Claims (4)
1. วิธีการทำซับสเตรทแก้วสำหรับดิสก์แม่เหล็กซึ่งประกอบด้วยขั้นตอนของ: การทำซับสเตรทแก้วให้มีความทนทานทางเคมีโดยการจุ่มซับสเตรทแก้วลงในของเหลว สำหรับทำให้มีความทนทานทางเคมีที่ถูกทำให้ร้อน และทำการแลกเปลี่ยนไออนของไอออนที่ถูก แลกเปลี่ยนในชั้นผิวของซับสเตรทแก้วกับไอออนในของเหลวสำหรับทำให้มีความทนทานทางเคมี: และ การผ่านผิวของซับสเตรทแก้วที่เอาขึ้นมาจากของเหลวสำหรับทำให้มีความทนทานทางเคมีโดย การจุ่มซับสเตรทแก้วลงในกรดซัลฟุริกที่มีความเข็มข้น 50% โดยน้ำหนักหรือมากกว่าที่ถูกทำให้ร้อน ถึงอุณหภูมิที่สามารถหยุดการเกิดไอออนอัลคาไลที่ใกล้ผิวของซับสเตรทแก้ว 2. วิธีการตามข้อถือสิทธิที่ 1, โดยที่อุณหภูมิความร้อนของกรดร้อนอยู่ในช่วงมากกว่า 100 ํซ. ถึง 300 ํซ. 3. วิธีการตามข้อถือสิทธิที่ 1, โดยที่เวลาที่ใช้ในกระบวนการของกรดร้อนเป็นตั้งแต่ หนึ่งนาทีถึงสองชั่วโมง 4. วิธีการตามข้อถือสิทธิที่ 1, โดยที่กรดร้อนอาจเป็นกรดซัลฟุริกเข้มข้นที่ร้อน กรดซัลฟุริก เข็มข้นที่ร้อนมากกว่า 100 ํซ. ที่มีความเข้มข้น 96% หรือกรดที่มีกรดซัลฟุริก และ/หรือ กรด ฟอสฟอริกอยู่ด้วย 5. วิธีการตามข้อถือสิทธิที่ 4, โดยที่กรดซัลฟุริก และ/หรือกรดฟอสฟอริกจะมีไฮโดรเจน เปอร์ออกไซด์อยู่ด้วย 6. วิธีการตามข้อถือสิทธิที่ 1, โดยที่ขั้นตอนของการทำซับสเตรทแก้วให้มีความทนทางเคมี รวมถึงขั้นตอนของ: (i) การให้ความร้อนกับของเหลวสำหรับทำให้มีความทนทางทางเคมีจนถึง อุณหภูมิที่เป็นจุดหลอมเหลวของเกลือหรือสูงกว่า; (ii) การจุ่มซับเสตรทลงในของเหลวสำหรับทำให้มีความทนทานทางเคมีเป็น ระยะเวลาที่กำหนดไว้ล่วงหน้า; (iii) การนำซับสเตรทแก้วขึ้นมาจากของเหลว; (iv) การทำซับสเตรทให้ค่อยๆ เย็นลงจนถึงอุณหภูมิในช่วงจาก 300 ํซ. ถึง 150 ํซ.; และ (v) การทำซับสเตรทให้เย็นลงอย่างรวดเร็วโดยสัมผัสกับริฟริเจอแรนต์ (สารให้ ความเย็น) 7. วิธีการทำดิสก์แม่เหล็กซึ่งประกอบด้วยขั้นตอนของ: การเตรียมซับสเตรทแก้วสำหรับดิสก์แม่เหล็กที่ได้จากการใช้วิธีการตามที่อ้างสิทธิใน ข้อถือสิทธิที่ 1; และ การเกิดชั้นของแม่เหล็กบนผิวของซับสเตรทแก้ว 8. วิธีการทำซับสเตรทแก้วสำหรับมีเดียม (ตัวกลาง) ที่ใช้บันทึกข้อมูลซึ่งประกอบด้วย (a) การแลกเปลี่ยนไอออน Na+ ของ Si-O-Na แบบไมครอสลิงค์ที่อยู่บนผิวของ ซับสเตรทแก้วกับไอออนไฮโดรเนียมที่เกิดขึ้นจากน้ำที่อยู่ในสารละลายที้ใช้ ในกระบวนการซึ่งส่งผลให้เกิดหมู่ไซลานอล โดยสัมผัสซับสเตรทแก้วกับ สารละลายที่ใช้ในกระบวนการ และหลังจากนั้น (b) การเกิดครอสลิงค์ Si-O-Si เพื่อยับยั้งการละลายไอออนที่อยู่ในซับสเตรทแก้ว ออกโดยการให้ความร้อนซับสเตรทแก้วเพื่อดึงน้ำออกจากหมู่ไซลานอล ซึ่ง ส่งผลให้เกิดครอสลิงค์ Si-O-Si 9. วิธีการทำซับสเตรทแก้วสำหรับดิสก์แม่เหล็กอันประกอบด้วยขั้นตอนของ: การทำซับสเตรทแก้วให้มีความทนทานทางเคมีโดยการจุ่มซับสเตรทแก้วลงในของเหลว สำหรับทำให้มีความทนทานทางเคมีที่ถูกทำให้ร้อน และทำการแลกเปลี่ยนไอออนของไอออนที่ถูก แลกเปลี่ยนในชั้นผิวของซับสเตรทแก้วกับไอออนในของเหลวสำหรับทำให้มีความทนทานทางเคมี; และ การผ่านผิวของซับสเตรทแก้วที่เอาขึ้นมาจากของเหลวสำหรับทำให้มีความทนทานทางเคมี ด้วยกรดซัลฟุริกที่มีความเข้มข้น 50% โดยน้ำหนักหรือมากกว่าที่ถูกทำให้ร้อนถึงอุณหภูมิในช่วง ระหว่าง 100 ํซ และ 300 ํซ. 1 0. วิธีการตามข้อถือสิทธิที่ 9, โดยที่เวลาที่ใช้ในกระบวนการของกรดร้อนเป็นหนึ่งนาทีถึง สองชั่วโมง 11. The glass substrate method for magnetic disks consists of the steps of: Making the glass substrate chemically resistant by immersing the glass substrate into a