RU2654347C2 - Прозрачная рассеивающая подложка для органических светодиодов и способ изготовления такой подложки - Google Patents
Прозрачная рассеивающая подложка для органических светодиодов и способ изготовления такой подложки Download PDFInfo
- Publication number
- RU2654347C2 RU2654347C2 RU2016100768A RU2016100768A RU2654347C2 RU 2654347 C2 RU2654347 C2 RU 2654347C2 RU 2016100768 A RU2016100768 A RU 2016100768A RU 2016100768 A RU2016100768 A RU 2016100768A RU 2654347 C2 RU2654347 C2 RU 2654347C2
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- refractive index
- substrate
- inorganic particles
- layer
- inorganic
- Prior art date
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 88
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 12
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 99
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 57
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims abstract description 49
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 38
- 239000002356 single layer Substances 0.000 claims abstract description 31
- 210000003298 dental enamel Anatomy 0.000 claims abstract description 22
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 claims description 72
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 claims description 44
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 38
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 25
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 17
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 17
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 17
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 16
- -1 lithium silicates Chemical class 0.000 claims description 10
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 9
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 claims description 9
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 8
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims description 7
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims description 6
- 238000001354 calcination Methods 0.000 claims description 5
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims description 4
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims description 4
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 3
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical group C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 claims 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 claims 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 claims 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 abstract 8
- 239000011707 mineral Substances 0.000 abstract 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract 1
- 239000002241 glass-ceramic Substances 0.000 description 6
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 6
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 6
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000007765 extrusion coating Methods 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 5
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 4
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 4
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 4
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 4
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 4
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 4
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 4
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 3
- 239000012766 organic filler Substances 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 239000012798 spherical particle Substances 0.000 description 3
- 229910018068 Li 2 O Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 2
- 238000004630 atomic force microscopy Methods 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 2
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 2
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 2
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 238000007761 roller coating Methods 0.000 description 2
- YTTFFPATQICAQN-UHFFFAOYSA-N 2-methoxypropan-1-ol Chemical compound COC(C)CO YTTFFPATQICAQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910015902 Bi 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004111 Potassium silicate Substances 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005103 alkyl silyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- DEPUMLCRMAUJIS-UHFFFAOYSA-N dicalcium;disodium;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Na+].[Na+].[Ca+2].[Ca+2].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O DEPUMLCRMAUJIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 238000002296 dynamic light scattering Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 1
- 238000010191 image analysis Methods 0.000 description 1
- RHZWSUVWRRXEJF-UHFFFAOYSA-N indium tin Chemical compound [In].[Sn] RHZWSUVWRRXEJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- PAZHGORSDKKUPI-UHFFFAOYSA-N lithium metasilicate Chemical compound [Li+].[Li+].[O-][Si]([O-])=O PAZHGORSDKKUPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052912 lithium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000010309 melting process Methods 0.000 description 1
- 238000000386 microscopy Methods 0.000 description 1
- 230000005693 optoelectronics Effects 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
- 229910052913 potassium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N potassium silicate Chemical compound [K+].[K+].[O-][Si]([O-])=O NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 description 1
- 238000004626 scanning electron microscopy Methods 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 125000004665 trialkylsilyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000002604 ultrasonography Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/006—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character
