TW201031430A - Dental appliance cleanser - Google Patents

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201031430 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 此揭不係關於含有低濃度氯己定(ehlQfhexidine)或其醫 H可接受㈣之無過硫酸鹽之牙科器具清潔劑。 【先前技術】 全口或局部假牙被用於配戴於口内以代替失去的牙 =如同牙齒，假牙及其他牙科器具必需被定期清潔以維 ❹、& 2 口腔衛生。如同牙齒，牙科器具亦必需被定期清 ί保持美觀’例如維持清新的口氣。已習知微生物會積 5=於假牙和其他牙科器具上而造成病人及其治療牙 醫的命多困擾。此類的問題包括口臭炎、 器具及口腔内的染色和異味。 *腔災 嚟。不同!^牙齒，假牙及其他牙科器具可被取下進行清 牙科器具亦由耐久材料如丙烯聚合物所製成而可承受 ㈣烈的清洗條件。其一般可使用兩種方式之其中-種清 〇 Ί例如其於清洗_浸泡—段時間或以潔齒劑或特殊配 製清潔乳刷洗。 以潔齒劑或清潔乳刷洗對清潔配製物具有輔助機械作 用的優點。不幸的是，如同牙齒，在刷洗過程中可能遺漏 或忽略了牙科器具上的斑點。因此，使用者的其餘牙齒和 牙銀可能被暴露於病原菌及造成不美觀的後果。此外，以 含有磨料成分的牙膏進行刷洗可能造成牙科器具之材料的 的刮痕或磨損。 & /包於清洗浴内提供達到清潔每一假牙部位的優點。 3 201031430 將假牙完全浸泡於清洗浴内可使清潔組成物達到以潔齒 或清潔乳刷洗無法到達的咬合或内表面區域。活性成分一 般以固態形式販售，例如假牙清潔劑粉末或錠劑，或=濃 縮液的形式。該活性成分於是被溶解於水浴内而形成j青洗 浴。 嚴重染色或明顯細菌污染的假牙雖然需要長期（例 如，隔夜）的浸泡，但是病人通常僅以較短的時間浸泡其義 齒。此外，單純的浸泡無法達到如清潔乳和潔齒劑所^生 機械性磨擦的效果。為彌補此機械性清潔的損失，假牙^❹ 潔錠和粉末可含有一發泡系統以模擬協同化學清潔劑的^ 械性磨擦。或者，清洗浴可應用於在具有馬達、振動器、 超聲波產生器或其他攪拌清洗浴之儀器的容器内之牙科器 具。 ° 已習知氯己定（1，6-二-4，-氯苯基雙胍已烷）或其鹽對預 防發生或清除人類牙菌斑的有效性。亦已習知即使短時間 使用含氣己定或其鹽的牙齒和口腔保健組成物會造成牙齒 和舌頭的褐染。核准於1976年5月18日之美國專利❹ 3,957,967係教示使用足以減少用於清潔真牙和假牙之牙齒 調配物中氣己定的染色效應之量的尿素。核准於1976年6 月1曰之美國專利3,960,745係教示一種含有結合表面活性 劑之氣己定可溶性鹽的清潔組成物，該表面活性劑係為一 種被教示與氯己定不相容的聚氧乙烯-聚氧丙烯嵌段共聚 物、而非標準表面活性劑如陰離子表面活性劑。公告於1991 年10月17日的WO 91/15189中揭示一種可減少口腔炎和 201031430 黏膜炎相關細菌之具有0.02〜2.0%二葡萄糖酸氣己定和 0.05〜2.0%單氟磷酸鈉之組合的牙膏，其中該單氟磷酸鹽可 減少氯己定的染色效應。 此處發明者已發現在無過硫酸鹽之牙科器具清潔劑組 成物内可使用低濃度的氣己定或其鹽以對抗牙菌斑，其中 該清潔劑組成物含有選自陽離子表面活性劑、非離子表面 活性劑、兩性離子表面活性劑或其組合的表面活性劑，以 @ 及其中該氯己定或其鹽不產生染色。 【發明内容】 發明之摘要 在一態樣中，此揭示係關於一種包含低濃度氣己定或 其醫藥上可接受的鹽之無過硫酸鹽牙科器具之清潔調配 物。 在另一態樣中，此揭示係關於一種包含低濃度氯己定 或其醫藥上可接受的鹽，以及選自陽離子表面活性劑、非 Q 離子表面活性劑、兩性離子表面活性劑或其組合之表面活 性劑的無過硫酸鹽之牙科器具清潔調配物。 在進一步態樣中，此揭示係關於一種包含低濃度氯己 定或其醫藥上可接受的鹽、選自過硼酸鹽和過碳酸鹽之氧 化劑，以及選自陽離子表面活性劑、非離子表面活性劑、 兩性離子表面活性劑或其組合之表面活性劑的無過硫酸鹽 之牙科器具清潔調配物。 在又進一步態樣中，此揭示係關於一種於口腔外部清 潔牙科器具的方法，包含使該牙科器具與包含低濃度氯己 5 201031430 定或其醫藥上可接受鹽的絲硫酸鹽之牙科器 物接觸足夠清潔該牙科n具的_段_，及以捧= 科器具。 衆5亥牙 在另一態樣中，此揭示係關於一種於口腔外部产 科器具的方法，包含使該牙科器具與包含—發泡系=、牙 / 辰度氣己定或其醫藥上可接受鹽的無過硫酸鹽之牙科低 清潔調配物接觸足夠清潔該牙科器具的一段時間、具 洗滌該牙科器具。 久以水

