การประดิษฐ์จัดให้มีก้อนทำความสะอาดที่พึเอชของผิวที่เป็น กรดอย่างอ่อน อ่อนโยนอย่างยิ่งรอยเลอะต่ำและเหนียวแน่นที่ประกอบด้วยโดยน้ำหนัก ของก้อนดังกล่าว ; จากประมาณ 5% ถึงประมาณ 50% ของกรดคาร์บอกซิลิคอิสระ อย่างจำเป็น, อย่างที่ควรใช้กรดมิริสทิด, กรดบีฮีนิค, หรือ 12-ไฮดรอกซิ กรดสเทียริค จากประมาณ 15% ถึงประมาณ 65% ของเครื่องช่วยความเหนียวแน่นของก้อนที่เป็นอิน- ทรีย์สารที่ละลายน้ำได้แอนไอออนและ/หรือไร้ไอออน, อย่างที่ควรใช้โซเดียม โคโคอิล ไอเซไธโอเนท หรือโซเดียม ลอโรอิล ไอเซไธโอเนท ; และน้ำจากประมาณ 15% ถึงประมาณ 55% ก้อนที่พีเอสของผิวสามารถมีสบู่เล็กน้อยหรือไม่มี, ยังมีค่าการแทรก ซึมตื้นจากศูนย์สูงถึง 12 มิลลิเมตร The invention provides a cleansing mass of extremely mild acidic skin, low smear and a sticky consistency composed by weight. Of such a loaf; From approximately 5% to approximately 50% of the required free carboxylic acid, such as mirisit acid, bihenic acid, or 12-hydroxyl stearic acid from Approximately 15% to approximately 65% of intra-hydride, water-soluble, anion and / or anionic adhesives, as should be used, sodium cocoil isethionate Or sodium lauryl isethionate; And water from about 15% to about 55%. The PS of the skin can have little or no soap, also has an insertion value. Shallow penetrate from the center up to 12 mm.
Claims (1)
1. ก้อนทำความสะอาดที่พีเอชของผิวที่เป็นกรดอย่างอ่อนและ อ่อนโยนอย่างยิ่งและเหนียวแน่นที่ประกอบด้วย A. จากประมาณ 5% ถึงประมาณ 50% ของกรดโมโนคาร์บอกซิลิคอิสระอย่าง จำเป็น ; ซึ่งจากศูนย์ถึงประมาณ 15% โดยน้ำหนักของกรดคาร์บอกซิลิคอิสระ อย่างจำเป็นดังกล่าวคือกรดคาร์บอกซิลิคที่เป็นกลาง B. จากประมาณ 15% ถึงประมาณ 65% ของเครื่องช่วยความเหนียวแน่นของ ก้อนที่เป็นอินทรีย์สารที่ละลายน้ำได้ชนิดแอนไอออนและ/หรื:1.Cleansing the pH of the skin that is weakly acidic and Extremely gentle and adherent containing A. from approximately 5% to approximately 50% of the required free monocarboxylic acid; Which from zero to about 15% by weight of free carboxylic acids Such essential is the neutral carboxylic acid B. From about 15% to approximately 65% of the aids. Organic clot, anionic and / or water-soluble substance:
TH9301000462A1993-03-18
Cleansing the pH of the skin
TH20445EX
(en)