TW201016574A - Position alignment device for cassette of exposure equipment - Google Patents

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TW201016574A
TW201016574A TW098126459A TW98126459A TW201016574A TW 201016574 A TW201016574 A TW 201016574A TW 098126459 A TW098126459 A TW 098126459A TW 98126459 A TW98126459 A TW 98126459A TW 201016574 A TW201016574 A TW 201016574A
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TW
Taiwan
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cassette
position alignment
exposure
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glass
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TW098126459A
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Jong-Ha Park
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De & T Co Ltd
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    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70733Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
    • G03F7/7075Handling workpieces outside exposure position, e.g. SMIF box
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/673Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
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Description

201016574 六、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明關於一種於液晶顯示器(Liquid Crystal Display, LCD)、電漿顯示面板(Plasma Display Panel, PDP)等各種平 板型顯示裝置之玻璃表面繪製微細圖案的曝光裝置,特別地, 本發明關於一種可對裝載有複數個玻璃板之匣盒之位置進行 精密排列的曝光設備用匣盒之位置排列裝置。 φ 【先前技術】 一般而言,曝光設備係指在半導體或薄膜電晶體液晶顯示 器(Thin_Film Transistor-Liquid Crystal Display,TFT LCD )等 需要電路製程之生產線中,利用照相原理,向光罩等光掩模 (photomask)照射光線而在半導體晶圓或薄膜電晶體液晶顯 示器(TFTLCD)玻璃基板上繪製電路的設備。 其中,特別地,在液晶顯示器(LCD)之玻璃基板上繪製 ⑩電路的曝光設備中,為了在作業過程中簡單又準確且順利地傳 送複數個玻璃板,可利用裝載有複數個玻璃板之匣盒,此匣盒 通常在開放-側面的支架之内侧以上下多段裝載有複數個玻 璃板’並且使用普通機械手將裝載於g盒之玻璃板傳送至曝光 設備之索引部,用以藉由曝光作業形成電路,或者將完成曝光 作業之玻璃板重新收回至g盒中。 特別地,上述H盒補由顯示裝置之製作步驟且可傳送地 形成,由此在要求精密作業之曝光設備中,需要預先對匡盒之 位置進行精密排列用以舰盒配置於一準確之位置,然後,使 201016574 用機械手抽取出g盒,由此可減少曝光作業之不良率,並且可 進一步迅速且順利地進行作業。 