C 在仍另一態樣中，此揭示係關於一種於口腔外 牙科器具的方法，包含使該牙科H具與包含—發泡系 一表面活性劑和低濃度氣己定或其醫藥上可接受鹽的盔滿 硫酸鹽之牙科器具清潔調配物接觸足夠清潔該牙科器二 一段時間，及以水洗蘇該牙科器具。 、 在又另-態樣中，此揭示係關於—種在牙科器具配戴 者口内預防發生及/或減少牙菌斑發生率的方法，其係藉由 與包含-舰线、-表祕'_和傾度氣己定或^ 藥上可接受鹽的無過硫酸鹽之牙科器具清潔調配物接觸 夠清潔該牙科n具的-段時間，及以水洗_牙科器且， 並將該牙科器具置於該配戴者口中。 /、 發明之詳細說明 此處“clean”、’’cleansing”或，’deaning，，等名詞可互用而 用以指以此處揭示的調配物清除牙科器具表面上和孔隙 的食物顆粒、污潰和其他口腔殘逢。 “氯己定，，和”CHX”一詞可互用。 201031430 此處”牙科器具，，一詞指可用於預 節(TMJ)疾病及類似者的全口或局二磨牙人症及/或顳顎關 式續正牙橋和假牙托、橋正固位器和器齒具上; 齒套' 夜間牙套等。 六'"隻 此處“假牙清潔劑，，-辦驗㈣外 的調配物。 π科器具 ❹ ❹ 本發_牙科ϋ具清潔_配物可被製成粉 劑，以及可特別有效用作為鍵劑清潔劑。此外，在一转〜 具體實施例巾’該錠馳佳為在加熱至3G和难^ =度下被置人水浴内。在另—具體實施例中，該= 熱至如和7〇。⑶之溫度下被置人水糾。 1在加 4牙科盗具清潔劑調配物的適當氯己定或其醫 接。受的鹽之量為總調配物介於謹i 5⑽重量百分比 :ί产：fΪ使:ί品期間的推薦稀釋度將強烈影響調配 擇。在一具體實施例中，氯己定或其醫

