TW201726836A - 用於可列印有機發光二極體油墨調配物之基於酯的溶劑系統 - Google Patents

用於可列印有機發光二極體油墨調配物之基於酯的溶劑系統 Download PDF

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Abstract

本發明提供用於形成有機發光二極體中之作用層的油墨組成物。亦提供使用該等油墨組成物形成OLED之作用層的方法。該等油墨組成物包含溶劑系統,在該溶劑系統中實質上大部分溶劑包含一或多種酯化合物。

Description

用於可列印有機發光二極體油墨調配物之基於酯的溶劑系統 【相關申請案之交叉引用】
本申請案主張2013年8月12日申請之美國臨時申請案第61/865,087號之權益,該臨時申請案以全文引用的方式併入本文中。
本發明提供用於形成有機發光二極體中之作用層的油墨組成物。亦提供使用該等油墨組成物形成OLED之作用層的方法。
提供用於形成OLED中之作用層的油墨組成物。亦提供使用該等油墨組成物形成OLED之作用層的方法。電洞傳輸層及發光層為使用本發明油墨組成物可形成之作用層之類型的實例。基於酯的溶劑系統中實質上大部分溶劑包含酯溶劑,諸如辛酸烷酯、癸二酸烷酯或該等酯與其他酯溶劑之組合。
形成有機發光二極體之發光層之方法的一個具體實例包含以下步驟:(a)在有機發光像素單元中形成油墨組成物之層,該像素單元包含由像素堤(pixel bank)界定之發射區,該油墨組成物包含溶解於包含至少一種酯之基於酯的溶劑系統中之有機電致發光材料,該基於酯的溶劑系 統之沸點為至少300℃且在23℃下之表面張力在約26達因/公分至約33達因/公分之範圍內;及(b)使溶劑自溶劑系統中蒸發,藉此形成發光層。在一些具體實例中,用於發光層之基於酯的溶劑系統包含癸二酸二乙酯、由其組成或基本上由其組成。在其他具體實例中,用於發光層之基於酯的溶劑系統包含辛酸辛酯、由其組成或基本上由其組成。在其他具體實例中,用於發光層之基於酯的溶劑系統包含辛酸辛酯與鄰苯二甲酸二烯丙酯及異壬酸異壬酯中之至少一者的混合物、由其組成或基本上由其組成。
形成有機發光二極體之電洞傳輸層之方法的一個具體實例包含以下步驟:(a)在像素單元中形成油墨組成物之層,該像素單元包含由像素堤界定之發射區,該油墨組成物包含有包含交聯聚合物之電洞傳輸材料,其中該電洞傳輸材料溶解於包含至少一種酯之基於酯的溶劑系統中,該基於酯的溶劑系統之沸點為至少300℃且在23℃下之表面張力在約25達因/公分至約32達因/公分之範圍內;及(b)使溶劑自溶劑系統中蒸發,藉此形成電洞傳輸層。在一些具體實例中,用於電洞傳輸層油墨組成物之基於酯的溶劑系統包含辛酸烷酯。此包括如下具體實例:其中基於酯的溶劑系統包含辛酸二乙酯與辛酸辛酯之混合物、由其組成或基本上由其組成。
100‧‧‧OLED噴墨列印系統
110‧‧‧列印頭裝置
120‧‧‧油墨遞送系統
130‧‧‧運動系統
140‧‧‧基板裝載與卸載系統
150‧‧‧列印頭維護系統
160‧‧‧處理器
200‧‧‧面板
220‧‧‧展開圖
230‧‧‧排列
232‧‧‧紅色發光像素單元
234‧‧‧綠色發光像素單元
236‧‧‧藍色發光像素單元
238‧‧‧積體電路
I‧‧‧區域I
II‧‧‧區域II
下文將參考隨附圖式描述本發明之說明性具體實例,在圖式中相同數字表示相同元件。
圖1為說明有機發光二極體(OLED)噴墨列印系統之方塊圖。
圖2為包含複數個以像素單元之矩陣形式排列之OLED之平板顯示器 的示意性說明,各像素單元由像素堤界定。
圖3(A)展示自具有經油墨組成物列印之EML的OLED發射之發光的顯微照片,該油墨組成物包含癸二酸二乙酯之基於酯的溶劑系統。
圖3(B)為圖3(A)中之顯微照片的黑白線圖。
