻之液層(圖4中，以粗線顯示此等液層)。於基板處理裝置1中，形成內側杯對向狀態，且自基板9飛濺之充填材溶液，係藉由內側杯部24之內側面所接取。此外，藉由充填材溶液之比重較有機溶劑之比重大，於上面91上將充填材溶液之液層與有機溶劑之液層互換。藉此，充填材溶液還進入相互鄰接之圖案要素之間(微小之間隙)，進而將充填材溶液充填於上面91上。再者，充填材溶液之供給時之基板9的轉速，例如較上述藥液、純水及有機溶劑之連續供給時之轉速小。也可於停止基板9之旋轉之狀態下，朝上面91供給充填材溶液，然後開始基板9之旋轉。
表面之有機溶劑之液層，藉由持續基板9之旋轉而被除去(spin-off)。於基板處理裝置1中，例如，也可在與基板9之上面91或下面之外緣部對向之位置設置輔助噴嘴，藉由自輔助噴嘴吐出有機溶劑，除去附著於基板9之外緣部之充填材溶液(邊緣沖洗)。外緣部之有機溶劑，係藉由基板9之旋轉而被除去(spin dry)。
若基板9之旋轉停止，則藉由外部之搬送機構，且經由圖1之搬出入口541將基板9搬出至艙體5外(步驟S19)。基板9藉由外部之熱板烘烤，而被除去充填材溶液之液層中之溶媒成分，並將充填材料硬化(固化)。亦即，於相鄰之圖案要素之間充填有固化之充填材料。然後，將基板9朝乾式蝕刻裝置搬送，藉由乾式蝕刻除去充填材料。
此時，由於介入相鄰之圖案要素之間的介入物(充填 材料)係固體，因此可於介入物之表面張力不會作用於圖案要素之狀態下除去充填材料。沖洗處理之後之上述一系列的處理，可視作附著於上面91之純水(沖洗液)之乾燥處理，藉由該乾燥處理，防止因乾燥途中之純水之表面張力而引起之圖案要素之變形。充填材料之除去，也可藉由不使用液體之其他方法進行。例如，根據充填材料之種類，藉由於減壓狀態下將充填材料加熱，而進行利用充填材料之昇華之除去。
在此，對在純水之沖洗處理後，形成純水之液膜(亦即，進行純水積水)之比較例的處理進行說明。於比較例之處理中，藉由純水對基板9之上面91進行沖洗處理之後，將基板9之轉速及純水之供給流量減小，如圖5所示，於上面91上形成有較厚之純水之液膜911。此時，自上面91溢出之純水，落下於內側杯部24內。此外，純水之液膜911之形成，係自沖洗處理起被連續地進行，因此，基板9之轉速，係於大量之純水存在於上面91上之狀態下被降低。因此，純水有時也會附著於內側防濺部241之內側面之上部249。接著，朝上面91上供給有機溶劑，形成有機溶劑之液膜。此時，有機溶劑以進入純水之液膜911與基板9之上面91之間的方式擴散於上面91整體。於比較例之處理中，不進行混合液之供給。有機溶劑之供給後，如圖6所示，形成使內側杯部24之內側面配置於基板9之周圍之內側杯對向狀態。然後，將充填材溶液供給於上面91上。
於比較例之處理中，於純水之液膜911之形成時落下於內側杯部24內之純水，係附著於內側杯部24之內側面等，且充填材溶液與該純水混合。因此，根據充填材溶液之種類，充填材溶 液有可能變成膠狀，而將設置於內側杯部24之內側排液管路243(參照圖1)堵塞。此外，附著於內側防濺部241之內側面的上部249之純水，也有可能落下於充填有充填材溶液之上面91上。