liquid. For making it chemically resistant to being heated And exchange the ions of the Exchange in the surface layer of the glass substrate with the ions in the liquid for chemical resistance: and the surface passage of the glass substrate taken from the liquid for chemical resistance by Immersion of the glass substrate into 50% thick sulfuric acid by weight or more is heated. The temperature at which the alkali ionization close near the surface of the glass substrate is reached. 2. Method according to claim 1, where the heat temperature of the hot acid ranges from more than 100 ํ to 300 ํ. C. 3. Method according to claim 1, where the time spent in the hot acid process is from One minute to two hours 4. Method according to claim 1, where hot acid may be hot concentrated sulfuric acid, hot concentrated sulfuric acid more than 100 ํ with 96% concentration. Or acids containing sulfuric acid and / or phosphoric acid 5. Method of claim 4, where sulfuric acid And / or phosphoric acid has hydrogen. 6. Method for claim 1, whereby the process of making a glass substrate to have a chemical resistance. This includes the steps of: (i) heating a liquid for its chemical resistance to The temperature at which the melting point of the salt is or higher; (ii) Immersion of the sorbent into a liquid to make it chemically resistant. A predetermined duration; (iii) the introduction of the glass substrate from the liquid; (iv) Substrate gradually Cools down to temperatures in the range from 300 ํ up to 150 ํ; And (v) rapid cooling of the substrate in contact with the rifugerant (refrigerant). 7. Magnetic disk method, which consists of the steps of: substrate preparation. The glass for the magnetic disk was obtained by using the method claimed in Claim 1; And magnetic layer formation on the surface of the glass substrate. 8. Glass substrate method for recording mediums consisting of (a) Si-O-Na Na + ion exchange as The microslink is on the surface of The glass substrate with hydronium ions formed from the water in the solution used. In the process which resulted in the formation of xylanolic groups By touching the glass substrate with Process solutions And then (b) Si-O-Si crosslinking to inhibit dissolution of ions present in the glass substrate. It is released by heating the glass substrate to extract water from the silanol group, resulting in Si-O-Si crosslinking. 9. Glass substrate method for magnetic disks consisting of Procedure: Making the glass substrate chemically resistant by immersing the glass substrate into a liquid. For making it chemically resistant to being heated And exchange the ions of the Exchange in the surface layer of the glass substrate with ions in the liquid for chemically resistant; And through the surface of the glass substrate taken from the liquid to make it chemically resistant. With sulfuric acid 50% by weight or more heated to temperatures between 100 ํ and 300 ํ C 1 0. Method according to claim 9, whereby the time of In the process of hot acid is one minute to two hours.
