TW201522080A - 具有遮光薄膜基材的黏性物件，及其製造方法與所得物件 - Google Patents

具有遮光薄膜基材的黏性物件，及其製造方法與所得物件 Download PDF

Info

Publication number
TW201522080A
TW201522080A TW103131801A TW103131801A TW201522080A TW 201522080 A TW201522080 A TW 201522080A TW 103131801 A TW103131801 A TW 103131801A TW 103131801 A TW103131801 A TW 103131801A TW 201522080 A TW201522080 A TW 201522080A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
adhesive
film
major surface
layer
film substrate
Prior art date
Application number
TW103131801A
Other languages
English (en)
Inventor
Harry Emmanuel Johnson
Jeffry Todd Omland
Robert Charles Fitzer
Original Assignee
3M Innovative Properties Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 3M Innovative Properties Co filed Critical 3M Innovative Properties Co
Publication of TW201522080A publication Critical patent/TW201522080A/zh

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/20—Adhesives in the form of films or foils characterised by their carriers
    • C09J7/29—Laminated material
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B37/00—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
    • B32B37/12—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by using adhesives
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B37/00—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
    • B32B37/14—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by the properties of the layers
    • B32B37/16—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by the properties of the layers with all layers existing as coherent layers before laminating
    • B32B37/18—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by the properties of the layers with all layers existing as coherent layers before laminating involving the assembly of discrete sheets or panels only
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
    • C09D5/004—Reflecting paints; Signal paints
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/08—Mirrors
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/08—Mirrors
    • G02B5/0816—Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers
    • G02B5/0825—Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers the reflecting layers comprising dielectric materials only
    • G02B5/0833—Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers the reflecting layers comprising dielectric materials only comprising inorganic materials only
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/40—Properties of the layers or laminate having particular optical properties
    • B32B2307/41—Opaque
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/40—Properties of the layers or laminate having particular optical properties
    • B32B2307/416—Reflective
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2405/00—Adhesive articles, e.g. adhesive tapes
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2457/00—Electrical equipment
    • B32B2457/20—Displays, e.g. liquid crystal displays, plasma displays
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2203/00—Applications of adhesives in processes or use of adhesives in the form of films or foils
    • C09J2203/318—Applications of adhesives in processes or use of adhesives in the form of films or foils for the production of liquid crystal displays
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T156/00—Adhesive bonding and miscellaneous chemical manufacture
    • Y10T156/10—Methods of surface bonding and/or assembly therefor

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

本發明提供包括一薄膜基材以及一黏著劑的黏性物件以及顯示組件。該薄膜基材包括一反射層以及一不透明層。該黏著劑可經設置於該反射層以及不透明層之至少一主要表面上。在該黏性物件中包括該薄膜基材可使得該黏性物件能抑制穿過該薄膜基材之可見光的透射。該薄膜基材包括至少一腔穴，其從該反射層的該第一主要表面延伸至該不透明層的該第一主要表面，其中腔穴容積係由該黏著劑至少部分地填充。該顯示組件包括經由該黏著劑黏附至一黏性物件之至少一顯示元件。本發明也提供製造黏性物件以及顯示組件之方法。