此外，若假設其他之比較例的處理、即在圖2中將朝基板9供給混合液之步驟S15省去之處理，則於該其他之比較例之處理中，上面91上之圖案要素有可能會因有機溶劑之供給而倒塌。圖案要素倒塌之原因，雖不明確，但作為其中之一個原因，可列舉會產生僅極少地存在純水之局部區域之情形(亦即，可能對圖案要素產生表面張力之影響之僅存在極少之純水的區域，以下表現為「局部之乾燥」)。例如，供給於上面91之中央部之有機溶劑，係以將上面91上之純水(因基板9之高速旋轉而變為薄層)朝外側擠出之方式擴散、亦即有機溶劑係以有機溶劑與純水之界面自中央部附近朝外緣部移動之方式在上面91上擴散。此時起因於有機溶劑與純水之低溶解性(為兩者之混合容易度，也可視作親和性)、或有機溶劑與純水之表面張力之差，可能於兩者之界面產生上面91之局部之乾燥。若產生局部之乾燥，則圖案要素會因作用於圖案要素之表面張力之影響而倒塌。
相對於此，於圖1之基板處理裝置1中，於形成外側杯對向狀態之後，一面以藉由外側杯部25之內側面接取自上面91飛濺之液體之方式使基板9以較高之轉速旋轉，一面依序朝基板9之上面91上供給純水、混合液及有機溶劑。然後，於內側杯對向狀態下，朝上面91上供給充填材溶液，進而於上面91上充填充填材溶液。藉由以上之處理，可抑制純水之朝內側杯部24內之流入，防止(或抑制)充填材溶液與純水混合。此外，將與純水之溶解性較 有機溶劑高、或與純水之表面張力之差較有機溶劑小之混合液，供給於施加有純水之上面91。藉此，不容易在混合液與純水之界面產生上面91之局部之乾燥。其結果，可一面省去純水之液膜911之形成處理，一面抑制充填材溶液之供給前之圖案要素之倒塌。並且，於將有機溶劑之液膜形成在上面91上之狀態下，朝上面91供給充填材溶液，可適宜地將充填材溶液充填於圖案要素間之間隙內。
再者，雖於內側防濺部241內存在有純粹之有機溶劑，但有機溶劑與充填材溶液混合之情況並不會造成問題。此外，由於步驟S16中之朝基板9上之有機溶劑之供給量少，因此有機溶劑不易附著於內側防濺部241之內側面之上部249(參照圖5)。因此，還可防止附著於該上部249之液體之朝上面91之落下。
於基板處理裝置1中，於朝上面91上供給混合液時，混合液中之有機溶劑之濃度被逐漸升高。藉此，可確保存在於上面91上之液體(純水或濃度低之混合液)與混合液之間的一定之溶解性，更確實地抑制上面91之局部之乾燥，並且可於上面91上形成有機溶劑之液膜。此外，於步驟S14~S16中，藉由自相同之第1噴嘴31依序吐出純水、混合液及有機溶劑，可簡化與此等之處理液之吐出相關之處理。
圖7為顯示基板處理裝置之另一例之圖。於圖7之基板處理裝置1a中，除了第1及第2噴嘴31、32外，還設置有第3噴嘴32a、及固定噴嘴35。此外，藥液供給部41、純水供給部42、有機溶劑供給部43及充填材溶液供給部44、與第1噴嘴31、第2噴嘴32、第3噴嘴32a及固定噴嘴35之連接關係，係與圖1之基 板處理裝置1不同。其他之構成，係與圖1之基板處理裝置1相同，且對相同之構成賦予相同之符號。