圖3(C)展示對應於圖3(A)之顯微照片的發射強度分佈。
圖4(A)展示自具有經油墨組成物列印之EML的OLED發射之發光的顯微照片,該油墨組成物包含辛酸辛酯之基於酯的溶劑系統。
圖4(B)為圖4(A)中之顯微照片的黑白線圖。
圖4(C)展示對應於圖4(A)之顯微照片的發射強度分佈。
圖5(A)展示自具有經油墨組成物列印之EML的OLED發射之發光的顯微照片,該油墨組成物包含辛酸辛酯、鄰苯二甲酸二烯丙酯及異壬酸異壬酯之混合物之基於酯的溶劑系統。
圖5(B)為圖5(A)中之顯微照片的黑白線圖。
圖5(C)展示對應於圖5(A)之顯微照片的發射強度分佈。
圖6(A)為展示包含癸二酸二乙酯之基於酯的溶劑系統之EML油墨組成物之液滴體積之頻率回應的圖表。
圖6(B)為展示包含癸二酸二乙酯之基於酯的溶劑系統之EML油墨組成物之液滴速度之頻率回應的圖表。
圖7(A)為展示包含辛酸乙酯及辛酸辛酯之基於酯的溶劑系統之HTL油墨組成物之液滴體積之頻率回應的圖表。
圖7(B)為展示包含辛酸乙酯及辛酸辛酯之基於酯的溶劑系統之HTL 油墨組成物之液滴速度之頻率回應的圖表。
提供用於形成OLED中之作用層的油墨組成物。亦提供使用該等油墨組成物形成OLED之作用層的方法。油墨組成物能夠提供具有極均勻厚度及均質組成之層。因此,使用油墨組成物製造之OLED能夠提供極均勻之光發射特徵。
油墨組成物包含溶劑系統,其中實質上大部分溶劑包含一或多種酯化合物,該溶劑系統在本文中稱作基於酯的溶劑系統。舉例而言,基於酯的溶劑系統可包含以系統中之溶劑的總重量計至少90重量%(wt.%)之酯溶劑。此包括基於酯的溶劑系統包含至少99wt.%酯溶劑之具體實例,且進一步包括基於酯的溶劑系統基本上由酯溶劑組成,或由酯溶劑組成之具體實例。諸如癸二酸二正烷酯之癸二酸烷酯、辛酸烷酯及此等酯與其他酯之混合物為充分適用於基於酯的溶劑系統中之酯的實例。
溶劑系統溶解OLED中之作用層之功能性有機聚合物及/或化合物。此等功能性材料之性質將視所形成之層的性質而定。舉例而言,在適用於形成發光層之油墨組成物中,有機電致發光材料將溶解於基於酯的溶劑系統中。類似地,在適用於形成電洞傳輸層之油墨組成物中,電洞傳輸材料將溶解於基於酯的溶劑系統中。可例如使用基於酯的溶劑系統替代目前用於OLED之可列印油墨調配物的更習用溶劑,諸如十二烷基苯。
可使用多種成膜技術沈積油墨組成物,包括旋塗、澆鑄、熱列印及噴墨列印。因此,油墨組成物之可加工特性將視預定成膜技術而定。一般而言,對於適用於噴墨列印應用之油墨組成物,應調整油墨組成 物之表面張力、黏度及潤濕特性以使組成物在用於列印之溫度(例如室溫;約23℃)下經由噴墨列印噴嘴分配而不會乾燥至噴嘴上或堵塞噴嘴。更特定言之,已發現,沸點為至少約300℃(例如沸點在約300℃至約330℃之範圍內)且在23℃下之表面張力在約25達因/公分至約33達因/公分之範圍內之基於酯的溶劑系統能夠提供跨越層寬度具有極均勻厚度及組成均質性之噴墨列印層。(對於本發明而言,除非另有指示,否則所述沸點係指在大氣壓下之沸點。)
適合於列印本發明油墨組成物之噴墨列印機可購得且可包括可購自例如Fujifilm Dimatix(Lebanon,N.H.)、Trident International(Brookfield,Conn.)、Epson(Torrance,Calif.)、Hitachi Data systems公司(Santa Clara,Calif.)、Xaar PLC(Cambridge,United Kingdom)及Idanit Technologies有限公司(Rishon Le Zion,Isreal)之按需滴墨列印頭。舉例而言,可使用Dimatix Materials Printer DMP-3000。
