SU576560A1 - Antistatic composition - Google Patents

Description

1one

Изобретение относитс  к фотографической промышленности, в частности к композици м дл  антистатической защиты фотографических материалов.The invention relates to the photographic industry, in particular to compositions for the antistatic protection of photographic materials.

Известна антистатическа  комиозици  дл  фотографических материалов, содержаи а  антистатик-натриевую соль поливииилсульфата и растворитель, котора  наноситс  отдельным слоем на фотографический материал 1.A known antistatic combination for photographic materials, containing the antistatic sodium salt of polyvinyl sulfate and solvent, which is applied in a separate layer on photographic material 1.

Однако така  антистатическа  комнозици  не обеспечивает фотографическим материалом высоких аитистатических свойств, иоскольку она устойчива лишь в узком иитервале значений рН.However, such antistatic comnozitsi does not provide photographic material of high anti-static properties, since it is stable only in a narrow range of pH values.

Дл  получени  антистатической композиции дл  фотографических материалов с увеличенной электроироводиостыо, способной предотвращать слипание слоев, в качестве антистатика предлагаема  комиозици  содержит энантовую кислоту, дипропилкарбинол, гексилдиметилкарбинол, каириловую кислоту и дополиительио проииловый сиирт, натриевую соль дигексилового эфира сульфо нтариой кислоты, желатину и воду ири следующем соотношеиии комиоиентов, вес. ч.: Эиантова  кислота7,5-15In order to obtain an antistatic composition for photographic materials with an increased electrowirovodiosta able to prevent sticking of the layers, the proposed comyozyme contains enanthic acid, dipropylcarbinol, hexydimethylcarbinol, cairyl acid, and additional polysiloxane propylic acid, polyhexyl, polyhexyl, and hexyl dimethyl, hexyl dimethyl, and additionally propylene glycol, as well as hexyl dimethylcarbinol; comonates, weight. including: Eiantovaya acid 7.5-15

Дииропилкарбииол12,5-25Diiloperbiol 12,5-25

Гексилдиметилкарбииол12.5-25Hexyldimethylcarbiool12.5-25

Каирилова  кислота7,5-15Kairilova acid 7.5-15

Проииловый сиирт160-320Prowd Siirt160-320

Патриева  соль дигексилового эфира сульфо нтариой кислоты 25-50Pathogenic salt of dihexyl ester of sulphonic acid 25-50

Желатина40-80Gelatin 40-80

Вода500-750Water500-750

Дл  ириготовлсии  композиции 60 вес. ч. желатины заливают 600 вес. ч. обессоленной воды и дают желатине иабухнуть в течение 30 мин, после чего ввод т 35 вес. ч. 4%-кого раствора натриевой соли дигексилового эфира с Льфо итарной кислоты и довод т температуру смеси до 50С. Затем на вод иой бане нагревают до 50°С 10 вес. ч. эиаитовой кислоты , 17,5 вес. ч. дипропилкарбинола, 20 вес. ч. гексилдиметилкарбинола, 12,5 вес. ч. каирилозой кислоты и полученную смесь ири перемешивании ввод т в 256 вес. ч. изопропилового сппрта в теченпе 10 мин. Перемешивание ведут до иолученн  однородно эмульси.For the composition of 60 mg. including gelatin pour 600 weight. desalted water and give gelatin to swell for 30 minutes, after which 35 wt. including a 4% solution of dihexyl ester sodium salt with lfo-tartaric acid and bringing the mixture temperature to 50 ° C. Then on the water bath heated to 50 ° C 10 weight. including eiaitic acid, 17.5 wt. including dipropylcarbinol, 20 wt. including hexyldimethylcarbinol, 12.5 wt. including kairyl acid and the resulting mixture and stirring are introduced into 256 wt. including isopropyl spprt in flow 10 min. Stirring is carried out until a uniform emulsion is obtained.

Затем раствор, содержащ Й желат шу, вливают в иолуче 1ную эмульсию и перемеш вают до получени  однород ой эмульсии. Готову о :омиоз Ц О разливают в емкости и студен т, иосле чего она готова к сиользо анию .Then the solution, containing Y wish Shu, is poured into a ray of the first emulsion and stirred until a homogeneous emulsion is obtained. I am preparing for: omiosis TSO is poured into containers and students, and after that it is ready for use.

Антистатическу О композ Ц ю ввод т в состав защитного сло  в чол честве 15% от веса содержащейс  в слое желат1 ы и нанос т на фотографическ Й матер 1ал. Политый и высушенный фотоматериал испытывают иа генерацию статического электричества на поверхности защитных слоев и наличие дефектов разр дного характера, а также на слипаемость слоев в процессе хранени .Antistatic Compound Zy are introduced into the protective layer in a quantity of 15% by weight of the gel contained in the layer and are applied to a photographic material of lal. The poured and dried photographic material is subjected to static electricity generation on the surface of the protective layers and the presence of discharge defects, as well as on the adhesion of the layers during storage.

Р1сиытани  фотографического материала с введенной в него антистатической композицией провод т в соответствии с ГОСТ 10691 -63.The testing of photographic material with an antistatic composition introduced into it is carried out in accordance with GOST 10691-63.

предотвращени  слипани  слоев фотографических материалов, она содержит в качестве антистатика энаитовую кислоту, дипропилкарбинсл , гексилдиметилкарбииол, каприловую кислоту и дополнительно иропиловый спирт, натриевую соль дигексилового эфира сульфо нтарной кислоты, желатииу и воду прп следующем соотнопгеиии компонентов, вес. ч.:preventing adhesion of layers of photographic materials, it contains as an antistatic agent anaitic acid, dipropylcarbine, hexyldimethylcarbiool, caprylic acid and additionally propyl alcohol, sodium salt of dihexyl ester of sulphate succinic acid, gelatin and water of the following ratio of components, weight. including:

Таблица 1Table 1

Таблица 2table 2