RU2766419C1 - Способ нанесения карбонитрида титана на стеклянные изделия - Google Patents

Способ нанесения карбонитрида титана на стеклянные изделия Download PDF

Info

Publication number
RU2766419C1
RU2766419C1 RU2021134825A RU2021134825A RU2766419C1 RU 2766419 C1 RU2766419 C1 RU 2766419C1 RU 2021134825 A RU2021134825 A RU 2021134825A RU 2021134825 A RU2021134825 A RU 2021134825A RU 2766419 C1 RU2766419 C1 RU 2766419C1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
titanium
glass
pressure
layer
source
Prior art date
Application number
RU2021134825A
Other languages
English (en)
Inventor
Дмитрий Юрьевич Старцев
Original Assignee
Дмитрий Юрьевич Старцев
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Дмитрий Юрьевич Старцев filed Critical Дмитрий Юрьевич Старцев
Priority to RU2021134825A priority Critical patent/RU2766419C1/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2766419C1 publication Critical patent/RU2766419C1/ru

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/08Oxides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/14Metallic material, boron or silicon
    • C23C14/18Metallic material, boron or silicon on other inorganic substrates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • C23C14/35Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

Изобретение относится к области декорирования стекла и изделий из него, а именно к способу нанесения карбонитрида титана на стеклянные изделия, и может быть использована в стекольной промышленности. Из камеры для напыления откачивают воздух до вакуума 0,02 Па и вращают корзину со стеклянными изделиями со скоростью вращения корзины 2 оборота в минуту. Затем подают газ аргон при давлении 0,06 Па и включают источник ионной очистки поверхности стеклянных изделий при следующих параметрах: напряжение анода 3 кВ, ток анода 200 мА и время очистки 20 мин. При этом проводят очистку поверхностного слоя стеклянных изделий посредством бомбардировки в высоком вакууме ионами аргона с энергией 100 – 100000 эВ, которые распыляют поверхностный слой с удалением адсорбированных атомов и окислов. Затем включают источник магнетронного напыления с установленными мишенями из титана ВТ1-0 и при давлении напускаемого газа аргона 0,05 Па наносят непрозрачный отражающий слой титана в течение 20-25 мин при следующих параметрах: ток источников 9-10 А и напряжение 380-400 В. Затем включают дуговой испаритель с установленной мишенью из титана ВТ1-0. В камеру напускают реактивный газ в виде готовой смеси азота и ацетилена в пропорции 70%-30% с давлением 0,15 Па и при токе инверторных источников 130-150А на стеклянные изделия наносят слой карбонитрида титана в течение 15 мин. Обеспечивается повышение прочности декоративного покрытия.