- C03C17/007—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character containing a dispersed phase, e.g. particles, fibres or flakes, in a continuous phase
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
- C03C17/3417—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials all coatings being oxide coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/062—Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight
- C03C3/064—Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight containing boron
- C03C3/066—Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight containing boron containing zinc
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C8/00—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
- C03C8/14—Glass frit mixtures having non-frit additions, e.g. opacifiers, colorants, mill-additions
- C03C8/16—Glass frit mixtures having non-frit additions, e.g. opacifiers, colorants, mill-additions with vehicle or suspending agents, e.g. slip
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
- H10K50/85—Arrangements for extracting light from the devices
- H10K50/854—Arrangements for extracting light from the devices comprising scattering means
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K77/00—Constructional details of devices covered by this subclass and not covered by groups H10K10/80, H10K30/80, H10K50/80 or H10K59/80
- H10K77/10—Substrates, e.g. flexible substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2205/00—Compositions applicable for the manufacture of vitreous enamels or glazes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
- C03C2217/43—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase
- C03C2217/44—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the composition of the continuous phase
- C03C2217/45—Inorganic continuous phases
- C03C2217/452—Glass
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
- C03C2217/43—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase
- C03C2217/46—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase
- C03C2217/47—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase consisting of a specific material
- C03C2217/475—Inorganic materials
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K2102/00—Constructional details relating to the organic devices covered by this subclass
- H10K2102/10—Transparent electrodes, e.g. using graphene
- H10K2102/101—Transparent electrodes, e.g. using graphene comprising transparent conductive oxides [TCO]
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K2102/00—Constructional details relating to the organic devices covered by this subclass
- H10K2102/301—Details of OLEDs
- H10K2102/351—Thickness
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/549—Organic PV cells
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Composite Materials (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
Изобретение относится к прозрачной рассеивающей подложке для органических светодиодов, включающей следующие последовательные элементы или слои: (a) прозрачная плоская подложка (I), состоящая из неорганического стекла, у которого показатель преломления n1 составляет от 1,48 до 1,58, (b) монослой из неорганических частиц (3), прикрепленный к одной стороне подложки (1) посредством имеющего низкий показатель преломления неорганического связующего материала (2), у которого показатель преломления n2 составляет от 1,45 до 1,61, и (c) имеющий высокий показатель преломления слой (4), изготовленный из эмали, у которой показатель преломления n4 составляет от 1,82 до 2,10, и покрывающий монослой из неорганических частиц (3), причем неорганические частицы (3), у которых показатель преломления n3 составляет от n2+0,08 до n4-0,08, выступают из имеющего низкий показатель преломления неорганического связующего материала (2) таким образом, что они находятся в непосредственном контакте с имеющим высокий показатель преломления слоем (4), и в результате этого образуются первая рассеивающая поверхность раздела (Di1) между неорганическими частицами (3) и имеющим низкий показатель преломления связующим материалом (2) и вторая рассеивающая поверхность раздела (Di2) между неорганическими частицами (3) и имеющим высокий показатель преломления слоем (4). Изобретение обеспечивает получение подложки для органических светодиодов, где поверхности раздела имеют более высокие значения критического угла или более высокие углы наклона. 3 н. и 12 з.п. ф-лы, 3 ил.
Description
Настоящее изобретение относится к рассеивающей подложке для органических светодиодов (OLED), имеющей улучшенные показатели светового выхода, и к способам изготовления такой подложки.
Органические светодиоды представляют собой оптоэлектронные элементы, в составе которых уложенные друг на друга органические слои, содержащие флуоресцентные или фосфоресцентные красители, находятся между двумя электродами, из которых, по меньшей мере, один является полупрозрачным. Когда к электродам прилагается электрическое напряжение, электроны, высвобождающиеся из катода, и дырки, высвобождающиеся из анода, рекомбинируются в объеме органических слоев, и в результате этого флуоресцентные/фосфоресцентные слои осуществляют излучение света.
Общеизвестным является тот факт, что световой выход, который обеспечивают традиционные органические светодиоды, является весьма неудовлетворительным, поскольку основную часть света задерживают за счет полного внутреннего отражения и поглощения имеющие высокий показатель преломления органические слои и прозрачные электропроводящие слои (TCL). Полное внутреннее отражение происходит не только на поверхности раздела между имеющим высокий показатель преломления прозрачным электропроводящим слоем и нижележащей стеклянной подложкой, у которой показатель преломления составляет приблизительно 1,5, но также и на поверхности раздела между стеклом и воздухом.
