TW201211265A - Feeding system for reduced iron material - Google Patents

Description

201211265 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於-種將含有碳質還元劑與氧化鐵且成形 為塊狀之塊狀化物作為還元鐵原料而供給至移動式還元溶 融爐之還元鐵原料供給系統。 【先前技術】 圖12表示將以碳質還元劑與氧化鐵為主要成分之粒狀 之還元鐵原料供給至移動忒幢义 妗 弋爐床爐的先别之還元鐵原料供 、、’σ裝置之構成。 圖12中’已藉由乾燥機而乾燥之粒狀之還元鐵原州以 下，稱為顆粒）Ρ係藉ώ播 料供給褒置51。 冑式輸送機5〇而搬送至還元鐵原 於兮^、：鐵^料供給I置5 1主要由原料收容料斗52、配置 體之頂I::::: 52下方之筒狀構件53、以及設置於爐本 動氣使上述筒狀構件53上下移動之複數個電 構件53夕動'缸Μ係使筒狀構件53升降以調整上述筒狀 -面將顆+下端與爐床56之間隙τ’藉此而-面調整供給量 面將顆粒Ρ供給至爐床56上。 之滑動^ 52於原#收容料斗^之下部設有使其排出口開閉 置有勺 於爐床行進方向上筒狀構件53之下游側配 ^457(例如’參照專利文獻υ。

又，圖13 Α戶斤；-、 A 中，不之對紅轉爐床之還元鐵原料供給裳置 ； 體6〇之爐蓋上’ 1條狹縫62遍及旋轉爐床61 3 201211265 之寬度而開口，該狹縫62正對著下方之原料投入口。 圖中，63係配置於爐本體6〇之側壁上之複數個燃燒 器，64係用以將經還元生成之金屬排出至爐本體6〇外部之 螺桿（s c r e w )。 顆粒係自振動輸送帶之槽65經由狭縫62及原料投入 口而供給至旋.轉爐床6 1上。 又，如圖13B所示之槽放大圖所示，構成為，用以分 割顆粒並進行引導之複數個間隔件65a〜65d相對於槽側壁 65e傾斜地設置於槽65中，供給至旋轉爐床6丨上之顆粒之 量係自旋轉爐床61之外周部朝向内周部依序減少（例如， 參照專利文獻2)。 ’ [先前技術文獻] [專利文獻] [專利文獻1]日本專利第3075722號公報 [專利文獻2]曰本專利第3978756號公极 【發明内容】 然而，圖 12所示之還元鐵原料供給裝置51中， 在於筒狀構件53之下端與爐床56 子 柚品^ 、 心间的顆粒破爐床56拖 拽而碎裂或粉化之虞’進存 進而存在帶走金屬鐵製造之長期遠 、·’灵操作中所必需之爐床上 ’ 尿材Q，從而對還元熔融 反應造成不良影響之情形。 置51係經由筒狀構件53 因此必需用以使供給至爐 又，上述還元鐵原料供給裝 將顆粒集中地供給至爐床56上 201211265 床56之塊狀之顆粒均勾地擴散在爐床56上之勾…卜 然而，存在如下問題： ± M勻平器5 7不具有使顆粒搬送 時所產生之粉勻平之# At 此’故而還元鐵原料之粉會堆積於 爐床56上之相同位置。 -隹積之還7L鐵原科之粉不僅會阻礙還元鐵原料之還元 炫融反應之促進，亦會镨 ^ 嘗鑽入爐床材中而於爐床上形成鐵板 層，從而妨礙連續操作。 中二二2右圖UA*⑽所示之還元鐵原料供給裝置 :之方:置具有可覆蓋爐床之整個爐寬之長度的振動輸送 帶之方式而構成。 右為了實現爐本體之大型化而擴展爐床寬度， =需设計可覆蓋整個爐寬之大型之振動輸送帶 上無法應對。 夏肩 又’圖13A & i3B所示之還元鐵原料供給裝置 因顆粒之粒徑變動^ Y 於 移… 生之粉而使於槽65上流動之顆粒之 移動速度受到影響之情形 至掳夕冰η加 仔隹..