Description

Изобретение относится к области декорирования стекла и изделий из него и может быть использовано в стекольной промышленности на технологической стадии нанесения декоративных покрытий на стеклянные бытовые товары (рюмки, фужеры, бокалы, стаканы, вазы, кружки, тарелки и др.) [МПК C23C14/00, C23C16/00, C23C18/18].
Из уровня техники известен СПОСОБ ПРИГОТОВЛЕНИЯ ТИТАНОВЫХ ПОКРЫТИЙ [WO0022187 (A1) - 2000-04-20], содержащий по меньшей мере один слой, выбранный из слоев, состоящих из нитрида титана TiN, слоев, состоящих из карбонитрида титана TiCN, слоев, состоящих из нитрида титана и другой металл M (Ti, M) N или Til-xMxN и слои, состоящие из карбонитрида титана и другого металла M (Ti, M) NC или Til-xMxNC, в котором указанное покрытие наносится непрерывно и за один за одну операцию путем химического осаждения из паровой фазы с помощью плазмы (PACVD) из газовой смеси, содержащей восстановительный газ, водород, хлорид титана.
Недостатком аналога является недостаточная прочность покрытия.
Также из уровня техники известен СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ НАНОПЛЕНКИ НИТРИДА ТИТАНА НА ПОВЕРХНОСТИ ПОДЛОЖКИ, ПОДЛОЖКИ С ПЛЕНКОЙ И ИХ НАНЕСЕНИЕ [CN108546929 (A) ― 2018-09-18], содержащий этапы, на которых: транспортируют субстрат в реакционную камеру через шлюзовую камеру загрузки, реакционную камеру откачивают до вакуума; пропускают инертный газ в реакционную камеру и наносят покрытие используя аммиачную плазму и газообразный источник титана, после чего выполняют несколько циклов промывки газом реакционной камеры, поддерживают температуру реакционной камеры на уровне 150-220°C и выполняют реакцию осаждения атомного слоя нитрида титана с плазменным усилением для получения подложки с нанопленкой нитрида титана на поверхности.
Недостатком данного аналога является необходимость поддержания высокой температуры для осаждения атомного слоя титана.
Наиболее близким по технической сущности является СПОСОБ НАНЕСЕНИЯ НА ИЗДЕЛИЯ ЗАЩИТНО-ДЕКОРАТИВНЫХ ПОКРЫТИЙ [RU2039844C1, опубл. 20.07.1995], преимущественно покрытий на основе оксидов титана, хрома, вольфрама, циркония, гафния или ванадия, а также фаз внедрения, выбранных из ряда карбидов, нитридов и карбонитридов указанных металлов, включающий покрытие поверхности металлического или неметаллического материала путем распыления мишеней из активных металлов, их сплавов или композиционных материалов ионной бомбардировкой в тлеющем разряде в смеси инертного и реакционного газов при их раздельной подаче в реакционный объем, предварительно заполняемый инертным газом до давления (3,0 3,5) · 10-3 мм рт.ст. с последующим осаждением распыленных частиц на поверхность изделия, отличающийся тем, что реакционный газ подают в приповерхностную зону изделия, подогретого до 300 360°С до установления в реакционном объеме давления (6,0 10) · 10-3 мм рт.ст. время распыления контролируют в пределах, необходимых для получения декоративного эффекта заданной интенсивности и гаммы цветовых оттенков, а в качестве реакционного газа используют пары воды, диоксид углерода, воздух или смесь кислородсодержащих газов.
Основной технической проблемой прототипа является необходимость подогревания изделий до температуры 300-360°С перед нанесением на них покрытий, что усложняет технологию нанесения покрытия, ограничивает применение материалов для нанесения на них покрытий с никой температурой плавления, а также увеличивает время, необходимое на осуществление технологической операции по нанесению на время нагрева и охлаждения изделия.
Задачей изобретения является устранение недостатков прототипа.
Техническим результатом изобретения является повышение прочности декоративного покрытия.
Указанный технический результат достигается за счет того, что способ нанесения карбонитрид титана на стеклянные изделия, характеризующийся тем, что из камеры для напыления откачивают воздух до вакуума 0,02 Па и запускают вращение корзины со стеклянными изделиями со скоростью вращения корзины 2 оборота в минуту, затем подают газ аргон при давлении 0,06 Па и включают источник ионной очистки поверхности стеклянных изделий при следующих параметрах: напряжение анода 3 кВ, ток анода 200 мА, время очистки 20 минут, при этом производят очистку поверхностного слоя стеклянных изделий посредством бомбардировки в высоком вакууме ионами аргона с энергией 100 – 100000 эВ, которые распыляют поверхностный слой с удалением адсорбированных атомов и окислов, затем включают источник магнетронного напыления с установленными мишенями из титана ВТ1-0 и при давлении напускаемого газа аргона 0,05 Па наносят непрозрачный отражающий слой металла в течение 20-25 минут при следующих параметрах: ток источников 9-10 А, напряжение 380-400 В, затем включают дуговой испаритель с установленной мишенью из титана ВТ1-0, в камеру напускают реактивный газ, готовая смесь азота и ацетилена в пропорции 70%-30% с давлением 0,15 Па и при токе инверторных источников 130-150А на стеклянные изделия наносят слой карбонитрид титана в течение 15 минут.
Осуществление изобретения
