TW200934837A - Submicron anti-corrosive particles - Google Patents

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200934837 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於包括抗腐蝕次微米粒子之粒子分散液。 本發明亦係關於製造此種分散液之方法及由該分散液所製 成之塗覆層。 【先前技術】 已知某些陽離子及陰離子具有腐蝕抑制性質，且已知 含有該等陽離子及陰離子之化合物可含括於意圖用來對金 ® 屬表面及結構提供黏著性質及腐蝕抑制性質之保護膜及塗 覆層中。典型實例包括鈣、鎂、緦、鋇、錳、鋅、鈽及其 他稀土元素之陽離子；以及陰離子諸如矽酸根、硼酸根、 鉬酸根、硝基鄰苯二甲酸根、磷酸根、磷酸氫根、亞磷酸 根、膦酸根及膦基羧酸根。但以鉛化合物及若干其他重金 屬諸如鉻之陽離子及化合物，例如鉻酸鹽及鋅爲主之傳統 腐蝕抑制劑，近年來由於環保及健康危害與安全性等因素 較爲不感興趣。 w 腐蝕抑制化合物可呈水極微溶鹽類形式，例如可於所 需陽離子及陰離子存在下，於適當條件下藉粒子生長及沉 澱方法製備。抑制性化合物也可呈包含額外抑制性陽離子 及陰離子之無機氧化物粒子形式，諸如二氧化矽、矽酸鹽 、氧化鋁及鋁矽酸鹽。此等腐蝕抑制化合物例如可經由於 所需陽離子及陰離子存在下，於適當條件下藉氧化物之沉 澱及膠凝方法製備。 以無機氧化物爲主之腐蝕抑制化合物另外可經由離子 -5- 200934837 交換方法製備，於該方法中，表面質子及預先形成爲氧化 物之羥基係經由氧化物接觸含有所需抑制性陽離子及陰離 子之溶液，再度係於適當條件下接觸而被置換。於任一種 情況下，涉及之無機氧化物經常具有下述特性，具有某種 表面積及孔隙度，有腐蝕抑制離子附著於粒子的內表面及 外表面，產生表面改性無機粒子，但依據製備方法而定， 也可經由粒子本體找到離子。 當然，由前文說明，根據欲製成抑制性化合物之溶液 © 或漿液之組成及加工途徑而定，可以多種方式同時製備以 極微溶性鹽類爲主之抑制性化合物與以無機氧化物爲主之 抑制性化合物之組合物，允許由所得抑制性化合物顯示多 樣化性質。 於多種情況下，抗腐蝕所採用之薄膜及塗覆層具有對 水之某種滲透性，相信腐蝕抑制機轉涉及該等化合物徐緩 溶解於水中，釋放出離子作爲活性抑制劑。爲了讓此等系 統長時間有效，化合物之溶解度特別要緊。若化合物之可 ® 溶性過高，則塗覆層可能起泡且化合物將快速被耗盡；而 若化合物之可溶性不足則化合物將無效。抑制性化合物是 否爲極微溶性鹽或以無機氧化物爲基礎或爲二者的某種組 合，適合用於薄膜及塗覆層之此等化合物之典型溶解度結 果導致於水性介質中之抑制性離子濃度約爲10·5Μ至1(Τ2Μ 〇 至於以無機氧化物爲主之抑制性化合物，根據該等腐 蝕抑制性粒子所使用之環境本質，就抑制性物質的提供而 6-

G 200934837 言，無機氧化物本身具有某種溶解度，例如於二氧 情況下，矽酸具有背景溶解度約爲1(Γ3Μ，矽酸根濃 pH相依性，例如於pH約爲10.5時矽酸根濃度具i 之値。但偶而相信此等類型之腐蝕抑制粒子可經由 於該環境中之攻擊性離子藉離子交換而作用來釋放 陽離子及陰離子至溶液內，作爲除了溶解以外之額 外作用機轉。除了抑制性離子溶解入滲透性水性環 外或此外，腐蝕抑制性離子之釋放速率受薄膜或塗 透而交換離子之滲透性的影響。於該種情況下，腐 性離子將由塗覆層之期望障蔽性質最微弱的該等區 氧化物釋放至較大程度，因而結果導致效能性質的 前述抑制性化合物通常係以乾粉形式獲得，視 用洗滌、乾燥及碾磨等操作作爲額外加工步驟，粉 均粒子通常係超過約1微米至2微米，因而讓薄膜 膜之厚度最適合超過數微米。爲了適合掺混入寬廣 膜及塗覆層系統以及適合用於抗腐蝕性，除了溶解 ，於大部分情況下，此種抑制性化合物之水性漿液;; 型係落入於4至10.5之範圍，但依據該等塗覆層或 實際化學以及金屬基材之本質而定，較低値或較高 也適合。舉例言之，多種表面前處理爲相當酸性且 1至4之範圍之pH。 抗腐鈾粒子可以分散液形式利用，將使得粒子 塗覆層之操作更爲方便且可避免產生粉塵。但類似 已知之抗腐蝕粒子分散液含有粒徑相當大之顏料粒 化矽之 度具有 ξ ι〇·2μ 與存在 抑制性 外或另 境，另 覆層滲 蝕抑制 之無機 改良。 需要利 末之平 及塗覆 多種薄 度之外 匕pH典 薄膜之 値可能 顯示於 掺混入 乾粉， 子且大 -7- 200934837 於約1微米至2微米。此種分散液不適合用於要求小型粒 子大小之薄膜及塗覆層用途，諸如不含鉻之表面處理或薄 膜底塗層，此處薄膜厚度可有小於數微米至次微米區。此 外相信抑制性顏料之粒徑及分散液狀態可能影響於環境暴 露之下，於薄膜或塗覆層內部由該抑制性化合物所衍生之 抑制性離子之利用性及移動性。因此小型粒子顏料可於抗 腐蝕處理薄膜及塗覆層中提供潛在效果而與所施用之薄膜 厚度無關。 〇 涵蓋粒子諸如無機及有機著色顏料或塡充劑於液體及 表面塗覆層之碾磨'分散操作及粒子分散液之大致原理以 及此等懸浮體之性質當然爲眾所周知。例如包括界面活性 劑、濕潤劑及分散劑作爲顏料分散液之製造及安定化手段 所扮演之角色之綜合性討論可參考「粉末於液體之分散液 特別述及顏料」，第3版，G.D. Parfitt編輯，應用科學出 版社，1981年。有關膠體狀態之基礎及製備之進一步細節 可參考「膠體科學基礎」，作者R.J. Hunter，第1-2期學 ® 術出版社，1 9 8 6年。 