，、沄刀別早獨調整供給 至爐之外周、内周部之顆粒之量這一問題。 Μ ’ i g前之還元鐵原料供給裝 品質之金屬鐵時存在各種障礙。 大置生產向 之問^ ^考慮如上所述之先前之還元鐵原料供給裂置 之碎裂且亦盔關摅戾官由 ^拉狀還凡鐵原料 床上之還元鐵原料供給系統。 ”也供給至爐 [解決問題之手段] 201211265 本發明之一形態之還元鐵原料供給系統，將原料 裝置於移動爐床式還元熔融爐之爐寬方向配置複數個’、、、’° 成；該原料供給裝置係由下述構件構成： 而構 rr ,收容還_ 鐵原料且使其自排出口排出；槽，連接該排出口與移Z 床式還元熔融爐之原料投入部，且接受自該排出口排、 該還元鐵原料；出口部，係設置於該槽之出口側；以之 振裝置，使該槽沿著爐床移動方向振動。 ，Μ及加 於本發明中，若將該原料供給裝置於爐寬方向 鋸齒狀’則可使各原料供給裝置之排出口彼此進一步J 爐寬方向接近，可使還元鐵原料無間隙地供給 /σ者 而可有效地活用爐床。又，藉由配置成錯齒狀 寬方向接近於原料供給裝置’且維護性提高。 又，可針對每個原料供給裝置而調整還元鐵原

給量，因此，例如於tI k U 、这移動爐床式還元熔融爐為旋轉摅 床爐之情形時，若以供认吾6 轉爐 仏m量自外周側之原料供給裝置 内周側之原料供給裝置逐漸 ° 研雙乂之方式而調整原料供仏與 置，則可使鋪散於爐床上之還元鐵原料之平鋪密度遍:爐 寬而大致均勾，其結果為能夠以成為1層之方式加以控制， 從而可提高金屬鐵之生產率。 較佳為，連接該；f接夕山 B出口β與該移動爐床式還元熔融 爐之原料投入部之連桩却在心， 接。卩係形成為俯視觀察時呈橢圓形。 於本發明中，若作Α 卞為該出口部具有矩形之滑槽，且於 該滑槽内設置補強肋部， 、 則可防止受到來自爐内之輻射埶 而使滑槽變形。 ”' 6 201211265 又’若使自該移動爐床式還元熔融爐之爐床至該槽之 出口部為止之高度為1,200 mm以下’則可防止還元鐵原料 之碎裂或粉化。 又’若使該滑槽之下端與該原料投入部重疊，則可防 止自顆粒產生之粉之堆積。 又’若為該原料投入部具有水冷壁之構成，則可防止 熱變形，若於其外側經施工而附耐火物，則可抑制熱損失。 又，若於該料斗内之上部設置負重分散手段，則於顆 粒供給時，可使負重不會一下子施加於振動給料器，而可 使加振裝置之動作穩定。 —又，若設為於該槽之入口側具備收容該還元鐵原料之 枚容口之構成，且透過具有氣密性之伸縮接頭連接該料斗 之排出口與該收容口，則可對料斗與槽之連料分進行氣 .，| i I从邛襁接頭連 者，於該供給料斗内形成還元鐵原料之填充層，另一方一 :用具有柔軟性之密封材連接該槽之該出口部與該移, ，式還元炫融爐之原料投人部，則可使該移動爐床式支 溶融爐之爐内氣體與大氣阻隔。 於本發明中，若進一步具備對該各料斗以一定^ :::給該還元鐵原料之分配供”置，則可將還元· 枓搬送過程中所產生之粉與還元鐵 料斗内，故可防止阻礙還元鐵 ^ ^ 偏向地堆積。 鐵原抖之反應之粉於爐床」 201211265 本叙明中’於供給该還元鐵原料之流程中，可於該八 配供給裝置之上游側設置篩裝置❶ ；βχ刀 [發明之效果] :據本發明，具有能夠既降低粒狀還元鐵原料 且亦無關爐床寬度而將還元鐵 裂 一優點。 勻地供給至爐床上這 【實施方式】 以下，根據圖式所示之實雜彡 .1.旋轉爐床爐 $…細地說明本發明。 -作為應用有本發明之還元鐵原料供給系統的移 :溶：爐之旋轉爐床爐係具有圓環狀之旋轉移動床，圖； 表不该旋轉爐床爐丨之概略俯示圖，冑2 縱剖面。 口 < υ-ο 於兩圖中，旋轉爐床爐1之爐床U係構成為藉由未圖 示之驅動裝置而以特定之速度旋轉。 