發光層(EML)及電洞傳輸層(HTL)為可使用本發明油墨組成物列印之OLED作用層之類型的實例。舉例而言,用於HTL之油墨組成物包含典型地為半導電、可交聯聚合物之電洞傳輸材料,其溶解於沸點為至少300℃且在23℃下之表面張力在約25達因/公分至約32達因/公分之範圍內之基於酯的溶劑系統中。用於HTL油墨組成物之基於酯的溶劑系統之一些具體實例包含一或多種辛酸烷酯,諸如辛酸辛酯、辛酸二乙酯或其混合物,基本上由其組成,或由其組成。一種此類油墨組成物之特定具體實例包含重量比在約40:60至約60:40範圍內之辛酸二乙酯與辛酸辛酯的混合物。此包括重量比在約45:55至約55:45範圍內之具體實例,且進一步 包括重量比為約50:50之具體實例。
可包括於HTL油墨組成物中之聚合物的實例包括聚乙烯基咔唑或其衍生物、聚矽烷或其衍生物、在側鏈或主鏈中具有芳族胺之聚矽醚衍生物、吡唑啉衍生物、芳胺衍生物、茋衍生物、三苯基二胺衍生物、聚苯胺或其衍生物、聚噻吩或其衍生物、聚芳胺或其衍生物、聚吡咯或其衍生物、聚(對伸苯基伸乙烯基)或其衍生物,或聚(2,5-伸噻吩基伸乙烯基)或其衍生物。
應選擇HTL油墨組成物中之電洞傳輸材料的濃度以使得油墨組成物適合於將塗覆其之成膜技術。僅以說明的方式,對於適用於噴墨列印應用之HTL油墨組成物,以電洞傳輸材料與基於酯的溶劑系統之組合重量計,電洞傳輸材料之濃度可在約0.1wt.%至約5wt.%(例如約0.5wt.%至約2wt.%)之範圍內。理想地,電洞傳輸材料充分可溶於溶劑系統之溶劑中以提供在列印溫度下在高達3wt.%或甚至更高之油墨組成物中之電洞傳輸材料濃度下具有100cPs或低於100cPs(例如50cPs或低於50cPs)之黏度的油墨組成物。
用於EML之油墨組成物包含溶解於基於酯的溶劑系統中之發光材料,該溶劑系統之沸點為至少300℃且在23℃下之表面張力在約26達因/公分至約33達因/公分之範圍內。用於EML油墨組成物之基於酯的溶劑系統之一些具體實例包含諸如癸二酸二乙酯之癸二酸烷酯、諸如辛酸辛酯之辛酸烷酯或包含一或多種癸二酸烷酯或辛酸烷酯與諸如鄰苯二甲酸酯之另一種酯溶劑的混合物,基本上由其組成,或由其組成。已發現,諸如癸二酸二乙酯之癸二酸烷酯尤其適用於EML油墨之基於酯的溶劑系統 中,因為其如由接觸角量測之潤濕特性獨立於或實質上獨立於包含可交聯電洞傳輸聚合物材料之下伏HTL中之交聯度。此為重要的,因為其可使包含癸二酸二乙酯之油墨組成物在HTL基板上形成具有極均勻且可再現之層厚度的EML,即使在彼等HTL中之交聯不完全或因基板而異時亦如此。
一種此類油墨組成物之特定具體實例包含辛酸辛酯與鄰苯二甲酸二烯丙酯之混合物。辛酸辛酯及鄰苯二甲酸二烯丙酯可例如以在約60:40至約80:20範圍內之重量比存在。此包括重量比在約65:35至約75:25範圍內之具體實例,且進一步包括重量比為約70:30之具體實例。
EML油墨組成物之另一具體實例包含辛酸辛酯、鄰苯二甲酸二烯丙酯及異壬酸異壬酯之混合物。此油墨組成物中之辛酸辛酯與鄰苯二甲酸二烯丙酯及異壬酸異壬酯之組合重量的重量比可例如在約50:50至約60:40之範圍內。此組成物中之鄰苯二甲酸二烯丙酯與異壬酸異壬酯之重量比可例如在約60:40至約70:30之範圍內。僅以說明的方式,一種此類EML油墨組成物包含重量比為約55:30:15之辛酸辛酯、鄰苯二甲酸二烯丙酯及異壬酸異壬酯的混合物。