Согласно оценкам, в традиционных органических светодиодах, в которых отсутствует какой-либо дополнительный повышающий световой выход слой, приблизительно от 50 до 60% света, излучаемого из органических слоев, задерживается на поверхности раздела между прозрачным электропроводящим слоем и стеклом, еще от 20 до 30% света задерживается на поверхности раздела между стеклом и воздухом, и лишь приблизительно 20% света выходит из органического светодиода в воздух.
Как известно, чтобы уменьшить это задерживание света, вставляется светорассеивающее средство, часто называемое термином «внутренний повышающий световой выход слой», между имеющим высокий показатель преломления прозрачным электропроводящим слоем и имеющей низкий показатель преломления стеклянной подложкой. Наиболее часто используемые внутренние повышающие световой выход слои имеют высокий показатель преломления, близкий к показателю преломления прозрачного электропроводящего слоя и содержат множество диспергированных в них рассеивающих свет элементов, таких как воздушные пузырьки или имеющие низкий показатель преломления частицы.
Кроме того, как известно, чтобы увеличить световой выход, осуществляется простое текстурирование поверхности, разделяющей стекло и имеющие высокий показатель преломления слои, т. е. прозрачный электропроводящий слой и органический блок органического светодиода. Это можно осуществлять, создавая сначала подходящую шероховатость на поверхности стеклянной подложки, а затем выравнивая полученный в результате профиль шероховатости с использованием имеющего высокий показатель преломления выравнивающего слоя перед нанесением прозрачного электропроводящего слоя.
Заявитель уже предлагал различные способы создания подходящей поверхностной шероховатости на стеклянных подложках для органических светодиодов:
- Международная патентная заявка № 2011/089343 описывает подложки для органических светодиодов, у которых присутствует, по меньшей мере, одна текстурированная поверхность, которую выравнивает имеющее высокий показатель преломления стеклянное покрытие. Согласно описанию, подложки подвергаются текстурированию посредством травления кислотой.
- Европейская патентная заявка № 12306179.8, поданная 28 сентября 2012 г., описывает интересный альтернативный способ создания шероховатости на одной или обеих сторонах стеклянной подложки, включающий механическое придание шероховатости (шлифование).
- Европейские патентные заявки № 13168335 и № 13168341, поданные 17 мая 2013 г., описывают способы прикрепления имеющих низкий показатель преломления неорганических частиц посредством имеющего низкий показатель преломления неорганического связующего материала к стеклянной подложке, в результате чего образуется шероховатая поверхность, которую затем выравнивает имеющая высокий показатель преломления эмаль.
Можно показать, что для достижения наибольшей эффективности поверхность, которой разделяются имеющая низкий показатель преломления подложка и имеющие высокий показатель преломления слои органического светодиода, должна иметь шероховатость с достаточно большим наклоном.
Хорошо известно, что, согласно закону Снелла (Snell), большая разность между показателями преломления двух сред создает нежелательно малый критический угол (θc):
θc=arcsin (na/nb)
где na представляет собой показатель преломления имеющей низкий показатель преломления среды, и nb представляет собой показатель преломления имеющей высокий показатель преломления среды.
Критический угол поверхности раздела составляет приблизительно 52° между выравнивающим слоем, у которого показатель преломления nb составляет 1,9, и стеклянной подложкой, у которой показатель преломления na составляет 1,5.
Фиг. 1 представляет в двухмерной модели, где поверхностную шероховатость составляют пирамиды, что минимальный наклон (α) пирамид для обеспечения проникновения светового луча из имеющей высокий показатель преломления среды в имеющую низкий показатель преломления среду при первом падении составляет α=π/2-θc. Другими словами, когда θc составляет 52°, пирамиды должны иметь угол наклона, составляющий, по меньшей мере, 38°
К сожалению, оказывается весьма затруднительным или даже невозможным изготовление стеклянных подложек, имеющих поверхностную шероховатость со средним углом наклона, превышающим 20°, используя традиционные способы придания шероховатости, такие как травление, пескоструйная обработка или шлифование.
