SU1326004A1 - Устройство дл контрол дефектов оптических поверхностей - Google Patents

Устройство дл контрол дефектов оптических поверхностей Download PDF

Info

Publication number
SU1326004A1
SU1326004A1 SU853935286A SU3935286A SU1326004A1 SU 1326004 A1 SU1326004 A1 SU 1326004A1 SU 853935286 A SU853935286 A SU 853935286A SU 3935286 A SU3935286 A SU 3935286A SU 1326004 A1 SU1326004 A1 SU 1326004A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
mirror
sensitivity
radiation
photodetector
light
Prior art date
Application number
SU853935286A
Other languages
English (en)
Inventor
В.А. Стерлигов
Ю.В. Суббота
Ю.М. Ширшов
Original Assignee
Институт Полупроводников Ан Усср
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Институт Полупроводников Ан Усср filed Critical Институт Полупроводников Ан Усср
Priority to SU853935286A priority Critical patent/SU1326004A1/ru
Application granted granted Critical
Publication of SU1326004A1 publication Critical patent/SU1326004A1/ru

Links

Landscapes

  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)

Abstract

Изобретение относитс  к метрологии поверхностей оптического качества и может примен тьс  в микроэлектронике дл  контрол  поверхностных загр зиений полупроводниковых пластин, а также в оптическом производстве дл  определени  класса обработки оптических поверхиостей. Изобретение позвол ет получить изображение контролируемой поверхности в свете, рассе нном поверхностными дефектами. Повышение чувствительности прибора и устранение анизотропии чувствительности относ1 гтельно ориентации дефектов на контролируемой поверхности реализуетс  путем вьтол- нени  системы сбора рассе нного спета из двух вогнутьк зеркальных поверхностей , расположенных соосно навстречу друг другу так, что держатель образца находитс  вблизи фокальной - плоскости зеркала с отверстием дл  ввода падающего и вывода отраженного света, а фотоприёмник - вблизи фокальной плоскости другого зеркала. Сканирующее устройства, расположенное в фокусе системы фокусировки, формирует через отверстие в зеркале световой растр на контролируемой поверхности , при попадании сканируемого пучка на дефект pacceHBaeMbrfl им свет зеркалом преобразуетс  в световой пучок, близкий к параллельному, а второе зеркало из него формирует изображение дефекта на поверхности фотоприемиика. I ил. g СО со ю С35 о о N{

Description

Изобретение относитс  к контролй поверхности оптического качества и может примен тьс  в микроэлектронике дл  контрол  поверхностных загр знений полупроводниковых пластин.
Цепью изобретени   вл етс  повышение чувствительности устройства и устранение анизотропии чувствительности относительно ориентации дефектов иа контролируемой поверхности.
На чертеже изображена схема устройства . Устройство содержит источник I излучени , коллиматор 2, двумерное сканирующее устройство 3, фиксирующий объектив Л, держатель 5 образца, вогнутое зеркало 6 с отверстием дл  ввода и вывода отраженного излучени , вогнутое зеркало 7, фотоприемник 8, плоское зеркало 9, дополнительное наклонное зеркало 10 и дополнительный фотоприемник II.
Устройство работает следующим образом .
Излучение от источника 1 расшир етс  до необходимого размера коллиматором 2 и двумерным сканирующим устройством 3 разворачиваетс  в растр вдоль взаимно перпендикул рных направлений , а затем фокусирующим объективом 4 фокусируетс  на иссле- дуем.ую поверхность, установленную в держателе 5. Свет, рассе нньш дефектом , наход щимс  на исследуемой поверхности , преобразуетс  зеркалом 6 в пучок, близкий.к параллельному, который затем зеркалом 7 фокусируетс  в изображение дефекта на поверхности фотоприемника 8. При контроле . .прозрачных деталей прошедшие пучки света вьгаод тс  из схемы после отражени  от плоского зеркала 9.
При наличии поверхностных дефек- тов с размерами, значительно превышающими длину волны источника света, рассе нный свет направлен в основном под Малыми углами к отраженному пучку и выходит из отверсти  в зеркале 6, что уменьшает . чувствительность системы регистрации. В зтом случае рассе нный свет собираетс  дополнительным наклонным зеркалом 10 на поверхность
15
20
плоскости зеркала, можно согласовать размеры исследуемой поверхности и фотокатода фотоприемиика. В устройст ве рост чувствительности происходит за счет того, что практически весь рассе нный дефектом свет (не учиты- ва  малые потери на отражение от поверхности зеркал 6 и 7) фокусируетс 
Q на поверхность фотоприемника путем преобразовани  расход щегос  пучка в параллельньй пучок, переноса на второе зеркало и фокусировки на фото приемник. Особенно повышаетс  чувствительность при регистрации частиц, размер которых гораздо меньше длины волны излучени , характеризуемых широкой индикатриссой рассе ни  малой амплитуды. В силу осевой Ьимметрии устройства его чувствительность не. зависит от анизотропии индикатриссы рассе ни , например, царапин либо ограненных частиц.
Из-за того, что система сбора рас
25 се нного света в устройстве дрлжна лишь передать рассе нную энергию на фотоприемник, а качество изображени  при зтом может быть низким, в схеме возможно применение сферических зер30 кал низкого качества без потери по- ложительного эффекта.