固定噴嘴35係於較基板9之上面91靠上方(圖7中，較外側杯部25之上端靠上方)之既定位置上，被固定於艙體5。此外，於沿中心軸J1觀察之情況下，固定噴嘴35係配置在不與基板9重疊之位置。純水供給部42，係經由流量控制閥451及開閉閥452而連接於連接部45，有機溶劑供給部43，係經由流量控制閥453及開閉閥454而連接於連接部45。連接部45係經由開閉閥459而連接於固定噴嘴35。純水供給部42還經由開閉閥471、472而被連接於第1噴嘴31。有機溶劑供給部43還經由開閉閥473而被連接於第2噴嘴32。藥液供給部41係經由開閉閥475、472而連接於第1噴嘴31。充填材溶液供給部44係經由開閉閥476而連接於第3噴嘴32a。第2噴嘴32及第3噴嘴32a，係藉由第2‧第3噴嘴移動機構34a而進行移動。
圖8為顯示基板處理裝置1a之基板9之處理之一部分流程之圖，且顯示在圖2中之步驟S13與步驟S16之間進行的處理。於圖7之基板處理裝置1a中，藉由在外側杯對向狀態下開啟開閉閥475、472，自配置在與基板9之上面91對向之對向位置的第1噴嘴31連續地吐出藥液。來自第1噴嘴31之藥液，被供給於旋轉之基板9之上面91，且自上面91飛濺之藥液，藉由外側杯部25之內側面所接取(圖2：步驟S13)。若將開閉閥475關閉而完成藥液之供給，則藉由開啟開閉閥471，經由第1噴嘴31將純水連續地供給至上面91，進而藉由純水對上面91進行沖洗處理(圖8：步驟S14)。此外，藉由開啟開閉閥452、459，如圖9所示，經由固 定噴嘴35朝上面91供給純水。
若來自固定噴嘴35之純水之供給開始後，則停止來自第1噴嘴31之純水之供給。接著，藉由圖7之第1噴嘴移動機構33，使第1噴嘴31在水平方向上朝自基板9分離之待機位置移動(步驟S21)。此外，配置於另一待機位置之第2噴嘴32，藉由第2‧第3噴嘴移動機構34a，朝與上面91之中央部對向之對向位置移動(步驟S22)。再者，也可於完成來自第1噴嘴31之藥液之供給後，僅自固定噴嘴35朝上面91供給純水。
與上述步驟S21、S22中之第1及第2噴嘴31、32之移動同步，繼續來自固定噴嘴35之處理液之供給。具體而言，若來自固定噴嘴35之純水之供給被繼續既定時間，則維持開啟連接於純水供給部42之開閉閥452之狀態不變，將連接於有機溶劑供給部43之開閉閥454開啟。藉此，還朝連接部45之內部空間供給有機溶劑，生成將有機溶劑與純水混合之混合液。混合液經由固定噴嘴35被連續地供給於上面91，且自基板9飛濺之混合液，藉由外側杯部25之內側面而被接取(步驟S15)。此時，藉由控制流量控制閥451、453之開度，使混合液中之有機溶劑之濃度自0%左右逐漸升高至100%左右。
若混合液之有機溶劑之濃度變為0%左右，則藉由開啟開閉閥473，如圖10所示，經由第2噴嘴32連續地朝上面91供給有機溶劑(純粹之有機溶劑)(圖2：步驟S16)。若來自第2噴嘴32之有機溶劑之供給開始後，則停止來自固定噴嘴35之混合液之供給。自旋轉之基板9飛濺之有機溶劑，藉由外側杯部25之內側面所接取。
若自有機溶劑之供給開始經過既定時間，則降低基板9之轉速、或停止基板9之旋轉。此外，還停止有機溶劑之供給。藉此，形成覆蓋上面91整體之較厚之有機溶劑之液膜。於保持上面91上之有機溶劑之液膜之狀態下，藉由圖7之防濺部升降機構26使內側防濺部241上昇，而形成內側杯對向狀態(步驟S17)。接著，藉由開啟開閉閥476，自充填材溶液供給部44且經由第3噴嘴32a朝上面91之中央部供給既定量之充填材溶液(步驟S18)。然後，停止基板9之旋轉，藉由外部之搬送機構，將基板9搬出至艙體5外(步驟S19)。