Description

具有遮光薄膜基材的黏性物件，及其製造方法與所得物件
本發明大致上係關於黏性物件。特別是，本發明係關於一種黏性物件，其具有包括反射層以及不透明層的薄膜基材。一黏著劑可經設置於該反射層以及該不透明層之至少一者的一主要表面上。在該黏性物件中包括該薄膜基材可使得該黏性物件能抑制穿過該薄膜基材的可見光的透射。
黏性物件(諸如單面與雙面膠帶以及轉印帶)是用來黏合各種基材。可包括一光學透明黏著劑(OCA)的黏性物件常常被用來黏合背發光看板以及顯示總成中的各種基材，包括大螢幕顯示格式(例如電視機和電腦顯示器)，以及小螢幕顯示格式(例如手持行動裝置，諸如行動電話、個人數位助理(PDA)、電子遊戲裝置、膝上型電腦、數位相機及攝影機、全球定位系統(GPS)及類似者)。對於各種顯示器(包括電子顯示器)，常常希望為了美觀目的或其他理由，可包括環繞該顯示器的部分或所有邊緣之一不透明邊框(border)或外框(frame)。此邊框充當一遮光區來阻擋從顯示模組發射的光，並且常常 被用來遮掩環繞一觸控螢幕顯示器邊緣之電子電路的可見性。也能夠藉此邊框納入標記，此可促進某特定品牌顯示器之行銷，或製造該顯示器或裝有該顯示器之相關電子裝置的公司行銷。不透明邊框常常係由網版印刷或沿著該顯示組件的邊緣塗布分散在一適當溶劑及/或黏合劑中的油墨或顏料而製成。
為提供適量不透明度，該不透明邊框的厚度可為約25、50、100或甚至150um。目前產業的趨勢是要有更亮的顯示器以及更薄的顯示器。然而，隨著顯示器光強度增加，不透明邊框的厚度就得增加以便維持螢幕邊框所要的不透明度。不透明邊框厚度增加會導致顯示器厚度增加。此外，應用不透明邊框會為顯示器製造者建立其他加工步驟，且邊框厚度可導致顯示器內的其他光學問題。
該邊框(常常稱為油墨段差(ink step))導致在顯示總成內形成一間隙或氣隙。此間隙在顯示總成內產生非所要的介面，會導致顯示對比損失。因此，顯示器製造商必須要用一材料將此間隙填補，該材料的折射率與相鄰顯示組件的折射率更為相似。用於填充間隙的材料(例如壓敏黏著劑(PSA))常常難以順應於油墨段差之垂直邊緣與其所塗布之基材水平表面交錯處的銳角。因此，油墨段差基底處的小區域可能無法以PSA填充，而會在顯示器內留下可見瑕疵，例如氣泡。此瑕疵是不可接受的，並會導致該顯示總成的昂貴重工。為將此問題減到最小，已使用較厚且較軟的PSA，但同樣的，使用較厚PSA是與想要將顯示器厚度最小化的期望相違背的。此外，隨著顯示器產品設計趨向更薄組件，也就更加易碎，需要有一種新製程以及相 應材料可運用於較低壓力及/或溫度。總結來說，需要有改善的材料能夠做到下列一或多項：減少不透明層的厚度同時保持顯示器邊框或背發光看板的所需不透明度，消除/最小化與一顯示器不透明邊框所生成間隙之填充相關的光學瑕疵，降低顯示器製造中所使用之加工條件的嚴苛程度，以及減少顯示器組裝程序中的組裝步驟數目。
在一態樣中，本揭露係關於一黏性物件，其包括一薄膜基材以及一第一黏著劑。該薄膜基材包括：i)一反射層，其具有第一以及第二主要表面，其中波長在約450nm與約750nm之間的入射電磁輻射自該反射層之至少該第一主要表面反射時，具有一大於約50%的平均反射率，以及ii)一不透明層，其具有第一及第二主要表面，其中該不透明層之該第二主要表面係緊鄰該反射層之該第二主要表面放置。該薄膜基材對波長在約450nm與約750nm之間之電磁輻射具有一小於約20%的平均透射率。該薄膜基材包括至少一腔穴，其從該反射層的該第一主要表面延伸至該不透明層的該第一主要表面。腔穴容積係至少部分由該第一黏著劑填充。選擇性地，該第一黏著劑可經設置於該反射層的該第一主要表面以及該不透明層的該第一主要表面之其中一者的至少一部分之上。
在另一態樣中，本揭露係關於一顯示組件，其包括上述揭示的黏性物件以及黏附於該第一黏著劑之一第一顯示元件。
在又另一態樣中，本揭露係關於一用於製造一顯示組件或顯示總成之方法。該方法包括：i)提供上述揭示的黏性物件，ii)提 供一顯示元件，以及iii)將該顯示元件黏附於該黏性物件之該第一黏著劑。
上述發明內容並非意欲說明本發明的各個實施例。本揭露的一或多個實施例的細節也會在以下說明中提出。本發明的其他特徵、目標、以及優點將會於實施方式以及申請專利範圍顯而易見。
100‧‧‧薄膜基材
120‧‧‧反射層
124‧‧‧第一主要表面
126‧‧‧第二主要表面
130‧‧‧不透明層
134‧‧‧第一主要表面
136‧‧‧第二主要表面
140‧‧‧腔穴
200‧‧‧黏性物件
250‧‧‧第一黏著劑
300‧‧‧黏性物件
350‧‧‧第二黏著劑
400‧‧‧顯示組件
410‧‧‧第一顯示元件
500‧‧‧顯示組件
510‧‧‧第二顯示元件
考量以下本揭露之各種實施例的實施方式以及隨附圖式，將更能完全理解本揭露，其中：
圖1係依據本揭露之一薄膜基材的剖面圖。
圖2係依據本揭露之薄膜基材(包括一腔穴)的透視剖面圖。
圖3係依據本揭露之一黏性物件之第一實施例的透視剖面圖。
圖4係依據本揭露之一黏性物件之第二實施例的透視剖面圖。
圖5係依據本揭露之一黏性物件之第三實施例的透視剖面圖。
圖6係依據本揭露之一顯示組件之第一實施例的透視剖面圖。
圖7係依據本揭露之一顯示組件之第二實施例的透視剖面圖。
用語定義
如本文中所使用，單數形「一(a、an)」以及「該(the)」包括複數個指稱物，除非內文明確另有所指。如本說明書以及隨附實施例中所使用，「或(or)」一詞一般是用來包括「及/或(and/or)」的意思，除非內文明確另有所指。
如本文中所使用，以端點所述的數值範圍包括歸入該範圍中的所有數字(例如，1至5包括1、1.5、2、2.75、3、3.8、4、以及5)。
除非另有指明，在說明書以及實施例中所用以表達數量或成分、特性之測量值等等的所有數字，皆應理解為在所有情況下以「約(about)」一詞修飾之。因此，除非另有相反指示，在下述說明書以及隨附實施例列表中所提出的數值參數可依據所屬技術領域中具有通常知識者運用本揭露之教導所欲獲致之所要特性而有所不同。至少，而且並非是要限制所主張實施例之範疇的均等論之應用，各數值參數應至少依所提出有效位數之數字並藉由應用普通的捨入法來解讀。
圖1顯示本揭露之薄膜基材100的剖面圖，其包括：具有第一主要表面124以及第二主要表面126之反射層120，以及具有第一主要表面134以及第二主要表面136之不透明層130。反射層與不透明層的差異在其光學特性。在一些實施例中，若結合反射層以及不透明層以形成薄膜基材，該薄膜基材對波長在約450nm與約750nm之間之電磁輻射具有一小於約20%的平均透射率。在一些實施例中，該薄膜基材對波長在約450nm與約750nm之間的電磁輻射具有一小於約10%、小於約5%、小於約1%、或甚至小於約0.1%的平均透射率。在一些實施例中，薄膜基材對波長在約450nm與約750nm之間的電磁輻射之透射率實質上是0%，即所有電磁輻射皆被該薄膜基材所阻擋。使用期間或測量電磁輻射透射過薄膜基材的透射率期間， 薄膜基材可相對於輻射源組態，以致該輻射是入射於反射層的第一主要表面。在此組態中，至少一部分的輻射(例如來自一顯示模組的光)會反射離開該反射層。因此，透射穿過薄膜基材的輻射部分會顯著減少。接著透射穿過薄膜基材的剩餘輻射會觸及不透明層，在此大部分會被該不透明層吸收及/或反射。組合薄膜基材之反射部分以及吸收部分產生一薄膜基材，其對波長約450nm與約750nm之間的電磁輻射具有低度輻射透射率，以致薄膜基材可充當一顯示器中的遮光組件，而在該顯示器的可視區中生成一遮光區。
在一些實施例中，薄膜基材可以是單層，該薄膜基材對波長約450nm與約750nm之間的電磁輻射具有一小於約20%、小於約10%、小於約5%、小於約1%、或甚至小於約0.1%的平均透射率。在一些實施例中，對波長在約450nm與約750nm之間的電磁輻射之透射率實質上是0%，即所有電磁輻射皆被該薄膜基材所阻擋。
薄膜基材的反射層通常反射至少在光譜的可見光區中的電磁輻射。在一實施例中，波長在約450nm與約750nm之間的入射電磁輻射自該反射層反射時具有一大於約50%、大於約70%、大於約80%、或甚至大於約90%的平均反射率。在另一實施例中，波長在約450nm與約750nm之間的入射電磁輻射自該反射層之至少第一主要表面反射時具有一大於約50%、大於約70%、或甚至大於約90%的平均反射率。在又另一實施例中，反射層的第一主要表面反射波長在約450nm與約750nm之間的電磁輻射的100%。反射層可由所屬技術領域中已知的材料製成，只要其能產生所需程度的反射率即可。反射 層可含金屬或不含金屬。在一些實施例中，反射層係一多層光學薄膜、一鏡面薄膜、或其組合。
多層光學薄膜的實例描述係於以下專利文件：美國專利第5,882,774號(Jonza等人)、第6,157,490號(Wheatley等人)、以及第6,368,699號(Gilbert等人)，所有案件皆以引用方式併入本文中。多層光學薄膜(MOF)一般而言包括一光學堆疊，其具有多層的第一材料以及多層的第二材料。在一實施例中，第一材料以及第二材料的各層具有1.0微米或更小的平均厚度，且更明確地係0.5微米或更小。在一實施例中，第一材料係一半晶質聚合物，且第二材料係一聚合物。該光學堆疊可經拉伸(即經拉幅加工(tentered))在至少一方向達到至少該方向未拉伸尺寸的兩倍。MOF的層在該層的平面中具有折射率nx以及ny且在垂直於該層的平面具有折射率nz。不同MOF層的折射率係經選取以提供所需光學特性，其可包括波長在約450nm與約750nm之間的入射電磁輻射自該多層光學薄膜之至少第一主要表面反射時之一大於約50%、大於約70%、或甚至大於約90%的反射率。
一般而言，適當的材料組合可藉由選取一晶質或半晶質、或液晶材料、一聚合物以作為第一材料。繼而，第二材料可以係晶質、半晶質或非晶質。應理解，聚合物技術領域中一般認為聚合物通常並非完全晶質，因而在本發明的上下文中，晶質或半晶質聚合物是指並不是非晶質的該些聚合物，並且包括任何通稱為晶質、部分晶質、半晶質等該些材料。在一實施例中，第二材料具有與第一材料相 反或與之相同的雙折射率。在另一實施例中，第二材料沒有雙折射率。
合適材料的特定實例包括(但不限於)：聚對萘二甲酸乙二酯(PEN)及其異構物(例如，2,6-PEN、1,4-PEN、1,5-PEN、2,7-PEN、以及2,3-PEN)、聚對苯二甲酸伸烷基酯(例如，聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、以及聚對苯二甲酸-1,4-環己二甲酯)、聚醯亞胺(例如，聚丙烯醯亞胺)、聚醚醯亞胺、無規聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸酯(例如，聚甲基丙烯酸異丁酯、聚丙基丙烯酸甲酯、聚乙基丙烯酸甲酯、以及聚甲基丙烯酸甲酯)、聚丙烯酸酯(例如，聚丙烯酸丁酯以及聚丙烯酸甲酯)、間規聚苯乙烯(sPS)、間規聚-α-甲基苯乙烯、間規聚二氯苯乙烯、任何這些聚苯乙烯的共聚物以及摻合物、纖維素衍生物(例如，乙基纖維素、乙酸纖維素、丙酸纖維素、醋酸丁酸纖維素、以及硝酸纖維素)、聚伸烷基聚合物(例如，聚乙烯、聚丙烯、聚丁烯、聚異丁烯、以及聚(4-甲基)戊烯)、氟化聚合物(例如，全氟烷氧基樹脂、聚四氟乙烯、氟化乙烯-丙烯共聚物、聚二氟亞乙烯、以及聚三氟氯乙烯)、氯化聚合物(例如，聚二氯亞乙烯以及聚氯乙烯)、聚碸、聚醚碸、聚丙烯腈、聚醯胺、聚矽氧樹脂、環氧樹脂、聚乙酸乙烯酯、聚醚-醯胺、離子聚合物樹脂、彈性體(例如，聚丁二烯、聚異戊二烯、以及氯丁橡膠)、以及聚胺甲酸酯。