無庸待言，就界面活性劑、濕潤劑及分散劑及其他設 計用來控制分散液之某些特性之添加劑而言，多個專利案 討論粒子及顔料分散液之特定面相及微粒及顏料懸浮體之 性質。例如US 4,1 86,028係有關使用膦基羧酸作爲分散劑 來降低黏度與減少顔料及塡充劑之高度濃縮水性懸浮體之 沉降，塡充劑諸如爲二氧化鈦、鐵氧化物、鋅氧化物、鉻 氧化物、滑石、碳酸鈣、硫酸鋇及石英，以顏料固體爲基 -8- Ο Ο 200934837 準，所使用之膦基羧酸之濃度係於由0.01%至1%。 之較佳pH範圍爲6至10。 須注意多種界面活性劑、濕潤劑及分散劑及其 劑具有某種可相容性或甚至於水中之溶解度，因此 意圖提供抗腐蝕性質及/或黏著促進性質之塗覆層 形成層之效能性質。因此須審慎選擇此種物質之類 量。 總而言之，爲了使用上方便，爲了適合用於濟 高效能，因此於抗腐蝕業界感興趣且需要小直徑I 液，該分散液可用於多種處理薄膜、底劑及塗覆只 上，此等分散液不含鉛、鉻化合物及若干其他重呈 鋅化合物。因此本工作係有關適合用於意圖提供i 腐蝕抑制性質與金屬表面及金屬結構之水性及非7. 性薄膜、表面處理、底塗層、塗覆層、黏著劑及？ 安定性小型粒子抑制性化合物分散液的製造問題。 【發明内容】 本發明係關於包括（a)流體及（b)包含多價金層 表面改性無機粒子且具有平均粒徑約爲10微米1 表面改性無機粒子分散液。本發明亦係關於包括肓 液之塗覆組成物。 本發明進一步係關於包括（a)包含錯合劑之流 包含多價金屬離子之表面改性無機粒子之表面改估 子之分散液。再度包括此等分散液之塗覆組成物 發明之一部分。 懸浮體 他添加 不利於 及薄膜 別及用 膜及提 子分散 。理想 屬諸如 著性及 性保護 封劑之 離子之 以下之 述分散 體及（b) 無機粒 屬於本 -9- 200934837 本發明之又另一個實施例包含一種製造一表面改性無 機粒子之分散液之方法，包括（a)混合該表面改性無機粒子 與一流體；以及（b)碾磨該等無機粒子而形成具有約1〇微米 或以下之平均直徑之粒子，其中該等無機氧化物粒子進一 步包含多價金屬離子。 【實施方式】 本發明係有關適合用於意圖對金屬表面之結構提供黏 著性及腐蝕抑制性質之保護膜、表面處理、底塗層、塗覆 © 層、黏著劑及密封劑之腐蝕抑制劑。如此處所述，全部此 等應用領域及以單一術語「塗覆層」涵蓋。 根據本發明，腐蝕抑制劑包含具有腐蝕抑制性離子化 學鍵結至該等粒子之無機氧化物粒子。如此處定義/無機 氧化物」一詞表示金屬或類金屬氧化物。金屬包括於週期 表由硼畫至釙之對角線左側之該等元素。類金屬或半金屬 包括位於此對角線上之元素也包括矽。無機氧化物之實例 包括二氧化砍、矽酸鹽、氧化鋁、鋁砂酸鹽、氧化欽、氧 ® 化锆、氧化鈽等或其混合物。 須注意如此處基於隨附之申請專利範圍使用’除非於 內文中有明白另行指示’否則單數形「一」、「一個」及「該」 包括複數形。如此當述及「一種氧化物」時包括多數此等 「氧化物」；以及當述及「氧化物」時包括一種或多種氧化 物及熟諳技藝人士已知之其相當物等° 用於描述揭示之實施例中’例如修飾於組成物中之成 分數量、濃度、體積、製程溫度、製程時間、回收率或產 -10- 200934837 率、流速等數値及其範圍之「約」一詞係指例如經由典型 測量及處理程序；經由此等程序中之意外錯誤·，經由用來 進行該等方法之各成分差異等類似考量時可能出現的數値 量變化。「約」一詞也涵蓋由於具有特定初濃度之調配物或 混合物之老化所導致之差異量，及由於混合或處理具有特 定初濃度之調配物或混合物所導致之差異量。無論是否以 「約」一詞修飾，隨附之申請專利範圍包括此等數量之相 當數量。 © 以無機氧化物爲主之抑制性化合物例如可經由於適當 條件下，於所需陽離子及陰離子存在下，氧化物之沉澱法 或膠凝法而製備。以無機氧化物爲主之抑制性化合物另外 可經由離子交換方法製備，於該方法中，表面質子及預先 形成爲氧化物之羥基係經由氧化物接觸含有所需抑制性之 陽離子及陰離子之溶液，再度係於適當條件下接觸而被置 換。於任一種情況下，涉及之無機氧化物經常具有下述特 性，具有某種表面積及孔隙度，有腐鈾抑制離子附著於粒 ® 子的內表面及外表面，產生表面改性無機粒子，但依據製 備方法而定，也可經由粒子本體找到離子。 根據本發明，腐蝕抑制劑也包含呈極微溶之陰離子金 屬鹽形式之抑制性陽離子與陰離子之組合物。呈水極微溶 性鹽形式之抑制性化合物例如可經由於適當條件下，於所 需陽離子及陰離子存在下，由漿液或溶液之粒子生長及沉 激方法製備。 以極微溶性鹽爲主之抑制性化合物與以無機氧化物爲 -11- 200934837 主之抑制性化合物之組合物之製法，可經由混合預先形成 之物質；混合預先形成之無機氧化物或另外預先形成之含 無機氧化物之抑制性陽離子及陰離子與視需要之適當抑制 性陽離子及陰離子，因此於無機氧化物存在下，出現極微 溶性鹽之粒子生長及沉澱，此處於全部三種情況下，無機 氧化物將於多價陽離子存在下共存。 組合物也可經製造，其中極微溶之抑制性鹽組合無機 氧化物之前驅物諸如於二氧化矽、氧化鋁及鋁矽酸鹽之情 Ο 況下，矽酸鈉、烷基矽酸鹽諸如原矽酸四乙酯、氯化鋁、 羥基氯化鋁或鋁酸鈉等，因此發生與抑制性陽離子及陰離 子密切關聯之無機氧化物等沉澱或膠凝或單純形成。同 理，可製備抑制性陽離子及陰離子與無機氧化物前驅物之 混合物，因此同時地且密切彼此相關地出現極微溶化合物 與氧化物之粒子生長、沉澱及/或膠凝。 顯然根據與製備抑制性化合物之溶液或漿液之組成及 加工途徑，存在有多種製備抑制性組合物之方式，允許所 〇 得抑制性化合物顯示多樣化性質。 