Первоначально проводят входной контроль сортовой посуды на предмет отбраковки изделий по причине сколов, нарушения геометрии, боя. Далее изделия поступают в цех гравировки, где производится нанесение гравированного узора автоматизированным способом на станках с программным управлением. Отгравированная посуда поступает в цех мойки, в котором изделия проходят этапы мойки, ополаскивания и сушки в секционной машине туннельного типа, например, МПС- 1600, для которой вода проходит подготовку с помощью установленной системы очистки OSMOS.
Прошедшую очистку поверхности посуда поступает на участок маскирования, на котором на внешнюю поверхность каждого изделия наносят в ручном режиме, с помощью станков намотки, маскируемый слой, шириной 2-3 см, из полиэтиленовой ленты, который обеспечивает четкую границу между участками поверхности изделия, подлежащими и не подлежащими декорированию напылением. Остальная часть внешней поверхности изделий, не подлежащая декорированию напылением, маскируется пластиковыми формами, выполненными индивидуально для каждого ассортимента изделий. Подготовленная посуда поступает в цех напыления, в котором ее устанавливают в цилиндрические корзины из нержавеющей стали, выполненные по схеме планетарного вращения, при этом корзины могут быть выполнены в различных вариантах и содержать от одного до восьми носителей в каждой в зависимости от размера изделий. Собранные корзины, в количестве 10 штук включительно, устанавливают в посадочные места карусели камеры напыления вакуумной установки.
Для напыления используется установка вакуумного напыления VTT-1200-V2-IS1_ARC1, в состав которой входят: откачной пост, камера напыления, стойка управления, стойка инверторных блоков питания источника ионной очистки и двух магнетронов, блок управления тремя инверторами дугового испарителя.
Откачной пост включает в себя: масляный пластинчато-роторный насос HENA 300 компании Pfeiffer, роторный насос Рутса OKTA 500 компании Pfeiffer, паромасляный диффузионный насос НВДМ-630. Рабочие жидкости: для насоса HENA 300 вакуумное масло Pfeiffer 3, для НВДМ-630 вакуумное масло ВМ-1С.
В камере напыления установлены: карусель с планетарным вращением подложки, с возможностью управления скоростью вращения карусели, источник ионной очистки щелевого типа, два магнетрона планарного типа, дуговой испаритель планарного типа. Установка обеспечивает управление технологическим процессом посредством графического интерфейса пользователя как в автоматическом, так и в ручном режимах.
Рассмотрим технологии напыления карбонитрид титана.
Технология напыления карбонитрид титана для формирования покрытия типа «Шоколадного» (темно-коричневого).
Целью напыления карбонитрид титана является получение декоративного покрытия в цветовой гамме от «свежей меди» до темно-коричневого («шоколадного»). Решение задачи осуществляется нанесением дуговым испарителем, на предварительно нанесенный слой отражающего металла (титана, нержавеющей стали), пленки карбонитрид титана, образующейся в результате подачи в камеру напыления готовой смеси реактивных газов азот-ацетилен, в соотношении, от 70%-30% до 50%-50%.
В камеру напыления загружают корзины, заряженные посудой. Из камеры откачивают воздух до вакуума 0,02 Па, запускают вращение карусели со скоростью 2 оборота в минуту, включают подачу газа аргона в режиме стабилизации давления 0,06 Па и включают источник ионной очистки поверхности подложки при следующих параметрах: напряжение анода 3 кВ, ток анода 200 мА, время очистки 20 минут. Далее включают источники магнетронного напыления с установленными мишенями из титана ВТ1-0 и, при стабилизации давлении напускаемого газа аргон 0,05Па наносят максимально непрозрачный отражающий слой металла в течение 20-25 минут при следующих параметрах: ток источников 9-10 А, напряжение 380- 400 В. Затем включают дуговой испаритель с установленной мишенью из титана ВТ1-0 и в камеру напускают реактивный газ, готовая смесь азота и ацетилена в пропорции 70%-30%, со стабилизацией по давлению 0,15 Па и при токе инверторных источников 130-150 А наносят слой карбонитрид титана в течение 15 минут. При этом получается покрытие медного цвета с розовым оттенком - «свежая медь». Выравнивая пропорции готовой смеси реактивных газов азота и ацетилена до 50%-50%, можно получить темно-коричневый цвет («шоколадный»).
Указанный технический результат изобретения достигается за счет равномерной ионной очистки поверхности подложки стеклянного изделия от адсорбированных атомов и окислов пленки посредством вращения карусели со скоростью 2 оборота в минуту и бомбардировкой поверхности стекла в высоком вакууме ионами аргона с энергией 100 – 100000 эВ в едином вакуумном цикле с нанесением слоев покрытия, кроме того технический результат достигается интенсификацией процесса за счет нанесения металла дуговым испарителем при максимально возможной скорости; упрощением технологии, в отличие от магнетронного напыления, за счет исключения необходимости контроля и поддержания на определенном уровне процентного содержания аргона и азота (кислорода) в газовой смеси во время формирования покрытия.