EML油墨組成物之發光材料一般包含自身為發光材料或與包括金屬錯合物摻雜劑之一或多種其他摻雜劑組合提供發光材料的有機聚合物、小分子或樹枝狀聚合物。舉例而言,在一些具體實例中,發光材料包含聚合主體基質及分散於主體基質內之一或多種摻雜劑。可包括於EML油墨組成物中之有機聚合物主體材料的實例包括聚對伸苯基伸乙烯基衍生物、聚噻吩衍生物、聚對伸苯基衍生物、聚矽烷衍生物、聚乙炔衍生物、聚茀衍生物及聚乙烯基咔唑衍生物。在其他具體實例中,主體基質材 料可為小分子。8-羥基喹啉之金屬錯合物及類似衍生物構成一類有用主體材料且尤其適合於在長於500nm之波長下的光發射。苯并唑衍生物構成另一類有用主體材料且尤其適用於在大於400nm之波長下的光發射。主體材料亦可包括在9位及10位具有取代之蒽衍生物,例如9,10-二芳基蒽之衍生物。
可包括於油墨組成物中之摻雜劑材料的實例包括苝衍生物、香豆素衍生物、紅螢烯衍生物、喹吖啶酮衍生物、芳酸菁(squarylium)衍生物、卟啉衍生物、苯乙烯基顏料、并四苯衍生物、吡唑啉酮衍生物、十環烯及啡酮、環戊胺衍生物、四苯基丁二烯衍生物化合物、三苯胺衍生物、二唑衍生物、吡唑并喹啉衍生物、二苯乙烯基苯衍生物、二苯乙烯基伸芳基衍生物、吡咯衍生物、噻吩環化合物、吡啶環化合物、苝酮衍生物、寡聚噻吩衍生物、二唑二聚體、吡唑啉二聚體、喹吖啶酮衍生物及香豆素衍生物。可包括於EML油墨組成物中之金屬錯合物摻雜劑的實例包括具有Al、Zn、Be、稀土金屬(諸如Tb、Eu及Dy)或其類似物作為中心金屬且具有二唑、噻二唑、苯基吡啶、苯基苯并咪唑、喹啉或其類似物之結構作為配位體的金屬錯合物,例如以下金屬錯合物:諸如自三重激發態發光之銥錯合物及鉑錯合物、苯并喹啉鈹錯合物、苯并唑基鋅錯合物、苯并噻唑鋅錯合物、偶氮甲基鋅錯合物、卟啉鋅錯合物及銪錯合物。
應選擇EML油墨組成物中之發光材料的濃度以使得油墨組成物適合於將塗覆其之成膜技術。僅以說明的方式,對於適用於噴墨列印應用之EML油墨組成物,以發光材料與基於酯的溶劑系統之組合重量計,發光材料之濃度可在約0.1wt.%至約5wt.%(例如約0.5wt.%至約2wt.%)之範圍內。
使用本發明油墨組成物形成OLED之作用層的方法包含以下步驟:使用例如OLED噴墨列印系統在基板上形成油墨組成物之層,及使基於酯的溶劑系統之溶劑蒸發。可藉由使油墨組成物之層經受減壓(亦即使其暴露於真空),藉由使油墨組成物之層暴露於高溫,或兩種方法之組合而促進使基於酯的溶劑系統之溶劑蒸發的步驟。視情況,可隨後烘烤層以進一步自層中移除溶劑及/或促進油墨調配物中之任何可交聯聚合物交聯。因此,可在初始形成包含可交聯聚合物之HTL之後使用焙烤步驟以使該聚合物交聯,從而促使其不溶於隨後沈積之層的溶劑系統中。
OLED噴墨列印系統之多個具體實例可包含使得油墨組成物液滴可靠地置於基板上之特定位置處的若干裝置及設備。此等裝置及設備可包括(但不限於)列印頭、油墨遞送系統、運動系統、基板裝載與卸載系統及列印頭維護系統。列印頭包括至少一個噴墨頭,該至少一個噴墨頭具有至少一個能夠以受控速率、速度及大小噴射油墨組成物液滴之孔口。可由提供油墨組成物至列印頭之油墨組成物供應系統向列印頭進料。列印需要在列印頭與基板之間的相對運動。此可使用運動系統實現,典型地為台架或分軸XYZ系統。列印頭可在固定基板上方移動(台架式樣);或在分軸組態之情況下,列印頭與基板均可移動。在另一個具體實例中,可固定列印台,且基板可相對於列印頭在X及Y軸上移動,在基板或列印頭處提供Z軸運動。當列印頭相對於基板移動時,在正確時間噴射油墨組成物液滴以使其沈積於基板上之所需位置處。可使用基板裝載與卸載系統將基板***列印機中及自列印機移除。視列印機組態而定,此可使用機械輸送機、基板浮動台或具有末端執行器之機器人來實現。
列印頭維護系統可包含若干可進行維護任務之子系統,該等維護任務為諸如(但不限於)液滴體積量測、自列印頭噴嘴板表面去除過量油墨,及起動噴射油墨至廢物池中。