Фиг. 2a представляет полученное сканирующим электронным микроскопом (SEM) изображение и распределение угла наклона для обработанной кислотой стеклянной подложки (Satinovo®), такой как описана в международной заявке WO 2011/089343; фиг. 2b представляет полученное сканирующим электронным микроскопом (SEM) изображение и распределение угла наклона для подложки, обработанной посредством шлифования, такой как описана в европейской патентная заявку ЕР 12306179.8; и фиг. 2c представляет полученное сканирующим электронным микроскопом (SEM) изображение и распределение угла наклона для подложки, подвергнутой сначала пескоструйной обработке, а затем умеренному травлению кислотой. Во всех трех образцах медианный угол наклона составляет значительно менее чем 20°, и соотношение углов наклона, превышающих 38°, является близким к нулю. Это означает, что только очень немногие световые лучи входят в имеющую низкий показатель преломления стеклянную фазу при первом падении.
Таким образом, желательно изготовление подложек для органических светодиодов, где поверхности раздела имеют более высокие значения θc (т. е. более высокие соотношения na/nb) или более высокие углы наклона, чтобы обеспечивать проникновение большей доли световых лучей в имеющую низкий показатель преломления подложку при первом падении.
Идея, которая лежит в основе настоящего изобретения, заключается в том, чтобы увеличивать значение θc и уменьшать соответствующие требуемые минимальные углы наклона посредством разделения поверхности раздела на две поверхности раздела. По существу, легко вычислить, что если дополнительный слой, имеющий промежуточный показатель преломления nintermediate, составляющий от 1 до 7, можно было бы вставить между имеющим высокий показатель преломления выравнивающим слоем (nb=1,9) и имеющей низкий показатель преломления стеклянной подложкой (na=1,5), это могло бы привести к созданию двух поверхностей раздела, у которых критический угол θc составляет приблизительно 63°, причем требуемые минимальные углы наклона составляли бы только 27° вместо 38°
Согласно настоящему изобретению, заявитель предлагает очень просто способ, позволяющий вставлять имеющий промежуточный показатель преломления неорганический слой (далее называется термином «промежуточный слой») между имеющей низкий показатель преломления подложка и имеющим высокий показатель преломления выравнивающим слоем.
Промежуточный слой согласно настоящему изобретению представляет собой имеющий плотную упаковку монослой из неорганических частиц, у которого показатель является промежуточным между высоким показателем преломления выравнивающего слоя и низким показателем преломления подложки, причем вышеупомянутый монослой из частиц прикрепляется к стеклянной подложке посредством имеющего низкий показатель преломления неорганического связующего материала. Чтобы обеспечить одновременное нахождение этого промежуточного слоя из частиц в контакте с имеющим высокий показатель преломления выравнивающим слоем и имеющим низкий показатель преломления слоем, имеющий низкий показатель преломления неорганический связующий материал, разумеется, не должен покрывать частицы, и эти частицы должны выступать из неорганического связующего материала таким образом, чтобы с ними находился в контакте имеющий высокий показатель преломления слой. Выбор неорганических частиц, которые образуют промежуточный слой, имеет дополнительное преимущество того, что не является обязательной какая-либо дополнительная стадия придания шероховатости, потому что две образующиеся в результате поверхности раздела по своей природе являются рассеивающими, как можно видеть на фиг. 3.
Таким образом, согласно первому аспекту настоящего изобретения, предлагается прозрачная рассеивающая подложка для органических светодиодов, включающая следующие последовательные элементы или слои:
(a) прозрачная плоская подложка, состоящая из неорганического стекла, у которого показатель преломления n1 составляет от 1,48 до 1,58,
(b) монослой из неорганических частиц, прикрепленный к одной стороне подложки посредством имеющего низкий показатель преломления неорганического связующего материала, у которого показатель преломления n2 составляет от 1,45 до 1,61, и
(c) имеющий высокий показатель преломления слой, изготовленный из эмали, у которой показатель преломления n4 составляет от 1,82 до 2,10, и покрывающий монослой из неорганических частиц,
причем данные неорганические частицы имеют показатель преломления n3 составляющий от n2+0,08 до n4-0,08 и предпочтительно от n2+0,10 и n4-0,10 и выступают из имеющего низкий показатель преломления неорганического связующего материала таким образом, что они находятся в непосредственном контакте с имеющим высокий показатель преломления слоем, и в результате этого образуются первая рассеивающая поверхность раздела (Di1) между неорганическими частицами и имеющим низкий показатель преломления связующим материалом, и вторая рассеивающая поверхность раздела (Di2) между неорганическими частицами и имеющим высокий показатель преломления слоем.