Claims (1)

  1. Способ нанесения карбонитрида титана на стеклянные изделия, характеризующийся тем, что из камеры для напыления откачивают воздух до вакуума 0,02 Па и вращают корзину со стеклянными изделиями со скоростью вращения корзины 2 оборота в минуту, затем подают газ аргон при давлении 0,06 Па и включают источник ионной очистки поверхности стеклянных изделий при следующих параметрах: напряжение анода 3 кВ, ток анода 200 мА и время очистки 20 мин, при этом проводят очистку поверхностного слоя стеклянных изделий посредством бомбардировки в высоком вакууме ионами аргона с энергией 100 – 100000 эВ, которые распыляют поверхностный слой с удалением адсорбированных атомов и окислов, затем включают источник магнетронного напыления с установленными мишенями из титана ВТ1-0 и при давлении напускаемого газа аргона 0,05 Па наносят непрозрачный отражающий слой титана в течение 20-25 мин при следующих параметрах: ток источников 9-10 А и напряжение 380-400 В, затем включают дуговой испаритель с установленной мишенью из титана ВТ1-0, в камеру напускают реактивный газ в виде готовой смеси азота и ацетилена в пропорции 70%-30% с давлением 0,15 Па и при токе инверторных источников 130-150А на стеклянные изделия наносят слой карбонитрида титана в течение 15 мин.
RU2021134825A 2021-11-29 2021-11-29 Способ нанесения карбонитрида титана на стеклянные изделия RU2766419C1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2021134825A RU2766419C1 (ru) 2021-11-29 2021-11-29 Способ нанесения карбонитрида титана на стеклянные изделия

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2021134825A RU2766419C1 (ru) 2021-11-29 2021-11-29 Способ нанесения карбонитрида титана на стеклянные изделия

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2021100369A Division RU2761391C1 (ru) 2021-01-12 2021-01-12 Способы нанесения на стеклянные изделия металлических покрытий из нитрида титана

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2766419C1 true RU2766419C1 (ru) 2022-03-15

Family

ID=80736678

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2021134825A RU2766419C1 (ru) 2021-11-29 2021-11-29 Способ нанесения карбонитрида титана на стеклянные изделия

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2766419C1 (ru)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2039844C1 (ru) * 1992-03-16 1995-07-20 Вахминцев Герман Борисович Способ нанесения на изделия защитно-декоративных покрытий
RU2112075C1 (ru) * 1996-07-22 1998-05-27 Институт химии твердого тела Уральского Отделения РАН Способ нанесения плазменного покрытия
CN108396295A (zh) * 2018-02-26 2018-08-14 温州职业技术学院 曲面磁控溅射阴极、闭合磁场涂层磁控溅射设备及其应用方法
CN208121181U (zh) * 2018-04-11 2018-11-20 深圳市正和忠信股份有限公司 一种土豪金颜色pvd薄膜
CH709524B8 (de) * 2014-04-03 2019-09-13 Schott Ag Substrat mit mindestens einer harten Anti-Reflex-Beschichtung sowie deren Herstellung und Verwendung.