其他適合材料包括共聚物，例如：PEN共聚物(例如，2,6-萘二甲酸、1,4-萘二甲酸、1,5-萘二甲酸、2,7-萘二甲酸及/或2,3-萘二甲酸、或其酯類與下列項目的共聚物：(a)對苯二甲酸、或其酯 類；(b)異苯二甲酸、或其酯類；(c)酞酸、或其酯類；(d)烷二醇；(e)環烷二醇(例如，環己二甲烷二醇)；(f)烷二羧酸；及/或(g)環烷二羧酸(例如，環己烷二甲酸))；聚對苯二甲酸伸烷基酯共聚物(例如，對苯二甲酸、或其酯類與下列項目的共聚物：(a)萘二甲酸、或其酯類；(b)異苯二甲酸、或其酯類；(c)酞酸、或其酯類；(d)烷二醇；(e)環烷二醇(例如，環己二甲烷二醇)；(f)烷二羧酸；及/或(g)環烷二羧酸(例如，環己烷二甲酸))，以及苯乙烯共聚物(例如，苯乙烯-丁二烯共聚物以及苯乙烯-丙烯腈共聚物)，4,4'-聯苯甲酸以及乙二醇。此外，各獨立層可包括兩個或更多上述聚合物或共聚物的摻合物(例如，sPS以及無規聚苯乙烯)。所述的coPEN也可以係顆粒的摻合物，其中至少一成分是以萘二甲酸為主的聚合物，且其他成分為其他聚酯或聚碳酸酯，例如一PET、一PEN或一coPEN。
在反射薄膜的情況中，特別適合的分層組合包括：PET/Ecdel、PEN/Ecdel、PEN/sPS、PEN/THV、PEN/co-PET、以及PET/sPS，其中「co-PET」係指以對苯二甲酸為主的共聚物或摻合物(如上述)，Ecdel係購自Eastman Chemical Co.的一種熱塑性聚酯，且THV係購自3M Company,St.Paul,Minnesota的一種氟聚合物。
由於薄膜厚度、可撓性以及成本因素，多層光學薄膜中的分層數量係經選取，以使用最小層數達成反射層所需的光學特性。在一些實施例中，多層光學薄膜可具有少於10,000層、少於5,000層、少於2,000層或甚至少於1,000層。在一些實施例中，多層光學薄膜的層數可多於2層、多於5層、多於10層、多於20層、多於50 層、多於100層或甚至多於200層。在一實施例中，多層光學薄膜具有的層數是介於約2層與約10,000層之間。在另一實施例中，多層光學薄膜具有的層數是介於約50層與約1,000層之間。
在不同折射率(並因此多層薄膜的光學特性)之間達成所需關係的能力會受到用於製備該多層薄膜之加工條件的影響。在藉由拉伸而被定向的有機聚合物的情況中，該等薄膜的製備一般係藉由共擠壓個別聚合物以形成一多層薄膜，然後藉由在所選溫度之下拉伸而定向該薄膜，選擇性地接著在所選溫度熱定型。或者，擠壓以及定向步驟可同時執行。在反射薄膜的情況中，薄膜實質上係在兩方向被拉伸(雙軸定向)。在一實施例中，拉伸比在拉伸方向係自1：2至1：10，且更明確地係1：3至1：7，而且在垂直於拉伸方向係自1：0.2至1：10，且更明確地係自1：0.2至1：7。
市售的多層光學薄膜的實例包括(但不限於)購自3M Company,St.Paul,Minnesota之商品名為「VIKUITI ENHANCED SPECULAR REFLECTOR FILM(ESR)」的強化鏡面反射薄膜。
在另一實施例中，反射層可以係一鏡面薄膜。鏡面薄膜可以係一金屬膜、金屬箔或一金屬化表面，其中波長在約450nm與約750nm之間的入射電磁輻射自鏡面薄膜表面反射時具有一大於約50%、大於約70%、或甚至大於約90%的平均反射率。雖然可使用金屬薄膜或金屬箔，但這些材料可被黏附至一或多個支撐基材，以容許更容易處理並避免金屬薄膜或金屬箔表面之瑕疵。支撐基材可以係所屬技術領域中已知的任何支撐基材，例如，玻璃或聚合物。支撐基材 可以係一聚合基材，包括熱塑性及/或熱固性薄膜。例如，支撐基材可以係：一晶質或半晶質聚合物、一非晶質聚合物、一嵌段共聚物、一交聯聚合物，例如，一彈性體、或一熱塑性彈性體。例如，支撐基材可包括：聚酯(例如，聚對苯二甲酸乙二酯)、聚烯烴(例如，聚乙烯、聚丙烯及類似者)、聚碳酸酯、聚醯胺(例如，通常稱為尼龍的材料)、聚胺甲酸酯、聚脲、聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯、聚氯乙烯、聚碸、聚醚碸、聚醯亞胺、環氧樹脂以及聚矽氧烷。若一鏡面薄膜係用作反射層，特別是該鏡面薄膜包括一支撐基材時，該薄膜基材的鏡面部分可以係第一主要表面124且該支撐基材可以係第二主要表面126。
鏡面薄膜的金屬箔或金屬薄膜可藉由所屬技術領域已知的方法黏附至一支撐基材，包括層壓法。金屬箔或金屬薄膜可在聚合基材形成期間被直接層壓至一聚合支撐基材，此可藉由一擠壓程序進行。在此情況中，金屬箔或金屬薄膜與聚合支撐基材之間的黏附可被接受。在其他情況中，一黏著劑(諸如一壓敏黏著劑、熱熔或熱固物)可置於金屬薄膜或金屬箔與支撐基材之間，以將該等材料黏附在一起。也可使用金屬表面及/或支撐基材表面的黏附底漆/促進劑。此外，一金屬塗料也可經放置在支撐基材上，以形成具有所需反射特性的一金屬化基材表面。金屬的沉積可藉由所屬技術領域中已知的方法實施，包括真空沉積製程，諸如真空濺鍍、物理氣相沉積以及化學氣相沉積。鏡面薄膜可包括銀、鋁、金、銅、氧化銦錫、錫、鈦、鎳及類似者。
反射層的厚度係依據該薄膜基材的所需總厚度與不透明層的厚度一起選擇。在一實施例中，反射層厚度係大於約1微米、大於約5微米、大於約10微米或甚至大於約20微米。在一實施例中，反射層厚度係小於約200微米、小於約100微米、小於約80微米或甚至小於約50微米。
薄膜基材的不透明層通常對光譜之至少可見光區中的輻射具有一小於約95%的平均透射率。在一實施例中，不透明層對波長在約450nm與約750nm之間的入射電磁輻射具有一小於約95%、小於約60%、小於約50%、或甚至小於約40%的平均透射率。在一實施例中，不透明層對波長在約450nm與約750nm之間的入射電磁輻射具有一大於約0.001%、大於約0.005%、大於約1%、大於約10%、或甚至大於約20%的平均透射率。不透明層可由所屬技術領域中可造成所需的電磁輻射透射率減少之已知材料製成。為了減少光譜可見光區中的電磁輻射的透射率，不透明層可反射一部分電磁輻射，吸收一部分電磁輻射，或可既反射又吸收部分電磁輻射。在一些實施例中，不透明層係選自一不透明薄膜、一不透明塗料或其組合。
不透明層可包括一油墨，其可含有一顏料、染料或其組合。該油墨可以係一100%固態塗布的形式。在一實施例中，該油墨可具有色偏特性或鏡面反射行為。油墨塗料可包括反應性官能基，其可由熱、高能輻射、光化輻射(例如UV輻射)、以及電子束之其中一或多者來硬化及/或交聯。油墨可藉由分散及/或溶解一顏料及/或染料在一適當溶劑(例如水)、一有機溶劑或其組合，配合一選擇性黏合劑 來形成一不透明塗料。不透明塗料可被直接塗布在該反射層的至少一表面上。當溶劑被從不透明塗料移除時，一不透明層係在反射層的表面上成形。若使用一黏合劑，它可藉由暴露於熱或光化輻射(例如紫外線輻射)來進一步硬化或交聯。若反射層具有反射的第一主要表面以及不反射的第二主要表面，不透明塗料係塗布在該不反射表面。不透明塗料可藉由任何所屬技術領域已知方法塗布至該反射層，只要它得到反射層表面上所需的塗料厚度即可。舉例來說，塗布可藉由以下方法實施：輥塗、噴塗、印刷(例如，噴墨印刷、靜電印刷、電子照像印刷、網版印刷、刻版印刷或移印)、轉子凹版塗布、刮刀塗布、簾塗布、量桿塗布(例如，Meyer棒)、柔版印刷及類似者。用於不透明塗料中的溶劑包括所屬技術領域中一般使用的溶劑(包括)但不限於：水、甲醇、乙醇、丙醇、庚烷、甲苯、四氫呋喃、甲基乙基酮、乙酸乙酯及類似者。黏合劑可以係一聚合物黏合劑(包括)但不限於：丙烯酸酯、環氧樹脂、酚樹脂、聚酯、聚醯胺、聚胺甲酸酯(urethane)及類似者。不透明塗料也可塗布在一支撐基材(諸如一聚合基材)上，且該反射層可被層壓至或直接製作在該支撐基材上，一般係在不透明塗料的相反側。舉例來說，不透明塗料可在一聚合基材的第一主要表面上形成，且一鏡面薄膜可經放置在該聚合基材的第二主要表面上。
色素及/或染料也可被分散在一聚合材料中。該聚合材料可接著被製成一薄膜，從而產生呈一不透明薄膜形式的一不透明層。在一實施例中，不透明薄膜可具有色偏特性或鏡面反射行為。不 透明薄膜可藉由所屬技術領域中任何已知方法黏附至該反射層。若反射層具有反射的第一主要表面以及不反射的第二主要表面，不透明薄膜係黏附至該不反射表面。該不透明薄膜可在其形成期間經由一共擠壓程序直接層壓至反射層，例如共擠壓不透明薄膜以及一多層光學薄膜兩者。不透明薄膜可在兩者其中之一的形成期間直接層壓至反射層，例如，不透明薄膜可直接擠壓至一先前製成的多層光學薄膜或鏡面薄膜。在這些情況中，不透明薄膜與反射層之間的黏附可被接受。在其他情況中，一黏著劑(諸如一壓敏黏著劑、熱熔(包括濕硬化熱熔)或熱固物)可被置於不透明薄膜與反射層之間，以將該等材料黏附在一起。也可使用不透明薄膜及/或反射層的黏附底漆/促進劑。反射層也可直接製作在不透明薄膜上。舉例來說，一鏡面薄膜可經放置在該不透明薄膜的一主要表面上。
在一些實施例中，不透明層提供顏色給該薄膜基材。舉例來說，若在包括本發明之薄膜基材的一顯示總成中可見到該不透明層，如此作法會特別有益。用於不透明層的油墨係依據最終產品總成的所需品質或特徵選擇。因此，一般會使用在電磁譜可見光區中產生色彩的油墨，例如：藍色、綠色、黃色、橙色、紅色以及紫色。此外，可使用產生一黑色或白色不透明層的油墨。螢光染料以及顏料也可用在油墨中。市售的彩色分散液的實例包括購自俄亥俄州辛辛那提市的Emerald Hilton Davis Company之商品名為SUPER SEATONE DISPERSIONS的分散液。
不透明層的厚度係依據薄膜基材的所需總厚度與反射層厚度一起選擇。在一些實施例中，不透明層的厚度係大於約0.5微米、大於約1微米、大於約5微米、大於約10微米、或甚至大於約20微米。在一些實施例中，不透明層的厚度係小於約200微米、小於約100微米、小於約80微米、或甚至小於約50微米。在一些實施例中，不透明層具有一介於約0.5微米與約200微米之間的厚度。
