SE443880B - SET TO ENCOURAGE SAMPLES ON CRACKED WORK SURFACES USED TO MAKE PREGNANT SAMPLES OF DEFORMABLE MATERIALS PRODUCTS - Google Patents

Description

IUU/JUI d. 10 15 20 25 30 35 2 för sig till vad som kan benämnas tvådimensionell använd- _ ning, varvid djup hos etsningen enbart är nödvändigt med hänsyn till mönsterteckcingens omfattning för trycknings- ändamål. Formetsning å andra sidan, som utgör föremål för föreliggande uppfinning, hänför sig till tredimen- sionell användning, dvs en verklig yttextur hos ett före- mål, som framställts medelst den etsade formen. Förfa- ringssteg för att åstadkomma en ytetsning är i många fall o- tillfredsställande för att skapa en djupare etsning för yttextur. IUU / JUI d. 10 15 20 25 30 35 2 2 to what can be termed two-dimensional use, whereby the depth of the etching is only necessary with regard to the extent of the pattern drawing for printing purposes. Form etching, on the other hand, which is the subject of the present invention, refers to three-dimensional use, i.e. an actual surface texture of an object, which is produced by means of the etched mold. Procedure steps for achieving a surface etching are in many cases unsatisfactory for creating a deeper etching for surface texture.

SAMMANFATTNING AV UPPFINNINGEN Det är ett ändamål med uppfinningen att åstadkomma ett förenklat sätt för att framställa präglade mönster på arbetsytor, såsom formar, valsar och stansar. För en-' kelhets skull komer uttrycket 'form” allmänt att använ- das i det följande. Detta nya förfarande kräver färre steg och färre material än sättet enligt känd teknik och reducerar därigenom både den tid och den kostnad som krävs för att prägla ytorna hos formhåligheter. Sättet enligt föreliggande uppfinning är inte bara enklare och snabbare, utan det medger också framställning av finare mönster på ett mera positivt sätt än de kända sätten.SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the invention to provide a simplified method for producing embossed patterns on work surfaces, such as molds, rollers and punches. For the sake of simplicity, the term 'form' will be used generally in the following. This new method requires fewer steps and fewer materials than the prior art method, thereby reducing both the time and cost required to emboss the surfaces of mold cavities. The method of the present invention is not only simpler and faster, but it also allows the production of finer patterns in a more positive way than the known methods.

Ett modernegativ av det mönster som skall reprodu- ceras iordningställes och detta mönster exponeras för ett överföringsmaterial för fotomekanisk bildalstring. vid framkallning är de härdade bildområdena syrabestän- diga och överföres sedan med hjälp av bärarket, på vil- ket bilden alstrats, till formytorna. Bärarket gnides eller gnuggas med ett trubbigt ritverktyg för att över- föra bildområdena till formytan, som vanligen har prepa- rerats på lämpligt sätt före appliceringen av de syra- beständiga bildelementen. Fonmytan etsas sedan, bild- elementen avlägsnas och formen är därefter färdig för att utnyttjas för framställning av plastföremål. Uttrycket 'plast' skall här tolkas vidsträckt och inbegriper varje deformerbart material innefattande gumi, metaller, som ges yttextur med hjälp av stansar, och metaller, tyg eller papper, som textureras eller präglas med hjälp av valsar. »~ a, .»*.~..~-_rf«s¿.m;-=M.Å« , - amwsa-'_~.s~_.-.sâfl~.všffx.u \= _<..:: ~^ « 19' 10 15 2C 25 30 35 _med hjälp av föreliggande uppfinning. Pig 2 visar orgi- RITNINGSBESKRIVNING Ändamålen, fördelarna och de utmärkande dragen hos uppfinningen kommer att framgå klart av den efterföljande, detaljerade beskrivningen med hänvisning till de bifogade ritningarna. På ritningarna visar fig l en perspektivvy av en formhålighet, på vars ytor ett mönster är bildat nalkopian av det mönster som skall präglas på formytorna.A modern negative of the pattern to be reproduced is prepared and this pattern is exposed to a transfer material for photomechanical imaging. upon development, the cured image areas are acid-resistant and are then transferred by means of the carrier sheet, on which the image has been generated, to the mold surfaces. The carrier sheet is rubbed or rubbed with a blunt drawing tool to transfer the image areas to the mold surface, which have usually been prepared appropriately before the application of the acid-resistant pixels. The fountain surface is then etched, the picture elements are removed and the mold is then ready to be used for the production of plastic objects. The term 'plastic' is here to be interpreted broadly and includes any deformable material including rubber, metals, which are surface textured by means of punches, and metals, cloth or paper, which are textured or embossed by means of rollers. »~ A,.» *. ~ .. ~ -_rf «s¿.m; - = M.Å«, - amwsa -'_ ~ .s ~ _.-. Sâ fl ~. Všffx.u \ = _ < By means of the present invention. FIG. 2 DESCRIPTION OF THE DRAWINGS DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The objects, advantages and features of the invention will become apparent from the following detailed description when taken in conjunction with the accompanying drawings. In the drawings, Fig. 1 shows a perspective view of a mold cavity, on the surfaces of which a pattern is formed, the copy of the pattern to be embossed on the mold surfaces.