1. วิธีการตามข้อถือสิทธิที่ 9, โดยที่กรดอาจเป็นกรดซัลฟุริกเข้มข้นที่ร้อน กรดซัลฟุริก เข้มข้นที่ร้อนถึง 100 ํซ. ที่มีความเข้มข้น 96% หรืดกรดที่มีกรดซัลฟุริก และ/หรือ กรดฟอสฟอริก อยู่ด้วย 11. Method according to claim 9, where the acid may be hot concentrated sulfuric acid, hot concentrated sulfuric acid up to 100 ํ C with a concentration of 96%, or acid with acid. Sulfuric and / or phosphoric acid are also present 1.
2. วิธีการตามข้อถือสิทธิที่ 11, โดยที่กรดซัลฟุริก และ/หรือ กรดฟอสฟอริกจะมีไฮโดรเจน เปอร์ออกไซด์อยู่ด้วย 12. Method according to claim 11, where sulfuric and / or phosphoric acid contain hydrogen. Peroxide is with 1.
3. วิธีการตามข้อถือสิทธิที่ 9, โดยที่ขั้นตอนของการทำซับสเตรทแก้วให้มีความทนทาน ทางเคมีรวมถึงขั้นตอนของ: (i) การให้ความร้อนกับของเหลวสำหรับทำให้มีความทนทางทางเคมีจนถึง อุณหภูมิที่เป็นจุดหลอมเหลวของเกลือหรือสูงกว่า; (ii) การจุ่มซับเสตรทลงในของเหลวสำหรับทำให้มีความทนทานทางเคมีเป็น ระยะเวลาที่กำหนดไว้ล่วงหน้า; (iii) การนำซับสเตรทแก้วขึ้นมาจากของเหลว; (iv) การทำซับสเตรทให้ค่อยๆ เย็นลงจนถึงอุณหภูมิในช่วงระหว่าง 150 ํซ. และ 300 ํซ.; และ (v) การทำซับสเตรทให้เย็นลงอย่างรวดเร็วโดยสัมผัสกับริฟริเจอแรนต์ (สารให้ความเย็น) 13. Method according to claim 9, whereby the process of making the glass substrate durable Chemical includes the process of: (i) heating a liquid for making it chemically resistant to The temperature at which the melting point of the salt is or higher; (ii) Immersion of the sorbent into a liquid to make it chemically resistant. A predetermined duration; (iii) the introduction of the glass substrate from the liquid; (iv) Substrate gradually Cools down to temperatures between 150 and 300 C; And (v) rapid cooling of the substrate in contact with the rifugerant. (Cooling agent) 1
4. วิธีการทำดิสก์แม่เหล็กซึ่งประกอบด้วยขั้นตอนของ: การเตรียมซับสเตรทแก้วสำหรับดิสก์แม่เหล็กที่ได้จากการใช้วิธีการตามที่อ้างสิทธิใน ข้อถือสิทธิที่ 9; และ การเกิดชั้นของแม่เหล็กบนผิวของซับสเตรทแก้ว4. Magnetic Disc Method, which consists of the steps of: Preparation of a glass substrate for a magnetic disk obtained by using the method claimed in Clause 9; And the formation of magnetic layers on the surface of the glass substrate