重量%。形成的調配物可以;5。： 〇/ . 克，月潔劑的濃度被置入水中。應瞭解〇 1曹I

二鼠己定旋劑濃度相等於15〇毫升清潔液内的”5 J :.0018〇/〇(重量/體積）的氯己定。〇 2%的氯己定旋劑濃声 二。於150毫升清潔液内的2.75毫克或0·0037%(重量/; 的畜=圍'皿度下可至少G.5%重量/體積程度被溶解於水 d &適當鹽類為例如葡萄糖酸鹽、經乙續酸鹽㈤里乙 Ό现）、甲酸鹽、乙酸鹽、麵胺酸鹽、琥ίό醯胺酸鹽、單 201031430 二乙醇酸鹽、二-甲續酸鹽、乳酸鹽、二-異丁酸鹽和葡庚糖 酸鹽。 該牙科器具清潔劍調配物<適當地利用至少一種氧化 劑。該氧化劑提供清潔過程中所需活性氧的來源。不似標 準假牙裝置清潔劑，本調配物不含有與氯己定不相容的過 硫酸鹽氧化劑。 用於此揭示中的適當氧化劑包括，但不侷限於，過酸 鹽劑例如過硼酸鹽、過後酸鹽和過焦礙酸鹽；以及驗金屬 和鹼土金屬過氧化物，或其組舍。適當物質的實施例包括❹ 過硼酸卸、氨、納和链單-和四水合物；過氧水合焦磷酸鈉； 以及過氧化鎮、舞、錫和鋅，成其組合。適當時可使用有 機酸過氧化物作為氧化劑，例如玻珀酸、草酸、丙二酸、 戊二酸、己二酸、庚二酸、鞣酸、酒石酸、擰檬酸過氧化 物’及其組合。 該氧化劑於調配物内的含耋為介於15和70%重量/重 量(％w/w)。在一具體實施例中’係使用過蝴酸鹽和過碳酸 鹽氧化劑的組合。在此具體實施例中’該過硼酸鹽氧化劑❹ 於調配物内的含量為介於5和15%重量/重量的總組成物以 及該過碳酸鹽氧化劑於調配物朽的含量為介於5和15%重 量/重量的總組成物。在另一具躱實施例中，亦可僅使用過 硼酸鹽或過碳酸鹽作為氧化劑。在此具體實施例中，該氧 化劑於調配物内的含量為介於2〇和30%重量/重量的總組 成物。該氧化劑通常可供應自美國德拉瓦州Wilmington市 的DuPont公司。 8 201031430