Pig 3 visar negativet, som framställts från orginalkopian enligt fig 2. Pig 4 är en delvy med vissa delar åtskilda och visar det vid uppfinningen använda överföringsmate- rialet. Pig 5 är en perspektivvy av arrangemanget för exponering av överföringsmaterialet. för mönstret. Pig 6_ visar hur den klara skyddsfilmen avlägsnas från den expo- nerade emulsionen. Pig 7 är en perspektivvy av framkall- ningssteget. Pig 8 är en förstorad perspektivisk delvy av polyesterbärarket med därpå anordnade syrabeständiga mönsterelement. Pig 9 är en sektionerad delvy av en del av en form och visar den noggrant ruggade ytan hos for- men. Pig 10 är en sektionerad delvy av en formyta i för- storad skala och visar bärarket och mönsterelementen mot _____i_¿ggwø¿¿¿fiæå¿,_gwå,ë_šxríb ¿(I:l¿_x.\ ._ .-. V _ g! -_,¿.,N: ¿ Å_ Nea., formytan samt gnuggningssteget för att överföra mönster- elementen från bärarket till formytan. Pig ll visar hur bärarket avlägsnas från de överförda mönsterelementen.Fig. 3 shows the negative, which is produced from the original copy according to Fig. 2. Fig. 4 is a partial view with certain parts separated and shows the transfer material used in the invention. Fig. 5 is a perspective view of the arrangement for exposing the transfer material. for the pattern. Pig 6_ shows how the clear protective film is removed from the exposed emulsion. Pig 7 is a perspective view of the development step. Pig 8 is an enlarged perspective partial view of the polyester carrier sheet with acid-resistant pattern elements arranged thereon. Pig 9 is a sectional partial view of a part of a mold and shows the carefully roughened surface of the mold. Pig 10 is a sectional view of a mold surface on an enlarged scale and shows the carrier sheet and the pattern elements towards _____ i_¿ggwø¿¿¿ fi æå¿, _gwå, ë_šxríb ¿(I: l¿_x. \ ._... V _ g! -_, ¿., N: ¿Å_ Nea., The mold surface and the rubbing step for transferring the pattern elements from the carrier sheet to the mold surface, Fig. 11 shows how the carrier sheet is removed from the transferred pattern elements.

Pig 12 är en förstorad delvy i sektion och visar form- ytan vid slutet av etsningsteget. Pig 13 visar formytan enligt fig 12 efter avlägsnande av de syrabeständiga f-fläø; v» .kvm mönsterelementen.Pig 12 is an enlarged partial view in section and shows the mold surface at the end of the etching step. Fig. 13 shows the mold surface according to Fig. 12 after removal of the acid-resistant f-ø äø; v ».kvm pattern elements.

DETALJERAD BESKRIVNING ¿ Pâ ritningarna och mera speciellt i fig l visas en É formhålighet 21, som har innerväggsytor 22 med dekorativa mönster 23 inpräglade däri. I föreliggande sammanhang § visar figuren ett relativt enkelt mönster med bokstaven R "E" flankerad av dekorativa områden. Naturligtvis kan man använda mycket komplicerade yttexturer eller mönster.DETAILED DESCRIPTION ¿In the drawings and more particularly in Fig. 1, a mold cavity 21 is shown, which has inner wall surfaces 22 with decorative patterns 23 embossed therein. In the present context §, the figure shows a relatively simple pattern with the letter R "E" flanked by decorative areas. Of course, you can use very complicated surface textures or patterns.