組合時，反射層以及不透明層形成具有獨特光學特性的一薄膜基材，其包括將入射電磁輻射之透射率最小化的能力，特別是對波長在約450nm與約750nm之間的入射電磁輻射。在薄膜基材中包括不透明層也可使得薄膜基材能夠提供美觀優點給包括薄膜基板的任何最終總成(包括一顯示總成)。特別是，不透明層可提供顏色至一總成、圍繞一總成之一邊框與外框及/或用以將標記納入一總成的方法。
將薄膜基材100納入一黏性物件之前，反射層120的第一主要表面124及/或不透明層130的第一主要表面134(參見圖1及圖2)可藉由一保護層而不受灰塵、碎屑及/或玷汙的影響，該保護層可以係一薄膜諸如一離型襯墊或保護掩膜(premask)。保護層(諸如離型襯墊或保護掩膜)為所屬技術領域中已知且可不以隨附的黏著劑來使用。它們也可包括一黏著劑(例如一壓敏黏著劑)，以改善對反射層及/或不透明層表面的黏附。保護層也可保護腔穴140不受灰塵以及碎屑的影響。保護層一般係在將薄膜基材納入一黏性物件之前移除。
薄膜基材的厚度係依據將會在其中使用之最終產品的所需總厚度來選擇。在一些實施例中，薄膜基材厚度係大於約1微米、大於約5微米、大於約10微米、大於約20微米、或甚至大於約40微米。在一些實施例中，薄膜基材的厚度係小於約1000微米、小於約500微米、小於約250微米、小於約100微米、或甚至小於約50微米。在一些實施例中，薄膜基材具有一介於約5微米與約250微米之間的厚度。
薄膜基材可包括一或多個腔穴。圖2顯示薄膜基材100的透視剖面圖，其包括反射層120、不透明層130、以及腔穴140。腔穴140自反射層120的第一主要表面124延伸穿過不透明層130的第一主要表面134。腔穴140形成後，在薄膜基材100中生成一腔穴容積。腔穴容積係與薄膜基材100之厚度以及已被移除之該薄膜基材之主要表面的面積有關。若薄膜基材中存在一個以上腔穴，該薄膜基材的總腔穴容積係定義為該薄膜基材中所含個別腔穴的總容積。除非另有指明，本文中指稱的「腔穴容積」，表示該薄膜基材的總腔穴容積。
腔穴的形成容許在光譜的至少可見光區中的電磁輻射在該腔穴區域中實質上無阻礙地透射穿過薄膜基材。在一些應用中，不需使用另一材料填充腔穴。在其他應用中，例如，若薄膜基材係用於一顯示總成中，薄膜基材中的腔穴以及相鄰顯示組件可能會在顯示總成中生成一非所要的光的內部反射區。以折射率接近相鄰顯示組件材料(相較於空氣)之適當材料部分填充或實質上填充該腔穴，可減少光的內部反射。
在一些實施例中，至少一部分的腔穴容積可由一聚合材料填充。在一實施例中，該聚合材料係一黏著劑。在一實施例中，該聚合材料係光學透明。在本揭露中，一聚合材料係光學透明，只要以一25微米厚的樣本測量可展現出至少約90%的光學透射率且霧度值小於約5%。
腔穴容積係至少部分填充。特別是，填充大於約30%、大於約70%、大於約80%、大於約90%或甚至大於約95%的腔穴容積。在一些實施例中，腔穴容積係實質上填充。所謂實質上填充，表示填充大於約99%的腔穴容積。在一實施例中，腔穴容積係由一聚合材料填充，諸如一黏著劑。在另一實施例中，腔穴容積係由一第一聚合材料以及一第二聚合材料填充，諸如一第一黏著劑以及一第二黏著劑。在一些實施例中，第一黏著劑及/或第二黏著劑可以係光學透明。若腔穴容積係由一非黏性聚合材料填充，黏著劑可經設置在反射層120的第一主要表面124以及不透明層130的第一主要表面134，以及填充該腔穴之聚合材料的暴露表面上。
腔穴數量並未特別限制，且係就最終用途應用的需求來選取。各腔室的尺寸及形狀也無特別限制，且係就最終用途應用的需求來選取。舉例來說，各腔穴可以係方形、矩形、三角形、六角形、八角形、圓形及類似者。舉例來說，各腔穴可以係在背發光看板應用中用作標記的字母或符號。一系列腔穴可在薄膜基材中隨機形成或在該薄膜基材中排成一圖案。腔穴的圖案可用來在薄膜基材中生成字母、字詞、形狀、符號及/或所需標記。可使用腔穴形狀的組合。在顯 示總成的應用中，可使用實質上為矩形或方形的單一腔穴，剩餘的薄膜基材提供圍繞顯示總成外部邊緣的一邊框或外框。
腔穴可藉由所屬技術領域中已知技術在薄膜基材中形成，考量到製成薄膜基材的材料以及薄膜基材的厚度。舉例來說，腔穴可藉由晶粒切割、水刀切割、雷射切割及類似者。若反射層或不透明層之一包括一保護層，腔穴也可藉由半切穿(kiss cutting)形成。
一黏性物件可藉由在反射層的第一主要表面上設置一黏著劑、在不透明層的第一主要表面上設置一黏著劑，或在反射層的第一主要表面以及不透明層的第一表面上皆設置一黏著劑而形成。圖3顯示黏性物件200之第一實施例的透視剖面圖，包括薄膜基材100、腔穴140以及設置在反射層120的第一主要表面124的第一黏著劑250。如圖3可看出，第一黏著劑250部分填充腔穴140。圖4顯示黏性物件200之第二實施例的透視剖面圖，包括薄膜基材100、腔穴140以及設置在反射層120的第一主要表面124的第一黏著劑250。在此實施例中，第一黏著劑250實質上填充腔穴140。
在另一實施例中，薄膜基材100的腔穴140(參見圖2)係以第一黏著劑至少部分填充。在又另一實施例中，一第一黏著劑填充腔穴140，而且一第二黏著劑係設置於反射層120的第一主要表面124以及不透明層130的第一主要表面134之至少一者，並選擇性地設置於填充腔穴140之第一黏著劑的暴露表面上。在一實施例中，若第二黏著劑係設置於反射層120的第一主要表面124上，並且選擇性地設置於填充腔穴140之第一黏著劑的暴露表面上，一第三黏著劑 可經設置於不透明層130的第一主要表面134上，並選擇性地設置於填充腔穴140之第一黏著劑的暴露表面上。
圖5顯示黏性物件300的透視剖面圖，包括薄膜基材100、設置於反射層120的第一主要表面124之第一黏著劑250，以及設置於不透明層130的第一主要表面134之第二黏著劑350。若薄膜基材100包括至少一腔穴(未以圖表現之)，第一黏著劑250以及第二黏著劑350之至少一者可至少部分填充該腔穴容積。在一些實施例中，第一黏著劑以及第二黏著劑皆至少部分填充該腔穴容積。第一黏著劑以及第二黏著劑可以係相同黏著劑或不同黏著劑。黏性物件的黏著劑可暫時黏附至一或多個離型襯墊。舉例來說，在一些實施例中，黏性物件可包括設置於第一黏著劑的暴露表面之第一離型襯墊。在另一實施例中，黏性物件可包括設置於第一黏著劑以及第二黏著劑的暴露表面之第一離型襯墊。可使用所屬技術領域中已知的任何離型襯墊，只要它們提供所需離型特徵即可。舉例來說，若第一黏著劑以及第二黏著劑為光學透明黏著劑，在進行相關離型襯墊的移除時應不在該光學透明黏著劑中產生一可見缺陷。
各個黏著劑可以係所屬技術領域中已知的任何黏著劑，只要它符合最終用途應用的要求即可。第一、第二、以及第三黏著劑可以相同或可以不同。在一些實施例中，黏著劑可選自一壓敏黏著劑、一結構或彈性熱固黏著劑、以及熱活化黏著劑(諸如熱熔黏著劑)之至少一者。在一些實施例中，黏著劑可以係光學透明黏著劑。
可用於本揭露之黏性物件中的壓敏黏著劑包括(但不限於)以下列為主者：丙烯酸酯、聚矽氧、腈橡膠、丁基橡膠、天然橡膠、苯乙烯嵌段共聚物、聚胺甲酸酯及類似者。以聚(甲基)丙烯酸酯為主的壓敏黏著劑特別適合。在一實施例中，該壓敏黏著劑係光學透明。舉例來說，此類光學透明壓敏黏著劑的適當實例係描述於美國專利第8,361,632號(Everaerts等人)以及第8,361,633號(Everaerts等人)、美國專利公開第2009/087629號(Everaerts等人)、第2010/0040842號(Everaerts等人)、第2010/0136265號(Everaerts等人)、以及PCT公開第WO 2012/112856號(Xia等人)，所有案件皆以引用方式併入本文中。
如果壓敏黏著劑係一薄膜形式，該壓敏黏著劑可經設置於反射層的第一主要表面及/或不透明層的第一主要表面，經由(例如)一層壓程序形成一黏性物件。在此程序期間，壓敏黏著劑可至少部分填充薄膜基材中的一或多個腔穴。壓敏黏著劑也可切成與腔穴類似的尺寸，以便放入並填充該腔穴，形成一黏性物件。該壓敏黏著劑可以係一轉印帶形式，即一壓敏黏著劑置於離型襯墊之間，或一單一離型襯墊，其中該離型襯墊的前側以及後側兩者皆經由一捲膠帶或兩個獨立離型襯墊與壓敏黏著劑接觸。市售的轉印帶包括可用以下商品名購得者：「3M CONTRAST ENHANCEMENT FILMS」、「3M OPTICALLY CLEAR LAMINATING ADHESIVES」以及「3M OPTICALLY CLEAR ADHESIVES」；包括8100產品系列(例如8146、8171、8187及類似者)、8200產品系列(例如8211、8213、 8215及類似者)，以及產品編號9483；皆購自3M Company,St.Paul,Minnesota。若至少一離型襯墊被移除而暴露壓敏黏著劑的表面，該壓敏黏著劑可被層壓至反射層的第一主要表面及/或不透明層的第一主要表面。剩餘的離型襯墊可留在黏性物件上，以保護黏著劑表面，直到使用時為止。若黏著劑係以一轉印帶形式塗敷，黏著劑的厚度、模數及/或黏彈性特性可影響該黏著劑填充薄膜基材之一腔穴容積的能力。薄膜基材厚度會決定腔穴深度。隨後，若腔穴深度增加，一般來說，可能係要有較厚黏著劑或較低模數黏著劑，或甚至能夠黏性流動的一黏著劑，以便促進腔穴容積由黏著劑填充。壓敏黏著劑可在高溫及/或高壓條件下層壓以促進腔穴容積由該黏著劑填充。壓敏黏著劑可在高溫及/或高壓條件下層壓以促進腔穴容積由該黏著劑填充。若黏性物件包括第一黏著劑以及第二黏著劑兩者，真空層壓技術可能特別有益。
在一些實施例中，壓敏黏著劑可以從一可聚合漿液或可聚合單體溶液的一就地(in-situ)製程中形成。壓敏黏著劑可接著經設置於反射層的第一主要表面上及/或不透明層之第一主要表面上，透過就地塗布以及硬化製程，形成一黏性物件。在此程序期間，黏著劑也可被分散以至少部分填充薄膜基材中的一或多個腔穴。舉例來說，由一可聚合漿液形成之壓敏黏著劑的適當實例係描述於美國專利第4,181,752號(Clemens等人)、第4,364,972號(Moon)、第5,028,484號(Martin等人)、第5,612,136號(Everaerts等人)、第5,708,109號(Bennett等人)、第5,840,783號(Momchilovich等人)、第5,883,193號(Karim)、第7,463,417號(Duncan等人)、第8,361,632 號(Everaerts等人)、美國專利公開第2004/0137222號(Welke等人)以及第2009/087629號(Everaerts等人)、以及PCT公開第WO 2012/112856號(Xia等人)，所有案件皆以引用方式併入本文中。一可聚合漿液包括一或單體、低聚物以及低分子量聚合物的混合物，係藉由部分聚合一單獨、特定單體/單體混合物以及相關硬化起始劑形成，經額外聚合會形成一壓敏黏著劑。一般來說，初始單體/單體混合物將例如藉由暴露於UV輻射而部分聚合，從而得到一在室溫具有一介於約300cps以及約50,000cps的黏度之可聚合漿液。其他成分可添加至該可聚合漿液，諸如額外的單體、交聯劑、可溶於該漿液的低聚物或聚合物。可溶於原始單體/單體混合物中的低聚物以及聚合物，可在部分聚合之前選擇性地添加至該單體/單體混合物。可聚合漿液可被塗布在該薄膜基材上並接著暴露於熱及/或輻射(例如UV輻射)，以進一步聚合該漿液並形成一壓敏黏著劑。若薄膜基材具有至少一腔穴，該可聚合漿液可在塗布程序期間部分填充或實質上填充該腔穴，同時可選擇性地設置於反射層的第一主要表面及/或不透明層的第一主要表面。該漿液進一步聚合後，腔穴容積會至少由形成的壓敏黏著劑部分填充。可聚合漿液可在減壓(即真空)條件下塗布，以促進腔穴容積由可聚合漿液填充並接著形成壓敏黏著劑。在一些實施例中，可聚合漿液將會形成一光學透明壓敏黏著劑。
