SU439028A1 - Method of making autoelectronic cathodes - Google Patents
Method of making autoelectronic cathodesInfo
- Publication number
- SU439028A1 SU439028A1 SU1818134A SU1818134A SU439028A1 SU 439028 A1 SU439028 A1 SU 439028A1 SU 1818134 A SU1818134 A SU 1818134A SU 1818134 A SU1818134 A SU 1818134A SU 439028 A1 SU439028 A1 SU 439028A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- making
- cathodes
- emission
- autoelectronic
- scandium
- Prior art date
Links
Landscapes
- Cold Cathode And The Manufacture (AREA)
Description
1one
Изобретение относитс к технологии изготовлени автозлектронных катодов.This invention relates to the technology of making auto electron cathodes.
Известен способ локализации автоэмиссии, ограиичивающий расходимость электронного пучка iB пределах 15-20° за счет нанесени покрытий, образующих «небольшие сильно эмиттирующие центры в окрестност х грани (100). При эксплуатации автокатодов с активирующим покрытием требуетс сохранение свойств этого покрыти или способности легко восстанавливать первоначальные свойства при прогреве эмиттера в услови х технического вакуума мм рт. ст. Известный способ редко .примен етс из-за малой стабильности ЭМИССИОННЫХ свойств. Дл стабильной работы эмиттера необходим вакуум 10 ММ рт. ст.A known method of localizing autoemission restricting the divergence of the electron beam iB within 15–20 ° due to the application of coatings that form small strongly emitting centers in the vicinity of the (100) face. During operation of auto cathodes with an activating coating, it is necessary to preserve the properties of this coating or the ability to easily restore the original properties when the emitter is heated under technical vacuum conditions in mm Hg. Art. The known method is rarely used because of the low stability of the EMISSION properties. For stable operation of the emitter, a vacuum of 10 mm Hg is required. Art.
Целью изобретени вл етс увеличение стабильности эмиссии, локализованной в малых телесных углах.The aim of the invention is to increase the stability of the emission, localized in small solid angles.
Согласно изобретению, указанна цель достигаетс путем прогрева до температуры 800-1800°С :в атмосфере, содержащей кислород мм рт. ст., вольфрамового (молибденового) эмиттера, на поверхности которого образована пленка одного из металлов подгруппы сканди (Sc, Y, La) толщиной не менее моносло . В этих услови х вследствие локализации центров эмиссии вокруг граней (100) угол эмиссии значительно уменьшаетс .According to the invention, this goal is achieved by heating to a temperature of 800 to 1800 ° C: in an atmosphere containing oxygen mm Hg. Art., a tungsten (molybdenum) emitter, on the surface of which a film of one of the scandium subgroup metals (Sc, Y, La) is formed with a thickness of at least a monolayer. Under these conditions, due to the localization of emission centers around the (100) faces, the emission angle is significantly reduced.
22
Процесс локализации сопровождаетс уменьшением напр жени , необходимого дл получени тока требуемой величины, и прекращаетс после установлени мини мального стационарНОго зна-чени напр жени .The localization process is accompanied by a decrease in the voltage required to obtain a current of the desired magnitude, and is terminated after a minimum steady-state voltage value is established.
Процесс локализации сводитс к образованию окисных комплексов металлов подгруппы сканди и их миграции в области грани (100). Миграци окисных комплексов сопро-вождаетс ИЗмененИем напр женности нол и уменьшением работы выхода ф в область грани (iOO), вследствие чего ркость этих областей резко .возрастает. Предложенный способ локализации былThe process of localization is reduced to the formation of oxide complexes of metals of the subgroup of scandium and their migration in the region of the face (100). The migration of the oxide complexes is accompanied by a change in the zero intensity and a decrease in the work function φ to the face region (iOO), as a result of which the brightness of these areas increases sharply. The proposed method of localization was
опробован прИ нанесении на поверхность вольфрамовых острий пленок сканди и иттри . При соблюдении режимов нанесени и термической обработки слоев этих металлов эмиссионные свойства покрыти воспроизвод тс tested in the application of scandium and yttri films on the surface of tungsten tips. Under the conditions of application and heat treatment of the layers of these metals, the emission properties of the coating are reproduced
с большой точностью. Покрыти из окисных комплексов сканди и иттри снижают расхождение электронного пучка до 12-15°. Использование дл эмиттеров вольфрамовой проволоки , ориентированной вдоль оси (100) поЭволит еще более сузить угол автоэмиссии. Исследование стабильности эмиссионных свойств эмиттеров, полученных предложенным способом, вы вило, что при f() 10 мм рт. ст. ток автоэлектронной эмиссииwith great precision. The coatings of the oxide complexes of scandium and yttri reduce the divergence of the electron beam to 12–15 °. The use of tungsten wire oriented along the axis (100) for emitters will further narrow the angle of autoemission. The study of the stability of the emission properties of emitters obtained by the proposed method revealed that with f () 10 mm Hg. Art. field emission current
практически не мен етс в течение часа.practically does not change within an hour.
Увеличение давлени до 10 мм рт. ст вызывает .по вление флуктуации автоэлектронного тока, которые полностью исчезают при подкале эмиттера до температуры выше 800-j-850°C. При подкале эмисси остаетс стабильной в течение длительного времени.The increase in pressure to 10 mm Hg. The station causes fluctuations of the field current, which completely disappear when the emitter subsides to temperatures above 800-j-850 ° C. When podkale emission remains stable for a long time.