Det inses av fackmannen på området att varje mönster som kan reproduceras fotografiskt eller på annat sätt kan överföras till ett reliefmönster på innerytan av form- 10 15 20 25 30 35 :1=f1_-;l+í(&.í,« I åáfi: 4 håligheten så att föremål, som formas i håligheten, får mönstret inpräglat som en integrerande del av sin ytter- yta. *äwšïfislfiai :sin 42% Originalkopian 24 (fig 2), från vilken moderfilm- negativet 25 (fig 3) skall framställas, är vanligen en svartvit bild. Xopian kan ha vilken som helst önskad storlek och är ofta större än det verkliga präglade mönstret så att det kan förminskas fotografiskt och fort- farande bibehålla den önskade fina linjekvaliteten. Moder- filmnegativet framställs från originalet medelst konven- tionella fotografiska förfaranden. Filmen visas på rit- ningsfigurerna såsom ett negativ, men en positiv genom- siktsbild kan användas om så önskas. överföringsmateri- al 26 för fotomekanisk bildalstring, som visas i fig 4, exponeras därefter, såsom visas i fig 5. Ett opakt maske- wí» à .U in] . ringspapper 28 åstadkommer stöd för överföringsmaterialet 26, som inbegriper ett klart skyddsark 27, ett emulsions- skikt 31 och ett polyesterbärark 32, varvid det klara skyddsarket anordnas mitt emot maskeringspapperet. Ovanpå överföringsmaterialet 26 är modernegativet 25 anordnat och ovanpå detta en glasskiva 33. En konventionell ljus- källa 34 alstrar strålningen för exponering av emulsionen i överföringsmaterialet med mönstret hos negativet 25.It will be appreciated by those skilled in the art that any pattern that can be reproduced photographically or otherwise can be transferred to a relief pattern on the inner surface of the mold 10: 1 = f1 _-; l + í (&. Í, «I åáfi : 4 the cavity so that objects formed in the cavity have the pattern embossed as an integral part of its outer surface. * Äwšï fi sl fi ai: its 42% Original copy 24 (fig. 2), from which the parent film negative 25 (fig. 3) is to be produced , is usually a black and white image. Xopian can be of any desired size and is often larger than the actual embossed pattern so that it can be photographically reduced and still maintain the desired fine line quality.The parent film negative is produced from the original by conventional means. The film is shown on the drawing figures as a negative, but a positive transparent image can be used if desired.Transfer material 26 for photomechanical imaging, shown in Fig. 4, is then exposed, as shown in Fig. 5. Ett opakt maske- wí »à .U in]. liner paper 28 provides support for the transfer material 26, which includes a clear protective sheet 27, an emulsion layer 31 and a polyester carrier sheet 32, the clear protective sheet being arranged opposite the masking paper. On top of the transfer material 26 the modern negative 25 is arranged and on top of this a glass plate 33. A conventional light source 34 generates the radiation for exposing the emulsion in the transfer material with the pattern of the negative 25.

Exempel på ljuskällor kmmer att ges i det följande. När exponeringen är avslutad avdrages det klara skyddsarket 27 från den exponerade emulsionen, såsom visas i fig.6, var- vid den exponerade emulsionen 31 kvarlämnas på polyester- bärarket 32. Flytande framkallare 35 hälles sedan på det 'exponerade överföringsmaterialet och ett lämpligt verktyg, såsom en dyna eller borste 36, används för att utbreda framkallaren jämnt över den exponerade ytan för att under- lätta framkallning av emulsionen, såsom antyds i fig 7.Examples of light sources will be given in the following. When the exposure is complete, the clear protective sheet 27 is peeled from the exposed emulsion, as shown in Fig. 6, leaving the exposed emulsion 31 on the polyester carrier sheet 32. Liquid developer 35 is then poured onto the exposed transfer material and a suitable tool. such as a pad or brush 36, is used to spread the developer evenly over the exposed surface to facilitate development of the emulsion, as indicated in Fig. 7.

När bilden är helt synlig sköljs överföringsmaterialet med vatten och torkas. I detta läge (se fig 8) inbegriper överföringsmaterialet 26 polyesterbärarket 32 och det syra- beständiga, överföringsbara materialet 37 i diskreta om- råden i form av den önskade mönstret. Det så bildade mate- rialet 37 har lämplig grad av klibbighet för att möjlig- 10 15 20 25 30 35 IwVdVVI .k S göra vidhäftning till formytan utan att materialet är så mjukt att det flyter ut när det utsätts för tryck vid applicering på formen.When the image is completely visible, rinse the transfer material with water and dry. In this position (see Fig. 8), the transfer material 26 includes the polyester carrier sheet 32 and the acid-resistant, transferable material 37 in discrete areas in the form of the desired pattern. The material 37 thus formed has a suitable degree of stickiness to enable adhesion to the mold surface without the material being so soft that it flows out when subjected to pressure when applied to the mold.