圖1為說明可用於列印本發明油墨組成物之OLED噴墨列印系統100的方塊圖。系統100包括列印頭裝置110、油墨遞送系統120、運動系統130、基板裝載與卸載系統140、列印頭維護系統150、處理器160、液滴量測裝置170及噴嘴調諧裝置180。列印頭裝置110包括至少一個噴墨頭,該至少一個噴墨頭具有至少一個能夠以受控速度及大小噴射油墨組成物液滴之孔口。由提供油墨組成物至噴墨頭之油墨供應系統向噴墨頭進料。在多個具體實例中,噴墨或列印頭包括可使油墨同時分配於基板或面板上之一個以上位置處的多個孔口或噴嘴。舉例而言,使用油墨遞送系統120供應油墨組成物至列印頭裝置110。列印頭維護系統150可包括若干可進行維護任務之子系統,該等維護任務為諸如液滴體積量測、擦拭噴墨噴嘴表面、起動噴射油墨組成物至廢物池中。
處理器160用於控制及發送及/或接收資料至及/或自列印頭110、油墨遞送系統120、運動系統130、基板裝載與卸載系統140及列印頭維護系統150。處理器160可為能夠發送及接收控制及資料資訊且能夠執行指令之電腦系統(諸如圖1中所示之電腦系統)、微控制器、特殊應用積體電路(ASIC)、場可程式化閘極陣列(FPGA)或電子電路。處理器160可例如為分佈於可彼此連通之列印頭110、油墨遞送系統120、運動系統130、基板裝載與卸載系統140及列印頭維護系統150中之一個電子電路或多個電子電路。
列印、乾燥及視情況選用之烘烤製程的最終產物為具有極均勻厚度及組成之材料的層。舉例而言,可能存在跨越層之整個寬度具有不大於10%之厚度變化的層。可使用諸如觸針式表面輪廓儀(stylus contact profilometer)或干涉儀顯微鏡之計量工具量測跨越層之厚度。用於光學干涉量測之適合干涉儀可購自Zygo儀錶公司。
油墨組成物可用於在多層OLED架構中直接列印作用層。典型OLED包含支撐基板、陽極、陰極及安置於陽極與陰極之間的發光層。可存在於裝置中之其他層包括提供於陽極與發光層之間以輔助自陽極注入電洞至發光層的導電電洞注入材料層(HIL)、提供於HIL(若存在)與發光層之間以輔助傳輸電洞至發光層的電洞傳輸層,及安置於EML與陰極之間的電子傳輸層(ETL)。基板一般為透明玻璃或塑膠基板,且陽極及陰極中之至少一者一般為透明的以促進自EML發射之光的透射。
亦可使用包含基於酯的溶劑系統之油墨組成物形成HIL層。該等油墨調配物將進一步包含HIL材料,該等HIL材料包含典型地經摻雜之導電有機或無機材料。該等材料之實例包括苯胺、星射線型胺(starburst-type amine)、酞菁、聚苯胺及聚噻吩衍生物。
在此等多層架構中,可使用包含本發明基於酯的溶劑系統之油墨組成物形成一或多個層,同時可使用其他類型之溶劑系統形成其他層。此外,可經由噴墨列印形成一或多個層,同時可使用其他成膜技術沈積其他層。典型地,將在由像素單元之相應像素堤界定之一或多個像素單元內形成各種層。各單元包含底部及界定單元周界之壁。單元之表面可視情況塗佈有諸如界面活性劑之表面改質塗層以阻止沈積之油墨組成物液滴 溢出單元。然而,在一些具體實例中,由於界面活性劑可能淬滅發光層之發光,因此不存在該等界面活性劑。
圖2為包含複數個以由像素堤矩陣界定之像素單元矩陣形式排列之OLED之平板顯示器的示意性說明。圖2描繪面板200之一個區域的展開圖220,其展示包括紅色發光像素單元232、綠色發光像素單元234及藍色發光像素單元236之複數個像素單元的排列230。另外,出於在使用期間以受控方式施加電壓至各像素之目的,可在平板顯示器基板上形成積體電路238以使電路與各像素單元相鄰。像素單元尺寸、形狀及縱橫比可視例如(但不限於)所需解析度而變化。舉例而言,100ppi之像素單元密度對於用於電腦顯示器之面板可為足夠的,在例如約300ppi至約450ppi之間的高解析度下,可產生可達成在基板表面上有效填充較高像素密度之各種像素單元設計。
實施例
以下實施例說明使用包含基於酯的溶劑系統之油墨組成物列印OLED裝置架構中之HTL及EML。
材料與方法.