圖 ;於爐體2之壁面之合適之位置配設有複數個燃燒器3， 夺②3之燃燒熱及其㈣熱傳遞至作為爐床la上 之例如顆粒等塊狀化物’藉此而進行該顆粒之加熱還 炼融。 ^ 再者，作為上述塊狀化物’可例示有顆粒狀、 (briquet)狀等各種形態。 鬼 圖3係為了說明加熱還元炼融步驟而將圖}所示 轉爐床爐1沿旋轉移動方向展開而表示之說明圖。 圖3中’爐體2之内部構造係藉由隔離壁K卜K3而間 8 201211265 隔成還元區域Z1〜冷卻區域Z4，於爐體2之旋轉方向之上 游側’面向爐床la配置有原料供給裝置4及爐床材裝入裝 置6’並且於旋轉方向之最下游側（由於為旋轉構造，故實 際上亦成為爐床材裝入裝置6之正上游側），設 裝置7。 F 35 於上述旋轉爐床爐i運轉時，使爐床la以特定之速声 旋轉’自原料供給裝置4將顆粒供給至該爐床“上。- 、 爐床1 a上之顆粒係於在還元、熔融區域Z1〜ο 内移動之過程中受到由燃燒$ 3產生之燃燒熱及輻射熱， 顆粒中之氧化鐵藉由碳質還元劑而得以還元。 一大'致凡全還兀之還元鐵進而藉由加熱而熔融，一面與 副產之熔渣分離一面凝聚而成為粒狀之熔融金屬鐵，於： 部區域Z4内藉由冷卻裝置8而冷卻並固化，藉由設置於其 下游側，之排出裝置7而依序沒出至旋轉爐床爐^之外部。 此時，副產之熔潰亦同時排出，但其等可經過排出料 斗/之後，藉由任意之分離裝置（篩眼或磁選裝置等）而 進行粒狀之金屬鐵與㈣之分離，最終獲得熔潰成分含量 極少之粒狀之金屬鐵。 圖1中，爐體2之内部係被分割成4個區域， 但分割之區域之數量可適當變更。 2.原料供給農置 圖4係表示構成還元鐵原料供給系統之原料供給 之構成之立體圖。 中原料供給裝置4包括：供給料斗（料斗）i 〇， 201211265 其收谷已藉由未圖示之齡操地 Η * 、而乾燥之顆粒；振動給料器 11，其配置於該供給料斗10 叶态 之排出口 1 〇a下方；原料招_ λ 部12，其貫通爐體之頂板 技入 貝板2a (參照圖3)而設置； 部13，其連接振動給料器 逑接 口 了寸益11之出口與原料投入部12之 〇 乂 以下’對各部分之構成進行說明。 2.1供給料斗 供給料斗1 〇係由能量損 .

相失（loss-in-weight)方式、如 測量料斗整體之重 P 叫^ 里而冲^由原料排出所致之重量減輕率 楗而控制供給量者所構成。 於供給料斗10内一亩以甘從^ Α ^直以某種程度儲存有顆粒，所儲存 之顆粒發揮阻隔爐内與大氣之材料密封之作用，但若供給 料斗10内之顆粒之位準下降某種程度，則位於供給料斗 與給料筒叫，的滑動問24開啟，顆粒自位於該滑動閑 上方之、料筒23 (參照圖11)補給至供給料斗1 〇内。 匕時若自上方落下至供給料斗10内之顆粒之負重一 下子施加在位於供給料斗丨0下方之振動給料器Η，則會阻 礙振動給料器11之動作，對顆粒搬送精度造成不良影響。 因此，於供給料斗10内之上部設置有由剖面三角形所 構成之負重分散板（負重分散手段）⑽。該負重分散板10b 係用於使該負重沿箭頭B及C方向分散（分攤），以使得 自、料茼2 3沿箭頭a方向斷續地投下之顆粒之負重不會強 勁地施加於振動給料器n之槽14上。 拉 fch a ’可防止因斷續之負重之附加而阻礙振動給料器 201211265 11之適虽之動作。又’亦可減少顆粒供給量之變動。 2·2振動給料器 ° =給料器η主㈣由收容自供給料iq排出 寺之匕14、及使該槽14振動之加振裝置16 (泉 構成。再者，圖4中，袅发 ’、、圖5)所 振裝置16之狀態。 