En sektionerad delvy av en del av en formhålighet visas i fig 9. Hela innerytan 22 hos formen 21 är 'tan- dad” eller noggrant ruggad, vilket kan åstadkomas genom att utsätta ytan för ett syrabad för etsning av ytan och konditionering därav för mottagning av det syrabeständiga överföringsmaterialet. Andra lämpliga medel för att rugga ytan kan användas, inbegripet både mekaniska och kemiska medel. Man har emellertid funnit att detta för- farande fungerar bra på ruggade eller polerade ytor och alla mellanliggande yttexturer. Bärarket och överförings- materialelementen appliceras på formens yta, såsom visas i fig 10, så att överföringsmaterialet 37 kommer i intim kontakt med ytan 22. Överföringsmaterialet överföres från bärarket till formytan genom gnuggning, såsom visas. ' Ritverktyget 41 har en slät, trubbig ände 42, som tillå- ter användaren att utöva ett relativt kraftigt tryck mot ett relativt litet område för att därigenom överföra det syrabeständiga materialet, vilket är hårt vid beröring, men överföres från bärarket och häftar till formytan vid gnuggning. Ritverktyg med andra utformningarna kan an- vändas, men de utgöres i allmänhet av ett instrumt med trubbig ände. Allt eftersom gnuggningssteget fortskrider antar bilden ett grått utseende genom arket 32, vilket indikerar att överföringsmaterialelementen separerar från arket och överföres till formytan. När överföring av mönsterelementen har åstadkomits avlägsnas bärarket en- kelt, eftersom det inte häftar till någonting efter över- föringen, såsom visas i fig ll, och det syrabeständiga överföringsmaterialet 37 kvarlämnas i det önskade mönst- ret på ytan 22 hos formen. Man har funnit att när till- räckligt tryck har utövats för att det syrabeständiga materialet 37 skall häfta till formytan, har materialet separerat från bärarket. Det syrabeständiga materialet häftar till den ena eller andra ytan.A sectional partial view of a portion of a mold cavity is shown in Fig. 9. The entire inner surface 22 of the mold 21 is "toothed" or carefully roughened, which can be accomplished by subjecting the surface to an acid bath for etching the surface and conditioning thereof to receive the acid-resistant transfer material. Other suitable means for roughening the surface may be used, including both mechanical and chemical means. However, it has been found that this method works well on rough or polished surfaces and all intermediate surface textures. The carrier sheet and transfer material elements are applied to the surface of the mold, as shown in Fig. 10, so that the transfer material 37 comes into intimate contact with the surface 22. The transfer material is transferred from the carrier sheet to the mold surface by rubbing, as shown. The drawing tool 41 has a smooth, blunt end 42, which allows the user to apply a relatively strong pressure to a relatively small area to thereby transfer the acid-resistant material, which is hard to the touch, but is transferred from the carrier sheet and adheres to the mold surface at rubbing. Drawing tools with other designs can be used, but they generally consist of an instrument with a blunt end. As the rubbing step proceeds, the image assumes a gray appearance through the sheet 32, indicating that the transfer material elements separate from the sheet and are transferred to the mold surface. Once transfer of the pattern elements has been accomplished, the carrier sheet is easily removed because it does not adhere to anything after the transfer, as shown in Fig. 11, and the acid-resistant transfer material 37 is left in the desired pattern on the surface 22 of the mold. It has been found that when sufficient pressure has been applied for the acid-resistant material 37 to adhere to the mold surface, the material has separated from the carrier sheet. The acid-resistant material adheres to one or the other surface.

En etslösning 43, som normalt är syrabaserad och har 'Wu-a 2 .An etching solution 43, which is normally acid-based and has' Wu-a 2.