Другим важным преимуществом способа (например, в сравнении со способом локализации лутем напылени пленок кремни на во.1ьфрам или окислени поверхности тугоплавкого металла Та, Мо Nb, W вл етс уменьшение работы выхода эмиттируюш,его покрыти до 2,8 эв, что позвол ет снизить рабочее напр жение при мерно в два раза. Высока стабильность автоэлектронного тока с катодов, изготовленных предложенным способом , позволит использовать их в качествеAnother important advantage of the method (for example, in comparison with the method of localizing the deposition of silicon films on wool.1 or the oxidation of the surface of the refractory metal Ta, MoNb, W is a decrease in the work function of the emitter, its coating to 2.8 eV, which reduces working voltage approximately twice. The high stability of the autoelectronic current from the cathodes manufactured by the proposed method will make it possible to use them as
электронных источников в острофокусных ЭЛТ и растровых электронных микроскопах.electronic sources in sharp-focus CRT and scanning electron microscopes.
Предмет и з о i6 р е т е н и Subject and reference about i6
Способ изготовлени автоэлектронных катодов с локализованной эмиссией путем нанесени на острие из тугоплавкого металла, например вольфрама, покрыти с меньшей работой выхода, отличаюш;ийс тем, что, с целью повышени стабильности эмиссионных свойств катода, .покрытие формируют из двухкомпонентной пленочной системы металл подруппы сканди - кислород, например, путем -прогрева пленки металла подгруппы сканди в присутствии кислорода при температуре 800-1800°С до установлени минимального значени напр жени , необходимого дл сн ти требуемого тока.The method of manufacturing field-emitted autoelectronic cathodes by depositing a refractory metal tip, e.g. tungsten, with a lower work function, is distinguished by the fact that, in order to increase the stability of the cathode emission properties, the metal of the scandium subgroup is formed from a two-component film system oxygen, for example, by heating the metal film of the subgroup of scandium in the presence of oxygen at a temperature of 800-1800 ° C to establish the minimum voltage required to remove ebuemogo current.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU1818134A SU439028A1 (en) | 1972-08-08 | 1972-08-08 | Method of making autoelectronic cathodes |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU1818134A SU439028A1 (en) | 1972-08-08 | 1972-08-08 | Method of making autoelectronic cathodes |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU439028A1 true SU439028A1 (en) | 1974-08-05 |
Family
ID=20524149
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU1818134A SU439028A1 (en) | 1972-08-08 | 1972-08-08 | Method of making autoelectronic cathodes |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU439028A1 (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4524297A (en) * | 1982-02-18 | 1985-06-18 | U.S. Philips Corporation | Thermionic cathode and method of manufacturing same |
US4625142A (en) * | 1982-04-01 | 1986-11-25 | U.S. Philips Corporation | Methods of manufacturing a dispenser cathode and dispenser cathode manufactured according to the method |
US8388400B2 (en) | 2008-12-02 | 2013-03-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of fabricating electron-emitting device and method of manufacturing image display apparatus |
-
1972
- 1972-08-08 SU SU1818134A patent/SU439028A1/en active
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4524297A (en) * | 1982-02-18 | 1985-06-18 | U.S. Philips Corporation | Thermionic cathode and method of manufacturing same |
US4625142A (en) * | 1982-04-01 | 1986-11-25 | U.S. Philips Corporation | Methods of manufacturing a dispenser cathode and dispenser cathode manufactured according to the method |
US8388400B2 (en) | 2008-12-02 | 2013-03-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of fabricating electron-emitting device and method of manufacturing image display apparatus |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
ES556678A0 (en) | A STEAM DEPOSITION PROCEDURE BY AN ELECTRIC ARC | |
US20080284332A1 (en) | Gun chamber, charged particle beam apparatus and method of operating same | |
US6798126B2 (en) | High angular intensity Schottky electron point source | |
SU439028A1 (en) | Method of making autoelectronic cathodes | |
Mackie et al. | Field emission from ZrC and ZrC films on Mo field emitters | |
JP2002523860A (en) | Cathode structure having getter material and diamond film and method of manufacturing the same | |
US7057333B1 (en) | Method and device for extraction of electrons in a vacuum and emission cathodes for said device | |
US3244855A (en) | System for correcting the shift of an electron-gun beam from the desired region of impingement | |
US3846006A (en) | Method of manufacturing of x-ray tube having thoriated tungsten filament | |
EP0637046B1 (en) | Thermoionic emissive cathode method of fabricating the same thermoionic emissive cathode and electron beam apparatus | |
US3441709A (en) | Method of setting an electron-projecting apparatus to uniformly heat a coated metal base | |
GB1527022A (en) | Fieldemission cathode | |
US3717503A (en) | Method of constructing a vapor deposited bi-potential cathode | |
US6638857B1 (en) | E-beam deposition method and apparatus for providing high purity oxide films | |
JPS6057651B2 (en) | thermionic emission cathode | |
JPS6241358A (en) | Knitting needle | |
JPH0794072A (en) | Hot cathode for electron radiation, its manufacture, and electron beam working device using it | |
US2372455A (en) | Cathode-ray tube | |
JPS628409A (en) | Formation of transparent conducting metal oxide film | |
JP3199543B2 (en) | Vacuum arc deposition equipment | |
Mackie et al. | Emission characteristics of NbC/Nb field emitter array cathodes | |
RU2080692C1 (en) | Method for generation of superconducting films | |
Yavas et al. | Pulsed Laser Deposition of Diamond-Like Carbon Films on Gated Si Field Emitter Arrays for Improved Electron Emission | |
Noga | Field Emission Studies on Kinetics of Barium Oxide on Tungsten | |
KR960015311B1 (en) | Oxide cathode of electron gun for cathode ray tube |