玄丨示加 2·2 · 1 槽 平二由淺箱狀構成，自未圖示之爐體構造物大致水 千地懸掛’藉此而獨立於上述供給料斗10。 ;曰.之端。"4a之上表面形成有用以收容顆粒之 收谷口 Mb’上述供給料斗之排出口 1Ga通過該 而遊嵌。 14b 14b之上述 而連接，使氣 上述收容口 14b之周緣與游嵌於該收容口 供給料斗10之排出口 10a係經由伸縮接頭15 密性得以保持。 於槽14之另一端部14c之下表面形成有狹縫狀排出口 ⑷。該狹縫狀排出口 14d係朝向槽14之寬度方向而形成， 且形成為與槽14之寬度大致相同。 2.2.2加振裝置 圖5係自上方觀察振動給料器"所得之外觀圖，圖6 係自下方觀察振動給料器丨丨所得之外觀圖。 於兩圖中，加振裝置16係在相對於沿水平方向配置之 槽14以特疋之安裝角0傾斜的狀態下設置於槽丨*之蓋i4f 上。具體而。，该加振裝置丨6係由電磁線圈、永磁體、彈 201211265 簧所構成。 此種加振裝置1 6中’可藉由調整對電磁線圈所施加之 電壓而調整顆粒之供給量。 於加振裝置16與槽14之間介在設置有振動傳遞框 17 °該振動傳遞框17係自橫向觀察時呈楔狀，且構成為由 與槽14相同之橫向寬度構成之箱狀，且以加振裝置16之 加振力F沿槽14之整個寬度均等地傳遞之方式而構成。 又’加振力F係以通過上述槽14及上述振動傳遞框17 之整體之重心之方式而設計。 若驅動上述加振裝置16，則經由振動傳遞框丨7而受到 加振力F之槽14會於前後方向（〗方向）上振動，供給至 該槽14之一端部14a之顆粒係搬送至狹縫狀排出口 14d(參 照圖4 )。 2.3連接部 圖7 A係自下方觀察連接部1 3所得之仰視圖，圖7b係 表示連接部之密封構造之前視圖。 於兩圖中’連接部13包括構成狹縫狀排出口 14d且由 與槽14之寬度大致相同之寬度所構成之矩形柱狀之出口滑 槽（出口部）13 a ’該出口滑槽13 a係從自槽14之另一端部 14c垂設之剖面橢圓形之筒體13b進而向下方突出。 將筒體13b設為橢圓形之理由如下。 為了防止顆粒之碎裂或粉化，振動給料器1 1較佳為設 置於儘可能低之位置。為了成為此種配置，不能使給料器 11之出口部與爐體頂板之間隔較大，因此，極其難以出入 12 201211265 於處在振動給料器11與爐體之間的有限範圍内之連接部 分。 因此，可使具備出口滑槽13a之筒請呈擴圓形，僅 以金屬製之帶纏繞便可均勻且簡便地緊固筒冑叫整體。 藉^可自振動給料nu之—側且自側方出人，維護亦變 仔容易。 又，於出口滑槽l3a内配設有複數個補強肋#⑴。咳 等補強㈣⑶ <系為了防止因受到來自爐床之輕射熱曝曬 而使出口滑槽13a及其周邊部分產生變形而設置。 詳細而言，面向爐内之上述出口滑槽"a有如下之虞； 因來自爐床及爐内氣體之轄射熱而產生熱變形之可能性變 兩，-旦產生變形，顆粒之均等之排出便會受阻礙。因此， 藉由在出口滑槽13a之筒孔内設置補強肋部…，則可使出 :滑：Ua維持其形狀而不會產生熱變形，確保適當之顆粒 供給量，於出口滑槽n 3a寬度方向上亦可確保顆粒之均等供 給。 另-方面，於原料投入部12之上端部，亦以與上述筒 13b對向之方式而立設有剖面橢圓形之筒體以，且例如 由酿胺聚合物纖維形成之布等耐熱性之密封材⑶橫跨下 垂之上述筒體13b與立設之筒體而纏繞。 於密封材nd之上部及下部分別纏繞有緊固用 製帶帶沿緊固方向使可與等間隔地排列於該金屬 固定㈣=部螺合的緊固零件（螺桿Μ旋轉，藉此 13 201211265 由於筒體13b及12a之剖面形成為橢圓形，故如上所 述，僅以一個緊固零件13f便可均等地緊固金屬製帶 周。 