此外，可聚合漿液可被塗布在離型襯墊之間，並且聚合以形成一轉印帶形式的壓敏黏著劑薄膜。然後壓敏黏著劑可經由一層 壓程序接著被設置於反射層的第一主要表面及/或不透明層的第一主要表面上，如前文所述。
在其他實施例中，壓敏黏著劑可在一就地製程中由一可聚合單體溶液形成。一可聚合單體溶液包括一或單體與相關硬化起始劑及/或硬化劑，以及選擇性的低聚物及/或可溶於單體混合物中的聚合物，經硬化會形成一壓敏黏著劑。可聚合單體溶液可被塗布在薄膜基材上，並接著暴露於熱及/或輻射(例如UV輻射)以硬化該可聚合單體溶液並形成一壓敏黏著劑。若薄膜基材具有至少一腔穴，可聚合單體溶液可在塗布程序期間部分填充或實質上填充該腔穴，同時可選擇性地設置於反射層的第一主要表面及/或不透明層的第一主要表面上。該單體溶液進一步聚合後，腔穴容積會至少由形成的壓敏黏著劑部分填充。可聚合單體溶液可在減壓(即真空)條件下塗布，以促進腔穴容積由可聚合單體溶液填充並接著形成壓敏黏著劑。在一些實施例中，可聚合單體溶液會形成一光學透明壓敏黏著劑。在此情況中，單體混合物有時會稱為液態光學透明黏著劑(LOCA)。舉例來說，此類LOCA的適當實例係描述於PCT公開第WO 2010/111316號(Busman等人)以及第WO 2012/087804號(Everaerts等人)，所有案件皆以引用方式併入本文中。雖然可聚合單體溶液可形成一壓敏黏著劑，其他可聚合單體溶液可形成一非膠黏的黏著劑薄膜。
熱活化黏著劑係在室溫或使用溫度下可充當一黏著劑的黏著劑(例如一壓敏黏著劑或結構黏著劑)，同時在高溫下具有流動能力，類似一液體。熱活化黏著劑包括熱熔黏著劑，半晶質或非晶質的 黏著劑，並且當它們被加熱至高於其結晶熔化溫度Tm及/或高於其玻璃轉移溫度Tg時能夠流動。一旦冷卻回復低於其Tm及/或Tg的溫度時，熱熔黏著劑固化並提供黏著特性。熱熔黏著劑可包括聚胺甲酸酯、聚醯胺、聚酯、聚丙烯酸酯、聚烯烴、聚碳酸酯以及環氧樹脂之至少一者。熱熔黏著劑可能會被硬化。硬化該熱熔黏著劑可包括濕硬化、熱硬化以及光化輻射硬化之至少一者。熱活化黏著劑可包括以下文件所揭示者：美國專利公開第2012/0325402號(Suwa等人)以及美國專利第7,008,680號(Everaerts等人)以及第5,905,099號(Everaerts等人)，所有案件皆以引用方式併入本文中。
熱活化黏著劑可被層壓至薄膜基材，形成一黏性物件。熱活化黏著劑可在高溫(以及選擇性地高壓)條件之下被層壓至該薄膜基材。在此程序中，熱活化黏著劑可以係薄膜形式。所用溫度一般係由該熱活化黏著劑的流動溫度決定，其可和該熱活化黏著劑或其內對應成分的Tm及/或Tg有關。一般來說，層壓會發生在高於流動溫度的溫度發生，容許黏著劑充分流動，同時並不會不利地影響該薄膜基材。在一些情況中，熱活化黏著劑可在高溫及/或低壓(即，真空)條件下經層壓，以促進腔穴容積由黏著劑填充。在一些實施例中，若黏性物件的薄膜基材包括一腔穴，層壓程序期間熱活化黏著劑可流動，容許腔穴容積至少部分由黏著劑填充。
熱活化黏著劑也可被切成與腔穴類似的尺寸，以便放入並填充該腔穴，形成一黏性物件。熱活化黏著劑可在此程序期間流動，容許腔穴容積至少部分由黏著劑填充。在流動期間，熱活化黏著 劑也可塗布或被設置於反射層的第一主要表面及/或不透明層的第一主要表面。
若一腔穴出現在該薄膜基材中，黏著劑厚度係依據它會在其中使用之最終產品的所需總厚度而選擇，若黏著劑至少部分填充或質實上填充該腔穴容積，則黏著劑厚度係依據薄膜基材的厚度而選擇。在一實施例中，黏著劑厚度係大於約5微米、大於約10微米、大於約20微米或甚至大於約40微米。在一實施例中，黏著劑厚度係小於約500微米、小於約200微米、小於約100微米、小於約75微米或甚至小於約50微米。
為進一步最佳化黏著劑的黏著表現，黏著促進添加劑(例如矽烷以及鈦酸酯)也可被納入本揭露的黏著劑中。此類添加劑可促進黏著劑與基材之間的黏附，舉例來說，一LCD的玻璃與三乙酸纖維素之間的黏附，藉由矽醇、羥基，或基材中的其他反應性基團耦合而達成。矽烷以及鈦酸酯可僅在連接至一黏性可共聚基或交互作用基之Si或Ti原子上具有烷氧基取代。或者，矽烷以及鈦酸酯可在連接至一黏性可共聚基或交互作用基之Si或Ti原子上具有烷基以及烷氧基取代兩者。黏性可共聚基一般係一丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯基，但也可使用乙烯基以及丙烯基。或者，矽烷或鈦酸酯也可與黏著劑中的官能基反應，諸如羥烷基(甲基)丙烯酸酯。此外，矽烷或鈦酸酯可具有一或多個提供與黏著劑基質強交互作用之基團。此強交互作用的實例包括氫鍵結、離子交互作用、以及酸鹼交互作用。適合矽烷的實例包括(但不限於)(3-環氧丙基氧基丙基)三甲氧基矽烷。
壓敏黏著劑可原本即黏稠。若需要，形成壓敏黏著劑之前增黏劑可添加至該前驅物混合物。舉例來說，有用的增黏劑包括松酯樹脂、芳烴樹脂、脂族烴樹脂、以及萜烯樹脂。一般而言，可使用選自氫化松酯、萜烯，或芳烴樹脂的淺色增黏劑。
可添加至該黏著劑的其他材料，通常是在其製造期間，為特殊用途，包括(例如)油類、塑化劑、抗氧化劑、UV穩定劑、防腐劑、顏料、硬化劑、聚合物添加劑、黏度改質劑，例如，觸變劑諸如矽土以及黏土、有機以及無機奈米微粒以及其他添加劑，只要它們並不顯著減少該壓敏黏著劑所需特性(例如光學透明度)即可。
在一實施例中，一種製造本揭露的一黏性物件之方法，包括提供一薄膜基材，其包括具有一第一主要表面以及一第二主要表面之一反射層，以及具有一第一主要表面以及一第二主要表面之一不透明層，其中不透明層的第二主要表面係緊鄰反射層的第二主要表面放置；形成一或多個腔穴，該等腔穴自反射層的第一主要表面延伸至不透明層的第一主要表面；提供一第一黏著劑；設置該第一黏著劑在反射層的第一主要表面以及不透明層的第一主要表面之至少一者的至少一部分之上；以及以該第一黏著劑至少部分填充腔穴容積。在一實施例中，腔穴容積係由第一黏著劑實質上填充。
在又另一實施例中，一種製造一黏性物件之方法包括提供一薄膜基材，其包括具有一第一主要表面以及一第二主要表面之一反射層，以及具有一第一主要表面以及一第二主要表面之一不透明層，其中不透明層的第二主要表面係緊鄰反射層的第二主要表面放 置；切割一或多個腔穴，該等腔穴自反射層的第一主要表面延伸至不透明層的第一主要表面；提供一可聚合漿液；塗布該可聚合漿液在反射層的第一主要表面以及不透明層的第一主要表面之至少一者的至少一部分之上；以該可聚合漿液至少部分填充腔穴容積；以及聚合該可聚合漿液以形成一第一黏著劑，例如一壓敏黏著劑。在一些實施例中，腔穴容積係由該可聚合漿液實質上填充，在聚合後，腔穴容積係由該黏著劑實質上填充。在上述方法中，聚合物漿液可用一可聚合單體溶液取代。
此外，可聚合單體溶液以及可聚合漿液組成可經調整，以致形成(聚合之後)一不黏稠聚合物。在此情況中，較佳係將至少一黏著劑設置於反射層以及不透明層之至少一者之上。黏著劑可由使用一可聚合漿液或可聚合單體溶液的就地塗布及硬化程序製成，或者，可採一壓敏黏著劑轉印帶的形式，該轉印帶可被層壓至該反射層以及不透明層。
在另一實施例中，一種製造一黏性物件之方法包括：提供一薄膜基材，其包括具有一第一主要表面以及一第二主要表面之一反射層，以及具有一第一主要表面以及一第二主要表面之一不透明層，其中不透明層的第二主要表面係緊鄰反射層的第二主要表面放置；切割一或多個腔穴，該等腔穴自反射層的第一主要表面延伸至不透明層的第一主要表面；提供一熱活化黏著劑；於高溫條件下層壓該熱活化黏著劑在反射層的第一主要表面以及不透明層的第一主要表面之至少一者的至少一部分之上，以致熱活化黏著劑流動；以該熱活化 黏著劑至少部分填充腔穴容積；以及選擇性地，冷卻該熱活化黏著劑至室溫。
在所揭示製造一黏性物件的任何方法中，該方法可進一步包括如下步驟：提供一第二黏著劑並將該第二黏著劑設置於反射層的第一主要表面以及不透明層的第一主要表面之至少一者的至少一部分之上。在一些實施例中，若第一黏著劑係設置於反射層的第一主要表面上，則第二黏著劑係設置於不透明層的第二主要表面上。在其他實施例中，若第一黏著劑係設置於不透明層的第一主要表面上，則第二黏著劑係置於反射層的第一主要表面上。黏著劑以及其相應沉積技術可相同或不相同。舉例來說，若第一黏著劑係壓敏黏著劑、可聚合漿液、可聚合單體溶液，以及熱活化黏著劑之中一者。第二黏著劑可以係一壓敏黏著劑、一可聚合漿液、一可聚合單體溶液，以及一熱活化黏著劑之中一者。在一些實施例中，腔穴容積可由第二黏著劑至少部分填充。在一些實施例中，腔穴容積可由第一黏著劑以及第二黏著劑實質上填充。製造一黏性物件的方法可包括層壓及/或塗布技術，其包括高溫、高壓及其組合，或高溫、低壓(即，真空)及其組合。
所屬技術領域中具有通常知識者可看出本揭露的黏性物件可藉由多種方法形成，包括上述的方法。然而，應理解這些方法可有許多變異以及修飾而同時保留在本揭露的範疇內。
本揭露的黏性物件可用來形成顯示組件，此係藉由透過黏性物件的黏著將一顯示元件黏附至該黏性物件。在一實施例中，一顯示組件包括一黏性物件，其具有一第一黏著劑以及黏附至第一黏著 劑之一第一顯示元件。圖6顯示顯示組件400包括黏性物件200以及第一顯示元件410。黏性物件200包括薄膜基材100，其具有反射層120、不透明層130以及第一黏著劑250。第一黏著劑250係黏附至反射層120的第一主要表面124，並且部分填充腔穴140。雖然圖6描繪第一黏著劑250為僅部分填充腔穴140，在一些實施例中，第一黏著劑250可實質上填充腔穴140。第一顯示元件410係透過第一黏著劑250黏附至黏性物件200。在另一實施例中，第一黏著劑250可經設置於不透明層130的第一主要表面134上，而不是反射層120的第一主要表面124。第一顯示元件410接著可透過設置於不透明層130的第一主要表面134上的第一黏著劑250黏附至黏性物件200。