該調配物除了氣己定和氧化劑之外可含有一或多種已 知適合作為牙科器具清潔劑的賦形劑，包括但不侷限於表 面活性劑、漂白活化劑（如四乙醯基乙二胺）、螯合劑、酵素、 調味劑、用於錠劑加工的潤滑劑（苯甲酸鈉、聚乙二醇、硬 脂酸鎂）、抗微生物化合物、甜味劑(糖精、木糖醇、蔗糖素）、 錠劑黏合劑和充填劑（聚乙烯π比咯啶酮、纖維素塑膠、澱 粉）、除濕劑、防腐劑等。 該調配物可含有一或多種表面活性劑包括，但不侷限 於，陽離子表面活性劑、兩性離子表面活性劑和非離子表 面活性劑，或其組合。表面活性劑於調配物内的總濃度為 總組成物介於0.1和10%重量/重量。 適當的陽離子表面活性劑包括，但不侷限於’鯨蠟基 氯化吡啶鹽、鯨蠟基三曱基溴化銨、二異丁基苯氧乙氧乙 基二曱基节基氯化銨和椰油烷基三曱基石肖酸銨。陰離子表 面活性劑由於與氣己定不相容，因此不使用於本發明的調 配物内。 一具體實施例中鯨蠟基氣化吡啶鹽的含量為總組成物 介於0.1和3%重量/重量。另一具體實施例中鯨蠟基氯化吡 咬鹽的含量為總組成物介於4.0和7.0%重量/重量。 適當的非離子表面活性劑包括，但不偈限於，。 化蓖麻油、乙氧基化山梨糖醇烷酸鹽、 氧基脂肪醇、乙氧基脂肪胺、聚氧乙嫌 知肪酸、乙 物(Pluronics)和蔗糖酯。 氧丙烯嵌段聚合 適當的兩性離子表面活性劑包括， ，但不侷限於，椰油 9 201031430 酸胺丙基甜桌驗和烧基酿胺丙基甜菜驗。 · 此處揭示的表面活性劑一般可供應自美國伊利諾州 Northfield 市的 Stepan 公司。 該調配物可含有一或多種有助於清潔和漂白安定性之 藉由保存溶液内金屬離子例如妈、納和重金屬陽離子的整 合劑。螯合劑包括’但不侷限於’聚磷酸鈉、三聚磷酸納、 焦磷酸氫鈉、焦磷酸四鈉、胺基多羧酸鹽例如氰基三醋酸 和乙二胺四醋酸及其鹽，以及聚磷酸鹽和胺基多磷酸鹽例 如乙二胺四亞甲基磷酸、二乙三胺五亞曱基磷酸和其鹽，〇 及其組合。調配物内當存在螯合劑時其含量為總組成物介 於1和20%重量/重量。在一具體實施例中，該螯合劑係供 應自美國紐澤西州Cranbury市Innophos公司的聚碟酸納以 及其含量為總組成物介於約10和18%重量/重量。在另一 具體實施例中，該螯合劑係供應自美國密西根州Midland 市Dow化學公司的EDTA納以及其含量為總組成物介於1 和5%重量/重量。在又另一具體實施例中，其係總含量為 1〜20%重量/重量總組成物2EDTA和聚磷酸鈉的組合。〇 適合用於此處揭示組成物的調味劑包括，但不揭限 於，冬清油、薄荷油、留蘭香油、檸檬油、撥油、茴香油、 丁香精油、肉桂葉油，或其組合。調味劑於組成物内的含 量為總組成物介於〇.〇和2.5%重量/重量。 適合用於此處揭示組成物的抗微生物劑包括，但不偶 限於，知香酚、薄荷醇、三氣沙(triel〇san)、苯酚、桉葉醇 (eucalyptol)、苯甲酸、4_己間苯二酚、對羥基苯甲酸甲酯、 201031430 對羥基苯甲酸丙酯、水揚酸醯胺、苯甲酸鈉，及其組合。 熟練之技術者將瞭解所列舉的抗微生物劑亦可於本發明調 配物中被用作為防腐劑。 適合用於此處揭示組成物的除濕劑包括，但不侷限 於，供應自美國賓州Philadelphia市FMC工業化學公司的 市售蘇打灰(碳酸鈉）。 該調配物可含有由一或多種成分組成以作為釋出或產 生二氧化碳、氧或氮氣之目的的發泡系統。單一成分發泡 系統的一實施例係使用預負載可於水中释出二氧化碳的沸 石。多成分發泡系統的實施例包括鹼金屬碳酸鹽、鹼金屬 碳酸氫、有機碳酸鹽(甘胺酸碳酸鹽、精胺酸碳酸鹽）或鹼金 屬過硫酸鹽與羧酸(檸檬酸、酸酐）；鹼金屬碳酸鹽、鹼金屬 碳酸氫、有機碳酸鹽或驗金屬過硫酸鹽與酸式鹽（氫氯酸、 硝酸)的組合；上述化合物的適當組合；以及其他已知二氧 化碳及/或此技術中具有釋氧反應的常見組成物。 可藉由混合該成分製備此處揭示的組成物，然後包裝 於藥包内或根據技術中已知的程序進行製錠。 該牙科器具清潔劑調配物的形式可為粉末、藥包、錠 劑、凝膠、乳化懸浮液或液體。可利用技術中習知的方法 包裝各劑型。就固體劑型而言’可將牙科器具清潔調配物 置入水或其他適當液體内以形成清潔組成物以及啟動清潔 程序。 協同下列非限制性實施例更詳細說明屬於此揭示範圍 内的牙科器具清潔調配物。 201031430 【實施方式】 實施例 實施例1 利用體外模式評估假牙清潔調配物内置入氣己^ 生的牙菌斑預防效益。使用3，’χ1，，的丙稀酸破片（疋所產 〇 烯酸曱酯)樹脂作為代替假牙的基質。使用前，嘴砂I基， 玻片以粗链化表面，使用清潔劑清洗以除去污括和丨忒 後浸入甲醇以提供該表面的進一步清潔及滅菌。利=礫然 發泡敍：(愛爾蘭Dungarvan市Poliden®抗劑錠)製備假主售 液。根據製造商的指示，將1顆錠劑加入45¾的f5〇 =潔 自來水以製備標準溶液。為製備實驗溶液，將小量的氯= 定（1.375〜5.500毫克，分別相當於〇·〇5〜0.20%重量/重量 錠劑)加入標準溶液及在輕微攪動下使其溶解。在取出之前 將玻片於清潔液内浸泡5分鐘。在將玻片乾燥之前藉由Z 玻片浸入含水燒瓶内以移除殘留清潔液。 為於玻片上長出菌斑，製備每升去離子水含有30克 ToddHewitt培養液(脫水)和10毫克蔗糖的培養液。該讲養〇 液在121°C和15psi的高壓釜内滅菌15分鐘。於冷卻至4〇 °C之後，每升培養液以5毫升人類唾液(收集自試驗操作者） 接種該培養液。在平均分散唾液於培養液之後，將溶液傾 倒於已被置入高壓釜塑膠盤内的玻片上。以蓋子覆蓋該塑 膠盤然後在37°C的烘箱内培養18小時。 培養完成之後，從塑膠盤取出該玻片然後空氡乾燥。 藉由浸入含有水的燒瓶内溫和洗滌以移除殘留微量的培養 12 201031430 液。藉由將玻片於37°C烘箱放置45分鐘而完成最後的空氣 乾燥。藉由目視及以紅染後的反射儀檢查評估菌斑形成的 程度。下表為一典型試驗的結果。可看出，含有微量的氯 己定可大幅度地增強對抗其後的生物淤積。 處理 %菌斑減少 (反射儀） 外觀 (目視檢查） 未處理玻片 0 未減少 Polident抗菌調配物 27.79+15.78 中度地減少 Polident抗菌調配物 +0.05% CHX 63.87±5.54 有效地減少 Polident抗菌調配物 +0.20% CHX 70.29±5.02 有效地減少 在Lucitone 199牙托粉（賓州Y〇rk市Dentsply公司）的 樣本上檢查氣己定導致染色的可能性。在一試驗中，以下 列四種暴露循環中的其中之一重複處理該樣本： ⑴浸泡入Polident抗菌液内（p〇li a/B)