Claims (1)

  1. Формула изобретени 
    25 Устройство дл  контрол  дефектов оптических поверхностей, содержащее источник излучени , установленные последовательно, по ходу излучени  коллиматор, двумерное сканирующее
    (50 устройство, фокусирующий объектив, держатель образца, фотопрнемник, отличающеес  тем, что, с целью повьппени  чувствительности устройства и устранени  анизотропии
    45 чувствительности относительно ориентации дефектов на контролируемой поверхности, за фокусирующим объективом дополнительно установлены два вогнутых зеркала, расположенных со50 осио вогнутыми поверхност ми друг к другу, причем первое по ходу излучени  зеркало выполнено с отверстием дл  ввода и вывода излучени , двумерное сканирующее устройство располо-
    дополнительного фотоприемника 11, что 55 жено в передней фокальной плоскости коьшенсирует снижение чувствитель-фокусирующего объектива, а держатель
    ности системы регистрации.образца и фотоприемник - в фокальньпс
    Мен   положение исследуе юй по-плоскост х первого и второго вогнуверхности относительно фокальнойтых зеркал соответственно.
    плоскости зеркала, можно согласовать размеры исследуемой поверхности и фотокатода фотоприемиика. В устройстве рост чувствительности происходит за счет того, что практически весь рассе нный дефектом свет (не учиты- ва  малые потери на отражение от поверхности зеркал 6 и 7) фокусируетс 
    на поверхность фотоприемника путем преобразовани  расход щегос  пучка в параллельньй пучок, переноса на второе зеркало и фокусировки на фотоприемник . Особенно повышаетс  чувствительность при регистрации частиц, размер которых гораздо меньше длины волны излучени , характеризуемых широкой индикатриссой рассе ни  малой амплитуды. В силу осевой Ьимметрии устройства его чувствительность не. зависит от анизотропии индикатриссы рассе ни , например, царапин либо ограненных частиц.
    Из-за того, что система сбора рассе нного света в устройстве дрлжна лишь передать рассе нную энергию на фотоприемник, а качество изображени  при зтом может быть низким, в схеме возможно применение сферических зеркал низкого качества без потери по- ложительного эффекта.
    Формула изобретени 
    Устройство дл  контрол  дефектов оптических поверхностей, содержащее источник излучени , установленные последовательно, по ходу излучени  коллиматор, двумерное сканирующее
    устройство, фокусирующий объектив, держатель образца, фотопрнемник, отличающеес  тем, что, с целью повьппени  чувствительности устройства и устранени  анизотропии
    чувствительности относительно ориентации дефектов на контролируемой поверхности, за фокусирующим объективом дополнительно установлены два вогнутых зеркала, расположенных соосио вогнутыми поверхност ми друг к другу, причем первое по ходу излучени  зеркало выполнено с отверстием дл  ввода и вывода излучени , двумерное сканирующее устройство располо-
    7
    Редактор Т.Иванова Заказ 2489
    Составитель Н.Шандин Техред Л.Олийнык
    Корректор
    Тираж 512 Подписное
    ВНИИПИ Государственного комитета СССР
    по делам изобретений и открытий 113035, Москва, Ж-35, Раушска  наб, д 4/5
    Производственно-полиграфическое предпри тие, ГвУжгород, ул.Проектна , 4
    Корректор В.Гирн к
SU853935286A 1985-07-30 1985-07-30 Устройство дл контрол дефектов оптических поверхностей SU1326004A1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU853935286A SU1326004A1 (ru) 1985-07-30 1985-07-30 Устройство дл контрол дефектов оптических поверхностей

