SE511566C2 - Öppen kontaktreaktor - Google Patents

Description

511 see 2 10 l5 20 30 35 det närmast väggen belägna munstyckets avstånd från väggen.

Uppfinningen ska nu beskrivas närmare under hänvis- ning till bifogade ritning.

Fig l är en schematisk vertikalsektionsvy och visar ett parti av en öppen kontaktreaktor enligt uppfinningen.

Fig 2 är en schematisk tvärsektionsvy längs linjen II-II i fig l.

Den på ritningen visade, öppna kontaktreaktorn har formen av en stående, hållare 1, Ett flertal sprutmunstycken 2 för utsprutning av väsentligen cirkulärcylindrisk be- av vilken endast ett parti visas i fig l. vätska i finfördelad form är anordnade i behållaren 1.

Sprutmunstyckena 2 är anordnade på flera i höjdled åt- skilda nivåer Ll, L2, nivå är jämnt fördelade över behållarens l tvärsektion L3, varvid munstyckena på varje utom i det närmast behållarens l omkrets belägna partiet, där sprutmunstycken och/eller delar av sprutmunstycken som skulle innebära en jämn fördelning över hela tvär- sektionen saknas. Varje munstycke 2 har en runtomgående, konisk sprutverkan, varmed här avses att det sprutar ut vätska väsentligen jämnt fördelat över en tänkt kon eller tänkt stympad kon.

I det visade exemplet är munstyckenas 2 sprutverkan riktad nedåt. Det torde dock inses, att deras sprutverkan också kan vara riktad uppåt eller riktad såväl uppåt som nedåt.

I det visade exemplet användes reaktorn för rening av processgaser, som innehåller gasformiga föroreningar.

Processgaserna ledes väsentligen vertikalt genom behålla- ren l i pilarnas P riktning för att bringas i kontakt med den finfördelade vätskan. Processgaserna kan vid andra tillämpningar ledas genom behållaren l i den pilarnas P riktning motsatta riktningen. Vätskan utgöres i detta exempel av vatten och en däri löst eller uppslammad ab- sorbent, som reagerar med de gasformiga föroreningarna i pIOCeSSgâSEIna . 10 15 20 25 30 511 566 Mellan varje par av varandra närbelägna nivåer L1, L2, L3 är anordnat ett runtomgàende gasstyrorgan 3, som sträcker sig utmed behållarens 1 omkrets. Gasstyrorganen 3 är anordnade att styra det närmast behållarens 1 vägg befintliga gasflödet i riktning in mot behållarens cent- rumaxel väsentligen vinkelrätt mot denna och därmed vä- sentligen vinkelrätt mot huvudgasflödesriktningen P.

Varje gasstyrorgan 3 har formen av en enkel, runtom- gående, horisontell fläns, men kan för att styra in gas- flödet mot behållarens 1 centrumaxel ha annan för ända- målet lämplig form. Gasstyrorganet 3 kan exempelvis ha bågformig tvärsektion, men det kan också ha mer komplice- rad form och exempelvis bestå av en serie utmed behålla- rens 1 omkrets intill varandra anordnade, skopformiga gasstyrelement. 3 fungerar till viss del Gasstyrorganet även som vätskestyrorgan i det att det mot behållarens 1 centrumaxel instyrda gasflödet för med sig vätska som an- samlas på behållarens 1 vägg.

Gasstyrorganet 3 sträcker sig vid den visade ut- föringsformen in i behållaren 1 till ett avstånd från dennas vägg som motsvarar ca 50% av det närmast väggen belägna munstyckets 2 avstånd från väggen. Såsom visas på ritningen innebär detta i det visade exemplet att den runtomgående, horisontella flänsen har utmed omkretsen varierande horisontell bredd. Nämnda avstånd för gasstyr- organet 3 kan dock variera mellan 10% och 90% av nämnda munstyckesavstånd.

Arrangemanget med gasstyrorganen 3 har visat sig öka reaktorns verkningsgrad på ett gynnsamt sätt.

Claims (2)

1. Pans 9700393-3 511 566 4 10 15 20 25 PATENTKRAV l. Öppen kontaktreaktor, vilken har formen av en behållare (l), i vilken ett flertal sprutmunstycken (2) för utsprutning av vätska i finfördelad form är anordnade och genom vilken en gas ska ledas i en huvudgasflödes- riktning (P) for att bringas i kontakt med den finför~ delade vätskan, varvid sprutmunstyckena (2) är anordnade på olika, i huvudgasflödesriktningen åtskilda munstycks- nivåer (Ll, L2, L3) och varvid munstyckena (2) på varje nivå är väsentligen jämnt fördelade över behållarens tvärsektion, k ä n n e t e c k n a d därav, att ett gasstyrorgan (3), som sträcker sig utmed behållarens (l) omkrets och är anordnat att styra det närmast behållarens vägg befintliga gasflödet i riktning in mot behållarens inre väsentligen vinkelrätt mot huvudgasflödesriktningen (P), varandra närbelägna munstycksnivàer är anordnat mellan nivåerna i åtminstone ett par av (Ll-L2, L2-L3), var- sträcker sig in i behållaren (1) till ett avstånd från dennas vägg, vilket är 10-90% av det vid styrorganet (3) närmast väggen belägna munstyckets (2) avstånd från väggen.

2. Reaktor enligt patentkravet l, k ä n n e - t e c k n a d därav, är anord- att ett gasstyrorgan (3) nat mellan nivåerna i varje par av varandra närbelägna munstycksnivåer (Ll-L2, L2-L3).