TW201118463A - Transparent conductive laminated body and production method thereof and electrosatic capacity type touch panel - Google Patents

Description

201118463 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於透明導電性積層體及透明導電性積層體 之製造方法。 【先前技術】 近年來’在各式各樣的電子設備的顯示器上，就輸入 裝置而言，安裝有透明的觸控面板。觸控面板的方式例如： 電阻膜式、靜電電容式等。尤其，靜電電容式可採多點觸 控（multi touch)，在可攜式設備等用途中常採用。 靜電電容式之觸控面板’使用形成有圖案的透明導電 層。於該透明導電層形成圖案之方法，例如有：如專利文獻 1至3，使用光阻劑形成圖案之利用光微影的方法。其他方 法，如專利文獻4，就導電膜形成用組成物而言，使用具 有對光反應之官能基或部位之銦化合物及具有同樣的官能 基或部位的錫化合物，進行圖案曝光的方法，或如專利文 獻5，利用雷射光形成圖案之方法等。 又，靜電電容式之觸控面板，由於使用在顯示器上， 若透明導電層之圖案形狀顯著，會有視讀性降低的問題。 因此，提出藉由如專利文獻6，在透明導電層以外形成光 學調整層，使得顯示器之畫質不降低’穿透率提高的觸控 面板用透明導電性積層體。 先前技術文獻 專利文獻 -4- 201118463 專利文獻1曰本特開平ι- 197911號公報 專利文獻2日本特開平2一 1〇92〇5號公報 專利文獻3日本特開平2_3〇951〇號公報 專利文獻4日本特開平9 — 142884號公報 專利文獻5日本特開2008 - 140130號公報 專利文獻6日本特開平n—286066號公報 【發明內容】 發明欲解決之課題 但是’如專利文獻1至3之利用光微影的方法，常需 要多數製造步驟。尤其，當在基板的兩面設置透明導電層 而形成圖案時’由於要經過在逐個單面進行光阻劑塗布、 曝光、顯影等步驟，故製造步驟變得煩雜。又，爲了解決 視讀性降低的問題，如專利文獻6之在透明導電層以外形 成光學調整層的情形，還需要更增加製造步驟，因此製造 步驟變得更爲煩雜。 又，如專利文獻_ 4或5之方法，不使用光阻劑，能縮 短製造步驟，但是，專利文獻4之方法，當在基板的兩面 設置透明導電層而形成圖案時，將形成在基板兩面的圖案 的位置對準係爲困難。尤其，當欲在基板兩面形成微細的 圖案時，圖案位置的對準成爲重大課題。另一方面，專利 文獻5之方法中，雖可利用雷射光在基板兩面形成相同圖 案，但是，於在基板兩面形成不同圖案之情況無法適用的 點存在問題。

S 201118463 本發明有鑑於習知技術的課題’因此其目的在於提供 透明導電性積層體及其製造方法以及靜電電容式觸控面 板’即使使用光阻劑而在透明導電層形成圖案之方法，也 能以短製造步驟在基板兩面同時形成不同形狀的圖案，g口 使基板兩面形成的圖案微細，也能容易進行位置對準，且 對於使圖案形狀不顯著方面爲有利。 [解決課題之方] 就解決上述課題之方法而言，申請專利範圍第1胃之 發明，係一種透明導電性積層體，其特徵在於：至少包含： 透明基板層；形成於前述透明基板層之兩面的第一透明導 電層及第二透明導電層；形成於前述第一透明導電層之第 一導電性圖案區及第一非導電性圖案區；形成於前述第二 透明導電層之第二導電性圖案區及第二非導電性圖案區； 且前述第一透明導電層與前述第二透明導電層之間形成之 至少1層吸收光之層。 又，申請專利範圍第2項之發明，爲如申請專利範圍 第1項之透明導電性積層體，其中前述透明基板層爲吸收 光之層，前述透明基板層含有紫外線吸收劑或具有紫外線 吸收機能之樹脂。 又，申請專利範圍第3項之發明，爲如申請專利範圍 第1項之透明導電性積層體，其中，包含形成於前述透明 基板層與前述第一透明導電層之間及/或前述透明基板層 與前述第二透明導電層之間的樹脂層，前述樹脂層爲吸收