Согласно настоящему изобретению, также предлагаются два способа изготовления рассеивающей подложки, которая определена выше. Эти способы включают общие стадии, которые являются необходимыми, чтобы образовывался имеющий высокий показатель преломления эмалевый слой (c), и они отличаются друг от друга, в основном, способом прикрепления монослой из частиц (b) к подложке (a). Далее оба способа будут описаны более подробно.
В настоящей заявке показатель преломления, который имеют подложка, неорганический связующий материал, частицы и выравнивающий слой, означает показатель преломления, измеренный при 550 нм, если не определено другое условие.
Плоская неорганическая стеклянная подложка имеет толщину, которая, как правило, составляет от 0,1 до 5 мм и предпочтительно составляет от 0,3 до 1,6 мм. Ее светопропускание преимущественно является максимально высоким, насколько это возможно, и предпочтительно оно составляет от 88% и 93%.
Стеклянная подложка и неорганический связующий материал, которые используются согласно настоящему изобретению, имеют приблизительно одинаковый показатель преломления, который составляет предпочтительно от 1,50 до 1,56 для стеклянной подложки (n1) и от 1,47 до 1,59 для неорганического связующего материала (n2). Разность показателей преломления неорганического связующего материала и стеклянной подложки составляет предпочтительно не более чем 0,05 и предпочтительно не более чем 0,03.
По причинам, которые разъяснялись выше, неорганические частицы обязательно выступают из неорганического связующего материала. Они не должны быть в значительной степени погружены в этот материал. Выступающие частицы из слоя связующего материала могут быть получены посредством выбора подходящего количества неорганического связующего материала, которое должно быть достаточно низким, чтобы не покрывать частицы полностью, и посредством обеспечения того, что в течение стадии прикрепления частиц к подложке посредством неорганического связующего материала вязкость, которую имеет жидкий связующий материал, в том числе золь или расплавленный стеклокерамический припой, должна быть достаточно низкой, чтобы обеспечивать течение связующего материала между частицами и его распространение по нижележащей стеклянной подложки, оставляя при этом верхнюю часть частиц открытой для атмосферы.
Неорганические частицы, которые используются согласно настоящему изобретению, могут представлять собой кристаллические, аморфные или полукристаллические частицы. Они могут иметь неправильную форму с большим или меньшим числом острых краев, но предпочтительно они представляют собой сферические частицы, у которых отсутствуют острые края.
Согласно предпочтительному варианту осуществления, неорганические частицы представляют собой твердые шарики. По сравнению с имеющими неправильную форму и острые края частицами такие шарики являются предпочтительными, потому что они легко распределяются по поверхности подложки, и в результате этого упрощается образование тонкого монослоя из шариков, а не агрегатов, имеющих большие размеры. Имеющие сферическую форму частицы, у которых отсутствуют острые края, также выравниваются значительно легче, чем имеющие неправильную форму частицы. Следует понимать, что определение термина «неорганические частицы» согласно настоящему изобретению не распространяется на полые шарики, потому что в них содержится газ, у которого показатель преломления не находится в интервале от n2+0,08 до n4-0,08.
Термин «неорганическая частица», в частности, когда он используется для описания способа согласно настоящему изобретению, распространяется на частицы, содержащие на поверхности органические функциональные группы, такие как триалкилсилильные группы. Вышеупомянутый органические поверхностные группы подвергаются термическому разложению в течение стадии обжига или плавления неорганического связующего материала или не позднее чем в течение образования имеющего высокий показатель преломления эмалевого слоя.