Ef åínïiiz' A ä: 'VVJJJI g, 10 15 20 25 30 35 6 lämpliga egenskaper för formens material, appliceras på formytan under tillräcklig tid för att bortetsa formen i områden, som inte skyddas av det syrabeständiga över- föringsmaterialet 37, varvid upphöjda områden 44 kvar- lämnas, såsom visas i fig 12. När detta har åstadkomits * kan det syrabeständiga materialet avlägsnas mekaniskt med ett slipmedel eller med ett slipmedel i kombination É med en lösning, såsom alkohol, för att försvaga bind- ningen till formytan, varvid formen med det därpå präg- . lade mönstret i form av upphöjda områden 44 erhålles, såsom visas i fig 13. Ett typiskt exempel på en färdig form visas i fig l. É Det inses att föreliggande uppfinning eliminerar É flera mellansteg enligt den kända tekniken, speciellt E etsning av zinköverföringsplåtar, avdragning av vaxltis- sue-papper därifrån, och applicering av ett släppmedel för att separera tissue-papperet från vaxmönstret, som f ., :i , .- Ée-fz; applicerats på formytan. Uppfinningen går direkt från Ä fotografisk exponering av överföringsmaterialet till applicering av mönstret på ytan av formen. Detta innebär inte endast en betydande reducering av behandlingstiden, utan också, vilket är viktigare, att kvaliteten kan för- bättras genom att vissa av stegen enligt den tidigare tekniken elimineras, vilka steg vart och ett kan leda till en förlust av upplösning hos mönstret. Genom att gå direkt från det fotografiska steget till applicering av É mönstret på formytan kan vidare exceptionellt fina detal-' . É jer införlivas i mönstret, som troget reproduceras på föremålet, som framställs och yttextureras i formhålig- heten.If suitable properties of the mold material are applied to the mold surface for a sufficient time to etch the mold in areas not protected by the acid-resistant transfer material 37, raising areas 44 is left, as shown in Fig. 12. Once this has been accomplished *, the acid-resistant material can be removed mechanically with an abrasive or with an abrasive in combination É with a solution, such as alcohol, to weaken the bond to the mold surface, the mold with the then imprint-. The pattern in the form of raised areas 44 is obtained, as shown in Fig. 13. A typical example of a finished mold is shown in Fig. 1. It will be appreciated that the present invention eliminates several intermediate steps according to the prior art, in particular etching of zinc transfer plates, peeling of wax sue paper therefrom, and applying a release agent to separate the tissue paper from the wax pattern, as f.,: i, .- Ée-fz; applied to the mold surface. The invention goes directly from photographic exposure of the transfer material to application of the pattern to the surface of the mold. This not only means a significant reduction in the treatment time, but also, which is more important, that the quality can be improved by eliminating some of the steps according to the prior art, which steps can each lead to a loss of resolution of the pattern. By going directly from the photographic step to the application of the É pattern on the mold surface, exceptionally fine detail- '. They are incorporated into the pattern, which is faithfully reproduced on the object, which is produced and surface textured in the mold cavity.

En annan faktor, som bidrar till att man kan återge de fina detaljerna hos orginalet i den färdiga formen, är exponeringsparametrarna. Så t ex kan överexponering, antingen med avseende på tid eller ljusintensitet, resul- tera i att överföringsmaterialet blir alltför hårt för att fästa riktigt på formytan, dvs det saknar de nödvän- diga klibbegenskaperna. A andra sidan kan alltför ringa exponering, även om den är tillräcklig för att alstra »I f :Ir ' -ml _ 10 15 20 25 30 35 /ÖU3DO|'¿ 7 mönsterskärpa på överföringsmaterialet, resultera i ett mjukt, syrabeständigt mönstermaterial 37, som inte separerar lätt från bärarket vid gnuggning och som sam- tidigt flyter ut på grund av trycket vid gnuggningen.Another factor that helps to reproduce the fine details of the original in the finished form is the exposure parameters. For example, overexposure, either in terms of time or light intensity, can result in the transfer material becoming too hard to adhere properly to the mold surface, ie it lacks the necessary sticking properties. On the other hand, too little exposure, even if it is sufficient to produce "pattern sharpness" on the transfer material, can result in a soft, acid-resistant pattern material 37. which does not separate easily from the carrier sheet during rubbing and which at the same time flows out due to the pressure during rubbing.

Detta kan effektivt förstöra tydligheten hos fina möns- ter. Vidare kan underexponering förhindra riktig fram- _kallning av mönstermaterialet så att dess syrabeständiga egenskaper är otillräckliga, dvs även om mönstret kan överföras till formytan fungerar det inte riktigt vid avmaskning av de önskade ytområdena mot syraetsning.This can effectively destroy the clarity of fine patterns. Furthermore, underexposure can prevent proper development of the pattern material so that its acid-resistant properties are insufficient, ie even if the pattern can be transferred to the mold surface, it does not work properly when masking the desired surface areas against acid etching.