S 201118463 光之層’前述樹脂層含有紫外線吸收劑或具有紫外線吸收 機能之樹脂。 又’申請專利範圍第4項之發明，爲如申請專利範圍 第1項之透明導電性積層體，其中，前述透明基板層由以 下構成：其中一面形成有前述第一透明導電層之第—透明 基板層及其中一面形成有前述第二透明導電層之第二透明 基板層’及形成在前述第一透明基板層之另一面與第二透 明基板層之另一面之間的黏著層；前述黏著層爲吸收光之 層’前述黏著層含有紫外線吸收劑或具有紫外線吸收機能 之樹脂。 又，申請專利範圍第5項之發明，爲如申請專利範圍 第1項之透明導電性積層體，其中，在前述透明基板層與 前述第一透明導電層之間及/或前述透明基板層與前述第 二透明導電層之間具有光學調整層。 又，申請專利範圍第6項之發明，爲如申請專利範圍 第5項之透明導電性積層體，其中，於波長400nra的光線 穿透率爲60%以上，且於波長365nm之光線穿透率爲20% 以下。 又，申請專利範圍第7項之發明，爲如申請專利範圍 第6項之透明導電性積層體，其中前述導電性圖案區與前 述非導電性圖案區之總光線穿透率之差爲1 . 5 %以下’且穿 透色相b*差爲2.0以下。 又，申請專利範圍第8項之發明，爲如申請專利範圍 201118463 第7項之透明導電性積層體，其中150 °C、30分 縮率爲0.5%以下。 又，申請專利範圍第9項之發明，爲一種靜 觸控面板，使用如申請專利範圍第8項之透明導 體作爲電極材。 又，申請專利範圍第10項之發明，爲一種透 積層體之製造方法，其特徵在於：包含以下步驟： 板層之兩面至少形成第一透明導電層及第二透明 步驟；於前述第一透明導電層及前述第二透明導 面塗布光阻劑之步驟；將用以在前述第一透明導 圖案之光源及遮斷光之光學濾光片與光罩，及用 第二透明導電層形成圖案之光源及遮斷光之光學 光罩，分別從光源側依序配置，並且將塗布在前 明導電層之表面之前述光阻劑及塗布在前述第二 層之表面之前述光阻劑同時曝光之步驟；將已感 光阻劑顯影之步驟；將未受前述光阻劑覆蓋的前 明導電層及前述第二透明導電層蝕刻之步驟；將 劑剝離；且在前述第一透明導電層與前述第二透 之間形成的至少1層爲吸收光之層》 又，申請專利範圍第1 1項之發明，爲如申請 第10項之透明導電性積層體之製造方法，其中， 基板層爲吸收光之層，前述透明基板層含有紫外 或具有紫外線吸收機能之樹脂。 鐘的熱收 電電容式 電性積層 明導電性 於透明基 導電層之 電層之表 電層形成 以在前述 濾光片與 述第一透 透明導電 光之前述 述第一透 前述光阻 明導電層 專利範圍 前述透明 線吸收劑 201118463 又，申請專利範圍第12項之發明，爲如申請專 第11項之透明導電性積層體之製造方法，其中，前 濾光片於波長365nm之光線穿透率爲80%以上。 又，申請專利範圍第13項之發明，爲如申請專 第12項之透明導電性積層體之製造方法，其中，從 透明基板層形成前述透明導電層之步驟至將前述光 離之步驟爲止，係以捲繞（roll to roll)方式進行。 又，申請專利範圍第1 4項之發明，爲如申請專 第10項之透明導電性積層體之製造方法，其中，包 步驟：在前述透明基板層之兩面形成樹脂層之步驟； 樹脂層之表面形成第一透明導電層及前述第二透明 之步驟；前述樹脂層爲吸收光之層，前述樹脂層含有 吸收劑或具有紫外線吸收機能之樹脂。 •又，申請專利範圍第15項之發明，爲如申請專 第14項之透明導電性積層體之製造方法，其中，前 濾光片於波長3 65nm之光線穿透率爲80%以上。 又，申請專利範圍第16項之發明，爲如申請專 第15項之透明導電性積層體之製造方法，其中，從 透明基板層形成前述透明導電層之步驟至將前述光 離之步驟爲止，係以捲繞方式進行。 又，申請專利範圍第17項之發明，爲一種透明 積層體之製造方法，其特徵在於：包含以下步驟：在 明基板層之單面至少形成第一透明導電層之步驟； 利範圍 述光學 利範阖 在前述 阻劑剝 利範圍 含以下 在前述 導電層 紫外線 利範圍 述光學 利範圍 在前述 阻劑剝 導電性 第一透 在第二 201118463 透明基板層之單面至少形成第二透明導電層之步,? 述第一透明導電層及前述第二透明導電層作爲外側 述第一透明基板層與前述第二透明基板層以黏著層 步驟；在前述第一透明導電層及前述第二透明導電 面塗布光阻劑；將用以在前述第一透明導電層形成 光源與將光遮斷的光學濾光片及光罩，及用以在前 透明導電層形成圖案之光源與將光遮斷的光學濾光 罩，分別從光源側起依序配置，並將塗布在前述第 導電層之表面的前述光阻劑與塗布在前述第二透明 之表面的前述光阻劑同時曝光之步驟；將已感光的 阻劑顯影；將未受前述光阻劑覆蓋的前述第一透明 及前述第二透明導電層蝕刻之步驟；將前述光阻劑 步驟；形成在前述第一透明導電層與前述第二透明 之間的至少1層爲吸收光之層。 又，申請專利範圍第18項之發明，爲如申請專 第17項之透明導電性積層體之製造方法，其中，前 層爲吸收光之層，前述黏著層含有紫外線吸收劑或 外線吸收機能之樹脂* 又，申請專利範圍第19項之發明，爲如申請專 第18項之透明導電性積層體之製造方法，其中，前 據光片於波長365nm之光線穿透率爲80%以上。 [發明之效果] 依照本發明，藉由使透明基板層、樹脂層或黏 聚；以前 ，將前 貼合之 層之表 圖案之 述第二 片及光 —透明 導電層 前述光 導電層 剝離之 導電層 利範圍 述黏著 具有紫 利範圍 述光學 著層之 -10 - 201118463 其中任一層爲吸收光之層’即使就形成在透明基板層之兩 面的透明導電層的兩面同時形成不同的圖案，也能防止彼 此的圖案的映射（reflection)。又，由於能在透明基板層之 兩面同時形成不同形狀的圖案，因此，即使圖案微細也能 輕易地進行位置對準。又，由於能在透明基板層之兩面以 良好精度形成微細的圖案，因此，能因爲微細圖案使圖案 形狀變得不顯眼，結果能得到視讀性高的透明導電性積層 體。 【實施方式】 實施發明之形態 以下使用圖式說明實施本發明之形態。又，本發明不 限於以下記載之實施形態，可依據該技術領域中具有通常 知識者之知識進行設計變更等變形，施加過此等變形之實 施形態也包含在本發明之範圍。 第1圖爲本發明之透明導電性積層體之剖面例1之説 明圖。透明導電性積層體Π，由設於透明基板1之兩面之 形成有導電性圖案區4a及非導電性圖案區4b之第一透明 導電層3a，及形成有導電性圖案區4a及非導電性圖案區 4b之第二透明導電層3b構成。在此’導電性圖案區，係 指透明導電層當中具有導電性的部分’非導電性圖案區係 指透明導電層當中除去具有導電性之部分的不具導電性的 部分。 第2圖爲本發明之透明導電性積層體之剖面例2之説