(2) 浸泡入添加〇·〇5% CHX的Polident抗菌液内（Poli A/B ❹ + CHX) (3) 浸泡入添加0.05% CHX的Polident抗菌液内接著浸泡 濃茶(Clean/Tea) (4) 浸泡入濃茶接著浸泡入添加〇 〇5% CHX的Polident抗 菌液内（Tea/Clean) 暴露於各種循環的30天之後，利用偵測斑點形成的

HunterLab MiniScan(維基尼亞州 Rest〇n 市 HunterLab 實驗 室）比色計分析樣本。 13 201031430 七 1* 1 醺 -*- L* a* b* 41.54i0.88 7.32±0.84 -1.36+0.66 Poll A/B Pfil· /Λ /β 41.09+1.16 7.63±0.54 -1.44+0.48 X UU /VJ5 "Γ 40.9211.17 Γ 7.59+0.32 -U5±0.41 Clean/Tea 40.9610.72 7.74+0.65 -1.05+0.48 Tea/Clean 40.87+1.41 7.75+0.70 -U3+0.56 任何處理均不導致顏色變化的統計學上顯著性差異。 實施例2 利用代表使用中條件的體外懸浮試驗測定清潔劑調配 物的制活性。使財條件(例如歸解錠舰度、溫度和 接觸時間）絲實㈣費者使_清_叫抗配戴 時的相關口腔細菌白色念珠菌。 在零時間點將假牙清潔劑加入4〇ΐ的15〇毫升水 著加入2毫升的W細菌數/毫升測試懸浮液。於5分鐘 ，，移除、中和及置入等量樣本溶液以測定受測 量或對數降低值。 _