如以上說明，於圖7之基板處理裝置1a中，吐出純水或包含純水之液體之噴嘴(第1噴嘴31及固定噴嘴35)、與吐出有機溶劑之第2噴嘴32，係被分別設置，且自第2噴嘴32不會吐出包含純水之液體。此外，於此種之構成中，與來自固定噴嘴35之純水及混合液之吐出動作同步，使被利用於朝上面91供給藥液之第1噴嘴31自對向位置朝待機位置移動，並且，使配置於另一待機位置之第2噴嘴32朝對向位置移動。然後，接續來自固定噴嘴35之混合液之吐出，自第2噴嘴32吐出純粹之有機溶劑。藉由以上之處理，於第1噴嘴31與第2噴嘴32之交換時，可防止基板9之上面91乾燥。此外，藉由混合液之供給，不容易產生上面91之局部之乾燥，可抑制充填材溶液之供給前之圖案要素之倒塌。並且，可省去純水之液膜911之形成，抑制純水之朝內側杯部24內之流入，進而可防止充填材溶液與純水混合。
於圖7之基板處理裝置1a中，也可自固定噴嘴35僅吐出混合液。該情況下，自第1噴嘴31朝基板9供給純水(步驟 S14)，接著自固定噴嘴35朝基板9供給混合液(步驟S15)。被利用於純水之供給之第1噴嘴31的朝待機位置之移動(步驟S21)、及利用於有機溶劑之供給之第2噴嘴32的朝對向位置之移動(步驟S22)，係與步驟S15中之來自固定噴嘴35之混合液之吐出動作同步進行。如上述，藉由自固定噴嘴35至少吐出混合液，於第1噴嘴31與第2噴嘴32之交換時，可防止基板9之上面91乾燥。
於圖7之基板處理裝置1a中，於接續沖洗處理而供給有機溶劑不會成為問題之情況下，也可省去圖8中之步驟S15，而自固定噴嘴35僅吐出純水。
具體而言，若完成自第1噴嘴31朝上面91之藥液之供給(圖2：步驟S13)，且開始來自固定噴嘴35之純水之供給(圖8：步驟S14)，則第1噴嘴31藉由第1噴嘴移動機構33朝待機位置移動(步驟S21)。接著，配置於另一待機位置之第2噴嘴32，藉由第2‧第3噴嘴移動機構34a而朝對向位置移動(步驟S22)。然後，若來自固定噴嘴35之純水之供給停止後，則經由第2噴嘴32朝上面91連續地供給有機溶劑(純粹之有機溶劑)(圖2：步驟S16)。於基板處理裝置1a中，於進行步驟S13、S14、S16之期間，維持外側杯對向狀態，自旋轉之基板9飛濺之藥液、純水及有機溶劑，藉由外側杯部25之內側面接取。後續之處理係與上述相同。
於自固定噴嘴35僅吐出純水之基板處理裝置1a中，與自固定噴嘴35朝上面91連續地供給純水之處理同步，使利用於藥液之供給之第1噴嘴31自對向位置朝待機位置移動，並且，使配置於另一待機位置之第2噴嘴32朝對向位置移動。然後，大致接續來自固定噴嘴35之純水之吐出，自第2噴嘴32吐出純粹之有 機溶劑。如此，於第1噴嘴31與第2噴嘴32之交換時，藉由自固定噴嘴35供給純水，可防止基板9之上面91乾燥。其結果，可抑制充填材溶液之供給前之圖案要素之倒塌。此外，與上述例子相同，自旋轉之基板9之上面91飛濺之純水，藉由外側杯部25之內側面而被接取。藉此，可抑制純水朝內側杯部24內之流入，防止充填材溶液與純水混合。
此外，於自固定噴嘴35僅吐出純水之情況下，也可於停止來自固定噴嘴35之純水之吐出之前，開始自配置於對向位置之第2噴嘴32吐出純粹之有機溶劑。換言之，局部同步地進行朝基板9之上面91之純水之供給、與朝上面91之有機溶劑之供給。該情況下，於基板9上實質上會生成混合液、亦即朝基板9供給混合液。然後，停止來自固定噴嘴35之純水之吐出，朝基板9僅供給純粹之有機溶劑。該情況下，也可抑制因上面91之局部之乾燥而引起之圖案要素之倒塌。