在又另一實施例中，一顯示組件包括一黏性物件，其具有一第一黏著劑、一第二黏著劑、黏附至該第一黏著劑的一第一顯示元件以及黏附至該第二黏著劑的一第二顯示元件。圖7顯示一顯示組件500，其包括黏性物件300。黏性物件300包括薄膜基材100，其具有反射層120以及不透明層130，其中第一黏著劑250設置於反射層120的第一主要表面124上且第二黏著劑350設置於不透明層130的第一主要表面134上。薄膜基材100可包括一腔穴，未以圖表現之。若薄膜基材100包括至少一腔穴，第一黏著劑250以及第二黏著劑350之至少一者可至少部分填充或實質上填充該腔穴容積。在一些實施例中，第一黏著劑250以及第二黏著劑350皆至少部分填充或實質上填充該腔穴容積。第一顯示元件410係透過第一黏著劑250黏附至 黏性物件300。第二顯示元件510係透過第二黏著劑350黏附至黏性物件300。
將一黏性物件200或300納入一顯示組件之前，可用一保護層(其可以係一薄膜，例如一離型襯墊)保護未黏附至薄膜基材100的第一黏著劑250的表面，以及未黏附至薄膜基材100的第二黏著劑350的表面(若有用到的話)，使其不受灰塵、碎屑及/或玷汙的影響。保護層(諸如離型襯墊)為所屬技術領域中已知。保護層一般係在將黏性物件納入一顯示組件的前一刻才移除。
用於本揭露之顯示組件中的顯示元件，可以係所屬技術領域已知的任何顯示元件。舉例來說，顯示元件可選自下列至少一者：顯示模組、相機模組、保護層、偏光片、光學濾鏡(例如，紫外線及紅外線凹口濾波器反射膜)、抗反射薄膜、硬塗薄膜、對比強化膜、防窺膜以及EMI/RF屏蔽層。任何顯示元件可以係光學透明。在一實施例中，顯示模組可以係一電子裝置的部分並包括一影像形成組件。一般而言，一顯示模組的影像形成區就是包括用於以影像、數字或文字形式呈現資訊之方法的區域。在電子顯示模組中，資訊一般係可變的。在一些實施例中，影像形成區也可以係觸敏式，即該顯示模組包括一觸控螢幕顯示器。在一實施例中，顯示模組可以係一電子顯示模組。一電子顯示模組可以係資訊的任何可見顯示器，其係與一電子裝置之一部分或與其電子通訊。電子顯示模組的實例包括(但不限於)：含電激發光(EL)燈、發光二極體(LED)、有機發光二極體(OLED)的平面顯示器、或以及生成可見輻射的電漿組件，通常係在一矩陣顯 示器中。電子顯示模組的其他實例包括反射或背光液晶顯示器(LCD)。電子顯示模組的又其他實例包括反射顯示器(諸如電泳(EP)顯示器或電濕潤顯示器)。顯示模組具有一可視或影像形成區，其可包含該顯示模組的全部面積或例如可透過在一殼體中的開口或透過一外框或邊框看見顯示模組的一些部分。舉例來說，本揭露之擁有與顯示模組大致相同長度以及寬度的一薄膜基材，可製成有具稍小長度以及寬度之一腔穴。當黏附至顯示模組時(以薄膜基材的周邊與顯示模組的周邊對齊)，具腔穴的薄膜基材可經由相關連不透明層以及反射層而圍繞該顯示模組邊緣提供一外框或邊框，即一遮光區。
用來作為一顯示組件的保護層並未特別受限，只要它可用作適合保護顯示組件之其他構件的保護膜即可。保護層可由一聚合物薄膜或一玻璃板構成，或可由複數個層構成。舉例來說，保護層可以係由聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)製成的一丙烯酸樹脂薄膜、一聚碳酸酯樹脂薄膜、環聚烯烴薄膜、三乙酸纖維素(TAC)薄膜、聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、聚對萘二甲酸乙二酯(PEN)或一玻璃板。薄膜或玻璃板的厚度並未特別受限，並且通常係由0.1至5mm。保護層可以係一手持裝置的蓋玻璃或透鏡。保護層可以係平面，可以係曲面，或可含輪廓特徵。若保護層係由複數個層構成的層板，它可能提供一層用於賦予多個功能以及特徵，諸如耐磨性、耐刮性、防污特性、抗反射特性以及抗靜電特性。
在一實施例中，一種製造一顯示組件的方法包括：提供根據本揭露的一黏性物件；提供一第一顯示元件；以及經由該黏性物 件的一黏著劑將第一顯示元件黏附至黏性物件。在另一實施例中，一種製造一顯示組件的方法包括：提供具有一第一黏著劑以及一第二黏著劑的一黏性物件；提供一第一顯示元件；經由該第一黏著劑將第一顯示元件黏附至黏性物件；提供一第二顯示元件並經由第二黏著劑將第二顯示元件黏附至該黏性物件。
實例
本揭露的物件以及方法將參照以下詳細實例進一步描述。提供這些實例以進一步繪示各種特定以及較佳實施例與技術。然而，應理解可有許多變異以及修飾而同時保留在本揭露的範疇內。
材料
測試方法以及準備程序 光學性質測試
不同薄膜樣本的光學性質、百分比透射率以及百分比反射率係使用購自Hunter Associates Laboratory,Inc.,Reston,Virginia之HunterLab Ultrascan Pro測量。樣本係以350nm至800nm的波長掃描。薄膜樣本(約80mm×80mm)係裝入設備。若樣本具一反射層以及一不透明層，反射層的安裝方式係使它面對入射光。若樣本僅具有一不透明層塗布在一背襯(即沒有反射層)上，不透明層的安裝方式係使它面對入射光。
塗布程序
各種背襯(包括ESR2、PET1以及PMMA1)使用以下塗布程序以Disp1和Disp2塗布。一張約6吋(15.2cm)×18吋(45.7cm)的背襯係使用一#3 Meyer棒適當分散塗布。已塗布薄板係任其在室溫下乾燥至少12小時。乾燥後，Disp1的塗料厚度係約0.15密耳(3.8微米)。乾燥後，Disp2的塗料厚度係約0.15密耳(3.8微米)。當使用ESR2做為背襯時，移除保護掩膜並以適當分散液塗布暴露表面。
薄膜基材1的製備
使用上述塗布程序，用Disp1塗布ESR2來製備薄膜基材1，以產生一具有一反射層(ESR2)以及一不透明層(乾燥的Disp1)兩者之薄膜基材。
薄膜基材2的製備
使用上述塗布程序，用Disp2塗布ESR2來製備薄膜基材2，以產生一具有一反射層(ESR2)以及一不透明層(乾燥的Disp2)之薄膜基材。
比較例1-3(CE-1、CE2以及CE-3)
CE-1就是原樣取得之PET1。CE-2就是以Disp1塗布(使用上述塗布程序)的PET1。CE-3就是以Disp2塗布(使用上述塗布程序)的PET1。
比較實例4至6(CE-4、CE5以及CE-6)
CE-4就是原樣取得之PMMA1。CE-5就是以Disp1塗布(使用上述塗布程序)的PMMA1。CE-3就是以Disp2塗布(使用上述塗布程序)的PMMA1。
實例7
將一片OCA8146-1(尺寸約70mm×100mm)手動層壓至具相似長寬且厚度約為1mm的一玻璃板。OCA8146-1的黏著 劑係一壓敏黏著劑，配有具不同離型特性的兩個離型襯墊。OCA8146-1的離型襯墊包括一「簡易」離型襯墊，即比OCA8146-1另一離型襯墊需要較低離型力。在製作程序期間，將「簡易」離型襯墊從OCA8146-1移除，且將壓敏黏著劑的暴露表面層壓至玻璃板。OCA8146-1的第二離型襯墊在此時尚未移除。一片薄膜基材1被切成相似尺寸。在薄膜基材1中使用傳統晶粒切割技術切出一矩形腔穴(尺寸約56mm x 84mm)。移除OCA8146-1的第二離型襯墊，且將薄膜基材1(具有腔穴)手動層壓至OCA8146-1的暴露黏性表面，從而圍繞OCA8146-1/玻璃板層板外部邊緣製成一包含薄膜基材1之邊框，製成實例7。在實例7中，OCA8146-1係被層壓至薄膜基材1的不透明塗布側。層壓期間施加足夠壓力使得大於30%的腔穴容積係由OCA8146-1填充。
實例8
藉由移除OCA8187的「簡易」離型襯墊並將該黏著劑之暴露表面手動層壓至ESR2的反射表面，而將一第二黏著劑OCA8187(尺寸約70mm x 100mm)層壓至實例7之ESR2的暴露反射表面，從而製成實例8。請注意，OCA8187的黏著劑係一壓敏黏著劑，配有具不同離型特性的兩個離型襯墊。在層壓程序期間，OCA8146-1以及OCA8187的暴露黏性表面，在薄膜基材1的腔穴區域中，也被層壓在一起。兩個黏著劑OCA8146-1以及OCA8187填充至少95%的腔穴容積。
實例9
實例9的製備與實例7完全相同，除了是使用薄膜基材2取代薄膜基材1。
實例10
實例10的製備與實例8完全相同，除了是使用實例9取代實例7。兩個黏著劑OCA8146-1以及OCA8187填充至少95%的腔穴容積。
實例11
將一片薄膜基材1(尺寸約57mm×109mm，具有51mm×78mm大小的腔穴)手動層壓至已移除「簡易」離型襯墊之類似大小的一片OCA8146-1(無腔穴)，製成實例11。黏著劑係黏附至薄膜基材1的不透明塗布側。層壓期間施加足夠壓力使得大於30%的腔穴容積係由OCA8146-1填充。
實例12
為保護在實例11之腔穴區域的暴露黏著劑不受灰塵及/或微粒的影響，將自實例11之OCA8146-1移除的「簡易」離型襯墊手動層壓回暴露黏性表面，製成實例12。
實例13
將一片薄膜基材1(尺寸約為57mm x 109mm，具有51mm x 78mm大小的腔穴)手動層壓至已移除「簡易」離型襯墊之類似大小的一片OCA8146-1(無腔穴)。黏著劑係黏附至薄膜基材1的不透明塗布側。將已移除「簡易」離型襯墊且長寬與薄膜基材1類似的一片OCA8187手動層壓至薄膜基材1暴露的反射表面，製成實例13。在第二層壓步驟期間，OCA8146-1以及OCA8187的暴露黏性表面，在薄膜基材1的腔穴區域中，也被層壓在一起。兩個黏著劑OCA8146-1以及OCA8187填充至少95%的腔穴容積。
實例14
使用實例13的層板，移除剩餘的OCA8146-1之離型襯墊，且將該層板結構手動層壓至尺寸約為57mm×109mm×1mm的玻璃板，製成實例14。
實例15
將一片薄膜基材1手動層壓至已移除「簡易」離型襯墊的一片OCA8146-1。黏著劑係黏附至薄膜基材1的不透明塗布側。
實例16
將一片薄膜基材2手動層壓至已移除「簡易」離型襯墊的一片OCA8146-1。黏著劑係黏附至薄膜基材2的不透明塗布側。
使用上述光學性質測試，對ESR2、薄膜基材1、薄膜基材2、CE1至CE6以及實例15與16，測量波長介於450nm與750nm之間的平均透射率，以及波長介於450nm與750nm之間的平均反射率。結果顯示於表1。
表1的資料顯示，薄膜基材1以及薄膜基材2，兩者皆包括一反射層以及一不透明層，提供對於波長在450nm與750nm之間的電磁輻射之低透射率及高反射率。實例15以及16的黏性物件之每一者分別包括薄膜基材1以及薄膜基材2，對波長在450nm與750nm之間的電磁輻射也展現低透射率，並含一反射層，其反射大於98%之波長在450nm與750nm之間的電磁輻射。對照之下，比較實例(不包括一反射層或一不透明層之中至少一者)都不能對波長在450nm與750nm之間的電磁輻射提供低透射率以及高反射率。
雖然本發明已參照較佳的實施例加以描述，所屬技術領域具一般能力者應能理解形式及細節可改變而不會偏離本發明的精神及範疇。
100‧‧‧薄膜基材
120‧‧‧反射層
124‧‧‧第一主要表面
126‧‧‧第二主要表面
130‧‧‧不透明層
134‧‧‧第一主要表面
136‧‧‧第二主要表面