Неорганические частицы, которые используются согласно настоящему изобретению, в том числе сферические или несферические частицы, имеют средний эквивалентный сферический диаметр, который измеряется методом динамического светорассеяния и составляет от 0,3 мкм до 10 мкм, предпочтительно от 0,5 мкм до 8 мкм и предпочтительнее от 0,8 мкм до 7 мкм, причем эквивалентный сферический диаметр имеющих неправильную форму частиц определяется как диаметр сферы, имеющей такой же объем, как неорганическая частица.
Однако средний эквивалентный сферический диаметр не представляет собой единственный параметр размера, который следует учитывать, выбирая неорганические частицы для использования согласно настоящему изобретению. Преимущественно в числе неорганических частиц практически отсутствуют имеющие большие размеры частицы, которые выступали бы не только из неорганического связующего материала, но также из имеющего высокий показатель преломления выравнивающего слоя, и что затем вызывало бы токи утечки в конечном органическом светодиоде. Таким образом, в числе неорганических частиц, используемых согласно настоящему изобретению, предпочтительно практически отсутствуют частицы, у которых эквивалентный сферический диаметр составляет более чем 15 мкм и предпочтительно более чем 12 мкм.
Согласно предпочтительному варианту осуществления настоящего изобретения, неорганические частицы имеют показатель преломления, измеренный при длине волны 550 нм, составляющий от 1,67 до 1,79 и предпочтительно от 1,70 до 1,76, и в данном качестве выбираются, например, частицы, которые составляет, в основном, т. е., по меньшей мере, 90%, оксид алюминия (Al2O3).
Чтобы обеспечивать высокую эффективность светового выхода, важно изготавливать монослой, представляющий собой высокоплотную упаковку из неорганических частиц и имеющий промежуточный показатель преломления. Согласно настоящему изобретению монослой из частиц определяется как слой, у которого средняя толщина составляет менее чем средний эквивалентный сферический диаметр неорганических частиц, причем средняя толщина слоя из частиц представляет собой суммарный объем частиц, деленный на площадь поверхности зоны, которую покрывают частицы.
Имеющий высокоплотную упаковку слой означает, что частицы располагаются близко друг к другу или находятся в контакте друг с другом, и что существует весьма небольшая площадь поверхности покрытой области, которую не покрывают частицы. Согласно настоящему изобретению, неорганические частицы не покрывают предпочтительно менее чем 45%, предпочтительнее менее чем 30% и предпочтительнее менее чем 20% покрытой зоны. В этой области поверхности между частицами находятся в контакте имеющий низкий показатель преломления неорганический связующий материал и имеющий высокий показатель преломления выравнивающий слой, и поверхность раздела не разделяется на две поверхности раздела.
Чтобы получать имеющий высокоплотную упаковку монослой, важно тщательно выбирать количество неорганических частиц на единицу площади поверхности. Это количество составляет, как правило, от 2 г/м2 до 20 г/м2.
Чтобы убедиться в том, что в конечном продукте неорганические частицы не погружаются в имеющий низкий показатель преломления неорганический связующий материал и в значительной степени выступают из него, необходимо тщательно выбирать количество неорганического связующего материала по отношению к количеству неорганических частиц. Если неорганический связующий материал используется в чрезмерно больших количествах, неорганические частицы и имеющий высокий показатель преломления выравнивающий слой не будут находиться в контакте. С другой стороны, в том случае, если количество неорганического связующего материала является чрезмерно малым по отношению к неорганическим частицам, прочность прикрепления с помощью неорганического связующего материала является чрезмерно низкой, и получаемый в результате неорганический слой становится чрезмерно хрупким и легко подвергается повреждению в процессе обработки.
Заявитель обнаружил, что объемное соотношение неорганических частиц и неорганического связующего материала составляет преимущественно от 0,4 до 5, предпочтительно от 0,6 до 4 и предпочтительнее от 0,9 до 3,0. Массовое соотношение, в котором присутствуют неорганические частицы и стеклокерамический припой или сухое вещество золя, составляет от 0,5 до 8 и предпочтительно от 1 до 5.