較佳陽離子爲鈣（Ca2 + )、鎂（Mg2 + )、鋅（Zn2 + )、錳（Mn2 + ) 之陽離子及稀土元素之陽離子諸如鈽（Ce3 + /Ce4 + )陽離子，但 其他適當陽離子可爲鈷（Co2 + )、鉛（Pb2 + )、緦（Sr2 + )、鋰（Li + )、 鋇（Ba2 + )及鋁（Al3 + )。較佳陰離子係衍生自矽酸根、硼酸根、 鉬酸根、磷酸氫根、磷酸根、亞磷酸根、硝基鄰苯二甲酸 根、膦酸根及膦基羧酸根以及唑類及其衍生物諸如1，2，3 -苯并***、甲苯基***、苯并噻唑、2-锍基苯并噻唑、苯 -12- 200934837 并咪唑、2-锍基苯并咪唑及2-锍基苯并嗶唑。但其他 陰離子可爲過錳酸根、錳酸根、釩酸根及鎢酸根。至 供陰離子之前述組分，須瞭解自由態酸形式或任何其 分中和形式或完全中和形式，亦即軛合物視情況適當 於任何特殊情況。 舉例言之，可考慮陽離子與無機氧化物之交換程 無機氧化物諸如二氧化矽、氧化鋁及其他氧化物之粒 製備成使得某個比例之羥基存在於粒子表面上。粒子 © 隙度可由無孔至高度多孔，可呈由球體形狀至任何非 形狀，且可呈凝膠、沉澱、溶膠（膠體）、煙霧形式或 界一般已知之形式。其他氧化物粒子可根據或參考美 利案第 5,336,794、5,231，201、4,939，1 15、4,734,226 2 4,629,5 88 號，以及 DE1，000,793、GB 1,263,945 ' DE 1,7673 3 2、US5，1 23,964、US 5,827,363 > US 5,968,470 US2004/0249049及2005/0228 1 06所述方法製備，各案 主旨以引用方式倂入此處。有關此等粒子之製法細節 ® 參考教科書諸如「二氧化矽化學」，作者R.K. Iler， 威利父子公司，1979年及「溶膠-凝膠科學」，作者 Brinker及G.W. Scherer，學術出版社，1990年。此等 之粒子於商業上可以得自例如W.R.葛瑞斯公司（W.R. & Co·)-康乃狄克州之商品名希洛伊德（SYLOID®)、波 爾（PERKASIL®)或路多克斯（LUD0X®)。 羥基之質子可經由該氧化物接觸含所需陽離子之 而被置換。爲了進行交換，氧化物可於室溫於水中攪 適當 於提 他部 可用 序。 子可 之孔 球體 技藝 國專 :全部 也可 約翰 C.J. 5類別 Grace 卡希 溶液 拌， -13- 200934837 pH係藉pH計監測。然後徐緩加入欲交換之物質（例如氫氧 化鈣或鹼性碳酸鋅）同時不允許pH升高過度（例如對二氧化 矽高於10.5或氧化鋁高於12)。pH須夠高來移除質子，但 又不可過高因而溶解無機氧化物。吸收之後接著觀察pH之 下降經歷鹼添加後之一段時間。當pH不再下降時，交換完 成，若有所需，氧化物粒子可經碾磨、洗滌及於真空下乾 燥。氧化物中陽離子之吸收可藉XRF光譜術測定。此等以 交換的氧化物之製法可參考美國專利案第4,687,595、 〇 4,643,769、4，419,137及5,041,241號，各案全文主旨以引 用方式倂入此處。典型地，無機氧化物抑制劑粒子具有由 約5平方米/克至約750平方米/克之範圍之BET表面積， 且有由約0.1毫升/克至約3毫升/克之平均孔隙度。 如前述，以無機氧化物爲主之類似化合物例如其製法 係經由於適當條件下，於所需陽離子及陰離子存在下，氧 化物之沉澱或膠凝方法製備；此等化合物之製法例如可參 考美國專利案第4,849,297號及英國專利案第9 1 8,802號， ® 全文主旨以引用方式倂入此處。類似地，以極微溶性鹽爲 主之抑制性化合物及其製法之實例例如可參考U.S.專利案 第 4,247,526、 4，139,599、 4,294,621、 4,294,808、 4,337,092、 5,024,825、 5，108,728、 5，126,074、 5,665，149 及 6,083,308 號、U.S.專利申請案第 2007/001 2220號及 GB專利案 825,97 6、9 1 4,707、915,512、1,089,245 號、DE 專利案 2,849,7 1 2、2,840,820 及 1，567,609 號及 EP 專利案第 522,678 號，全文主旨以引用方式倂入此處。 -14- 200934837 於多種情況下，抗腐蝕所採用之薄膜及塗覆層 水之有限的滲透性，相信腐飩抑制機轉涉及該等化 緩溶解於水中，釋放出離子作爲活性抑制劑。爲了 系統長時間有效，化合物之溶解度特別要緊。若化 可溶性過高，則塗覆層可能起泡，且化合物將快速ί 而若化合物之可溶性不足則化合物將無效。抑制性 是否爲極微溶性鹽或以無機氧化物爲基礎或爲二者 組合，適合用於薄膜及塗覆層之此等化合物之典型 © 結果導致於水性介質中之抑制性離子濃度約爲1 〇_5 ict2m之値。 至於以無機氧化物爲主之抑制性化合物，根據 蝕抑制性粒子所使用之環境本質，就抑制性物質的 言，無機氧化物本身具有某種溶解度，例如於二氧 情況下，矽酸具有背景溶解度約爲1(Γ3Μ，矽酸根濃 pH相依性，例如於pH約爲10.5時矽酸根濃度具有 之値。 ® 偶而相信經由與存在於抑制性粒子之使用環境 擊性離子進行離子交換，以無機氧化物爲主之抑制 用來釋放抑制性陽離子及陰離子進入溶液內。除涉 性離子溶解於滲透的水性環境之機轉，另外或此外 或塗覆層對交換離子之滲透性將影響腐蝕抑制性離 放速率。於該種情況下，腐蝕抑制性離子偏好由該 期望的障蔽性質最脆弱之該等區由無機氧化物釋放 獲得改良之效能性質。 具有對 合物徐 讓此等 合物之 皮耗盡； 化合物 的某些 溶解度 Μ至約 該等腐 提供而 化矽之 I度具有 • 1〇·2Μ 中的攻 劑可作 及抑制 ，薄膜 子之釋 塗覆層 ，藉此 -15- 200934837 爲了腐蝕抑制劑掺混入寬廣多種薄膜及塗覆層系統之 能力以及就抗腐蝕性之適宜性等理由，除了溶解度標準之 外，抑制性化合物之水性漿液之pH於大部分情況下典型係 落入於4至10.5之範圍，但依據該塗覆層或薄膜之實際化 學及金屬基材之性質而定更低値或更高値也適合使用。 