Claims (20)

  1. 一種黏性物件，其包含：一薄膜基材，其包含：一反射層，其具有第一以及第二主要表面，其中波長在約450nm與約750nm之間的入射電磁輻射自該反射層之至少該第一主要表面反射時，具有一大於約50%的平均反射率；以及一不透明層，其具有第一以及第二主要表面，其中該不透明層的該第二主要表面係緊鄰該反射層的該第二主要表面放置；以及一第一黏著劑；其中該薄膜基材對波長在約450nm與約750nm之間之電磁輻射具有一小於約20%的平均透射率，其中該薄膜基材包括一腔穴，其從該反射層的該第一主要表面延伸至該不透明層的該第一主要表面，且其中該腔穴的一容積係由該第一黏著劑至少部分填充。
  2. 如請求項1之黏性物件，其中該第一黏著劑係經設置於該反射層的該第一主要表面以及該不透明層的該第一主要表面之其中一者的至少一部分之上。
  3. 如請求項2之黏性物件，其中該不透明層係一不透明薄膜、一不透明塗料或其組合。
  4. 如請求項2之黏性物件，其中該反射層係一多層光學薄膜、一鏡面薄膜或其組合。
  5. 如請求項4之黏性物件，其中該反射層係一多層光學薄膜且其中該多層光學薄膜係在約2層與10,000層之間。
  6. 如請求項2之黏性物件，其中該薄膜基材對波長在約450nm與約750nm之間之電磁輻射具有一小於約10%的平均透射率。
  7. 如請求項2之黏性物件，其中波長在約450nm與約750nm之間的入射電磁輻射自該反射層之至少該第一主要表面反射時，具有一大於約90%的平均反射率。
  8. 如請求項2之黏性物件，其中該薄膜基材之厚度在約5微米與約250微米之間。
  9. 如請求項2之黏性物件，其中該不透明層之厚度在約0.5微米與約200微米之間。
  10. 如請求項2之黏性物件，其中該第一黏著劑係一光學透明黏著劑。
  11. 如請求項2之黏性物件，其中該第一黏著劑係選自一壓敏黏著劑、一結構或彈性熱固黏著劑、以及一熱活化黏著劑中之至少一者。
  12. 如請求項2之黏性物件，其中該腔穴容積係由該第一黏著劑實質上填充。
  13. 如請求項2之黏性物件，其進一步包含一第二黏著劑，其中該第二黏著劑係經設置於該反射層的該第一主要表面以及該不透明層的該第一主要表面之其中一者的至少一部分之上。
  14. 如請求項13之黏性物件，其中該腔穴係由該第二黏著劑至少部分填充。
  15. 如請求項13之黏性物件，其中該腔穴係由該第一黏著劑以及該第二黏著劑實質上填充。
  16. 一種包含如請求項2之黏性物件之顯示組件，其具有黏附至該黏性物件的第一黏著劑之一第一顯示元件。
  17. 如請求項16之顯示組件，其中該第一顯示元件係選自下列中之一者：一顯示模組、相機模組、保護層、偏光片、濾光器、抗反射薄膜、硬塗薄膜、對比強化膜、防窺膜(privacy film)以及EMI/RF屏蔽層。
  18. 如請求項16之顯示組件，其進一步包含一第二黏著劑以及黏附至該 第二黏著劑之一第二顯示元件，其中該第二黏著劑係經設置於反射層的第一主要表面以及不透明層的第一主要表面之其中一者的至少一部分之上。
  19. 如請求項18之顯示組件，其中該第二顯示元件係選自下列中之一者：一顯示模組、相機模組、保護層、偏光片、濾光器、抗反射薄膜、硬塗薄膜、對比強化膜、防窺膜以及EMI/RF屏蔽層。
  20. 一種用於製造一顯示組件之方法，其包含：提供如請求項2之黏性物件；提供一第一顯示元件；以及將該第一顯示元件黏附至該黏性物件的第一黏著劑。
TW103131801A 2013-09-16 2014-09-15 具有遮光薄膜基材的黏性物件，及其製造方法與所得物件 TW201522080A (zh)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US14/027,351 US20150077873A1 (en) 2013-09-16 2013-09-16 Adhesive articles containing light shielding film substrates, method of making thereof and articles therefrom