S -11 - 201118463 明圖。如第2圖’也可在第1圖所示透明導電性積層體Π 之透明基板1與第—透明導電層3a之間及透明基板1與第 二透明導電層3b之間’各設置光學調整層2a、2b。就其 他實施形態而言，也可在透明基板1與第—透明導電層3a 之間或透明基板1與第二透明導電層3 b之間僅其中之一設 置光學調整層。 第3圖爲本發明之透明導電性積層體之剖面例3之説 明圖。透明導電性積層體11，由以下構成：設於透明基板1 之兩面之形成有導電性圖案區4a及非導電性圖案區4b之 第一透明導電層3 a、形成有導電性圖案區4a及非導電性圖 案區4b之第二透明導電層3b、分別設置於透明基板1與 第一透明導電層3a之間及透明基板1與第二透明導電層 3 b之間之樹脂層5 a、5 b。就其他實施形態而言，也可在透 明基板1與第一透明導電層3a之間或透明基板1與第二透 明導電層3 b之間僅其中之一設置樹脂層。 第4圖爲本發明之透明導電性積層體之剖面例4之説 明圖。如第4圖，也可在第3圖所示之透明導電性積層體 11之樹脂層5a與第一透明導電層3a之間及樹脂層5b與第 二透明導電層3b之間，分別設置光學調整層2a、2b。就 其他實施形態而言，也可在樹脂層5a與第一透明導電層 3a之間或樹脂層5b與第二透明導電層3b之間僅其中之一 設置光學調整層。又，也可在透明基板1與樹脂層5a之間 或透明基板1與樹脂層5b之間設置光學調整層。 -12- ^5' 201118463 第5圖爲本發明之透明導電性積層體之剖面例5之説 明圖。透明導電性積層體1.1，由以下構成：設於第—透明基 板la之單面的形成有導電性圖案區4a及非導電性圖案區 4b之第一透明導電層3a、設於第二透明基板lb之單面之 形成有導電性圖案區4a及非導電性圖案區4b的第二透明 導電層3b、以第一透明導電層3a及第二透明導電層3b爲 外側而設於第一透明基板1 a與第二透明基板1 b之間的黏 著層6。 第6圖爲本發明之透明導電性積層體之剖面例6之説 明圖。如第6圖，也可在第5圖所示之透明導電性積層體 11之第一透明基板la與第一透明導電層3a之間及第二透 明基板lb與第二透明導電層3b之間，分別設置光學調整 層’2a、2b。就其他實施形態而言，也可在第一透明基板la 與第一透明導電層3a之間或第二透明基板lb與第二透明 導電層3b之間僅其中之一設置光學調整層。 第7圖爲本發明之透明導電性積層體之剖面例7之説 明圖。透明導電性積層體11，也可在第一透明基板la與第 —透明導電層3a之間及第二透明基板lb與第二透明導電 層3 b之間，分別設置樹脂層5 a、5 b。就其他實施形態而 言，也可在第一透明基板la與第一透明導電層3a之間或 第二透明基板lb與第二透明導電層3b之間僅其中之一設 置樹脂層。 第8圖爲本發明之透明導電性積層體之剖面例8之説

S -13- .201118463 明圖。如第8圖，也可在第7圖所示之透明導電性積 Π之樹脂層5a與第一透明導電層3a之間及樹脂層5b 二透明導電層3b之間’分別設置光學調整層2a、2b 其他實施形態而言’也可在樹脂層5a與第一透明導 3a之間或樹脂層5b與第二透明導電層3b之間僅其中 設置光學調整層。又’也可在第—透明基板la與樹 5a之間或第二透明基板1 b與樹脂層5b之間設置光學 層。 本發明使用之透明基板層丨、1&及lb’除了玻璃以 也可使用由樹脂構成的塑膠膜。塑膠膜’只要是成膜 及後步驟中具有足夠強度，且表面平滑性良好即不特 定，例如：聚對苯二甲酸乙二醇酯膜、聚對苯二甲酸丁 酯膜 '聚萘二甲酸乙二醇酯膜、聚碳酸酯膜、聚醚颯 聚碾膜、聚芳酯膜、環狀聚烯烴膜、聚醯亞胺膜等。 度考慮構件的薄型化及基材之可撓性，可使用ι〇μπι 200μιη以下左右者。 本發明使用之透明基板層1、la及lb較佳爲吸收 原因在於，藉由吸收光，當於透明基板層1之兩面之 導電層形成圖案時，可將從透明基板層1其中之一面 射之光當中未被光阻劑吸收之光由透明基板層1吸收 止光到達透明基板層1另一面側之光阻劑。尤其，當 明基板層1之兩面同時形成不同圖案時，可僅將其中 側之光阻劑曝光，因此，可防止其中一面的圖案與另 層體 與第 。就 電層 之一 脂層 調整 ‘外， 步驟 別限 二醇 膜、 其厚 以上 光。 透明 側照 ，防 於透 —面 一面 -14- 201118463 的圖案重疊。同樣理由，透明基板層la及lb亦以吸收光 爲較佳。 如上述，透明基板層1、la及lb，較佳爲吸收用於將 光阻劑曝光之光。用於將光阻劑曝光之光，視光阻劑之種 類或光源種類而不同，多使用紫外區之波長（約200nm〜 360nm)與可見區之波長（約360nm〜780nm)之光，因此，透 明基板層1較佳爲吸收此等區之光。尤其，考慮實用性， 透明基板層1較佳爲吸收紫外區之光。 用於吸收紫外光使用之光吸收材料，例如紫外線吸收 劑或具有紫外線吸收機能之樹脂等，可於透明基板層添加 紫外線吸收劑，或使構成透明基板層之樹脂與具有紫外線 吸收機能之樹脂共聚合。 透明基板層1、1 a及1 b含有之紫外線吸收劑，例如： 二苯基酮系、苯并***系、苯甲酸酯系、水楊酸酯系、三 阱系、氰基丙烯酸酯系等。具體而言，例如：苯并***系紫 外線吸收劑，例：2 —（2H —苯并***一 2_基）_對甲酚、2 _(2H —苯并***一 2 —基）一4— 6 —雙（1—甲基一 1—苯基 乙基）苯酚、2-[5 -氯（2H) -苯并***一2 -基]-4 -甲基 一6_(第三丁基）苯酚、2—（2H —苯并***一基）一4,6 —二 一第三戊基苯酚、2 — (2H —苯并***一 2 —基）—4 — (1，1，3,3—四甲基丁基）苯酚等，或此等的混合物、變性物、 聚合物、衍生物等。又，例如：三阱系紫外線吸收劑，例：2 一（4,6 —二苯基一1，3,5 — 三阱—2 —基）一5 —[(己基）氧]—

S -15- 201118463 苯酚、2 — [4 — [(2 —羥基一 3 —十二烷氧基丙基）氧]-2—羥 基苯基]—4,6—雙（2,4—二甲基苯基）一1，3,5_三阱、2—[4 一 [(2 —羥基一3—十三烷氧基丙基）氧]—2—羥基苯基]一 4,6—雙（2,4二甲基苯基）—1，3,5-三阱、2,4一雙（2,4—二 甲基苯基）一6— (2 —羥基-4—異辛氧基苯基）一s -三畊 等’或此等的混合物、變性物、聚合物、衍生物等。此等 可單獨使用，又，也可混合多數後使用。 又，具有紫外線吸收機能之樹脂，係對於上述列舉的 二苯甲酮系、苯并***系、苯甲酸酯系、水楊酸酯系、三 畊系、氰基丙烯酸酯系等非反應性紫外線吸收劑，導入乙 烯基或丙烯醯基、甲基丙烯醯基等具有聚合性雙鍵之官能 基，或醇性羥基、胺基、羧基、環氧基、異氰酸酯基等者。 將此等樹脂與透明基板層1、la及lb含有之樹脂共聚合， 可作爲具有紫外線吸收機能之透明基板層使用。 上述列舉的光吸收材料，不僅可單獨使用，也可將多 數組合使用。例如’藉由使用能吸收之光之波長不同的多 數七吸收材料，可於廣波長區將不需要的光吸收》 光吸收材料之含量，只要是能防止未被透明基板層i、 1 a及1 b其中一面之光阻劑吸收之光到達另一面之光阻劑 即可’不特別限定’但是，相對於構成透明基板層1、i a 及1 b之樹脂，較佳爲含有〇 〇 1重量％以上2 〇重量％以下。 低於下限値時，無法將不需要的光充分吸收故不佳。又， 超過上限値時，透明基板層1、1 a及1 b之透明性降低，於