Om sålunda den korrekta graden av klibb inte uppnås kan etsskyddsskiktet svika under etsningssteget, vilket resulterar i en skadad form. Optimalt klibb för en stor majoritet tillämpningar med användning av en 27,94 x x 35,56 mm film kan uppnås medelst en ljuskälla, som be- står av fyra stycken 60 W, 120 V UV-lysrör, som är an- ordnade på 3,81 m avstånd från överföringsmaterialet under cirka 45 s. Exponeringstidenlunnvariera mellan 30 och 90 s i praktiken. En typisk, lämplig, kommersiellt tillgäng exponeringenhet är 3M Model EU-8000, som kan användas för att uppnå de ovan angivna önskade expone- ringsegenskaperna. Det är att märka att de ovan angivna exponeringsparametrarna endast utgör exempel och många kombinationer av ljuskällor, avstånd och exponerings- tider kan ge användbara resultat.Thus, if the correct degree of tack is not achieved, the etch protection layer may fail during the etching step, resulting in a damaged mold. Optimal tack for a large majority of applications using a 27.94 x x 35.56 mm film can be achieved by means of a light source, which consists of four 60 W, 120 V UV fluorescent lamps, which are arranged on 3, 81 m distance from the transfer material for about 45 s. Exposure time will vary between 30 and 90 in practice. A typical, suitable, commercially available exposure unit is the 3M Model EU-8000, which can be used to achieve the above-mentioned desired exposure properties. It should be noted that the above exposure parameters are only examples and many combinations of light sources, distances and exposure times can give useful results.

Ett exempel på det material som är lämpligt för an- vändning som överföringsmaterial, är en produkt, som säl- jes under benämningen I.N.T av 3M Company. Lämplig fram- kallningslösning för materialet är 3M Brand Image'N Transfer Developer. Provningar har visat att överförings- materialet 37 är cirka 0,0l27 m tjockt och kan motstå olika etsningssammansättningar, som är kända för särskilda formytmaterial och som etsar till ett djup sm är lämpligt för de särskilda mönsterkraven och typen av metall som etsas. Det inses av fackmannen på området att etsdjupet, som krävs för präglade eller ingjutna texturerade mönster är betydligt större än de djup som krävs för etsning av litografiska tryckytor, varför de överväganden som måste .š :r v* .An example of the material suitable for use as a transfer material is a product sold under the name I.N.T by 3M Company. A suitable development solution for the material is 3M Brand Image'N Transfer Developer. Tests have shown that the transfer material 37 is about 0.0127 m thick and can withstand various etching compositions known for particular molding materials and which etch to a depth which is suitable for the particular design requirements and type of metal being etched. It will be appreciated by those skilled in the art that the depth of etching required for embossed or cast textured patterns is significantly greater than the depths required for the etching of lithographic printing surfaces, hence the considerations required.

-Yf *ff-M \ ßwx-rß. 'tf-za '_ i' Y -rè-ff-*sfläflæ-fæaalsiæeim »L f: w ^ 1 ..»V - 7809551-2 10 15 8 göras är väsentligt annorlunda när man skall framstålla en form för texturerade mönster. Det typiska etsdjupet varierar mellan 0,00762mun till 0,038l m beroende på' typen av mönster, produkttillämpning och estetiska be- dömningar, bland annat. Kraftigare och grövre mönster kan emellertid etsas till ett djup av minst 0,127 m.-Yf * ff-M \ ßwx-rß. 'tf-za' _ i 'Y -rè-ff- * s fl ä fl æ-fæaalsiæeim »L f: w ^ 1 ..» V - 7809551-2 10 15 8 is made is significantly different when one is to produce a form of textured patterns. The typical etching depth varies between 0.00762m to 0.038l m depending on the type of pattern, product application and aesthetic assessments, among others. However, stronger and coarser patterns can be etched to a depth of at least 0.127 m.

Det skall ännu en gång påpekas att etsning vid grafiska förfaranden endast har att beakta två dimensioner i mot- sats till tre dimensioner vid föreliggande uppfinning.It should be pointed out once again that etching in graphic methods has only two dimensions to consider in contrast to three dimensions in the present invention.

Sättet enligt uppfinningen kan användas på alla vanliga formmaterial, såsom förhärdat stål (t ex P20), härdat verktygsstål Isåsom S-7), aluinium (t ex 6061) och berylliumkoppar, bland annat.The method according to the invention can be used on all common molding materials, such as hardened steel (eg P20), hardened tool steel such as S-7), aluminum (eg 6061) and beryllium copper, among others.

