SU1675836A1

SU1675836A1 - Способ получени матрицы дл изготовлени линзовых растров

Info

Publication number: SU1675836A1
Application number: SU894720857A
Authority: SU
Inventors: Джеймарс Хаматханович Ганиев; Борис Федорович Грибановский; Сергей Александрович Щеглов; Ольга Михайловна Ченцова; Анатолий Анатольевич Цуканов; Борис Петрович Папченко
Original assignee: Омский политехнический институт
Priority date: 1989-07-19
Filing date: 1989-07-19
Publication date: 1991-09-07

Abstract

Изобретение относитс к способу изготовлени матрицы дл изготовлени линзовых растров. Способ позвол ет расширить технологические возможности и повысить качество матриц, дл чего циклически формируют рельеф линзовых элементов на металлической подложке путем использовани позитивного фоторезиста в качестве светочувствительного сло и многократного экспонировани на последовательно наносимые слои фоторезиста изображений периодической бинарной структуры со ступенчатой уменьшенной скважностью.

Description

Изобретение относитс к области изготовлени линзовых растров, примен емых в оптических приборах, в полиграфической промышленности, в устройствах дл получени пространственных и интегральных фотографий и т.п.

Целью изобретени вл етс расширение технологических возможностей способа и повышение качества линзовых растров.

Способ осуществл ют следующим образом .

Получают на подложке рельеф линзовых элементов посредством создани на металлической подложке изображени периодических линзовых элементов растра, сформированного позитивным фоторезистом , наращивани сло металла и повторным созданием изображени линзовых элементов позитивным фоторезистом, причем изображение отличаетс уменьшенной скважностью элементов периодической бинарной структуры, последующим наращиванием указанных операций до создани профил линз с заданной точностью,сглаживанием поверхности рельефа электрохимическим полированием и нанесением сло легкоплавкого металла или сплава, его охлаждени до затвердевани .

Пример. На отполированную очищенную от загр знений поверхность пластинки из латунного сплава ЛС-59 нанос т на центрифугирующей установке позитивный фоторезист ФП-383 и сушат его при 100°С в течение 10 мин. На пленку фоторезиста помещают изображение бинарной структуры, имеющей прозрачные дл лучей света участки в виде гексагонально расположенных дисков диаметром 70 мкм и с шагом 75 мкм. Вскрывают в фоторезисте круглые окна и дуб т полученное фоторезистивное изображение в течение 15-20 мин при 150°С. Декапируют поверхность вскрывшихс участков металла дл удалени оксидной пленки в 10%-ном растворе азотной кислоты и наращивают слой меди толщиной 3 мкм в электролите состава, г/л:

CuS045H20210

H2SO4 (конц.)50

СО

С

сх

а

00

о

Блескообразователь

БЭСМ0,4

NaCI0,01

Анод медный.

Режим электролиза: температура 18- 25°С, плотность тока 2-3 А/дм2. Врем электролиза подбирают экспериментально таким образом, чтобы получить медный слой заданной толщины.

Поверхность заготовки промывают водой , сушат и нанос т следующий слой фоторезиста , на который помещают изображение бинарной структуры с уменьшенной скважностью, т.е. стой лишь разницей , что диаметр прозрачных дисков составл ет 56 мкм. и эту структуру размещают таким образом, чтобы центры ее прозрачных дисков строго совпадали с центрами медных дисков предыдущего сло . Далее все операции повтор ютс , после чего наноситс третий слой фоторезиста , в котором описанным способом формируют отверсти диаметром 29 мкм, расположенные строго по центру медных дисков предыдущего р да (дл более точной аппроксимации профил линзовых элементов заданной кривизны таких чередующихс операций нанесени фоторезистивной маски и наращивани сло металла должно быть не 3, а гораздо больше, при этом используютс бинарные структуры, у которых шаг уменьшени диаметра прозрачных дисков стремитс к минимальной величине, увеличиваетс число слоев наращиваемого металла, уменьшаетс их толщина).

Удал ют фоторезист в 20%-ном растворе едкого натра и после промывки обрабатывают модель в полирующем электролите состава: СгОз ЮОг/лиНзРСм 140 мл/л.

Режим электрополировани : температура раствора 30-40°С, анодна плотность тока 20 А/дм2, врем полировани 1 мин.

Получен на металлической подложке рельеф дл электролитического наращивани матрицы. Дл повышени качества матрицы на изготовленный рельеф нанос т слой олова в электролите состава, г/л:

SnCl240

HCI0,5

NaF40

Синтанол1

Режим электролиза: температура электролита 18-25°С, катодна плотность тока 2 А/дм2, врем осаждени 15-20 мин. Врем осаждени олова подбирают экспериментально таким образом, чтобы толщина нарощенного сло составл ла не менее 1 мкм (так как ниже этого значени оплавление олова затруднено) и не более высоты одного медного сло , т.е. в данном случае

мкм (так как избыток расплава может привести к искажению линзово-растрового рельефа ). Заготовку сушат и погружают на 0.2 -0,3 мин в глицерин при 237-277°С. После оплавлени олов нного покрыти подложку с рельефом оставл ют в строго горизонтальном положении до полного затвердевани расплава.

Дл электролитического наращивани

0 матрицы используют ванну электрохимического никелировани , в которой анодом служит никелева пластина, электролит имеет следующий состав, г/л:

NiSCM7H20180-200

5NaaSCM 10H2060-75

НзВОз25-30

NaCI10-15

при рН 5-5,5.

Режим электролиза:температура 180 25°С,плотность тока 1-3 А/дм2. Электролиз провод т в течение 2-3 ч до получени сло никел толщиной 80-100 мкм. Полученную матрицу определ ют от подложки с рельефом с помощью острого ножа, промывают

5 водой и сушат.

Полученна матрица служит дл изготовлени периодических линзовых растров с диаметром линзовых элементов 70 мкм и шагом 75 мкм.

0

Claims

Формула изобретени Способ получени матрицы дл изготовлени линзовых растров, заключающийс в формировании на подложке линзовых эле5 ментов растра путем экспонировани на подложку с нанесенным светочувствительным слоем изображени , бинарна структура которого соответствует пространственному распределению линзовых

0 элементов, нанесении металлического сло на участки, соответствующие линзовым элементам подложки, смачивании рельефа расплавом легкоплавкого металла, его охлаждении до отверждени , электролити5 ческом нанесении на полученный рельеф сло металла и его отделении от поверхности рельефа, отличающийс тем, что, с целью расширени технологических возможностей способа и повышени качества

0 матриц, в качестве светочувствительного сло используют позитивный фоторезист, а в качестве экспонируемого изображени используют набор периодических бинарных структур различной скважности, нанесение

5 металлического сло осуществл ют циклически , при этом перед каждым экспонированием совмещают соосно элементы растра и бинарную структуру ступенчато уменьшенной скважности по отношению к предыдущей .