舉例言之，於與無機氧化物之單純陽離子交換之情況 下，且依據無機氧化物上之羥基之比例而定，發現高達2.5 毫莫耳/克陽離子可與氧化物結合，同時滿足溶解度及pH 〇 的標準。如前文指示由於離子交換技術相對簡單，故藉單 純比較性實驗可判定較佳無機氧化物之選擇及獲得腐蝕抑 制性陽離子之最大吸收之處理。符合溶解度及pH要求之下 限爲0.05毫莫耳/克。 以欲施用之組成物爲基準，腐蝕抑制性粒子可作爲塗 覆層之塡充劑，且以欲施用之組成物爲基準，可含括高達 40% wt之相對大量，而以乾膜重量爲基準可含括高達80% wt之數量。 ® 再度參考單純與無機氧化物之陽離子交換情況，有關 如前文討論之可與氧化物組合之陽離子數量，可知於該種 情況下，以乾膜重量爲基準，塗覆層可含有高達2毫莫耳/ 克之腐蝕抑制性陽離子。 根據落入前文綜述之腐蝕抑制性之化學範圍內之寬廣 組成範圍，以及如前文摘述之可製備腐蝕抑制劑及腐蝕抑 制劑組合物之多種方式，獲得對實際溶解度數値及pH値之 控制，此處，欲組合之離子本質、涉及之無機氧化物之多 -16- 200934837 孔結構及無機氧化物之本質皆屬重要考量因素。 根據本發明，發現試圖於多價金屬離子存在下碾磨無 機氧化物粒子至小於數微米，或於多價金屬離子存在下混 合小的無機氧化物粒子’結果導致不適合用於某些塗覆組 成物之分散液。 多價陽離子可能來自於抑制性陽離子與無機氧化物既 有的結合，諸如於離子交換氧化物之情況下，或經由沉澱 或共同膠凝而產生，或經由於碾磨期間呈可溶性化合物或 〇 極微溶化合物形式添加多價陽離子而產生，或可根據任何 多種方式，藉該等方式可製備如前文討論之抑制性化合物 組合物而存在。 多價金屬離子可能造成小的無機氧化物粒子的凝聚， 或當試圖藉碾磨製造此等小無機粒子時，就凝結、團聚、 高黏度或沉降等方面而言造成不穩定。 本發明經由控制pH及/或經由錯合陽離子，使用酸性 劑或鹼性劑來製造小型粒子之安定分散液可緩和此項問 〇 w 題，藉此控制或減少已分散的粒子之過度黏度增高、粒子 再度團聚及硬沉降，否則於硏磨期間或硏磨後可能出現此 等現象。 如此，本發明之實施例包括含流體或液體之表面改性 的無機粒子之分散液，該表面改性的無機粒子係藉多價金 屬離子而改性且具有約10微米或以下之粒子直徑。 如此處使用，「表面改性的無機粒子」一詞係指於多 價陽離子存在下之無機氧化物粒子，此處多價陽離子可能 -17- 200934837 來自於下述程序諸如涉及基於無機氧化物而製備腐蝕抑制 劑之程序，來自於可溶性化合物及極微溶化合物之存在諸 如涉及以極微溶性鹽爲主之腐蝕抑制劑的製備，及/或來自 於如前文詳細說明之其他類型之腐蝕抑制劑與化合物之組 合，此等方法係於預期陽離子可由無機氧化物所吸收之條 件下進行。 平均粒徑可小於約10微米，約9微米，約8微米，約 7微米，約6微米，約5微米，約4微米，約2微米或小於 約1微米。於更典型之實施例中，平均粒徑爲小於約1微 米。 多價金屬離子包括鈣、鋅、鈷、鉛、緦、鋰、鋇、鎂、 錳及稀土元素之陽離子諸如鈽或其混合物。於更典型之實 施例中，多價金屬離子包括鈣、鎂、錳、鋅及稀土元素諸 如姉等金屬離子。 粒子可爲以無機氧化物諸如二氧化矽及氧化鋁爲主之 腐蝕抑制劑分開碾磨或與其他無機氧化物共同碾磨。其他 實例包括無機氧化物及以無機氧化物爲主之腐蝕抑制劑組 合如前述之部分可溶性或極微溶金屬鹽類共同碾磨，後述 金屬鹽類諸如以磷酸鹽、磷酸鹽、磷酸氫鹽、膦酸鹽、膦 基羧酸鹽、硼酸鹽、鉬酸鹽硝基鄰苯二甲酸鹽、唑衍生物、 過錳酸鹽、錳酸鹽、釩酸鹽及鎢酸鹽及其任何組合爲主之 金屬鹽類。不同粒子類型之混合物也含括作爲以極微溶性 鹽爲主之抑制性化合物及以無機氧化物爲主之化合物之組 合物，兩種化合物根據製備抑制性化合物之溶液或漿液之 200934837 組成及如前述之加工途徑，可以多種方式同時製備。 本發明之另一個實施例係有關表面改性無機粒子之分 散液’其包括（a)包含錯合劑之流體，及（b)包含多價金屬離 子之表面改性無機粒子。本發明亦係關於包括前述分散液 之塗覆組成物。 於某些情況下，用來安定化分散液及/或錯合多價陽離 子之添加的物質可爲腐蝕抑制性化合物、粒子或粒子混合 物之可溶性組分或部分可溶性組分。添加的物質可爲分開 ® 的化合物或本質上可爲寡聚物或聚合物。 安定劑及錯合劑包括多種含磷酸性物質及不含磷酸性 物質以及鹼性物質諸如胺類及烷醇胺類。當然實際存在的 物質及解離狀態將依據於使用點之pH及/或酸性或鹼性狀 態決定。含磷酸性物質之實例包括亞磷酸、磷酸、三聚磷 酸及聚磷酸、每個分子含有一個膦酸基之有機膦酸諸如2- 羥基膦基乙酸、2-膦基丁烷-1，2,4-三羧酸、順丁烯二酸及丙 _ 烯酸之膦酸化寡聚物及聚合物以及其共寡聚物及共聚物。