再者，出口滑槽13a係以較爐體之頂板2a上表面略微 地更深入至下方之方式而配置，可防止還元鐵原料之粉堆 積於連接部分。 詳細而言，顆粒係伴之以較多之粉而供給至旋㈣$ 爐1 ’上述粉容易因伴隨爐内之氣體流動或顆粒之落下所產 生之氣體之亂流效果而於振動給料器丨丨之出口部飛舞。 此，必需設法儘可能地使該飛舞之粉不堆積於出口部周邊因 其原因在於：堆積之粉於堆積發展至某種程度時 塊狀而落下至爐床上，霜嘗$顆私μ 復盍至顆粒上，從而妨礙輻射熱進 入顆粒’阻礙適當之反應。 因此，於本實施形態中，藉由使振動給料器U之出口 滑槽13a下端與原料投入部12重疊而防止粉堆積。 ^，上述原料投人部12受到來自爐内氣體及爐床1 射熱後會變為高溫，故為水冷構造（水冷壁）。但， 行水冷’則此處所受到之砉 ^ ^ 7又』之輻射熱會產生熱損失而由冷卻水

帶走至系統外。 K 因此，本實施形態中，屌 藉由水冷而抑制，為了儘^: 自身之熱變形係 -· Α抑制熱#失^μ火物覆蓋 这原枓技入部12之外側。 3 ·還元鐵原料供給系統 圖8係表示沿爐寬方向配置有複數個由上述構成所組 14 201211265 成之原料供給裝置的還元鐵原料 供，，系統之構成的概略側 視圖。 圖8中，自供給料斗1〇供洛u k 供、，。至槽14上之顆粒係一面 於槽14上移動一面被引導至独 狹縫狀排出口 14 d (參照圖 7A)，通過貫通爐體之頂板、 伋2a之原料投入部12而供給至 爐床1 a上，沿爐床行進方向R移送。 、’β 即便於沿爐床行進方向R孩、主—Μ , J Κ移送之顆粒之一部分堆積雙 層以上之情形時，若於較煻戌始 权繼床旋轉方向上之原料投入部12 之更下游側配置校平螺桿（丨 、evehng screw) 18 ,則可將 粒勻平為1層。 一又’自槽Μ之狹縫狀排出DMd至爐床u之顆粒落下 回度㈣為UOOmm以下，更佳為“⑽匪以下。 .右將顆粒落下面度设為i，2〇〇 _以下，則存在如下效 果面將·爐内氣體之流速抑制為某種程度以使爐床材之 不會人飛’-面防止顆粒因向爐床之 之碎裂或粉化》 表1係進行顆粒落下測試並研究因顆粒落下而產生之 碎裂或粉之狀態的表。 15 201211265 [表η 落下高度 % Wt (g) mm 丸粒 (Ball) 碎片 (Chip) 細料 (Fine) 總計 (Total) 丸粒 (Ball) 碎片 (Chip) 細料 (Fine) 總計 (Total) 600 99.8% 0.0% 0.2% 100.0% 956.4 0.0 2.3 958 7 800 99.6% 0.1% 0.2% 100.0% 1021.9 1.4 2.5 1025 8 1000 99.5% 0.0% 0.4% 100.0% 908.1 0.4 3.9 9124 1200 98.6% 0.7% 0.7% 100.0% 918.5 6.2 6.7 931.4 QQ1 4 1400 94.7% 4.4% 0.8% 100.0% 941.1 44.1 8.2 " 1600 88.1% 10.6% 1.3% 100.0% 903.7 108.5 13.8 109ίΓπ~ 1800 86.5% 11.7% 1.8% 100.0% 754.7 102.3 15.3 872.3 表1中，「B a 11」表示維持平均粒徑為1 9 m m之顆粒， 「Fine」表示2.4 mm網眼以下之粉及碎片，r chip」表示 變形成平均粒徑為19 mm之一半以下之顆粒，將結果由（％ ) 與Wt ( g)表示。 落下測試係使每1次約1〇〇個左右之顆粒分成各落下 高度（600 mm〜l.