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2039844C1 (ru) * 1992-03-16 1995-07-20 Вахминцев Герман Борисович Способ нанесения на изделия защитно-декоративных покрытий
RU2112075C1 (ru) * 1996-07-22 1998-05-27 Институт химии твердого тела Уральского Отделения РАН Способ нанесения плазменного покрытия
CH709524B8 (de) * 2014-04-03 2019-09-13 Schott Ag Substrat mit mindestens einer harten Anti-Reflex-Beschichtung sowie deren Herstellung und Verwendung.
CN108396295A (zh) * 2018-02-26 2018-08-14 温州职业技术学院 曲面磁控溅射阴极、闭合磁场涂层磁控溅射设备及其应用方法
CN208121181U (zh) * 2018-04-11 2018-11-20 深圳市正和忠信股份有限公司 一种土豪金颜色pvd薄膜

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6045667A (en) Process and system for the treatment of substrates using ions from a low-voltage arc discharge
US6503373B2 (en) Method of applying a coating by physical vapor deposition
CN101705471B (zh) 一种氮化铬钛铝氮梯度硬质反应膜的制备方法
CN105132876B (zh) 一种钢制齿轮的表面复合处理方法
MX2011006238A (es) Aparato para tratar y/o recubrir la superficie de un componente de sustrato.
KR20160096015A (ko) 저온 세라믹 코팅의 밀착력 강화 방법
CN104342624B (zh) 一种制备耐高温黑色硼硅玻璃的方法
RU2660502C1 (ru) Способ нанесения покрытия на поверхность стального изделия
RU2766419C1 (ru) Способ нанесения карбонитрида титана на стеклянные изделия
CN105671513A (zh) 一种新型的真空彩色镀膜工艺
JP4122387B2 (ja) 複合硬質皮膜、その製造方法及び成膜装置
RU2766421C1 (ru) Способ нанесения оксидированной нержавеющей стали на стеклянные изделия
RU2765964C1 (ru) Способы нанесения на стеклянные изделия покрытий из оксида титана
RU2689474C1 (ru) Способ получения покрытия на основе интерметаллидов системы ti-al, синтезированного в среде азота
RU2761391C1 (ru) Способы нанесения на стеклянные изделия металлических покрытий из нитрида титана
RU2765966C1 (ru) Способ нанесения алюминия на стеклянные изделия
RU2765965C1 (ru) Способ нанесения латуни марки л63 на стеклянные изделия
CN108265271A (zh) 一种物理气相沉积法在产品上制作蓝色膜的方法
KR20190056558A (ko) 금색 박막을 형성하기 위한 Ti-Zr 합금타겟의 제조방법과 이를 이용한 금색 박막의 코팅방법
RU2777094C1 (ru) Способ нанесения на стеклянные изделия металлических покрытий из меди и медных сплавов
RU2769142C1 (ru) Способ получения покрытий на основе системы Ti-Al, синтезированных в среде реакционных газов
JPH02125861A (ja) 被処理物の表面に被膜を形成する方法
US7967957B2 (en) Method for preparing alumna coating film having alpha-type crystal structure as primary structure
RU2677043C1 (ru) Способ получения износостойкого покрытия на основе интерметаллида системы Ti-Al
EP1624087B1 (en) A method for depositing thin layers of titanium dioxide on support surfaces