Имеющая высокий показатель преломления эмаль (c) должна иметь достаточную толщину, чтобы полностью покрывать и выравнивать профиль шероховатости монослоя из неорганических частиц (b).
Толщина имеющего высокий показатель преломления слоя (c) составляет преимущественно от 3 мкм до 20 мкм, предпочтительно от 4 мкм до 15 мкм и предпочтительнее от 5 мкм до 12 мкм. Толщина имеющего высокий показатель преломления слоя здесь определяется как среднее расстояние между средними линиями (определяется согласно стандарту ISO 4287, 3.1.8.1) профиля шероховатости монослоя из частиц, выступающих из имеющего низкий показатель преломления неорганического связующего материала, и профиля шероховатости конечного имеющего высокий показатель преломления слоя.
Поверхностная шероховатость конечного имеющего высокий показатель преломления слоя предпочтительно должна быть минимальной, насколько это возможно, и имеющая высокий показатель преломления эмаль преимущественно имеет среднее арифметическое отклонение Ra, составляющее менее чем 3 нм, предпочтительнее менее чем 2 нм и наиболее предпочтительно менее чем 1 нм.
В имеющем высокий показатель преломления слое предпочтительно практически отсутствуют диспергированные в нем рассеивающие элементы; в частности, отсутствуют диспергированные в нем рассеивающие твердые частицы. По существу, такие твердые рассеивающие частицы могли бы нежелательно выступать из поверхности имеющего высокий показатель преломления слоя и вызывать токи утечки в конечном органическом светодиоде.
Как разъяснено выше, когда вставляется промежуточный слой, который разделяет имеющий низкий показатель преломления неорганический связующий материал и имеющий высокий показатель преломления выравнивающий слой, исходная нерассеивающая поверхность раздела разделяется на две рассеивающие поверхности раздела, каждая из которых имеет профиль шероховатости, который проиллюстрирован на фиг. 3.
Профили шероховатости первой (Di1) и второй (Di2) рассеивающих поверхностей раздела независимо имеют среднее арифметическое отклонение Ra, которое составляет от 0,1 и 5 мкм, предпочтительно от 0,2 до 4 мкм и предпочтительнее составляет от 0,3 до 3 мкм. Среднее арифметическое отклонение Ra определяется согласно стандарту ISO 4287. Его можно измерять для конечного продукта методом сканирующей электронной микроскопии (SEM) поперечных сечений образца посредством построения профиля с использованием анализа изображений или перед выравниванием, используя измерение профиля поверхности, или методом трехмерной лазерной микроскопии для первой поверхности раздела между выравнивающим слоем и слоем связующего материала с частицами.
Согласно предпочтительному варианту осуществления настоящего изобретения, прозрачная рассеивающая подложка для органических светодиодов дополнительно включает прозрачный электропроводящий слой (d), с которым в непосредственном контакте находится имеющий высокий показатель преломления эмалевый слой (c).
Такие прозрачные электропроводящие слои, которые можно использовать в качестве анодов для органических светодиодов, являются хорошо известными на предшествующем уровне техники. Наиболее распространенный используемый материал представляет собой двойной оксид индия и олова (ITO). Прозрачный электропроводящий слой должен иметь светопропускание, составляющее, по меньшей мере, 80%, и его показатель преломления составляет от 1,7 до 2,2. Его суммарная толщина, как правило, составляет от 50 до 200 нм.
Как упомянуто выше, настоящее изобретение также предлагает два различных способа изготовления подложки для органических светодиодов согласно настоящему изобретению.