於上述基板處理裝置1、1a中，可進行各種各樣之變形。
於基板處理裝置1、1a中，雖然將純水供給部42、有機溶劑供給部43及連接部45作為主要之構成要素，構成將混合液供給於上面91之混合液供給部，但混合液供給部，也可與純水供給部42及有機溶劑供給部43獨立而實現。
混合液中之有機溶劑之濃度也可恆定。圖11及圖12為顯示調查混合液中之有機溶劑(在此為IPA)之濃度、及混合液與純水之溶解性的關係之實驗結果之圖。於本實驗中，準備藉由封閉構件將一端封閉之直徑為19mm之管，且於將15cc之純水蓄積於 朝上下方向延伸之該管內之狀態下，沿該管之內面注入2cc之IPA濃度為10vol%(體積百分比濃度)、20vol%、50vol%、100vol%之混合液(IPA濃度為100vol%之情況，為純粹之有機溶劑)。於封閉構件設置有直徑3mm之取樣管，且於自混合液之注入算起經過0.5分鐘、1分鐘、2分鐘之後，藉由取樣管抽取混合液與純水之界面附近之微量之液體，測定該液體之IPA濃度。圖11及圖12顯示在自混合液之注入前的純水之液面之位置(相當於混合液與純水之界面)朝封閉構件側分別為5mm及10mm之位置抽取之液體之IPA濃度。
由圖11及圖12可知，於IPA濃度為100vol%之情況(圖11及圖12中，標示為「IPA 100%」。以下相同)，可以說界面附近之IPA濃度之上昇小，且有機溶劑之對純水之溶解性低。另一方面，於IPA濃度為10vol%、20vol%、50vol%之情況下，可以說界面附近之IPA濃度之上昇，較100vol%之情況大，且混合液之對純水之溶解性高。藉此，於將混合液之有機溶劑之濃度設為恆定之情況下，為了更確實地抑制局部之乾燥，較佳為該濃度為50vol%以下且10vol%以上。此外，根據有效率地使用有機溶劑之觀點，該濃度較佳為30%以下，更佳為20%以下。
於基板處理裝置1、1a中，也可藉由設置升降旋轉吸盤22之升降機構，於外側杯對向狀態下，藉由使旋轉吸盤22及基板9(例如，參照圖1)下降、亦即使內側杯部24相對於基板9上昇，而形成內側杯對向狀態。如此，基板處理裝置1、1a之升降機構，只要使內側杯部24相對於基板9升降即可。
基板9可以各種之形式保持。例如，也可藉由把持基 板9之外緣部之基板保持部，於使形成有圖案之主表面朝向上方之狀態下保持基板9。
以基板處理裝置1、1a處理之基板，不限於半導體基板，也可為玻璃基板或其他之基板。
上述實施形態及各變形例之構成，只要不相互矛盾，也可適宜組合。
雖然對發明詳細地進行了描述及說明，但已述之說明僅為例示而非用以限制。因此，只要不超出本發明之範圍，即可實施多數之變形或形態。
1‧‧‧基板處理裝置
5‧‧‧艙體
9‧‧‧基板
10‧‧‧控制部
21‧‧‧旋轉馬達
22‧‧‧旋轉吸盤
23‧‧‧杯單元
24‧‧‧內側杯部
25‧‧‧外側杯部
26‧‧‧防濺部升降機構
31‧‧‧第1噴嘴
32‧‧‧第2噴嘴
33‧‧‧第1噴嘴移動機構
34‧‧‧第2噴嘴移動機構
41‧‧‧藥液供給部
42‧‧‧純水供給部
43‧‧‧有機溶劑供給部
44‧‧‧充填材溶液供給部
45‧‧‧連接部