Det inses att de ovan angivna materialen och speci- fikationerna endast utgör exempel och inte är avsedda att begränsa uppfinningen. Med utgångspunkt från ovan- stående beskrivning kan modifieringar och förbättringar göras av fackmannen på området inom ramen för uppfinningen.It will be appreciated that the above materials and specifications are exemplary only and are not intended to limit the invention. Based on the above description, modifications and improvements may be made by those skilled in the art within the scope of the invention.

Claims (13)

10 15 20 25 30 7809531-2 9 PATENTKRAV10 15 20 25 30 7809531-2 9 PATENT REQUIREMENTS 1. Sätt att ingravera mönster på komplicerade krök- ta arbetsytor, såsom formar eller stansar, vilka arbets- ytor används för att framställa präglade mönster på de motsvarande komplicerade krökta ytorna hos produkter, som är formade av deformerbara material, k ä n n e - t e c k n a t därav, att en modergenomsiktsbild fram- ställs av det önskade mönstret; att överföringsmaterial exponeras för mönstret på modergenomsiktsbilden, vilket överföringsmaterial inbegriper en pà ett bärark anord- nad emulsion, vars exponerade del är syrabeständig efter exponering; att emulsionens oexponerade områden avlägs- nas för att skapa diskreta, syrabeständiga bíldelement pà bärarket; att bildelementen överföres från bärarket till arbetsytorna; att arbetsytorna etsas; och att bild- elementen avlägsnas från arbetsytorna.1. Methods of engraving patterns on intricate curved work surfaces, such as molds or punches, which work surfaces are used to produce embossed patterns on the corresponding intricate curved surfaces of products formed of deformable materials, characterized therefrom , that a parent transparency image is produced by the desired pattern; that transfer material is exposed to the pattern on the parent transparency image, which transfer material comprises an emulsion arranged on a carrier sheet, the exposed part of which is acid-resistant after exposure; that the unexposed areas of the emulsion are removed to create discrete, acid-resistant car elements on the carrier sheet; that the picture elements are transferred from the carrier sheet to the work surfaces; that the work surfaces are etched; and that the picture elements are removed from the work surfaces. 2. Sätt enligt kravet 1, därav, att överföringssteget innefattar följande mellan- k ä n n e t e c k n a t steg: placering av bärarket på arbetsytorna med elemën- ten i intim kontakt därmed; gnuggning av bärarkets yta med ett trubbigt instrument för att bildelementen därige- nom intimt skall ingripa med arbetsytan och bildelemen- ten avlägsnas från bärarket; och borttagning av bärarket från de överförda bildelementen.A method according to claim 1, wherein the transfer step comprises the following intermediate steps: placing the carrier sheet on the work surfaces with the elements in intimate contact therewith; rubbing the surface of the carrier sheet with a blunt instrument so that the picture elements thereby intimately engage with the work surface and the picture elements are removed from the carrier sheet; and removing the carrier sheet from the transferred pixels. 3. Sätt enligt kravet 1, därav, att överföringsmaterialet inbegriper emulsionen anordnad mellan en klar skyddsfilm och bärarket, var- k ä n n e t e c k n a t jämte sättet dessutom inbegriper att skyddsfilmen av- lägsnas från den exponerade emulsionen efter exponerings- steget.A method according to claim 1, wherein the transfer material comprises the emulsion arranged between a clear protective film and the carrier sheet, neither of which further comprises the protective film being removed from the exposed emulsion after the exposure step. 4. Sätt enligt kravet 1, därav, att en framkallningslösning utbredes jämnt över k ä n n e t e c k n a t den exponerade emulsionen vid steget för avlägpnande av emulsionens oexponerade områden.A method according to claim 1, wherein a developing solution is spread evenly over the known emulsion at the step of removing the unexposed areas of the emulsion. 