製備HTL油墨組成物:
清潔30ml琥珀色小瓶及攪拌棒,且將其轉移至手套工作箱中。在手套工作箱之惰性環境中量出0.12g量之電洞傳輸聚合物粉末。在小瓶中以1:1之重量比製備由29.88g經蒸餾並脫氣之辛酸二乙酯與辛酸辛酯之混合物構成的基於酯的溶劑系統。接著添加所製備之電洞傳輸固體至小瓶中,且使用攪拌棒與基於酯的溶劑系統混合。在設定於60℃下之熱板 上攪拌所得混合物直至固體粉末完全溶解。接著自熱板移除小瓶且使其冷卻至室溫。經0.2μm PTFE過濾器過濾所得溶液至琥珀色100mL玻璃瓶中。保留2mL量之溶液用於黏度及表面張力量測。接著將該瓶密封,自手套工作箱中移出且保留用於列印。
製備EML油墨組成物:
清潔30ml琥珀色小瓶及攪拌棒,且將其轉移至手套工作箱中。在手套工作箱之惰性環境中量出0.3g量之有機電致發光材料。在各別小瓶中製備29.7g量之三種不同基於酯的溶劑系統。第一系統之酯溶劑為經蒸餾並脫氣之癸二酸二乙酯;第二系統之酯溶劑為辛酸辛酯;且第三系統之酯溶劑為重量比為約5.5:3:1.5之辛酸辛酯、鄰苯二甲酸二烯丙酯及異壬酸異壬酯的混合物。添加所製備之有機電致發光固體至小瓶中,且使用攪拌棒與基於酯的溶劑系統混合。在設定於150℃下之熱板上攪拌所得混合物直至固體粉末完全溶解。接著自熱板移除小瓶且使其冷卻至室溫。經0.2μm PTFE過濾器過濾所得溶液至琥珀色100mL玻璃瓶中。保留2mL量之各溶液用於黏度及表面張力量測。接著將該等瓶密封,自手套工作箱中移出且保留直至用於列印。
黏度及表面張力量測:
使用DV-I Prime Brookfield流變儀進行黏度量測。由SITA氣泡壓力張力儀量測表面張力。
使用此等方法,HTL油墨組成物之黏度經測定為3.71±0.1cPs且其表面張力經測定為27.3±0.3達因/公分。
包含第一基於酯的溶劑系統之EML油墨組成物的黏度經 測定為5.7±0.2cPs且其表面張力經測定為31.5±0.1達因/公分。包含第二基於酯的溶劑系統之EML油墨組成物的黏度經測定為3.8±0.1cPs且其表面張力經測定為27.5±0.1達因/公分。包含第三基於酯的溶劑系統之EML油墨組成物的黏度經測定為5.6±0.2cPs且其表面張力經測定為29.1±0.1達因/公分。
OLED製造與列印:
在此實施例中,使用如上文所述之包含基於酯的溶劑系統之油墨組成物對OLED之HTL及EML層進行噴墨列印。亦用一種可購得之調配物對HIL裝置層進行噴墨列印。如下文更詳細地描述,由其他方式形成其他裝置層。
對於噴墨列印之HTL及EML層,將油墨組成物裝載至油墨筒中以與諸如Dimatix Materials Printer DMP-3000(可購自Fujifilm)之噴墨列印機一起使用。接著將油墨筒置放於列印機及安置在列印頭下方之基板中。開發用於發射油墨之波形且調節脈衝時間及電壓並使其最佳化以建立穩定噴射範圍。舉例而言,可進行噴墨測試以藉由檢查改變頻率對液滴體積及速度之影響來評估油墨組成物之列印效能。圖6(A)及6(B)之圖表中說明在使脈衝時間及電壓最佳化之後由此類型之頻率回應測試所得之結果的實例,該等圖表分別展示關於包含癸二酸二乙酯之EML油墨組成物之液滴體積及速度的頻率回應。圖7(A)及7(B)分別展示關於包含辛酸二乙酯與辛酸辛酯之混合物之HTL油墨組成物之液滴體積及速度的頻率回應。
OLED之基板為具有0.7mm厚度之玻璃,在該玻璃上60nm ITO(氧化銦錫)之陽極經圖案化。接著在ITO上使堤材料(亦稱為像素界定層)圖案化,形成內部沈積有噴墨列印層之孔。接著將由PEDOT:PSS(聚(3,4-伸乙二氧基噻吩)聚(苯乙烯磺酸鹽))構成之HIL層噴墨列印至該孔中,且使其在真空下乾燥並在高溫下烘烤以自層中移除溶劑。接著根據上文所述之製程將HTL層噴墨列印至HIL層上,繼而使其在真空下乾燥並在高溫下烘烤以移除溶劑且誘導可交聯聚合物交聯。接著根據上文所述之製程將EML層噴墨列印至HTL層上,繼而使其在真空下乾燥並在高溫下烘烤以移除溶劑。接著藉由真空熱蒸發塗覆陰極層。接著藉由真空熱蒸發在陰極層之後塗覆ETL層。陰極層由100nm之鋁構成。
特性化.