S -16- 201118463 外觀上不佳。 透明基板層1、la及lb含有之材料，除上述材料以外， 也可使用周知的各種添加劑或安定劑，例如抗靜電齊j、可 塑劑、漓滑劑、易接著劑等。爲了改善與各層之密合性， 也可施以電暈處理、低溫電漿處理、離子轟擊處理、藥口α口 處理等作爲前處理。 本發明使用之樹脂層5a、5b’係爲了使透明導電性積 層體11帶有機械性強度而設置。使用的樹脂不特別限定， 但以具有透明性及適度硬度及機械性強度之樹脂較佳。具 體而言，宜爲如以能期待3維交聯的3官能以上的丙嫌酸 酯爲主成分之單體或交聯性寡聚物的光硬化性樹脂。 3官能以上之丙烯酸酯單體，較佳爲：三羥甲基丙烷三 丙烯酸酯、異脲氰酸EO變性三丙烯酸酯、三丙烯酸季戊 四醇酯、三丙烯酸二季戊四醇酯、四丙烯酸二季戊四醇酯、 五丙烯酸二季戊四醇酯、六丙烯酸二季戊四醇酯、二-三羥 甲基丙烷四丙烯酸酯、四丙烯酸季戊四醇酯、聚酯丙烯酸 酯等較佳。特佳者爲，異脲氰酸EO變性三丙烯酸酯及聚 酯丙烯酸酯。此等可單獨使用，也可倂用2種以上。又， 此等3官能以上之丙烯酸酯以外，也可倂用環氧丙烯酸 酯、胺基甲酸酯丙烯酸酯、多元醇丙烯酸酯等所謂的丙烯 酸系樹脂。 交聯性寡聚物，例如：聚酯（甲基）丙烯酸酯、聚醚（甲基） 丙烯酸酯、聚胺基甲酸酯（甲基）丙烯酸酯、環氧（甲基）丙烯

S -17- 201118463 酸酯、矽酮（甲基）丙烯酸酯等丙烯酸寡聚物較佳。具體而 θ ’例如：聚乙二醇二（甲基）丙稀酸酯、聚丙二醇二（甲基） 丙烯酸酯、雙酿A型環氧丙嫌酸酯、聚胺基甲酸酯之二丙 烯酸酯、甲酚酚醛清漆型環氧（甲基）丙烯酸酯等β 樹脂層5a、5b，除此以外，也可含有其他粒子、光聚 合起始劑等添加劑。 添加之粒子，例如有機或無機粒子，若考慮透明性， 使用有機粒子較佳。有機粒子，例如：由丙烯酸樹脂、聚苯 乙烯樹脂 '聚酯樹脂、聚烯烴樹脂、聚醯胺樹脂、聚碳酸 酯樹脂、聚胺基甲酸酯樹脂、矽酮樹脂及氟樹脂等構成之 粒子。 粒子之平均粒徑，視樹脂層5a、5b之厚度而異，由混 濁度（haze)等外觀上的理由，使用下限爲2μηι以上，更佳 爲5μηι以上，上限爲30μιη以下，較佳爲15μηι以下者。又， 粒子含量亦爲同樣理由，相對於樹脂，爲0.5重量％以上5 重量％以下較佳。 添加光聚合起始劑時，就自由基產生型之光聚合起始 劑而言，例如：苯偶因、苯偶因甲醚、苯偶因***、苯偶因 異丙醚、苄基甲基縮酮等苯偶因與其烷基醚類.、苯乙酮、 2,2一二甲氧基一 2—苯基苯乙酮、1—羥基環己基苯酮等苯 乙酮類、甲基蒽醌、2—乙基蒽醌、2 —戊基蒽醌等蒽醌類、 噻噸酮（thioxanthone)、2,4—二乙基噻噸酮、2,4—二異基 噻噸酮等噻噸酮類、苯乙酮二甲基縮酮、苄基二甲基縮酮

S -18 ~ 201118463 等縮酮類、二苯基酮、4，4-雙甲基胺基二苯基酮等二.苯基 酮類及偶氮化合物等。此等可單獨使用，或以2種以上之 混合物的形式使用，又，也可組合三乙醇胺 '甲基二乙醇 胺等第3級胺、2—二甲基胺基乙基苯甲酸、4一二甲基胺 基苯甲酸乙酯等苯甲酸衍生物等光起始助劑等使用。 上述光聚合起始劑之添加量，相對於主成分之樹脂， 爲0.1重量％以上5重量％以下，較佳爲0.5重量％以上3 重量％以下。小於下限値時，硬塗層之硬化不充分故不佳。 又，超過上限値時，硬塗層會起黃變，或耐候性降低故不 佳。使光硬化型樹脂硬化時使用的光，爲紫外線、電子射 線、或g a m m a射線等，爲電子射線或g a m m a射線時，不— 定要含有光聚合起始劑或光起始助劑》此等射線源，可使 用高壓水銀燈、氣燈、金屬鹵化物燈或加速電子等。 又，樹脂層5a、5b之厚度，不特別限定，但以〇.5μιη 以上15μιη以下之範圍較佳。又，與透明基板層U的折射 率同等或近似者更佳，1_45以上1.71以下左右較佳。 樹脂層5a、5b之形成方法，係將主成分樹脂等材料溶 於溶劑’以模塗、簾流塗布、輥塗、逆向輥塗、凹版塗布、 刀塗、桿塗、旋塗、微型凹版塗布等公知的塗布方法形成。 關於溶劑’只要是溶解上述主成分之樹脂者即可，不 特別限定。具體而言’溶劑例如：乙醇、異丙醇、異丁醇、 苯、甲苯、二甲苯、丙酮、甲乙酮、甲基異丁酮 '乙酸乙 酯 '乙酸正丁酯、乙酸異戊酯、乳酸乙酯、甲基塞络蘇、 -19- 1 201118463 乙基塞珞蘇'丁基塞珞蘇、甲基塞珞蘇乙酸酯、丙二醇單 甲醚乙酸酯等。此等溶劑可單獨使用1種，也可倂用2種 以上。 本發明之樹脂層5a、5b，由於與透明基板層1、la及 lb同樣的理由，較佳爲將用於將光阻劑曝光之光，尤其是 紫外光加以吸收。吸收紫外光之樹脂層，例如含有紫外線 吸收劑之樹脂層，或含有具紫外線吸收機能之樹脂之樹脂 層等，具體的光吸收材料，例如與透明基板層1、la及lb 含有之材料爲相同之材料。又，較佳爲光吸收材料之含量 也與在透明基板層1、la及lb之含量爲同程度。 樹脂層5a、5b，可爲樹脂層單獨具有吸收光之機能， 又，也可與透明基板層1、la及lb均具有吸收光之機能。 藉由使樹脂層5a、5b及透明基板層1、la及lb兩方具有 吸收光之機能，能將未被透明基板層之其中一面之光阻劑 吸收之光充分吸收，更能防止其中一面的圖案與另一面之 圖案重疊。 又，也可爲樹脂層5a、5b及透明基板層1、la及ib 兩者具有吸收光之機能，且改變以樹脂層5a、5b與透明基 板層1、la及lb能吸收之光之波長。藉此，當使用波長區 廣的光源時’能於廣波長區吸收不需要的光。 本發明之黏著層6，係用於將第一透明基板ia與第二 透明基板lb黏接之層。黏著層6使用之樹脂，例如：丙烯 酸系樹脂、矽酮系樹脂、橡膠系樹脂等，較佳爲使用緩衝