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW201522080A true TW201522080A (zh) 2015-06-16

Family

ID=51626159

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW103131801A TW201522080A (zh) 2013-09-16 2014-09-15 具有遮光薄膜基材的黏性物件，及其製造方法與所得物件

Country Status (3)

Country Link
US (1) US20150077873A1 (zh)
TW (1) TW201522080A (zh)
WO (1) WO2015038848A1 (zh)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102230048B1 (ko) * 2014-01-23 2021-03-22 삼성디스플레이 주식회사 플레이트 구조물 및 그 제조방법
US20160335581A1 (en) * 2015-05-15 2016-11-17 Wal-Mart Stores, Inc. Systems, devices, and methods for controlling an electronic display device to render a graphical user interface with selectively obfuscated portions to protect confidential or private information
KR102610028B1 (ko) * 2016-04-12 2023-12-06 삼성디스플레이 주식회사 디스플레이 장치
US9930229B2 (en) * 2016-07-14 2018-03-27 Omnivision Technologies, Inc. EMI shield with a lens-sized aperture for camera modules and camera modules including the same
US10146090B2 (en) 2016-08-01 2018-12-04 Microsoft Technology Licensing, Llc Minimizing border of a display device
US11203182B2 (en) * 2017-01-17 2021-12-21 Sekisui Chemical Co., Ltd. Filling-bonding material, protective sheet-equipped filling-bonding material, laminated body, optical device, and protective panel for optical device
KR101938526B1 (ko) * 2017-09-15 2019-01-15 박희대 나노 실리카가 배합된 접착력이 우수한 열가소성 핫멜트 필름
US20220219403A1 (en) * 2019-08-06 2022-07-14 Showa Denko K.K. Primer-equipped thermoplastic resin member, and resin-resin conjugate

Family Cites Families (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4181752A (en) 1974-09-03 1980-01-01 Minnesota Mining And Manufacturing Company Acrylic-type pressure sensitive adhesives by means of ultraviolet radiation curing
US4364972A (en) 1981-01-16 1982-12-21 Minnesota Mining And Manufacturing Company Pressure-sensitive adhesive copolymers of acrylic acid ester and N-vinyl pyrrolidone
US5028484A (en) 1987-08-14 1991-07-02 Minnesota Mining And Manufacturing Company Pressure-sensitive adhesive
CA2118960A1 (en) 1993-03-16 1994-09-17 Albert I. Everaerts Pressure-sensitive adhesives having improved adhesion to acid-rain resistant automotive paints
US5616670A (en) 1993-11-10 1997-04-01 Minnesota Mining And Manufacturing Company Pressure sensitive adhesives with good oily surface adhesion
US5882774A (en) 1993-12-21 1999-03-16 Minnesota Mining And Manufacturing Company Optical film
US5668663A (en) * 1994-05-05 1997-09-16 Donnelly Corporation Electrochromic mirrors and devices
CN1098905C (zh) 1995-04-24 2003-01-15 美国3M公司 用于聚烯烃表面的压敏粘合剂
CN1106937C (zh) 1995-06-26 2003-04-30 美国3M公司 带有附加涂层或附加层的多层聚合物薄膜
US5905099A (en) 1995-11-06 1999-05-18 Minnesota Mining And Manufacturing Company Heat-activatable adhesive composition
US5883193A (en) 1997-07-01 1999-03-16 Minnesota Mining And Manufacturing Company Adhesive compositions with durability under conditions of high humidity
US6157490A (en) 1998-01-13 2000-12-05 3M Innovative Properties Company Optical film with sharpened bandedge
US20040137222A1 (en) 2001-03-30 2004-07-15 Welke Siegfried K. Transparent pressure-sensitive adhesive layer
US7008680B2 (en) 2003-07-03 2006-03-07 3M Innovative Properties Company Heat-activatable adhesive
US20060065350A1 (en) * 2004-09-27 2006-03-30 Guardian Industries Corp. Method of making heat treated coated glass article, and intermediate product used in same
EP1945731B1 (en) * 2005-10-20 2011-03-09 LG Chem, Ltd. Pressure-sensitive adhesive composition
US20070190343A1 (en) * 2006-02-03 2007-08-16 Gelest Technologies Inc. Bird-deterrent glass coatings
US7463417B2 (en) 2006-02-13 2008-12-09 3M Innovative Properties Company Optical articles from curable compositions
WO2008128073A2 (en) 2007-04-13 2008-10-23 3M Innovative Properties Company Antistatic optically clear pressure sensitive adhesive
KR101047925B1 (ko) * 2007-04-19 2011-07-08 주식회사 엘지화학 아크릴계 점착제 조성물 및 이를 포함하는 편광판
US20090087629A1 (en) 2007-09-28 2009-04-02 Everaerts Albert I Indium-tin-oxide compatible optically clear adhesive
US20100040842A1 (en) 2008-08-12 2010-02-18 3M Innovative Properties Company Adhesives compatible with corrosion sensitive layers
US8361632B2 (en) 2008-10-03 2013-01-29 3M Innovative Properties Company Cloud point-resistant adhesives and laminates
US8361633B2 (en) 2008-10-03 2013-01-29 3M Innovative Properties Company Cloud point-resistant adhesives and laminates
WO2010111316A2 (en) 2009-03-27 2010-09-30 3M Innovative Properties Company Optical assembly having a display panel and methods of making and disassembling same
US8920592B2 (en) 2010-03-09 2014-12-30 3M Innovation Properties Company Heat activated optically clear adhesive for bonding display panels
KR20130130698A (ko) * 2010-08-18 2013-12-02 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 응력 제거 광학 접착제를 포함하는 광학 조립체 및 그의 제조 방법
US20130271828A1 (en) 2010-12-21 2013-10-17 3M Innovative Properties Company Articles having optical adhesives and method of making same
TWI534235B (zh) 2011-02-18 2016-05-21 ３Ｍ新設資產公司 光學透明黏著劑，其使用方法，及得自其之物件

Also Published As

Publication number Publication date
WO2015038848A1 (en) 2015-03-19
US20150077873A1 (en) 2015-03-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW201522080A (zh) 具有遮光薄膜基材的黏性物件，及其製造方法與所得物件
JP5332599B2 (ja) 偏光板、その製造方法及びそれを用いた複合偏光板
JP6042576B2 (ja) 偏光板の製造方法
TWI660855B (zh) 具有透明黏著劑層及圖案化透明導電層的偏光薄膜層積體、和液晶面板及有機ｅｌ面板
JP6664866B2 (ja) 偏光板のセット及び前面板一体型液晶表示パネル
KR101727871B1 (ko) 편광판의 셋트 및 전면판 일체형 액정 표시 패널
TW201741144A (zh) 光學積層體及其製造方法、前面板、及圖像顯示裝置
WO2017014242A1 (ja) 透明な粘着剤層を有する偏光フィルム積層体及び表示パネル
US9606394B2 (en) Set of polarizing plates and front-plate-integrated liquid crystal display panel
JP2012102312A (ja) 光学式複合感圧粘着物と光学式複合感圧粘着物を有する装置
KR102278332B1 (ko) 편광판 및 표시 장치
KR20080074706A (ko) 광학 필름체 및 광학 필름체의 제조 방법
JP6076419B2 (ja) 透明な粘着剤層を有する導電性フィルム積層体
KR102242306B1 (ko) 편광판의 제조 방법
US10307985B2 (en) Adhesives to replace ink step bezels in electronic devices
JP2005126624A (ja) 遮光用両面粘着テープ
US20210333911A1 (en) Touch Display Device
JP2008197310A (ja) 薄型偏光板、複合偏光板、画像表示装置、及び複合偏光板の製造方法
JP6061774B2 (ja) 飛散防止フィルム及び画像表示パネル
JP2008134385A (ja) 液晶表示用偏光板
TWI703381B (zh) 偏光板以及包括偏光板的光學顯示器
WO2017014088A1 (ja) 透明な粘着剤層を有する導電性フィルム積層体
TW202109085A (zh) 光學積層體
JP6819156B2 (ja) 液晶表示装置
KR102454310B1 (ko) 편광 필름, 광학 적층체, 및 화상 표시 장치