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU853935286A SU1326004A1 (ru) 1985-07-30 1985-07-30 Устройство дл контрол дефектов оптических поверхностей

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU1326004A1 true SU1326004A1 (ru) 1990-07-23

Family

ID=21191175

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU853935286A SU1326004A1 (ru) 1985-07-30 1985-07-30 Устройство дл контрол дефектов оптических поверхностей

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU1326004A1 (ru)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2473887C2 (ru) * 2006-10-05 2013-01-27 Конинклейке Филипс Электроникс Н.В. Устройство и способ для наблюдения поверхности образца
RU2746932C2 (ru) * 2017-06-20 2021-04-22 ДИДЖИТАЛ КЕА Сп. з о.о. Устройство для оптического обнаружения дефектов зеркальной поверхности плоских объектов, в частности дисплеев мобильных телефонов и/или смартфонов

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Авторское свидетельство СССР № 864968, кл.С 01 N 21/88, 1984. M.Williams. Optical scanning of silicon Wafers for surface contaminants. Electro-optical System Design,1980, V.12, №9, p.45-49. *

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2473887C2 (ru) * 2006-10-05 2013-01-27 Конинклейке Филипс Электроникс Н.В. Устройство и способ для наблюдения поверхности образца
RU2746932C2 (ru) * 2017-06-20 2021-04-22 ДИДЖИТАЛ КЕА Сп. з о.о. Устройство для оптического обнаружения дефектов зеркальной поверхности плоских объектов, в частности дисплеев мобильных телефонов и/или смартфонов

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10488348B2 (en) Wafer inspection
US5805278A (en) Particle detection method and apparatus
JP4797005B2 (ja) 表面検査方法及び表面検査装置
EP0690982B1 (en) Particle detection system with reflective line-to-spot collector
JPH0435026B2 (ru)
US6879391B1 (en) Particle detection method and apparatus
SU1326004A1 (ru) Устройство дл контрол дефектов оптических поверхностей
US5606418A (en) Quasi bright field particle sensor
CN111458293A (zh) 物体表面检测装置及硅片检测装置
US7046354B2 (en) Surface foreign matter inspecting device
RU2064670C1 (ru) Устройство для измерения интенсивности рассеянного света
JP3040131B2 (ja) 球体表面の傷検査装置
JPH079406B2 (ja) 半導体ウエハの表面検査装置
JPH10221270A (ja) 異物検査装置
SU135232A1 (ru) Фотоэлектрический способ дл обнаружени дефектов оптических поверхностей
JPS63208747A (ja) 光学検査装置
JPS6321854B2 (ru)
US20210349037A1 (en) Dark-field optical inspecting device
JPS62105038A (ja) ガラス基板表面検査装置受光系
JPH044526B2 (ru)
JPS57190246A (en) Detector for lens defect
JPH049622A (ja) ストリークカメラ
JPH0560084B2 (ru)
JPS59138916A (ja) 距離測定装置
JPS62177725A (ja) 焦点位置検出光学系