S -20- 201118463 (cushion)性或透明性優異之樹脂。 本發明之黏著層6，由與透明基板層1、la及 的理由’較佳爲將用於將光阻劑曝光之光尤其紫 收·吸收紫外光吸收之樹脂層，例如：含紫外線吸收 脂層’或含有具紫外線吸收機能之樹脂的樹脂層等 的光吸收材料，例如：與透明基板層1、la及lb含 料爲相同之材料。又，光吸收材料之含量，亦宜與 基板層1、la及lb之含量爲同程度。 黏著層6，可爲黏著層單獨具有吸收光之機能 也可透明基板層1、la及lb或樹脂層5a、5b均具 光之機能。藉由使透明基板層1、la及lb或樹脂層 均具有吸收光之機能，能將未被透明基板層之其中 之光阻劑吸收之光充分吸收，更能防止其中一面的 另一面的圖案重疊* 又，也可黏著層6、透明基板層1、la及lb及 5a、5b均具有吸光之機能，且改變黏著層6、透明 1、la及lb及樹脂層5a、5b彼此能吸收之光之波長 當使用波長區廣的光源時，能於廣波長區將不需要 收。 光學調整層2a、2b，係具有使形成於第一透明 3a及第二透明導電層3b之圖案不顯眼的機能，且 視讀性提高之層。光學調整層2a、2b使用無機化合 可使用氧化物 '硫化物、氟化物、氮化物等材料。 1 b同樣 外光吸 劑之樹 ，具體 有之材 在透明 ，又， 有吸收 5a、5b 之一面 圖案與 樹脂層 基板層 。藉此， 的光吸 導電層 用於使 •物時， 由上述 -21 - 201118463 無機化合物構成之薄膜，視其材料，折射率不同，藉由將 折射率不同的薄膜形成特定膜厚，可調整光學特性。又， 光學機能層之層數’可視目的光學特性，也可爲多層》 折射率低之材料’例如：氧化鎂（i . 6)、二氧化矽（丨5 )、 氟化鎂（1 .4)、氟化鈣（1 .3〜1.4)、氟化鈽（1 .6)、氟化鋁（1 .3) 等。又，折射率高的材料，例如：氧化鈦（2.4)、氧化锆（2.4)、 硫化鋅（2.3)、氧化钽（2.1)、氧化鋅（2.1)、氧化銦（2.0)、氧 化鈮（2.3)、氧化鉬（2.2)。惟，上述括弧内之數値表示折射 率。 第一透明導電層3a及第二透明導電層3b，例如：氧化 銦、氧化鋅、氧化錫其中之一，或此等的2種或3種的混 合氧化物’又，添加有其他添加物之物等，可視目的、用 途使用各種材料’不特別限定。目前，可靠度最高，有許 多實績的材料爲氧化銦錫（ITO)。 當使用最爲一般的透明導電材料氧化銦錫（ITO)作爲 第一透明導電層3a及第二透明導電層3b使用時，攙雜於 氧化銦之氧化錫之含有比例，可視裝置要求的規格，選擇 任意比例。例如’基材爲塑膠膜時，於提高機械強度的目 的，用於使薄膜結晶化使用的濺鍍靶材，希望氧化錫之含 有比小於1 0重量％，爲了使薄膜非晶質化且帶有可撓性， 氧化錫之含有比希望爲10重量％以上。又，對於薄膜要求 低電阻時，氧化錫之含有比希望爲3重量％至2 0重量％之 範圍。 -22- 201118463 光學調整層2a、2b及第一透明導電層3a及第二透明 導電層3b之製造方法，只要能控制膜厚，可使用各種成膜 方法’其中，薄膜之生成以乾式法爲優異。其可使用真空 蒸鍍法、濺鍍等物理性氣相析出法或如CVD法之化學性氣 相析出法。尤其，爲了形成大面積且均勻膜質的薄膜，製 程穩定且薄膜緻密的濺鍍法較佳。 第一透明導電層3a及第二透明導電層3b，如第9圖 或第10圖所示，施用X座標及Y座標之圖案。如第9圖 或第10圖，形成之圖案，係由以黑色表示之導電性圖案區 4a與以白色表示之非導電性圖案區4b構成。又，雖未圖 示，但導電性圖案區4a連接於能檢知電流變化的電路。人 的手指等若接近爲檢測電極的導電性圖案區4a，由於全體 的靜電電容變化，電流流過電路，能判定接觸位置。藉由 將第9圖及第10圖之圖案分別設置在透明基板層之兩面， 並將X座標及Y座標之圖案如第11圖之方式組合，並連 接在電流變化檢知電路，能得到2維之位置資訊。又，第 11圖中，以黑色表示之圖案爲形成在透明基板層之表側的 導電性圖案區4a，以灰色表示的圖案爲形成在透明基板層 之背側的導電性圖案區4a。 第一透明導電層3a及第二透明導電層3b之圖案形 狀，除了如第9圖或第10圖之鑽石型圖案以外’有網型圖 案等，爲了精確讀取2維的位置資訊’儘可能形成微細圖 案，且對於透明基板層之兩面設置的圖案精確進行位置對