，800 mm之7個階段）落下至鐵板上，回 收殘留於鐵板上之所有「BaU」、rFine、「cHip」，使用 篩進行分級。 圖9係表示，個各落下尚度之「Fine」與「chip」之量 之圖表，存在「Fine」與「Chip」之量隨著落下高度變高而 一併增加之傾向。 又，圖10係表示還元鐵原料供給系統中之原料供給裝 置之配置之概略俯視圖。 圖10中，本實施形態之原料供給裝置4係於頂板2a 之1寬度方向上呈鋸齒狀配置有6台。 對於上述齒狀之置，亦可考慮使6台原料供給裝 置4於爐寬方向上橫向排列配置，若橫向排列配置，則給 16 .201211265 料器、供給料斗、計量器會產生干擾，因此難以使相鄰之 狭縫狀排出口 14d接近。 再者，原料供給裝置4之配置個數係根據旋轉爐床爐 之爐寬及原料供給裝置4之寬度而決定。 為了利用移動爐床式還元熔融爐大規模地製造金屬鐵 而必需擴大爐寬，根據上述原料供給裝置4之配置，可將 顆粒均勻地供給至此種大型爐之爐床，而且可精度良好且 簡便地調整供給量。 圖11係表示將顆粒供給至供給料斗丨〇之裝置之概略 構成之圖。 圖11中，已藉由乾燥機而乾燥且經由帶式輸送機2〇、 輥軸篩（roller screen)(篩農置）21而搬送之顆粒係利用 軸式輸送機2 2而均等地投入至給料筒2 3内。 上述給料筒23具備與振動給料器u之台數相當之排 出部2 3 a，將顆粒供給至各供給料斗】〇。 上述軸式輸送機22係為了使顆粒及自該顆粒所產生之 粉（無法由輥軸篩21去除之粉）分散並投入至給料筒23 而設置，可使與顆粒一併搬送之粉於爐寬方向上均等地分 政。藉此，可防止粉以偏向—方之狀態而供給至一部分振 動給料器。 再者，上述軸式輸送機22亦可由擺動式輸送機或往復 輸送機構成。 ，又，於供給顆粒之流程中’於上述軸式輸送機22之上 游側配置有輥軸篩21 ’該輥軸篩21係將於對原料供給裝置 17 201211265 且於進入至給料筒 4供給顆粒之前所產生之粉置於筛上 23之前去除該粉。 上述轴式輸送機22、給料筒23係作為對於各供给料斗 以固定量為單位分配供給顆粒之分配供給裝置而發揮功 能0 再者’顆粒係於塊狀化後之搬送過程中，因向輸送機 之轉接部或各種料斗供給時之落下而產生較多之粉。 若已粉化之顆粒之粉偏向一方地供給至爐床上，爐床 上之顆粒之-部分或全部由粉覆蓋，則會妨礙應自設置於 爐體上之燃燒器傳遞至顆粒之輕射熱， 元溶解反應之促進。 從而阻礙顆粒之還 其結果為，受到粉之影響之顆粒因反應遲緩而於反岸 不充分之狀態下成為還元鐵，生產率降低。因此，較理想 的是儘可能不將該等粉供給至爐床。 因此，於將顆粒供給至上述供給料斗1〇之裝置中，於 將顆粒供給至供給料斗1〇之前階段，通過輥軸_ Η而置 於篩上’藉此除去粉之大部分。 再者，未除去之粉係使用軸式輸送帶22而均勻地分配 至給料筒23，並且進而於各原料供給裝置4中沿寬度方向 均勻地勻平，因此，即便少許之粉伴隨顆粒—併產生、爐 床大型化，亦可使顆粒或含粉之顆粒始終於無偏向之狀態 下均勻地供給至爐床上。 以上，已參照特定之實施態樣詳細地說明了本申請 案，但本領域技術人員應當明白，可不脫離本發明之精神 18 201211265 與範疇而添加各種變更或修正β 本申請案係基於2(Π〇年9月i曰申請之曰本專利申珠 案（特願2〇1(M96061 )而成者，其内容以 。月 士士士 令.，、、之形式併入 【圖式簡單說明】 圖1係本發明之旋轉爐床爐之概略俯視圖。 圖2係圖i之d_d縱剖面圖。 方向展開而表 統之原料供給 圖3係將圖丨之旋轉爐床爐沿旋轉移動 示之說明圖。 