一旦製造OLED,即藉由施加電流通過各二極體且對光發射進行成像來研究OLED之電致發光的均勻性。結果展示於圖3-5中。各圖中之圖(A)為展示各OLED之發光之影像的顯微照片,各圖中之圖(B)為顯微照片之黑白線精描圖,且各圖中之圖(C)為跨越各OLED之寬度的相應電致發光強度分佈。在圖3(C)、4(C)及5(C)中,將資料標準化為跨越像素之長度的最亮發光點。自OLED之發射由圖3-5之B圖中的區域I及II表示。圖3-5之C圖展示跨越包括區域I及II之像素之寬度之OLED發射的均勻性分佈。典型地,區域II中之發射與區域I相比略微較高。像素堤界定OLED像素之有效區且位於區域II之外邊緣處。
可由發光之變異係數(CV%)定量自像素之發光的均勻性,該變異係數定義為其((標準差/平均值)×100)。在一些具體實例中,本發明之基於酯的溶劑系統能夠製造CV%不大於20%之OLED像素。此包括 CV%不大於16%、不大於12%及不大於10%之OLED像素的具體實例。僅以說明的方式,OLED像素之一些具體實例提供在約2%至約20%範圍內之CV%。此包括提供在約5%至約15%範圍內之CV%的具體實例。
以說明的方式,如下量測根據此實施例製造之OLED像素的CV%。跨越以圖3(A)、3(B)、4(A)、4(B)、5(A)及5(B)中之區域I呈現之相關2D區域(ROI)量測光發射,接著對各OLED測定自ROI之發射的標準差及平均值,且計算CV%。以下表1中提供計算結果。
「說明性(illustrative)」一詞在本文中用於意謂充當實例、例子或說明。本文中描述為「說明性」之任何態樣或設計不一定理解為比其他態樣或設計較佳或有利。此外,就本發明而言且除非另有說明,否則「一(a/an)」意謂「一或多(one or more)」。此外,除非另有特別指示,否則「及(and)」或「或(or)」的使用欲包括「及/或」。
出於說明及描述之目的,已呈現本發明之說明性具體實例之前述描述。其不欲為詳盡的或將本發明限於所揭示之確切形式,且根據上述教示可能存在修改及變化或可自本發明之實踐中獲得修改及變化。選擇及描述具體實例以說明本發明之原理且作為本發明之實際應用以使熟習此項技術者能夠在各種具體實例中且在涵蓋適於特定用途之各種修改下利 用本發明。預期本發明之範疇由隨附申請專利範圍及其等效物界定。
100‧‧‧OLED噴墨列印系統
110‧‧‧列印頭裝置
120‧‧‧油墨遞送系統
130‧‧‧運動系統
140‧‧‧基板裝載與卸載系統
150‧‧‧列印頭維護系統
160‧‧‧處理器

Claims (30)

  1. 一種形成有機發光二極體之發光層的方法,該方法包含:在有機發光二極體像素堤之像素單元中形成油墨組成物之層,該像素單元包含由像素堤界定之發射區,該油墨組成物包含溶解於包含至少90重量%的一或多種沸點為至少300℃之酯之基於酯的溶劑系統中之有機電致發光材料,且該基於酯的溶劑系統之沸點為至少300℃且在23℃下之表面張力在約26達因/公分至約33達因/公分之範圍內;及使溶劑自該溶劑系統中蒸發,藉此形成該發光層。
  2. 根據申請專利範圍第1項之方法,其中該基於酯的溶劑系統包含選自辛酸烷酯、癸二酸烷酯或其組合之酯。
  3. 根據申請專利範圍第1項之方法,其中該基於酯的溶劑系統包含癸二酸二乙酯。
  4. 根據申請專利範圍第1項之方法,其中該基於酯的溶劑系統包含至少99重量%的癸二酸二乙酯。
  5. 根據申請專利範圍第1項之方法,其中該基於酯的溶劑系統包含沸點為至少300℃之辛酸烷酯。
  6. 根據申請專利範圍第5項之方法,其中該辛酸烷酯為辛酸辛酯,且該基於酯的溶劑系統包含至少90重量%的辛酸辛酯。
  7. 根據申請專利範圍第5項之方法,其中該基於酯的溶劑系統包含至少一種沸點為至少300℃之其他酯。
  8. 根據申請專利範圍第1項之方法,其中當該有機發光二極體正在操作中時,該發光層之發光之變異係數跨越該像素單元之寬度的變化不超過 20%。
  9. 一種形成有機發光二極體之電洞傳輸層的方法,該方法包含:在有機發光二極體像素堤之像素單元中形成油墨組成物之層,該像素單元包含由像素堤界定之發射區,該油墨組成物包含有包含交聯聚合物之電洞傳輸材料,其中該電洞傳輸材料溶解於包含至少90重量%的一或多種沸點為至少300℃之酯之基於酯的溶劑系統中,且該基於酯的溶劑系統之沸點為至少300℃且在23℃下之表面張力在約25達因/公分至約32達因/公分之範圍內;及使溶劑自該溶劑系統中蒸發,藉此形成該電洞傳輸層。