S -23- 201118463 準爲必要。 第一透明導電層3a及第二透明導電層3b之圖案形成 方法，例如：在第一透明導電層3a及第二透明導電層3b上 塗布光阻劑並將圖案以曝光、顯影形成後，將透明導電層 以化學性溶解之利用光微影形成的方法、於真空中利用化 學反應使氣化之方法、利用雷射使透明導電層昇華之方法 等。圖案形成方法，可依圖案形狀、精度等適當選擇，但 爲了就第一透明導電層3a及第二透明導電層3b同時形成 彼此不同的圖案，以利用光微影之方法較佳。 本發明之透明導電性積層體之利用光微影的曝光步 驟，以第1圖所示之透明導電性積層體U爲例，顯示於第 12圖。形成在透明導電性積層體11之第一透明導電層3a 及第二透明導電層3b的導電性圖案區4a及非導電性圖案 區4b之形成方法，首先，係在第一透明導電層3a之表面 塗布光阻劑7a，在第二透明導電層3b之表面塗布光阻劑 7b。其次，將用以在第一透明導電層3a形成圖案之光源 8a、將特定波長之光遮斷的光學濾光片9a、光罩10a，分 別從光源8 a側起依序配置，並將用以在第二透明導電層 3b形成圖案之光源8b、將特定波長之光遮斷之光學濾光片 9b、光罩10b，分別從光源8b側起依序配置。之後，利用 已經用光學濾光片9a及9b將特定波長之光遮斷的光，將 光阻劑7a及7b同時進行曝光。 此時，由於透明基板1具有吸收光之機能，因此未被

S -24- 201118463 光阻劑7a吸收的光由透明基板層1吸收，能防止塗布在第 二透明導電層3b之表面的光阻劑7b受曝光。相反地，未 被光阻劑7b吸收的光由透明基板層1吸收，可防止塗布在 第一透明導電層3a的表面的光阻劑7a受曝光。 又，本發明之透明導電性積層體之利用光微影的曝光 步驟，由於能在透明基板1的兩面同時形成圖案，因此， 能輕易進行形成在兩面的圖案的位置對準。當透明基板1 之兩面的圖案係逐個單面進行時，必需在其中一面形成圖 案後，配合此圖案的位置，形成另一面的圖案，難以進行 位置調整。尤其，爲了精確讀取2維的位置資訊，或提高 圖案之視讀性而形成微細的圖案時，逐個單面的圖案形成 無法以良好精度進行位置對準。 在此，光學濾光片9a及9b，係用於將從光源8a及8b 照射的某個特定波長的光遮斷的濾光片。藉由將用以將光 阻劑曝光之光吸收之透明基板層1、la及lb、樹脂層5a、 5b或黏著層6組合，能將用以將透明基板層之其中一面之 光阻劑曝光的光選擇性遮斷，並防止另一面的光阻劑感光。 例如，透明基板層1、la及lb、樹脂層5a、5b或黏著 層6含有紫外線吸收劑時，光學濾光片9a及9b將可見區 的波長的光遮斷，並將透明基板層之另一面的光阻劑以紫 外區之波長之光曝光。未被透明基板層之其中一面的光阻 劑吸收的光，被透明基板層1、la及lb、樹脂層5a、5b 或黏著層6含有的紫外線吸收劑吸收，防止另一面的光阻

S -25- 201118463 劑感光。 於此情形，光學濾光片9a及9b於波長365nm之光線 穿透率較佳爲80%以上。藉由限定在此範圍，能僅將透明 基板層之其中一面的光阻劑以紫外區的波長的光曝光，能 防止另一面的光阻劑曝光，並防止圖案的映射。又，視光 阻劑之種類，有時會有以穿透光學濾光片9a及9b之光無 法充分感光的情形，因此藉由將光學濾光片9a及9b於波 長400nm之光線穿透率於0.1 %至30%間調整，能使其中一 面的光阻劑充分感光，且防止另一面的光阻劑曝光，防止 圖案映射。 又，光罩10a及l〇b，係用於在光阻劑7a及7b形成圖 案之光罩’具體而言，用於形成第9圖或第10圖所示圖案 等。 第2圖至第8圖所示之本發明之透明導電性積層體， 也同樣’利用上述曝光步驟，可形成在第一逶明導電層3a 及第二透明導電層3b所形成之導電性圖案區4a及非導電 性圖案區4b。 本發明之透明導電性積層體之利用光微影的圖案形成 方法之各步驟，以如第13圖顯示。第13圖，舉製造第1 圖之透明導電性積層體U之各步驟爲例顯示。首先，準備 透明基板1(步驟（a))，在其兩面形成第—透明導電層3a及 第二透明導電層3b(步驟（b))。又，在第一透明導電層3a 及第二透明導電層3b的表面，分別塗布光阻劑7a、7b(步

S -26- 201118463 驟（C))。之後，使用第12圖所不之光源8a、8b、將特定波 長之光遮斷的光學據光片9a、9b、光罩i〇a、i〇b，將光阻 劑7a、7b曝光（步驟（d))。又，7c係以光感光之光阻劑。 其次，將未感光的光阻劑以顯影液除去（步驟（e))，將第一 透明導電層3a及第二透明導電層3b之露出部分蝕刻（步驟 (f))。最後’將已感光的光阻劑7 c剝離，得到透明導電性 積層體1 1。 第13圖顯示使用負型光阻劑形成圖案之方法的各步 驟，但是，也可使用正型光阻劑形成圖案。 第2圖至第8圖所示之本發明之透明導電性積層體也 同樣，可利用上述各步驟，形成在第一透明導電層3a及第 二透明導電層3b所形成之導電性圖案區4a及非導電性圖 案區4b。 又，本發明之透明導電性積層體11，從在透明基板層 形成透明導電層之步驟至將前述光阻劑剝離之步驟爲止， 較佳以捲繞方式進行。藉此，能將製造時間大幅縮短。 本發明之透明導電性積層體11，於波長40 Onm之光線 穿透率爲60 %以上，且於波長365nm之光線穿透率爲20% 以下較佳。於此範圍時，能在透明導電性積層體的兩面將 不同的圖案同時曝光。又，藉由將兩面同時曝光，能輕易 進行兩面的圖案的位置對準，能形成微細的圖案，因此， 當使用本發明之透明導電性積層體11作爲靜電電容式觸 控面板之電極材時，能以良好感度精確讀取2維的位置資