Q 其他實例包括每個分子含有兩個或多個膦酸基例如二膦酸 之有機膦酸’諸如烷基甲烷-1-羥基-1,1-二膦酸，此處烷基 可經取代或未經取代且含有1至1 2個碳原子例如甲基-1 -羥基-1,1-二膦酸或丙基-卜羥基-1,1-二膦酸。亦屬適合者爲 每個分子含有兩個或多個N -伸烷基膦酸基之胺基化合物， 諸如烷基胺基二（伸烷基膦酸），此處烷基可經取代或未經 取代且含1-12個碳原子例如丙基、異丙基、丁基、己基或 2-羥基乙基及含1至5個碳原子之伸烷基以及胺基-三（伸烷 -19- 200934837 基膦酸）諸如氮基-參-(亞甲基膦酸）及氮基-參-(伸丙基膦 酸）。其他得自胺基化合物之適當胺基衍生物爲伸烷二胺-四-(伸烷基膦酸）諸如乙二胺-四-(亞甲基膦酸）、二伸烷三胺 -五（亞甲基膦酸）諸如二乙三胺-五-(亞甲基膦酸）等。 不含磷之酸性物質包括羥基酸類諸如含有一個或多個 羥基之一羧酸諸如乙醇酸 '乳酸、苯乙醇酸、2，2-雙（羥基 甲基）丙酸、2,2-雙（羥基甲基）丁酸、2,2-雙（羥基甲基）戊酸、 2,2,2-參（羥甲基）-乙酸及3,5-二羥基苯甲酸、含有一個或多 © 個羥基之二羧酸諸如酒石酸及含有一個或多個羥基之三羧 酸諸如檸檬酸。不含磷之酸性物質也包括甲基丙烯酸、丙 烯酸及順丁烯二酐或順丁烯二酸之聚合物及其共聚物，諸 如丙烯酸酯-丙烯酸共聚物、烯烴-順丁烯二酐共聚物例如 異丁烯-順丁烯二酐共聚、苯乙烯-順丁烯二酸共聚物及乙 烯基烷基醚-順丁烯二酸共聚物例如聚（乙烯基甲基醚-共聚 順丁烯二酸）。不含磷之酸性物質進一步包括含有兩個或多 個雜原子之唑類及其衍生物諸如1,2,3-苯并***、甲苯基 ® ***、苯并噻唑、2-锍基苯并噻唑、苯并咪唑、2-锍基苯 并咪唑、苯并噚唑、2-锍基苯并噚唑及（2-苯并噻唑基硫基） 丁二酸。 鹼性物質包括烷醇胺類，可爲單烷醇胺、二烷醇胺、 三烷醇胺，主要爲乙醇胺類及其N-烷化衍生物、1-胺基-2-丙醇類及其N-烷化衍生物、2-胺基-1-丙醇類及其N-烷化衍 生物及3-胺基-1-丙醇類及其N-烷化衍生物或其混合物。適 當單烷醇胺類之實例包括2_胺基乙醇（乙醇胺）、2-(甲基胺 -20- 200934837 基）乙醇、2-(乙基胺基）乙醇、2-( 丁基胺基）乙醇、1-甲基乙 醇胺（異丙醇胺）、1-乙基乙醇胺、1-(甲基）乙基異丙醇胺、 正丁基乙醇胺、環己醇胺、環己基異丙醇胺、正丁基異丙 醇胺、1-(2-羥丙基）哌畊、4-(2-羥基乙基）-味啉及2-胺基-1-丙醇。適當二乙醇胺類之實例爲二乙醇胺（2,2’_亞胺基二乙 醇）、3-胺基-1,2-丙二醇、2-胺基-1,3-丙二醇、二異丁醇胺（雙 (2-羥基-1-丁基）胺）、二環己醇胺及二異丙醇胺（雙（2-羥基 -1-丙基）胺）。適當三烷醇胺之實例爲參（羥甲基）胺基甲 〇 烷。也可使用環狀脂肪族胺類諸如味啉哌畊及其N-烷基衍 生物諸如脂肪族胺類。前述含磷物質、不含磷物質或胺物 質中之任一者之混合物亦屬適宜。也包括具有胺官能基之 唑衍生物諸如3 -胺基-1,2，4 -***。 較佳安定劑或錯合劑包括亞磷酸、磷酸、三聚磷酸及 聚磷酸及每個分子含有一個或多個膦酸基之有機膦酸，諸 如2-羥基膦基乙酸連同每個分子有一個或多個羥基之單羧 酸及二羧酸諸如乙醇酸。較佳安定劑或錯合劑包括唑衍生 w 物諸如1,2,3-苯并***、2-锍基苯并***及（2-苯并噻唑基 硫基）丁二酸。 另一個本發明之實施例係有關一種製造一表面改性無 機粒子之分散液之方法，包括混合改表面改性無機粒子與 一流體以及碾磨該等無機粒子而形成具有約1〇微米或以 下之平均直徑之粒子，其中該等無機氧化物粒子進一步包 含多價金屬離子。 於本實施例中’藉濕磨技術，於多價陽離子存在下獲 -21- 200934837 得小型粒子之分散液，此處該分散液含有無機粒子，於碾 磨前添加前述適當酸性物質、鹼性物質或錯合物質，藉此 調整pH及/或錯合陽離子。陽離子係蓄意存在或由於先前 製備技術的結果而存在。於某些情況下，添加的物質可爲 欲碾磨之腐蝕抑制組成物之可溶性或部分可溶性組分，則 無需額外添加該物質。因而獲得安定分散液，避免或減少 黏度的過度累積、粒子的再度團聚及硬沉降，否則於濕磨 期間或於濕磨後可能發生此等現象。 © 所產生之平均粒徑約爲10微米或以下，分散液中之全 部或大部分粒子係小於1微米。根據於該方法中或於抑制 劑之整個過程中所使用的或所製備的無機氧化物本質，粒 子可爲無孔、實質上無孔或多孔。鑑於先前討論，因而孔 隙度變化高達約3毫升/克。碾磨常見於水相進行，但也可 於非水相進行。用於非水相實施例，適當溶劑可爲塗覆應 用中常見已知之溶劑諸如醇類、酯類、酮類、二醇醚類、 芳香族及脂肪族烴類及質子惰性溶劑諸如N -甲基吡咯啶 v 酮、N-乙基吡咯啶酮、二甲亞楓、N，N-二甲基甲醯胺及Ν,Ν-二甲基乙醯胺。對於由於前述實施例涵蓋的情況，粒子已 經於水相中形成及生長的結果或由於大型粒子於水相中碾 磨的結果，粒子已經呈適當小型粒子存在，但存在於水相， 無機氧化物可藉先前技藝已知之技術而轉移至前述任一類 溶劑中。該等實例討論於膠體與界面科學期刊1 97, 36〇_369, 1 998 A. Kasseh & Ε· Keh ’ 「膠體二氧化矽由水轉移至中 間極性之有機溶劑」及膠體與界面科學期刊2 0 8，1 6 2 - 1 6 6, -22- 200934837 1 998 A. Kasseh & E. Keh，「界面活性劑媒介膠體二氧化 矽由水轉移至不相溶混之弱極性溶劑」或引述於美國專利 案第 2,657，149、2,692,863、2,974，105、5,651，921、6,025,455、 6,051,672、6,376,559號及GB專利案第988，330號，全文主 旨以引用方式倂入此處。多價陽離子、安定及錯合組分的 導入、及/或與極微溶性鹽之組合可於溶劑移轉之前或溶劑 移轉之後發生。 腐蝕抑制性粒子可含括於保護性及黏著促進性塗覆層 © 及層，諸如表面前處理、表面薄膜、抗腐鈾底塗層、黏著 劑及密封劑，本發明包括含有如前述腐蝕抑制性粒子之保 護性塗覆層及黏著性促進性塗覆層及層。