  10. 根據申請專利範圍第9項之方法,其中該基於酯的溶劑系統包含沸點為至少300℃之辛酸烷酯。
  11. 根據申請專利範圍第10項之方法,其中該基於酯的溶劑系統包含兩種或兩種以上沸點為至少300℃之辛酸烷酯。
  12. 根據申請專利範圍第11項之方法,其中該基於酯的溶劑系統包含辛酸二乙酯及辛酸辛酯。
  13. 根據申請專利範圍第12項之方法,其中該基於酯的溶劑系統包含至少90重量%的辛酸二乙酯及辛酸辛酯。
  14. 根據申請專利範圍第9項之方法,其中當該有機發光二極體正在操作中時,該發光層之發光之變異係數跨越該像素單元之寬度的變化不超過20%。
  15. 一種形成有機發光二極體之電洞傳輸層及發光層的方法,該方法包含:在有機發光二極體像素堤之像素單元中形成油墨組成物之層,該像素 單元包含由像素堤界定之發射區,該油墨組成物包含有包含交聯聚合物之電洞傳輸材料,其中該電洞傳輸材料溶解於包含至少90重量%的一或多種沸點為至少300℃之酯之基於酯的溶劑系統中,且該基於酯的溶劑系統之沸點為至少300℃且在23℃下之表面張力在約25達因/公分至約32達因/公分之範圍內;使溶劑自該溶劑系統中蒸發,藉此形成該電洞傳輸層;在該電洞傳輸層之上形成油墨組成物之層,該油墨組成物包含溶解於包含至少90重量%的一或多種沸點為至少300℃之酯之基於酯的溶劑系統中之有機電致發光材料,且該基於酯的溶劑系統之沸點為至少300℃且在23℃下之表面張力在約26達因/公分至約33達因/公分之範圍內;及使溶劑自該溶劑系統中蒸發,藉此形成該發光層。
  16. 根據申請專利範圍第15項之方法,其中該電洞傳輸層之交聯聚合物不充分交聯。
  17. 根據申請專利範圍第15項之方法,其中該第一基於酯的溶劑系統包含辛酸二乙酯與辛酸辛酯之混合物且該第二基於酯的溶劑系統包含癸二酸二乙酯。
  18. 一種用於形成有機發光二極體之發光層的油墨組成物,該油墨組成物包含溶解於包含至少90重量%的一或多種沸點為至少300℃之酯之基於酯的溶劑系統中之有機電致發光材料,且該基於酯的溶劑系統之沸點為至少300℃且在23℃下之表面張力在約26達因/公分至約33達因/公分之範圍內。
  19. 根據申請專利範圍第18項之油墨組成物,其中該基於酯的溶劑系統包含選自辛酸烷酯、癸二酸烷酯或其組合之酯。
  20. 根據申請專利範圍第18項之油墨組成物,其中該基於酯的溶劑系統包含癸二酸二乙酯。
  21. 根據申請專利範圍第20項之油墨組成物,其中該基於酯的溶劑系統包含至少90重量%的癸二酸二乙酯。
  22. 根據申請專利範圍第18項之油墨組成物,其中該基於酯的溶劑系統包含沸點為至少300℃之辛酸烷酯。
  23. 根據申請專利範圍第22項之油墨組成物,其中該辛酸烷酯為辛酸辛酯。
  24. 根據申請專利範圍第23項之油墨組成物,其中該基於酯的溶劑系統包含至少90重量%的辛酸辛酯。
  25. 根據申請專利範圍第23項之油墨組成物,其中該基於酯的溶劑系統包含至少一種沸點為至少300℃之其他酯。
  26. 一種用於形成有機發光二極體之電洞傳輸層的油墨組成物,該油墨組成物包含有包含交聯聚合物之電洞傳輸材料,其中該電洞傳輸材料溶解於包含至少90重量%的一或多種沸點為至少300℃之酯之基於酯的溶劑系統中,且該基於酯的溶劑系統之沸點為至少300℃且在23℃下之表面張力在約25達因/公分至約32達因/公分之範圍內。
  27. 根據申請專利範圍第26項之油墨組成物,其中該基於酯的溶劑系統包含沸點為至少300℃之辛酸烷酯。
  28. 根據申請專利範圍第27項之油墨組成物,其中該基於酯的溶劑系統包含兩種或兩種以上辛酸烷酯。
  29. 根據申請專利範圍第28項之油墨組成物,其中該基於酯的溶劑系統包含辛酸二乙酯及辛酸辛酯。
  30. 根據申請專利範圍第29項之油墨組成物,其中該基於酯的溶劑系統包含至少90重量%的辛酸二乙酯及辛酸辛酯。
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