圖4係表示本發明之還元鐵原料供給系 裝置之構成之具有一部分缺口之立體圖。 圖 圖 係自上方觀察原料供給裝置之振動給料器之立體 係自下方觀察原料供給裝置之振動給料器之立體 圖7A係表示圖4所示之連接部之構成之仰視圖。 圖7B係表示圖4所示之連接部之密封構造之前視圖。 圖8係表示還元鐵原料供給系統之構成之概略側視圖。 圖9係表示顆粒落下測試之結果之圖表。 圖10係表㈣元鐵原料m统之構成之概略俯視 圖11係本發明之分配供給裝置之概略前視圖。 圖12係表示先前之還元鐵原料供給裝置之構成之側視 201211265 圖13 A係先前之另一還元鐵原料供給裝置之俯視圖。 圖13B係圖13A所示之槽之放大圖。 【主要元件符號說明】 1 旋轉爐床爐（移動爐床式還元熔融爐） la 爐床 2 爐體 2a 頂板 3 燃燒器 4 原料供給裝置 6 爐床材裝入裝置 7 排出裝置 8 冷卻裝置 9 排出料斗 10 供給料斗 10a 排出口 10b 負重分散板 11 振動給料器 12 原料投入部（水冷壁） 12a、 13b 筒體 13 連接部 13a 出口滑槽（出口部） 13c 補強肋部 13d 密封材 13e 金屬製帶 20 201211265 13f 緊固零件 14 槽 14a 一端部 14b 收容口 14c 另一端部 14d 狹縫狀排出 14f 蓋 15 伸縮接頭 16 加振裝置 17 振動傳遞框 18 校平螺桿 20 帶式輸送機 21 報軸篩 22 軸式輸送機 23 給料筒 21

Claims (1)

1. 201211265 七、申請專利範圍： 1'種還元鐵原料供給系統，將原料供給裝置於移動爐 床式還兀熔融爐之爐寬方向配置複數個而構成； 該原料供給裝置係由下述構件構成： 料斗，收容還元鐵原料且使其自排出口排出； 槽’連接該排出口與移動爐床式還元熔融爐之原料投 入部’且接受自該排出口排出之該還元鐵原料； 出口部，係設置於該槽之出口侧；以及 加振裝置，使該槽沿著爐床移動方向振動。 2.如申請專利範圍第1項之還元鐵原料供給系統，其 中，該原、料供給裝置係於爐寬方向配置成鑛齒狀。 3·如申請專利範圍帛1項之還元鐵原料供給系統，其 中，連接該槽之出口部與該移動爐床式還元熔融爐之原料 投入部之連接部係形成為俯視觀察時呈橢圓形。 4 ·如申明專利範圍第1項之還元鐵原料供給系統，其 中，作為該出口部具有矩形之滑槽，且於該滑槽内設置補 強肋部。 5 ·如申咕專利$巳圍第丨項之還元鐵原料供給系統，其 中，自該移動爐床式還元熔融爐之爐床至該槽之出口部為 止之高度為l，200mm以下。 6.如申請專利範圍第4項之還元鐵原料供給系統，其 中，該滑槽之下端與該原料投入部重疊。 7·如申請專利範圍第丄項之還元鐵原料供給系統，其 中，該原料投入部具有水冷壁，於其外側施工有耐火物。 22 201211265 8.如申請專利範圍帛！項之還元鐵原料供給系統，其 中，於該料斗内之上部設有負重分散手段。 9·如申請專利範圍帛i項之還元鐵原料供給系統，其 ;Λ槽之入口側具備收容該還元鐵原料之收容口，該 :斗之排出口與該收容口係透過具有氣密性之伸縮接頭連 接。 中，IT申請專利範圍第1項之還元鐵原料供給系統，其 入部係透過罝有… 式還元炼融爐之原料投 八有柔軟性之密封材連接。 11. 如申請專利範 進-+且彳m 第1 還①鐵原料供給系統，复 進步具備對該各料斗以其 料之分配供給裝置。 $逐—分配供給該還元鐵原 12. 如申請專利範圍第η項之 中，於供給該還元鐵原料之流還70鐵原料供給***，其 上游側設有篩褒置。 抓王，於該分配供給裝置之 八、圖式： (如次頁） 23