保護性塗覆層及 黏著促進性塗覆層及層可以任一種已知用於抗腐蝕之有機 化學及無機化學類別爲主，例如環氧樹脂、聚酯樹脂、酚 系樹脂、胺基樹脂諸如三聚氰胺-甲醛、脲-甲醛或苯并胍 胺樹脂、乙烯系樹脂、醇酸樹脂、氯化橡膠或環化橡膠、 丙烯酸系化學及苯乙烯-丙烯酸系化學品、苯乙烯-丁二烯 〇 v 樹脂、環氧物酯類、以矽酸鹽爲主之塗覆層諸如富含鋅之 矽酸鹽、以烷基矽酸酯及/或膠體二氧化矽爲主之溶膠-凝 膠塗覆層、衍生自有機官能基矽烷之薄膜、處理及塗覆層 以及酸性或鹼性金屬前處理溶液及底塗層前處理溶液。 實例 舉出下列實例作爲本案所請本發明之特定說明。但須 瞭解本發明絕非限於實例中列舉之特定細節。 實例1 -23- 200934837 10 升 Drais Laboratory 珍珠磨機（得自 Draiswerke，Inc.) 塡充1.2千克Zr〇2珠粒（直徑0.6毫米至1毫米）。具有平均 粒徑 3-4 微米之 Shieldex® C303 顏料（得自 w.R. Grace & Co.) 之水性漿液，於其中添加小量2 -羥基膦基乙酸，以轉子速 度2800 rpm(慢速設定）及幫浦最大之速度之40 %循環6小 時。隨後混合0.2重量％Aciticide® 1206殺菌劑（得自Thor Chemicals)。席爾德斯® C303顏料與水之懸浮液於室溫攪拌 1小時，隨後於攪拌下添加2 -羥基膦基乙酸溶液。如此造 ❹ 成pH由8.42降至8.04。以重量百分比表示，漿液組成物 爲席爾德斯 C303 顏料 16.21%;水 72.93 %; 10.66%之 5 % 2-羥基膦基乙酸水溶液及0.2%Acticide® 1 206殺菌劑。 於碾磨後，獲得鈣/二氧化矽粒子之自由流動性分散 液，具有約0.3微米之平均粒徑，儲存時可保持安定達90 天以上。98%粒子係小於1微米。粒徑係使用得自Malvern Instruments 之 Mastersizer® 2000 光散射設備測定。_ 實例2 ❿ （比較例） 重複前述實例，但未添加2-羥基膦基乙酸至混合物。 如此獲得相當黏稠之分散液，其中粒子於碾磨時再度團 聚，再團聚峰出現於約10微米粒徑。 實例3 (比較例） 再度未添加2-羥基膦基乙酸且採用不同的碾磨條件。 於2000 rpm之轉子速度使用2升直立式實驗室珍珠磨機（得 -24- 200934837 自Draiswerke, Inc.) ’磨機內半塡滿ZrCh珠粒（直徑〇·6毫 米至1毫米）。進行碾磨6小時。所得分散液具較大之再團 聚傾向，變成更爲黏稠’尖峰出現於約10微米至100微米 粒徑。 實例4 經由具有粒徑3-4微米之二氧化矽凝膠（得自 W.R· Grocr & Co.康乃狄克州），氫氧化鈣及2-羥基膦基乙酸共 同反應，原位製備抗腐蝕顏料。然後於1800 rpm轉子速度 Ο 使用1毫米玻璃珠，所得混合物於實驗室Dispermat®磨機 (得自DISPERM AT公司）中接受珠磨約30分鐘。如此獲得 具有約2微米平均粒徑之Ca/Si〇2/HPA粒子之自由流動性 分散液。以百分重量比表示，漿液之組成爲二氧化矽凝膠 5.60% ；水 81.12%; 5.52% Ca(0H)2 及 7.76% 50% 2-羥基膦 基乙酸水溶液。添加Ca(OH)2至二氧化矽於水之懸浮液後， 混合物於40 °C老化1 6小時，隨後以pH不會降至低於9之 速率添加2-羥基膦基乙酸溶液。反應混合物於90°C攪拌1 ® 小時隨後冷卻及碾磨。以碾磨之分散液中之粒子攪拌超過 90天後不會再團聚，分散液可添加至多種保護性塗覆層調 配物。 實例5 由於實例2及實例3之分散液不穩定，於實例1進行 抗腐蝕測試體且與單獨席爾德斯® C 303顔料作比較。於無 法將塗覆層施用至1微米左右之情況下，於水基丙烯酸系 塗覆層進行測試，該塗覆層係藉施用桿施用至Sendzimir® -25- 200934837 鍍鋅鋼（即，席美托測試板條（Chemetall Test Panels))獲得約 40微米之乾膜厚度，評估比較單獨席爾德斯®C303顏料， 該分散液是否提供抗腐蝕效能之任何改良。所採用之配方 示於下表3，其中該分散液係藉單純攪拌而掺混，而席爾 德斯® C303顏料係以正常方式藉助於玻璃珠而掺混。 P2 5(於室溫乾燥7日後，經塗覆之板條上經畫線且接 受鹽噴霧（使用ASTM B1 17)歷240小時，隨後簡短清洗板 條，乾燥，於從鹽噴霧櫃中取出的30分鐘以內接受評估。 © 結果示於表1，此處評級分成0至5級，其中0表示無擊穿 而5表示完全擊穿。 表1 於鍍鋅鋼板上於水基丙烯酸系塗覆層中實例1相較於 席爾德斯® C303顏料之鹽噴霧測試結果（評級由〇至5而以 0爲最佳） 起泡 畫線黏著性 喪失 方格黏著性 喪失 鏽蝕 席爾德斯® C303顏料 0 3 5 2 實例1 0 1 2 0 表1結果顯示比較有較簡單掺混之商品，本發明之分 散液之抗腐蝕效能改良。 實例6 也對實例4進行抗腐蝕測試。此種情況下，本發明之 不含鋅之分散液係對常用於水基丙烯酸系塗覆層之市售以 鋅爲主之抗腐餓原料（得自Heubach GmbH之Heucophos® ZPO抗腐蝕顏料）做比較。市面上可得自不含鋅之抗腐蝕顏 -26- 200934837 料。席爾德斯AC5也含括於測試中作爲參考。藉施用該施 用塗覆層至冷軋鋼（得自Q-Panels Co.之Q-Panels S412)因 而獲得約40微米之乾膜厚度。所採用之配方示於下表3, 再度分散液係藉單純攪拌掺混，但修可弗斯® ZPO顏料如 此處所述係藉助於玻璃珠掺混。 如同實例5，於室溫乾燥7日後，經塗覆之板條上經 畫線且接受鹽噴霧（使用ASTM B1 17)歷240小時。隨後， 簡短清洗板條，乾燥，於從鹽噴霧櫃中取出的30分鐘內接 © 受評估。結果示於表2，此處評級分成0至5級，其中0 表示無擊穿而5表示完全擊穿。 