S -27- 201118463 訊。又，由於能形成微細圖案，故不易看見圖案形 案的視讀性提升。 尤其，構成透明導電性積層體11之透明基板層 及lb、樹脂層5a、5b或黏著層6於波長40〇nm之 透率爲80%以上，且於波長365nm之光線穿透率爲 下較佳。 又，本發明之透明導電性積層體11，導電性圖 非導電性圖案區之總光線穿透率之差爲1.5 %以下且 相b*差爲2.0以下較佳。於此範圍時，即使在透明 積層體的兩面形成不同的圖案，圖案形狀仍然不顯 讀性提升。 又，本發明之透明導電性積層體1 1，於1 50°C 鐘的熱收縮率爲0.5 %以下較佳》於此範圍時，能抑 成第一透明導電層3a及第二透明導電層3b之步驟 阻劑7a、7b乾燥之步驟中之加熱引起的收縮，能防 在第一透明導電層3a及第二透明導電層3b的圖案 偏離。 [實施例] 其次說明實施例及比較例。 <實施例1 > 使用具有紫外線吸收機能的聚對苯二甲酸乙二 (Toray公司製、厚度：ΙΟΟμιη)作爲透明基板，於透 的兩面，以微型凹版塗布機塗布下述組成之樹脂層 狀，圖 1、1 a 光線穿 2 0 %以 案區與 穿透色 導電性 眼，視 、30分 制於形 或將光 止形成 的位置 醇酯膜 明基板 形成用 •28- 201118463 塗液’於6 0 °C使乾燥1分鐘，並以紫外線使硬化，藉此形 成樹脂層。 [樹脂層形成用塗液之組成] 樹脂 :紫光UV— 7605Β(日本合成化學社製） 1 0 0重量份 起始劑 :Irgacure 184(Chiba Japan 公司製） 4重量份 溶劑 :乙酸甲酯 1 00重量份 其次，於形成在透明基板的兩面的樹脂層之兩表面， 利用濺鏟法將作爲透明導電層的ITO成膜30nm。之後，使 用第12圖及第13圖所示之利用光微影的方法，依以下曝 光條件，在兩面同時形成第9圖及第10圖所示之圖案，於 透明導電層形成導電性圖案區與非導電性圖案區。 [曝光條件] 光源：超高壓水銀燈（US Η 10電機公司製） 光學濾光片：遮斷380-600nm之範圍的波長 光罩：如第9圖及第10圖所示之鑽石型圖案 <實施例2 > 使用不具有紫外線吸收機能之聚對苯二甲酸乙二醇酯 膜（Toray公司製、厚度：ΙΟΟμιη)作爲透明基板，於樹脂層 形成用塗液使含有三畊系紫外線吸收劑（2 — [4 一 [(2-羥基 一 3 -十三烷氧基丙基）氧]_2-羥基苯基]一 4,6 —雙（2，4 一二甲基苯基）一 1，3,5_三阱）0.5重量份，除此以外，以與 實施例1相同條件及方法，於透明導電層形成導電性圖案 區與非導電性圖案區。

S -29- 201118463 <比較例> 使用不具有紫外線吸收機能之聚對苯二甲酸乙二醇酯 膜（Toray公司製、厚度：ι〇〇μιη)作爲透明基板，除此以外， 以與實施例1相同條件及方法在透明導電層形成導電性圖 案區與非導電性圖案區。 將得到的透明導電性積層體依下列評價方法進行評 價。 [評價方法] 光線穿透率：使用分光度計（Hitachi Hitech公司製）測 定於波長400nm及3 6 5 nm之光線穿透率，作爲透明導電性 積層體之穿透率。 外觀：以目視進行得到的透明導電性積層體的色彩評價。 圖案化：以目視確認得到的透明導電性積層體兩面的圖案 形狀，並評價其中之一之圖案形狀是否映射到另一圖案形 狀。 實施例1及2得到的透明導電性積層體，於40 Onm及 3 6 5nm之光線穿透率，於實施例1之透明導電性積層體各 爲6 1 %及0 %、於實施例2之透明導電性積層體各爲6 5 %及 10°/。，可知能將透明導電性積層體之兩面的不同圖案同時 曝光。又，外觀也沒有泛黃等缺陷’兩面的圖案也沒有彼 此圖案的映射。 另一方面，比較例得到的透明導電性積層體，於400nm 及3 6 5 nm之光線穿透率爲67%及40%，可知無法將透明導 -30- 201118463 電性積層體之兩面的不同圖案同時曝光。又，關於外觀， 雖未存在泛黃等缺陷，但是，關於兩面的圖案顯著存在有 彼此的圖案的映射。 [產業利用性] 本發明可使用在電子設備的顯示器上作爲輸入裝置而 安裝的透明的觸控面板》尤其，可使用於可作多點觸控的 可攜式設備等。 【圖式簡單說明】 第1圖顯示本發明之透明導電性積層體之剖面例1之説明 圖。 第2圖顯示本發明之透明導電性積層體之剖面例2之説明 圖。 第3圖顯示本發明之透明導電性積層體之剖面例3之説明 圖。 第4圖顯示本發明之透明導電性積層體之剖面例4之説明 圖。 第5圖顯示本發明之透明導電性積層體之剖面例5之説明 圖。 第6圖顯示本發明之透明導電性積層體之剖面例6之説明 圖。 第7圖顯示本發明之透明導電性積層體之剖面例7之説明 圖。 第8圖顯示本發明之透明導電性積層體之剖面例8之説明 圖。 -31- 201118463 第9圖顯示透明導電層之圖案例（X座標）之説明圖。 第10圖顯示透明導電層之圖案例（Y座標）之説明圖。 第11圖顯示透明導電層之圖案例之X座標與Y座標之位 置關係之説明圖。 第12圖顯示本發明之透明導電性積層體之曝光步驟例之 説明圖。 第13圖顯示本發明之透明導電性積層體之圖案形成步驟 例之説明圖。 [ 主要元件 符 號 說 明 ] 1 透 明 基 板 層 la 第 一 透 明 基 板 層 lb 第 二 透 明 基 板 層 2 a 、2b 光 學 調 整 層 3 a 第 一 透 明 導 電 層 3b 第 二 透 明 導 電 層 4 a 導 電 性 圖 案 丨品- 4b 非 導 電 性 圖 案 1品- 5 a 、5b 樹 脂 層 6 黏 著 層 7a 、7b 光 阻 劑 7c 已 感 光 之 光 阻 劑 8 a 、8b 光 源 9 a 、9b 光 學 濾 光 片 10 a、1 Ob光 罩 11 透 明 導 電 性 積 層體 -32-

