SU728937A1 - Apparatus for applying photoresist on plates - Google Patents

Description

(54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ФОТОРЕЗИСТА НА ПЛАСТИНЫ(54) DEVICE FOR APPLYING PHOTORESIST ON PLATES

Изобретение относитс  к устройствам дл  нанесени  покрытий посредством центробежной силы и может быть использовано, в частности, дл  нанесени  светочувствительного сло  на полупроводниковые пластины и фотошаблоны при химической фотогравировке .The invention relates to devices for coating by means of centrifugal force and can be used, in particular, for applying a photosensitive layer to semiconductor plates and photomasks in chemical engraving.

Известна центрифуга дл  нанесени  светочувствительного сло  на пластины, содержаща  вертикально установленный барабан с держателем дл  закреплени  пластины 1.A known centrifuge for applying a photosensitive layer to the plates, comprising a vertically mounted drum with a holder for securing the plate 1.

Недостзгком этого устройства  вл етс  низкое качество покрыти .A disadvantage of this device is the poor quality of the coating.

Наиболее близким к изобретению по технической сущности и достигаемому результату  вл етс  устройство дл  нанесени  фоторезиста на пластины, содержащее корпус и сборник фоторезиста с установленной внутри него приводной оправкой с держател ми дл  закреплени  пластины 2.The closest to the invention in technical essence and the achieved result is a device for applying photoresist on plates, comprising a body and a collection of photoresist with a drive mandrel mounted inside it with holders for fixing plate 2.

Однако такое устройство не обеспечивает нанесени  на пластины равномерной по толщине и без разрывов («проколов) пленки фоторезиста малой толщины (0,2- 0,7 мкм и менее). Это объ сн етс  тем, что в процессе образовани  пленки на фоторезист нар ду с центробежными силами действуют силы сопротивлени  встречного потока окружающей среды (воздуха или очищенного азота), причем абссшютна  величина этих сил сопротивлени  увеличиваетс  от центра к периферии пластины, так как линейна  скорость движени  частичек фоторезиста увеличиваетс  от центра к кра м пластины. Вследствие этого происход т разрывы пленки фоторезиста, а это ведет к браку на последующих операци х при изготовлении микросхем с субмикронными размерами элементов топологии.However, such a device does not ensure that the plates are evenly thick and without breaks (“punctures”) of the photoresist film of small thickness (0.2-0.7 µm or less). This is due to the fact that in the process of film formation on the photoresist, along with centrifugal forces, there are forces of resistance to the oncoming flow of the environment (air or purified nitrogen), and the absolute value of these resistance forces increases from the center to the periphery of the plate, since the linear velocity of motion the photoresist particles increase from the center to the edge of the plate. As a result, breaks in the photoresist film occur, and this leads to rejects on subsequent operations in the manufacture of microcircuits with submicron sizes of topology elements.

Цель изобретени  - повыщение качества , наносимой пленки фоторезиста.The purpose of the invention is to increase the quality of the applied photoresist film.

Это достигаетс  тем, что устройство снаб жено вакуумной камерой, при этом сборНИК фоторезиста с приводной оправкой установлен в упом нутой камере.This is achieved by the fact that the device is equipped with a vacuum chamber, while a collection of photoresist with a driving mandrel is installed in said chamber.

На чертеже изображено предлагаемое устройство дл  нанесени  фоторезиста на пластины в разрезе.The drawing shows the proposed device for applying photoresist on the plates in the section.

Устройство содержит корпус 1 и сборник 2 фоторезиста с установленной внутри него приводной оправкой 3. расположенной в подшипниках 4, с держател ми 5 дл  закреплени  пластины 6. Привод 7 служит дл  вращени  оправки 3. Устройство снабThe device comprises a housing 1 and a collector 2 of photoresist with a drive mandrel 3 installed inside it. Located in bearings 4, with holders 5 for fixing the plate 6. The actuator 7 serves to rotate the mandrel 3. The device has

Claims (1)

Формула изобретенияClaim Устройство для нанесения фоторезиста пластаны, содержащее корпус и сборник ста новле иной внутри него на фоторезиста с приводной оправкой с держателями для закрепления пластины, отличающееся тем, что, с целью повышения качества наносимой пленки фоторезиста, оно снабжено вакуумной камерой, при этом сборник фоторезиста с приводной оправкой установлен в упомянутой камере.A device for applying a photoresist plate containing a housing and a collection that is different inside it on a photoresist with a drive mandrel with holders for fixing the plate, characterized in that, in order to improve the quality of the applied film of the photoresist, it is equipped with a vacuum chamber, while the collector of the photoresist with a drive a mandrel is installed in said chamber.