表2 實例4於冷軋鋼上相較於標準以鋅爲主之抗腐蝕顏料 及於水基丙烯酸系塗覆層之標準無鋅顏料之鹽噴霧測試結 果（評級由〇至5而以〇爲最佳） 起泡 畫線黏著性 喪失 方格黏著性 喪失 鏽蝕 Heucophos® ZPO顏料 0 1 0 1 席爾德斯® AC5顏料 3 3 5 4 實例4 0 1 0 1 表2結果驗證根據本發明之無辞分散液顯示由於市售 重金屬塗覆層及無鋅塗覆層之優異的抗腐蝕性質。 表3 用於評估實例1於鍍鋅鋼上相較於席爾德斯C3 03抗腐 蝕顏料及實例4於冷軋鋼上相較於標準以鋅爲主之抗腐蝕 -27- 200934837 顏料及標準無鋅顏料之水基丙烯酸系調配物。 1 2 3 4 5 1) Neocry 1 XK-85 11.20 11.20 9.84 11.20 9.90 2)水 5.23 5.23 0.88 5.23 0.88 3)Drew 210-693 0.14 0.14 0.12 0.14 0.12 4)Disperse-Ayd W33 1.43 1.43 1.26 1.43 1.26 5) Aery sol TT935 0.29 0.29 0.25 0.29 0.26 6 )水 0.30 0.30 0.26 0.30 0.27 7)Ser-AD FA179 0.48 0.48 0.42 0.48 0.42 8)丁二醇 2.15 2.15 1.89 2.15 1.90 9)紐克利爾BT-24 2.74 2.74 2.41 2.64 2.42 1 0) Aerosil R972 0.57 0.57 0.52 0.57 0.52 11&)席爾德斯0303 3.39 - - - • 1 lb)席爾德斯AC5 3.39 - - - 1 1 c )實例1 * - - 19.87 - - lid)修可弗斯ZP0 • - 6.72 - 1 1 e )實例4 * - - - - 17.68 12) Ti〇2 Kronos 2190 4.3 1 4.31 3.79 4.15 3.81 13)滑石 20MOOS 10.18 10.18 8.94 9.81 10.69 14)Hostatint 黑 GR-30 0.8 1 0.81 0.7 1 0.78 0.72 1 5 )紐克利爾X K - 8 5 44.66 44,66 39,24 42.64 39.48 1 6 ) T e X a η 〇 1 1.11 1.11 0.98 1.08 0.98 1 7)N a c o r r 16 5 2 1.91 1.91 1.68 1.91 1.69 18)Resydrol AX 2 3 7 W 5.06 5.06 4.45 4.88 4.47 1 9)丁二醇 2.42 2.42 2.13 2.25 2.14 20)Octa Soligen C o -1 0 % 0.06 0.06 0.05 0.05 0.05 2 1 )氨 2 5 % 0.36 0.36 0.32 0.34 0.32 2 2)水 1.20 1.20 - 0.96 - 100.00 100.00 100.00 100.00 100.00

+分散液具有約15重量％之濃度。 實例7 氫氧化鈣（3.1克）及1，2,3-苯并***（ΒΤΑ)(26·9克）於 1:5莫耳比於攪拌下添加至水（70克），達成具有30%重量比 -28- 200934837 固體含量之溶液。於100克LUDOX® AM二氧化矽（得自W.R. Grace & Co.，康乃狄克州之鋁酸鹽改性的膠體二氧化矽， 具有34 %重量比之固體含量）內，於攪拌下徐緩添加20克 含BTA溶液，製造具有0.25毫莫耳/克二氧化矽鈣含量及 0.15克/克二氧化矽之BTA含量（以分散液之總水含量爲基 準，另外可表示成6.3 %重量比之BTA)之細小粒子分散液。 分散液之pH爲8.5。添加不含BTA之氫氧化鈣結果導致即 刻膠凝。 © 實例8 實例7之抗腐蝕性質係測定如下。於1 〇 〇克實例7之 分散液中，於攪拌下加入0.39克氯化鈉，因此於溶解後， 以分散液之總水含量爲基準，氯化鈉濃度約爲0.1 Μ。鋁合 金2024-Τ3以三電極組態用作爲測試電極，採用飽和 Ag/AgCl參考電極及鉑相對電極，其中使用含氯化鈉之分 散液作爲電解液。測試電極接觸電解液後四小時。使用Gill 8AC電化學腐蝕測試設備（得自ACMInstrcunents)，於動態 〇 w 電位條件下於休止電位之任一側上掃拂250毫伏特而產生 電流/電壓曲線。於休止電位任一側10毫伏特之曲線斜率 用作爲腐蝕抑制之測量値，其中該斜率具有單位電阻。採 用三種比較。第一比較涉及於攪拌下添加0.39克NaCl之 100克LUDOX® AM二氧化矽來製造不含鈣或BTA之於約 O.lMNaCl之分散液。第二種涉及製備氫氧化鈣（0.767克） 及BTA (6.684克）於1:5莫耳比於0.1M NaCl(100克）之溶 液，故以溶液之總含水量爲基準，所得BTA之濃度爲6.3% -29- 200934837 重量比之BTA。第三種爲單純0.1M氯化鈉溶液。結果示於 表4。 表4 接觸接受抑制的電解液0.1 Μ於氯化鈉4小時後’於 2024-Τ3鋁合金上於休止電位任一側10毫伏特之電流-電壓 曲線斜率。 __ 抑制劑 斜率(歐姆.平方厘米） 電流-電壓曲線外觀 實例7 約106 平滑 LUDOX® AM二氧化矽 約107 鋸齒狀 Ca/BTA 約103 平滑 空白組 無法測量 不穩定 可知比較單獨ΒΤΑ及空白組，實例7及LUDOX® AM 二氧化矽提供於2034-T3之腐蝕抑制證據，但如高斜率及 平滑曲線證實，只有實例7提供穩定抑制作用，而鋸齒狀 曲線指示交替表面擊穿及修復。 