50‧‧‧封閉空間
51‧‧‧艙體底部
52‧‧‧艙體上底部
53‧‧‧艙體內側壁部
54‧‧‧艙體外側壁部
55‧‧‧艙體頂蓋部
91‧‧‧(基板之)上面
221‧‧‧軸
230‧‧‧取液部
231‧‧‧基部
232‧‧‧環狀底部
233‧‧‧內側周壁部
234‧‧‧外側周壁部
241‧‧‧內側防濺部
242‧‧‧卡合部
243‧‧‧內側排液管路
251‧‧‧外側防濺部
252‧‧‧卡合部
253‧‧‧外側排液管路
331‧‧‧臂
450‧‧‧開閉閥
451‧‧‧流量控制閥
452‧‧‧開閉閥
453‧‧‧流量控制閥
454‧‧‧開閉閥
459‧‧‧開閉閥
461‧‧‧開閉閥
541‧‧‧搬出入口
542‧‧‧蓋部
J1‧‧‧中心軸

Claims (9)

  1. 一種基板處理裝置之基板處理方法，該基板處理裝置具備：外側杯部，其圍繞在一主表面形成有圖案之基板的周圍；及內側杯部，其配置於上述外側杯部之內側；該基板處理方法具備以下之步驟：a)於將上述內側杯部之上端配置於較上述外側杯部之上端更靠下方之第1狀態下，朝藉由基板旋轉機構而旋轉之上述基板之朝向上方之上述主表面供給純水，並藉由上述外側杯部之內側面接取自上述主表面飛濺之上述純水之步驟；b)於上述第1狀態下，朝旋轉之上述基板之上述主表面供給將既定之有機溶劑與純水混合之混合液，並藉由上述外側杯部之上述內側面接取自上述主表面飛濺之上述混合液之步驟；c)於上述第1狀態下，朝旋轉之上述基板之上述主表面供給上述有機溶劑，並藉由上述外側杯部之上述內側面接取自上述主表面飛濺之上述有機溶劑之步驟；d)一面於上述主表面上保持覆蓋上述主表面之上述有機溶劑之液膜，一面藉由使上述內側杯部相對於上述基板相對地上昇而形成使上述內側杯部之內側面配置於上述基板之周圍之第2狀態之步驟；及e)於上述第2狀態下，藉由朝上述主表面供給比重較上述有機溶劑大之充填材溶液，而於上述主表面上充填上述充填材溶液之步驟。
  2. 如請求項1之基板處理方法，其中，上述基板處理裝置更具備有與上述主表面對向之噴嘴， 在上述a)步驟中自上述噴嘴吐出上述純水、在上述b)步驟中自上述噴嘴吐出上述混合液、及在上述c)步驟中自上述噴嘴吐出上述有機溶劑。
  3. 如請求項2之基板處理方法，其中，於上述b)步驟中逐漸升高上述混合液中之上述有機溶劑之濃度。
  4. 如請求項1之基板處理方法，其中，自固定於較上述主表面更靠上方之既定位置之固定噴嘴，至少吐出上述混合液，與來自上述固定噴嘴之吐出動作同步，使被利用於上述a)步驟之上述純水之供給、或較上述a)步驟更靠前之處理液之供給的第1噴嘴，自與上述主表面對向之位置朝自上述主表面之上方遠離之待機位置移動，並且，使配置於自上述主表面之上方遠離之另一待機位置之第2噴嘴，朝與上述主表面對向之位置移動，於上述c)步驟中自上述第2噴嘴吐出上述有機溶劑。
