SU721304A1 - Method of dimensional electrochemical treatment - Google Patents

Description

(54) СПОСОБ РАЗМЕРНОЙ ЭЛЕКТРОХИМИЧЕСКОЙ ОБРАБОТКИ(54) METHOD FOR DIMENSIONAL ELECTROCHEMICAL TREATMENT

зазора, В реальных услови х скорость растворени  уменьшаетс  с увеличением зазора более резко, что объ сн етс  снижением выхода по току с уменьшением плотности тока и образрванием наобрабатываемой поверхности пассивной пленки. Однако этот спад скорости растворени  при импульсах большой длительности наблюдаетс  при сравнительно малых плотност х тока, в св зи с чем боковой зазор в данном случае получаетс  достаточно большимIn reality, the dissolution rate decreases with an increase in the gap more sharply, which is explained by a decrease in the current efficiency with a decrease in the current density and the formation of a passive film surface. However, this decrease in the dissolution rate with long duration pulses is observed at relatively low current densities, and therefore the side gap in this case is quite large.

При обработке короткими импульсам тока ( 2 мс) резкий спад выхода по току наблюдаетс  при сравнительно больших плотност х тока. При этом, если плотность тока ниже некоторого .критического значени , на обрабатывамой поверхности образуетс  прочна  пассивна  пленка, обладающа  высоким электрическим сопротивлением .When processing short current pulses (2 ms), a sharp drop in the current efficiency is observed at relatively high current densities. In this case, if the current density is below a certain critical value, a strong passive film with high electrical resistance is formed on the treated surface.

Этим объ сн етс  резкий спад скорости растворени  при увеличении зазора при коротких импульсах тока (крива  2 на фиг. 2). Следовательно , при обработке короткими импульсами получаемый боковой зазор будет существенно меньшим. Однако, при этом скорость обработки оказываетс  низкой, так как выход по току при коротких импульсах снижаетс  даже при высоких плотност х тока .This explains the sharp decrease in the dissolution rate with an increase in the gap with short current pulses (curve 2 in Fig. 2). Therefore, when processing short pulses, the resulting side clearance will be significantly smaller. However, the processing speed is low, since the current efficiency with short pulses decreases even at high current densities.

При обработке последовательностью импульсов по предлагаемому способу поступающие на электрода короткие импульсы вызовут образование пассивной защитной пленки на боковой поверхности анода, в то врем  как на торцовой поверхности пленка будет отсутствовать, так как плотность тока здесь будет превышать критическуюWhen processing a sequence of pulses according to the proposed method, short pulses arriving at the electrode will cause the formation of a passive protective film on the side surface of the anode, while on the end surface the film will be absent, since the current density here will exceed the critical

При поступлении на электроды импульсов большой длительности наличие пассивной пленки, обладающей высоким электрическим сопротивлением , приводит к снижению плотности тока на боковой поверхности и снижению скорости растворени  металла в бковом зазоре. В то же врем  отсутствие пленки в торцовом зазоре обуслов (Ливает высокую скорость обработки.When pulses of long duration arrive at the electrodes, the presence of a passive film with high electrical resistance leads to a decrease in the current density on the side surface and a decrease in the rate of dissolution of the metal in the back gap. At the same time, the absence of a film in the end gap is caused by (It has a high processing speed.

В результате, зависимость скорости растворени  VPот зазора В при обработке по предлагаемому способу - ;имеет вид, представленнйй на фиг. 2 чривой 3.As a result, the dependence of the rate of dissolution VP on gap B when processing by the proposed method is; has the form shown in FIG. 2 hours 3.

Сопоставление кривых 1 и 3 на фиг. 2 показывает, что при равных ркорост х подачи ип , и, следователь (1О, равных скорост х растворени  установившемс  режиме дл  торцо- . )ых участков поверхности, при которых ./гол Ч между нормалью к поверхности .и направлением подачи равен нулю, зазоры практически равны, т. е. еЧзComparison of curves 1 and 3 in FIG. 2 shows that with equal feed rates of un, and, the investigator (1 O, equal to the dissolution rates of the steady state for the face-face.) Surface areas at which the ./ head H between the normal to the surface and the feed direction is zero, the gaps almost equal, i.e.

В то же врем  дл  боковых участков обрабатываемой поверхности, дл  которых угол Ч 90 иир ипСоьЧ, имеем гЧз2 f| т.е. боковой зазор 0 уменьшаетс  дл  случа  обработки по предлагаемому -способу.At the same time, for the side areas of the surface to be treated, for which the angle is 90 90 and ип ipSoCH, we have gfs2 f | those. side clearance 0 is reduced for the case of processing according to the proposed α-method.

Таким образом, применение пакетов импульсов напр жени  с существенно различными длительност ми 5 обеспечивает высокую производительность процесса размерной электрохимической обработки и высокую точ .ность обработки.Thus, the use of voltage pulse packets with significantly different durations 5 provides high performance of the process of dimensional electrochemical machining and high precision machining.

Claims (1)

1. Авторское свидетельство СССР 493326, кл. В 23 Р 1/04. 1973.1. USSR author's certificate 493326, cl. B 23 P 1/04. 1973. n-CflSlfn-cflSlf (1 ф (1 f иг.гIG