雖然已經以有限的實施例說明本發明，但此等特定實 施例並非意圖限制如此處說明及請求專利之本發明之範 圍。熟諳技藝人士顯然易知，硏讀本文之具體實施例及說 明顯然額外修改及變化亦屬可能。實例中之全部份數及百 分比及說明書之其餘部分，除非另行規定否則係以重量 計。此外，於說明書或申請專利範圍中引述之任何數目範 圍，諸如表示性質、測量單位、條件、物理狀態或百分比 之特定集合意圖以文義方式合倂於本文供參考或其他用 途，落入此範圍內之任何數目包括於任何範圍內部之任何 -30- 200934837 數目之子集也引述於此。例如當以下限及上限 一個數値範圍時，表示特別落入於該範圍內之任 R。特定言之，於該範圍內之下列數目R特別經揭 + k(Ru - IU)，此處k爲由1%至100%之範圍，具有 例如 k 爲 1 %、2 %、3 %、4 %、5 % ... 5 0 %、5 1 %、5 2 % 9 6%、97%、98%、9 9 %或1 0 0 %。此外也特別揭示 算之由任二數値R表示之任何數値範圍。除了本 說明之外，任何本發明之修改爲熟諳技藝人士由 〇 將顯然自明。此等修改意圖落入隨附之申請專利 圍內。 【圖式簡單說明】 無。 【主要元件符號說明】 〇 yt\> ❹ :Ru揭示 何數目 _ 不：R = Rl 1 %增量， ·· 95% > 如前文計 文顯示及 前文說明 範圍之範

Claims (1)

1. 200934837 十、申請專利範圍： 1. 一種表面改性之無機粒子之分散液，包含： (a) 流體，及 (b) 該表面改性無機粒子包含多價金屬離子且具有約1〇 微米或以下之平均粒徑。 2 _如申請專利範圍第1項之分散液，其中該平均粒徑爲小 於約5微米。 3 .如申請專利範圍第1項之分散液，其中該平均粒徑爲小 〇 於約1微米。 4.如申請專利範圍第1項之分散液，其中該多價金屬離子 包括鈣、鋅、鈷、鉛、緦、鋰、鋇、鎂、錳、鈽、鋁或 其混合物。 5_如申請專利範圍第1項之分散液，其中該多價金屬離子 包括鈣、鎂、鋅、錳、姉或其混合物。 6. 如申請專利範圍第1項之分散液，其中該無機氧化物包 括二氧化矽、矽酸鹽、氧化鋁、鋁矽酸鹽、氧化鈦、氧 w 化鉻、氧化铈或其混合物。 7. 如申請專利範圍第1項之分散液，其中該無機氧化物爲 凝膠、膠體、沉澱、煙霧或其混合物。 8. 如申請專利範圍第1項之分散液，其中該流體包括水、 錯合劑、黏結劑、薄膜形成劑、殺菌劑或聚合物。 9. 如申請專利範圍第8項之分散液，其中該錯合劑包括酸 性物質或鹼性物質。 10.如申s靑專利範圍桌1項之分散液，其中該錯合劑包含亞 •32- 200934837 磷酸、磷酸、三聚磷酸及聚磷酸、有機膦酸或其混合物 〇 11. 一種塗覆層，包含如申請專利範圍第1項之分散液。 12. —種表面改性之無機粒子之分散液，包含： U)包括一錯合劑之流體，及 (b)包含多價金屬離子之該表面改性無機粒子。 13. 如申請專利範圍第12項之分散液，其中該平均粒徑爲小 於約10微米。 © 14.如申請專利範圍第12項之分散液，其中該平均粒徑爲小 於約5微米。 15. 如申請專利範圍第12項之分散液，其中該多價金屬離子 包括鈣、鋅、鈷、鉛、緦、鋰、鋇、鎂、錳、鈽、鋁或 其混合物。 16. 如申請專利範圍第12項之分散液，其中該多價金屬離子 包括釣、鎂、锰、鋅、鈽或其混合物。 17. 如申請專利範圍第12項之分散液，其中該無機氧化物包 ® 括二氧化矽、矽酸鹽、氧化鋁、鋁矽酸鹽、氧化鈦、氧 化鈽或其混合物。 18. 如申請專利範圍第12項之分散液，其中該無機氧化物爲 凝膠、膠體、沉澱、煙霧或其混合物。 1 9.如申請專利範圍第1 2項之分散液，其中該流體包括水、 錯合劑、黏結劑、薄膜形成劑、殺菌劑或聚合物。 20.如申請專利範圍第12項之分散液，其中該錯合劑包括亞 磷酸、磷酸、三聚磷酸及聚磷酸、有機膦酸或其混合物 -33- 200934837 21. —種塗覆層，其係如申請專利範圍第12項之分散液。 22. 如申請專利範圍第12項之分散液，其係經由於錯合劑存 在下碾磨該分散液之方法製備。 2 3 · —種製造表面改性無機粒子之分散液之方法，包含： (a) 混合該表面改性無機粒子與包含該錯合劑之流體； 及 (b) 碾磨該等無機粒子，其中該等無機氧化物粒子係藉 〇 多價金屬離子而表面經改性。 24. 如申請專利範圍第23項之方法，其中該表面改性無機氧 化物粒子之平均直徑係小於約1 0微米。 25. 如申請專利範圍第24項之方法，其中該平均粒徑爲小於 約5微米。 26. 如申請專利範圍第23項之方法，其中該多價金屬離子包 含鈣、鋅、鈷、鉛、緦、鋰、鋇、鎂、錳、铈、鋁或其 混合物。 ® 27.如申請專利範圍第23項之方法，其中該多價金屬離子包 括銘、錶、猛、辞、姉或其混合物。 28. 如申請專利範圍第23項之方法，其中該無機氧化物包括 二氧化砂、砂酸鹽、氧化銀、銘砂酸鹽、氧化鈦、氧化 鈽或其混合物。 29. 如申請專利範圍第23項之方法，其中該無機氧化物爲凝 膠、膠體、沉澱、煙霧或其混合物。 3 0.如申請專利範圍第2 3項之方法，其中該流體包括水、錯 -34- 200934837 合劑、黏結劑、薄膜形成劑、殺菌劑或聚合物。 3 1 .如申請專利範圍第23項之方法，其中該錯合劑包括亞磷 酸、磷酸、三聚磷酸及聚磷酸、有機膦酸或其混合物。 3 2.—種無機氧化物分散液，其係經由如申請專利範圍第23 項之方法製備。

   -35- 200934837 七、指定代表圖： (一） 本案指定代表圖為：無。 (二) 本代表圖之元件符號簡單說明: Μ 〇 j \ \\ ❹ 八、本案若有化學式時，請揭示最能顯示發明特徵的化學式：