Claims (1)

1. 201118463 七、申請專利範圍： 1. 一種透明導電性積層體，其特徵在於： 至少包含： 透明基板層； 形成於該透明基板層之兩面的第一透明導電層及第二 透明導電層； 形成於該第一透明導電層之第一導電性圖案區及第一 非導電性圖案區； 形成於該第二透明導電層之第二導電性圖案區及第二 非導電性圖案區； 且形成於該第一透明導電層與該第二透明導電層之間 之至少1層爲吸收光之層。 2. 如申請專利範圍第1項之透明導電性積層體，其中該透 明基板層爲吸收光之層，該透明基板層含有紫外線吸收 劑或具有紫外線吸收機能之樹脂。 3 .如申請專利範圍第1項之透明導電性積層體，其中，包 含形成於該透明基板層與該第一透明導電層之間及/或 該透明基板層與該第二透明導電層之間的樹脂層，該樹 脂層爲吸收光之層，該樹脂層含有紫外線吸收劑或具有 紫外線吸收機能之樹脂。 4.如申請專利範圍第1項之透明導電性積層體，其中，該 透明基板層由其中一面形成有該第一透明導電層之第 一透明基板層'其中一面形成有該第二透明導電層之第 -33- I 201118463 二透明基板層，及形成在該第一透明基板層之另一面與 第二透明基板層之另一面之間的黏著層構成，該黏著層 爲吸收光之層，該黏著層含有紫外線吸收劑或具有紫外 線吸收機能之樹脂。 5 .如申請專利範圍第1項之透明導電性積層體，其中，在 該透明基板層與該第一透明導電層之間及/或該透明基 板層與該第二透明導電層之間具有光學調整層。 6 ·如申請專利範圍第5項之透明導電性積層體，其中，於 波長400nm的光線穿透率爲60%以上，且於波長365nm 之光線穿透率爲2 0 %以下。 7 ·如申請專利範圍第6項之透明導電性積層體，其中該導 電性圖案區與該非導電性圖案區之總光線穿透率之差 爲1 .5%以下，且穿透色相b*差爲2.0以下》 8 ·如申請專利範圍第 7項之透明導電性積層體，其中 1501、30分鐘的熱收縮率爲0.5%以下。 9. 一種靜電電容式觸控面板，其係使用如申請專利範圍第8 項之透明導電性積層體作爲電極材。 10· —種透明導電性積層體之製造方法，其特徵在於： 包含以下步驟： 於透明基板層之兩面至少形成第一透明導電層及第二 透明導電層之步驟； 於該第一透明導電層及該第二透明導電層之表面塗布 光阻劑之步驟； S -34- 201118463 將用以在該第一透明導電層形成圖案之光源及遮 之光學濾光片與光罩，及用以在該第二透明導電層 圖案之光源及遮斷光之光學濾光片與光罩，分別從 側依序配置，並且將塗布在該第一透明導電層之表 該光阻劑及塗布在該第二透明導電層之表面之該 劑同時曝光之步驟； 將已感光之該光阻劑顯影之步驟； 將未受該光阻劑覆蓋的該第一透明導電層及該第 明導電層蝕刻步驟； 將該光阻劑剝離步驟； 且在該第一透明導電層與該第二透明導電層之間 的至少1層爲吸收光之層。 11.如申請專利範圍第10項之透明導電性積層體之製 法，其中，該透明基板層爲吸收光之層，該透明基 含有紫外線吸收劑或具有紫外線吸收機能之樹脂。 1 2 .如申請專利範圍第1 1項之透明導電性積層體之製 法，其中，該光學濾光片於波長365 nm之光線穿透 80%以上。 13. 如申請專利範圍第12項之透明導電性積層體之製 法，其中，從在該透明基板層形成該透明導電層之 至將該光阻劑剝離之步驟爲止，係以捲繞（roll to 方式進行。 14. 如申請專利範圍第10項之透明導電性積層體之製 斷光 形成 光源 面之 光阻 二透 形成 造方 板層 造方 率爲 造方 步驟 roll) 造方 ¢-1 -35- 201118463 法，其中， 包含以下步驟： 在該透明基板層之兩面形成樹脂層之步驟； 在該樹脂層之表面形成第一透明導電層及該第二透明 導電層之步驟； 該樹脂層爲吸收光之層，該樹脂層含有紫外線吸收劑或 具有紫外線吸收機能之樹脂。 15. 如申請專利範圍第14項之透明導電性積層體之製造方 法，其中，該光學濾光片於波長365nm之光線穿透率爲 80%以上。 16. 如申請專利範圍第15項之透明導電性積層體之製造方 法，其中，從在該透明基板層形成該透明導電層之步驟 至將該光阻劑剝離之步驟爲止，係以捲繞方式進行。 17. —種透明導電性積層體之製造方法，其特徵在於： 包含以下步驟： 在第一透明基板層之單面至少形成第一透明導電層之 步驟； 在第二透明基板層之單面至少形成第二透明導電層之 步驟； 以該第一透明導電層及該第二透明導電層作爲外側，將 該第一透明基板層與該第二透明基板層以黏著層貼合 之步驟； 在該第一透明導電層及該第二透明導電層之表面塗布 B -36- 201118463 光阻劑之步驟； 將用以在該第一透明導電層形成圖案之光源與將光遮 斷的光學濾光片及光罩，及用以在該第二透明導電層形 成圖案之光源與將光遮斷的光學濾光片及光罩，分別從 光源側起依序配置，並將塗布在該第一透明導電層之表 面的該光阻劑與塗布在該第二透明導電層之表面的該 光阻劑同時曝光之步驟； 將已感光的該光阻劑顯影之步驟； 將未受該光阻劑覆蓋的該第一透明導電層及該第二透 明導電層蝕刻之步驟； 將該光阻劑剝離之步驟； 且形成在該第一透明導電層與該第二透明導電層之間 的至少1層爲吸收光之層》 18·如申請專利範圍第17項之透明導電性積層體之製造方 法，其中，該黏著層爲吸收光之層，該黏著層含有紫外 線吸收劑或具有紫外線吸收機能之樹脂。 1 9.如申請專利範圍第1 8項之透明導電性積層體之製造方 法，其中，該光學濾光片於波長365 nm之光線穿透率爲 80%以上。 S -37-