  5. 一種基板處理裝置之基板處理方法，該基板處理裝置具備：外側杯部，其圍繞在一主表面形成有圖案之基板的周圍；及內側杯部，其配置於上述外側杯部之內側；該基板處理方法具備以下之步驟：a)於將上述內側杯部之上端配置於較上述外側杯部之上端更靠下方之第1狀態下，自固定於較上述主表面更靠上方之既定位置之固定噴嘴，連續地朝藉由基板旋轉機構而旋轉之上述基板之朝向上方之上述主表面供給純水，並藉由上述外側杯部之內側面接取自上述主表面飛濺之上述純水之步驟；b)與上述a)步驟同步，使被利用於較上述a)步驟更靠前之處理液之供給的第1噴嘴，自與上述主表面對向之位置朝自上述主表面之 上方遠離之待機位置移動，並且，使配置於自上述主表面之上方遠離之另一待機位置之第2噴嘴，朝與上述主表面對向之位置移動之步驟；c)於上述第1狀態下，自上述第2噴嘴朝旋轉之上述基板之上述主表面供給既定之有機溶劑，並藉由上述外側杯部之上述內側面接取自上述主表面飛濺之上述有機溶劑之步驟；d)一面於上述主表面上保持覆蓋上述主表面之上述有機溶劑之液膜，一面藉由使上述內側杯部相對於上述基板相對地上昇而形成使上述內側杯部之內側面配置於上述基板之周圍之第2狀態之步驟；及e)於上述第2狀態下，藉由朝上述主表面供給比重較上述有機溶劑大之充填材溶液，而於上述主表面上充填上述充填材溶液之步驟。
  6. 一種基板處理裝置，其具備：基板保持部，其於使形成有圖案之基板之主表面朝向上方的狀態下保持上述基板；基板旋轉機構，其使上述基板保持部與上述基板一同旋轉；外側杯部，其圍繞於上述基板之周圍；內側杯部，其配置於上述外側杯部之內側；升降機構，其使上述內側杯部相對於上述基板相對地升降；純水供給部，其朝上述主表面供給純水；混合液供給部，其朝上述主表面供給將既定之有機溶劑與純水混合之混合液；有機溶劑供給部，其朝上述主表面供給上述有機溶劑； 充填材溶液供給部，其朝上述主表面供給比重較上述有機溶劑大之充填材溶液；及控制部，其於將上述內側杯部之上端配置於較上述外側杯部之上端更靠下方之第1狀態下，一面藉由上述純水供給部、上述混合液供給部及上述有機溶劑供給部，朝藉由上述基板旋轉機構而旋轉之上述基板之上述主表面，依序供給上述純水、上述混合液及上述有機溶劑，一面藉由上述外側杯部之內側面接取自上述主表面飛濺之液體，然後，一面於上述主表面上保持覆蓋上述主表面之上述有機溶劑之液膜，一面藉由上述升降機構使上述內側杯部相對於上述基板相對地上昇而形成使上述內側杯部之內側面配置於上述基板之周圍之第2狀態，於上述第2狀態下，藉由上述充填材溶液供給部朝上述主表面供給上述充填材溶液，而於上述主表面上充填上述充填材溶液。
  7. 如請求項6之基板處理裝置，其中，更具備有與上述主表面對向之噴嘴，自上述噴嘴吐出來自上述純水供給部之上述純水、來自上述混合液供給部之上述混合液、及來自上述有機溶劑供給部之上述有機溶劑。
  8. 如請求項7之基板處理裝置，其中，上述混合液供給部，係於將上述混合液供給於上述主表面時，逐漸升高上述混合液中之上述有機溶劑之濃度。
  9. 如請求項6之基板處理裝置，其中，自固定於較上述主表面更靠上方之既定位置之固定噴嘴，至少吐出上述混合液，藉由上述控制部之控制，與來自上述固定噴嘴之吐出動作同步， 藉由噴嘴移動機構，使被利用於上述純水之供給、或較上述純水之供給更靠前之處理液之供給的第1噴嘴，自與上述主表面對向之位置朝自上述主表面之上方遠離之待機位置移動，並且，藉由另一噴嘴移動機構，使配置於自上述主表面之上方遠離之另一待機位置之第2噴嘴，朝與上述主表面對向之位置移動，於上述有機溶劑之供給中，自上述第2噴嘴吐出上述有機溶劑。
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