5. Sätt enligt kravet l, k ä n n e t e c k n a t /0U70J|”¿ 10 15 20 25 30 35 I0 därav, att etsningssteget utföres med användning av en lösning, som är lämplig för materialet hos arbets- ytan. "5. A method according to claim 1, characterized in that the etching step is performed using a solution which is suitable for the material of the work surface. " 6. Sätt enligt kravet l, därav, att avlägsnandet av bildelementen från arbets- ytorna utföres mekaniskt med ett slipmedel.6. A method according to claim 1, wherein the removal of the picture elements from the work surfaces is performed mechanically with an abrasive. 7. Sätt enligt kravet 6, k ä n n e t e c k n a t därav, att avlägsnandet av bildelementen från arbets- ytorna dessutom inbegriper användning av en lösning för att uppmjuka bildelementen.7. A method according to claim 6, characterized in that the removal of the picture elements from the work surfaces also involves the use of a solution to soften the picture elements. 8. Sätt enligt kravet 1, därav, att arbetsytorna prepareras genom uppruggning före överföringssteget.A method according to claim 1, wherein the work surfaces are prepared by roughening before the transfer step. 9. Sätt enligt något av de föregående kraven, k ä n n e t e c k n a t därav, att den exponerade de- len av emulsionen är klibbig och syrabeständig efter exponering, och att direkt mekanisk överföring av bild- elementen sker från bärarket till arbetsytorna.9. A method according to any one of the preceding claims, characterized in that the exposed part of the emulsion is tacky and acid-resistant after exposure, and that direct mechanical transfer of the picture elements takes place from the carrier sheet to the working surfaces. 10. Sätt enligt kravet 9, k ä n n e t e c k n a t därav, att överföringsmaterialet exponeras så att det framkallade, syrabeständiga materialet är tillräckligt klibbigt för att vidhäfta till arbetsytorna samt till- räck1igthårt.föratt förhindra utflytning under över- k ä n n e t e c k n a t k ä n n e t e c k n a t föringssteget.10. A method according to claim 9, characterized in that the transfer material is exposed so that the developed, acid-resistant material is sufficiently tacky to adhere to the work surfaces and sufficiently hard. 11. Sätt enligt kravet 9, därav, att överföringsmaterialet exponeras så att det framkallade, syrabeständiga materialet är tillräckligt klibbigt för att vidhäfta till arbetsytorna samt är till- räckligt hàrt för att separera från bärarket under över- k ä n n e t e c k n a t föringssteget.11. The method of claim 9, wherein the transfer material is exposed so that the developed, acid-resistant material is sufficiently tacky to adhere to the work surfaces and is sufficiently hard to separate from the carrier sheet during the transfer step. 12. Sätt enligt något av kraven 1, 2 eller 9, k ä n n e t e c k n a t därav, att man vid exponerings- steget placerar ett fl^rta1 UV-lysrör cirka 3,8 mm från överföringsmaterialet, tänder lysrören, samt håller lysrören tända i nämnda läge med avseende på överförings- materialet under cirka 30-90 s.12. A method according to any one of claims 1, 2 or 9, characterized in that at the exposure stage a flat UV fluorescent lamp is placed approximately 3.8 mm from the transfer material, the fluorescent lamps are lit, and the fluorescent lamps are kept lit in said position with respect to the transfer material for about 30-90 s. 13. Sätt enligt kravet 1 eller 9, k ä n n e - f j, 1 *å å -ïš f; "'<'.'M\.* _ ' , ~ ”fëfß-àäsäfm-vf.,r:ß$$2»å«>».-fifi=; ~.>-,_¿;,>,~.i:~_- a f ,-.“_ ~'_1w«,-'_;5íi=,~å3-i<~:¥°ff" * . _ r v..~fm»,_¿f;§¿=~'-f1fwgggp=çi1wftšm¿+;see171,,21:HäriïT,g,_ï?e¿k¿gäï_ï,-_ _ u ' ' ' * ' ' ' - ' '_ /auïasl-2 I! k n a g därav att etsningssteget utföres tills t e c I etsningsdjupet 1 arbetsytorna uppgår till 0,00762 _ _ m0 ,-'víi«”.à='a;zuäe=ax.ë *' -.,' -13. A method according to claim 1 or 9, k ä n n e - f j, 1 * å å -ïš f; "'<'. 'M \. * _', ~” Fëfß-àäsäfm-vf., R: ß $$ 2 »å«> ».- fifi =; ~.> -, _ ¿;,>, ~. i: ~ _- af, -. “_ ~ '_1w«, -'_; 5íi =, ~ å3-i <~: ¥ ° ff "*. _ r v .. ~ fm », _ ¿f; §¿ = ~ '-f1fwgggp = çi1wftšm¿ +; see171,, 21: HäriïT, g, _ï? e¿k¿gäï_ï, -_ _ u' '' * '' '-' '_ / auïasl-2 I! k n a g from the fact that the etching step is performed until t e c In the etching depth 1 the working surfaces amount to 0.00762 _ _ m0, - 'víi «”. à =' a; zuäe = ax.ë * '-.,' -