201031430 該0.1%氯己定的錠劑濃度相當於150毫升清潔液内 2.75毫克或0.0018%(重量/體積）。該0.2%氯己定的錠劑濃 度相當於150毫升清潔液内2.75毫克或0.0037%(重量/體 積）。 測試調配物 每5分鐘的對數降低 1 2 3 4 試驗1 1.05 >3.28 >3.28 0.00 試驗2 0.85 >4.70 >4.70 - 試驗3 0.72 >4.58 >4.58 - 這些結果證明無過硫酸鹽之清潔劑調配物内存在極低 濃度的氯己定可明顯增加該清潔劑調配物的抗微生物活 性，而單獨以氣己定處理則未產生任何的抗微生物活性。 此資料證明低濃度氣己定與無過硫酸鹽之假牙清潔劑的組 合具有協同效應。 實施例3 下表列舉用於本發明揭示範圍内之適當調配物的成 分。使用2.75克錠劑作為基準。 成分 濃度(％重量/重量） 碳酸氫鈉/P丨asdone S-630 VP/VA共聚物 47.1 檸檬酸，無水 20.00 碳酸鈉，無水 10.00 一水過硼酸鈉 11.00 鯨蠟基氣化哺啶鹽 1.50 苯甲酸鈉 3.00 薄荷油 0.80 蛋白水解酶 0.50 聚乙二醇8000 3.00 15 201031430

四乙醢基乙二胺 氣己定 總計

無

【主要元件符號說明】 無 16

Claims (1)

1. 201031430 '七、申請專利範圍： 1. 一種無過硫酸鹽之牙科器具清潔組成物，其包含醫 藥上可接受載劑内低濃度之氯己定(chlorhexidine)或其醫藥 上可接受的鹽。 2. —種無過硫酸鹽之牙科器具清潔組成物，其包含醫 藥上可接受載劑内低濃度之氯己定或其醫藥上可接受的鹽 以及選自陽離子表面活性劑、非離子表面活性劑、兩性離 g 子表面活性劑或其組合。 3. —種無過硫酸鹽之牙科器具清潔組成物，其包含醫 藥上可接受載劑内低濃度之氣己定或其醫藥上可接受的 鹽、選自過硼酸鹽和過碳酸鹽之氧化劑以及選自陽離子表 面活性劑、非離子表面活性劑、兩性離子表面活性劑或其 組合。 4. 一種於口腔外部清潔牙科器具的方法，其包含使該 牙科器具與包含低濃度氯己定或其醫藥上可接受的鹽之無 u 過硫酸鹽之牙科器具清潔組成物接觸足夠清潔該牙科器具 的一段時間，及以水洗滌該牙科器具。 5. —種於口腔外部清潔牙科器具的方法，其包含使該 牙科器具與包含一發泡系統和低濃度氯己定或其醫藥上可 接受的鹽之無過硫酸鹽之牙科器具请潔組成物接觸足夠清 潔該牙科器具的一段時間，及以水洗滌該牙科器具。 6. —種於口腔外部清潔牙科器具的方法，其包含使該 牙科器具與包含一發泡系統、一表面活性劑和低濃度氯己 定或其醫藥上可接受的鹽之無過硫酸鹽之牙科器具清潔組 17 201031430 成物接觸足夠清潔該牙科器具的一段時間，及以水洗滌該· 牙科器具。 7. —種在牙科器具配戴者口内預防發生及/或減少牙 菌斑發生率的方法，其係藉由與包令—發泡系統、一表面 活性劑和低濃度氣己定或其醫藥上可接受的鹽之無過硫酸 鹽之牙科器具清潔調配物接觸足夠清潔該牙科器具的一段 時間，及將該牙科器具置於該配戴者之口内。 201031430 四、指定代表圖： (一) 本案指定代表圖為：第（無）圖。 (二) 本代表圖之元件符號簡單說明： 無 五、本案若有化學式時，請揭示最能顯示發明特徵的化學式： 無