然而’如上所述,在將E盒傳送至曝光設備之索引部之情 況下,當藉由普通機械手或手推車傳送時,時常存在其配置位 置產生誤差之問題。 為了解決上述之問題,如「第4圖」所示,提出一種利用 直角形狀之夾具200,在支架101之内側固定裝載有複數個玻 璃板1之匣盒100之隅角的裝置。 然而,如上所述,在利用夾具固定匣盒之情形下,當匣盒 之整體大小產生變化時,必須移動夾具之配設位置,由此存在 產生作動誤差之情況’當-對夾具以對角線方向相面對配設 時,更存在匣盒整體向侧面方向旋轉之配設情況,由此可產生 曝光作業之不良率上升之問題。 【發明内容】 由此,鑒於上述習知技術之問題,本發明之目的在於提供 一種曝光設備用匣盒之位置排列裝置,此位置排列裝置以簡單 之結構不僅可將各種尺寸之匣盒始終排列於固定位置,而且可 最小化曝光作業過程中匣盒之搖擺及移動。 而且,本發明之目的在於使位置排列塊順利地***至位置 排列凹槽中’同時可進行位置排列。 並且,本發明之目的在於使位置排列塊在一平面上移動。 而且’本發明之目的在於減少位置排列塊與位置排列凹槽 之接觸面積。 201016574 為了實現上述之目的,本發明關於一種曝光設備用£盒之 位,排列農置,其特徵在於:在一支架之内侧具有一匿盒,此 S盒以上下多段裝載有玻璃板,並且具有一曝光部份之傳送機 械^ ’其用以將裝載於£盒之玻璃板傳送至曝光設備中,在此 S盒之下部形成有下陷之位置排列凹槽,用以對匿盒之位置進 行微細調整,並且在匿盒之下側具有一位置排列塊,此位置排 職-方面進行上下方向之升降,另一方面可***至位置排列 ©凹槽中用以移動匣盒之位置。 此外,曝光設備用匣盒之位置排列裝置之特徵在於:在位 置排列塊之外侧面形成有一傾斜面。 而且,曝光備用匣盒之位置排列裝置之特徵在於··更具 有一位置調節機構,以使得此位置排列塊沿一平面上之上、 下、左、右方向移動。 而且,曝光設備用匣盒之位置排列裝置之特徵在於:在位 置排列塊之外侧面,形成有複數個朝向位置排列塊之内側中心 β 下陷之下陷部份。 由此,本發明提供一種曝光設備用匣盒之位置排列裝置, 其透過位置排列凹槽與位置排列塊之簡單結構,不僅可將各種 尺寸之匣盒始終排列於固定位置,而且能夠最小化曝光作業過 程中匣盒之搖擺及移動,並且與匣盒之大小不相關,可進行始 終固定且精密穩定之位置排列,因此,當藉由傳送機械手傳送 玻璃板時,可具有進一步提高玻璃板之位置精密度的效果。 而且,在本發明之實施例中,形成有傾斜面以使得位置排 201016574 列塊可順利地插人至位置排列凹射,同時進行位置排列,因 此具有進一步順利進行匣盒位置之微細移動的效果。 並且’本發明之實施例中具有一位置調節機構,以使得使 位置排列塊在-平面上移動,由此不僅可實現位置排列塊本身 之位置排列,而且可進-步增加Ε盒用於位置排列之移動距 離。 此外,在本發明之實施例中,形成下陷部份可減少位置排 列塊與位置排列凹槽之間的接觸面積,因此能夠最小化當位置 排列塊插人至位置排列凹槽之内側時,由摩擦所引起之抵抗 力,因此具有可進一步迅速且順利地進行位置排列作業之效 果。 ' 【實施方式】 以下,將結合圖式部份詳細描述本發明之較佳實施例。 「第1圖」係為本發明之一實施例之立體圖,「第2圖」 係為「第1 @」之使用狀態之俯視圖,「第3圖」係為沿「第 2圖」之Α-Α線之剖視圖,如圖所示,本發明之實施例具有一 匣I 10,匣盒1〇之上下多段裝載有用於進行曝光作業之複數 個玻璃板1用以進行傳送,並且將玻璃板丨供給至曝光設備之 平板且取出完成曝光作業之玻璃板1,特別地,在匣盒10之 下部具有一下陷之位置排列凹槽13,在裝載有匣盒1〇之曝光 設備之索引部具有一位置排列塊3〇,位置排列塊3〇一方面進 灯上下升降運動,另一方面可***至位置排列凹槽13中以將 匣盒10排列於準確之作業位置,從而可準確設定玻璃板傳送 201016574 機械手20自匣盒10抽出玻璃板丨或將玻璃板丨收回至匣盒 10之作業位置。 在支架11之内侧,匣盒10具有支撐玻璃板丨之底面的複 數個支撐台12,以便在製造過程中可整體且簡單地移動顯示 裝置中使用的複數個玻璃板丨,由此能夠全面開放且順利地收 回及抽取玻璃板1,並且一方面,可將支架n整體裝載於手 推車等之上,另一方面,可將支架11固定於曝光設備之索引 部。 ❹ 在向X、Y、z軸方向及旋轉方向移動之致動部份21之上 端’玻璃板傳送機械手20形成有一支樓玻璃板i之夹爪22, 以使得夾爪22-方面在匿盒1〇與曝光設備之平板之間作往復 移動,另一方面可按順序抽取出裝載於匣盒1〇中之玻璃板】, 並且將玻璃板1傳送至曝光設備之平板,從而進行曝光作業, 並且將完成曝光之玻璃板丨重新裝載於匣盒1〇之中。 此外’匡盒10之底面形成有一朝向上侧下陷之位置排列 凹槽13,g盒1〇之索引部具有一位置排列塊%,位置排列塊 3〇按照與位置排列凹槽13相對應之形狀形成,以使得在其外 側面與位置排列凹槽13之内侧面相連接之同時可***至位置 排列凹槽13之内部,一方面,位置排列塊3〇進行上下升降, 另-方面,其可***至位置排列凹槽13之中由此將匿盒⑺ 排列於固定位置,因此可在作_程中實現牢固之固定。 此時,較佳地,與位置排列凹槽13相連接之位置排列塊 3〇之外侧面形成有-傾斜面31,以使得當位置排列塊%*** 7 201016574 至位置排列凹槽13中時,£盒1()—方面沿傾斜面3ι移動, 另-方面可整體緩慢地移動,以使得當位置排列凹槽η最終 與位置排列塊3G完全減合時,g盒⑴最終能夠移動至其準 確位置。 而且’較佳地,位置排列塊30具有一位置調節機構32, 位置調節機構32在—平面上的上、下、左、右方向上移動且 包含有普通油㈣筒或LM導軌等,由此可簡單地對位置排列 塊30之配置位置進行調節,因此能夠最大化實現匡盒ι〇之準 確位置排列的移動距離。 並且,在位置排列塊3〇之外侧面,形成有向其内側中心 下陷之複數個下陷部份33,而當位置排列塊3〇***至位置排 列凹槽13中時,可最小化接觸面積,由此可防止因為位置排 列凹槽13與位置排列塊3〇之過度摩擦所引起之磨耗與損傷, 並且可防止由摩擦所引起之振動在匣盒1〇之配置位置中產生 誤差之情形。 由此,在使用普通玻璃板傳送機械手20或手推車將裝載 有複數個玻璃板1之匣盒10移動至曝光設備之索引部之後, 使得位置排列塊30上升且***至匣盒1〇之底面形成的位置排 列凹槽13中,由此可微細移動匣盒1〇之位置以使得匣盒1〇 配置於曝光作業之準確位置,而且藉由位置排列塊30與位置 排列凹槽13之結合可防止匣盒10之移動,因此可進一步準確 且精密地實現玻璃板1之移動。 而且,在裝載於匣盒10中之玻璃板1之曝光作業全部結 201016574 束且自曝光設備重新分離匣盒10之情況下,位置排列塊30重 新下降,以致位置排列塊30脫離開位置排列凹槽13 ’由此可 結束!£盒10之固定狀態且實現匣盒1〇之移動° 而且,在匣盒ίο之大小發生變化之情況下,在匣盒10之 底面’與位置排列塊30相對應,形成大小及形狀始終固定之 位置排列凹槽13,因此可在一個曝光設備簡單且準確地排列 各種大小之g盒1〇。 【圖式簡單說明】 第1圖係為本發明之一實施例之立體圖; 第2圖係為第1圖之使用狀態之俯視圖; 第3圖係為沿第2圖之A-A線之剖視圖;以及 第4圖係為習知技術之曝光設備用匣盒之一實例之俯視 圖。 【主要元件符號說明】 1 :玻璃板
10 11 12 13 20 21 22 30 匣盒 支架 支撐台 位置排列凹槽 玻璃板傳送機械手 致動部份 夾爪 位置排列塊 201016574 31 :傾斜面 32 :位置調節機構 33 :下陷部份 100 :匣盒 101 :支架 200 :夾具

Claims (1)

  1. 201016574 七、申請專利範圍: 1. 一種曝光設備用匣盒之位置排列裝置,其特徵在於: -支架之_具m,該n盒以上下多段I載有複數 個玻璃板,並且具有-曝光部份之玻璃板傳送機械手,該玻璃 板傳送機械手將裝載於該匣盒中之該等玻璃板傳送至一曝光 設備中, 在該匣盒之下部形成有一下陷之位置排列凹槽,用以 對該匣盒之位置進行微細調整,並且在該匣盒之下侧,具有一 位置排列塊,該位置排列塊一方面進行上下方向的升降,另一 方面可***至該位置排列凹槽中用以移動該匣盒之位置。 2. 如請求項第1項所述之曝光設備用匣盒之位置排列裝置,其中 該位置排列塊之外側面形成有一傾斜面。 3. 如請求項第2項所述之曝光設備用匣盒之位置排列裝置, 更包含有: 一位置調節機構’以使得該位置排列塊沿一平面上之上、 下、左、右方向移動。 4. 如請求項第1項至第3項中任意一項所述之曝光設備用匣盒之 位置排列裝置,其中 在該位置排列塊之外側面,形成有複數個朝向該位置 排列塊之内側中心下陷之下陷部份。
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