Первый способ изготовления такой подложки для органических светодиодов включает следующие последовательные стадии:
(1) изготовление прозрачной плоской подложки, выполненной из неорганического стекла, у которого показатель преломления n1 составляет от 1,48 до 1,58;
(2) диспергирование неорганических частиц, имеющих показатель преломления n3, в золе, по меньшей мере, одного предшественника неорганического связующего материала, у которого показатель преломления n2 составляет от 1,45 до 1,61;
(3) нанесение полученной в результате дисперсии на одну сторону подложки в таком количестве, при котором образуется монослой из неорганических частиц,
(4) высушивание и обжиг полученного слоя посредством нагревания, в результате которого образуется слой, представляющий собой монослой из неорганических частиц, прикрепленных к подложке посредством неорганического связующего материала, у которого показатель преломления n2 составляет от 1,45 до 1,61,
(5) покрытие монослоя из неорганических частиц слоем имеющего высокий показатель преломления стеклоприпоя, у которого показатель преломления n4 составляет от 1,82 до 2,10,
(6) высушивание и плавление вышеупомянутого стеклоприпоя таким образом, что получается имеющий высокий показатель преломления эмалевый слой, у которого показатель преломления n4 составляет от 1,82 до 2,10, и который покрывает монослой из неорганических частиц;
причем неорганические частицы выбирают таким образом, чтобы иметь показатель преломления n3, составляющий от n2+0,08 до n4-0,08.
Этот первый способ далее называется термином «золь-гелевый способ». Плоские стеклянные подложки, изготовленные на стадии (1) как правило, имеют толщину, которая составляет от 0,1 до 5 мм и предпочтительно от 0,3 до 1,6 мм.
На стадии (2) неорганические частицы, которые описаны выше, суспендируются в золе, по меньшей мере, одного предшественника неорганического связующего материала. Вышеупомянутый предшественник предпочтительно выбирается из группы, которую составляют силикат натрия, силикат калия, силикат лития, тетраалкоксисиланы, предпочтительно тетраэтоскисиланы, алкоксиды титана, алкоксиды алюминия, алкоксиды циркония или их смеси. Алкоксиды циркония и алкоксиды титана используются в смесях с другими предшественниками в достаточно малых количествах, чтобы не превышать максимальный показатель преломления (1,61) конечного неорганического связующего материала.
Получаемая в результате суспензия на стадии (3) затем наносится на одну сторону плоской подложки известными способами, такими как, например, покрытие методом погружения, покрытие с помощью валика, центробежное покрытие или экструзионное покрытие.
Растворитель фазы золя затем испаряется, и высушенный слой направляется на стадию обжига. Высушивание и обжиг на стадии (4) преимущественно осуществляется посредством нагревания при температуре, составляющей, по меньшей мере, 100°C, предпочтительно от 100°C до 300°C и предпочтительнее от 110 до 200°C. Когда используемые неорганические частицы представляют собой модифицированные органическими группами частицы, на поверхности которых присутствуют органические группы, такие как алкилсилильные группы, обжиг следует осуществлять при достаточно высокой температуре, чтобы происходило термическое разложение этих поверхностных групп.
На стадии (5) имеющий высокий показатель преломления стеклокерамический припой затем наносится на спеченный слой, включающий неорганические частицы, любым подходящим способом, таким как трафаретная печать, покрытие распылением, покрытие ракелем, покрытие валиком, экструзионное покрытие и центробежное покрытие, в форме водной или органической суспензии вышеупомянутого стеклоприпоя. Описание подходящих имеющих высокий показатель преломления стеклокерамических припоев и способов нанесения соответствующих покрытий и их обжига можно найти, например, в европейском патенте № 2178343.
Стеклокерамический припой следует выбирать таким образом, чтобы его температура плавления составляла от 450°C до 570°C, и из него должна образовываться эмаль, у которой показатель преломления составляет от 1,8 до 2,1.
Предпочтительные стеклокерамические припои имеют следующий состав:
Bi2O3: от 55 до 75мас.%
BaO: от 0 до 20 мас.%
ZnO: от 0 до 20мас.%
Al2O3: от 1 до 7 мас.%
SiO2: от 5 до 15 мас.%
B2O3: от 5 до 20 мас.%
Na2O: от 0,1 до 1 мас.%
CeO2: от 0 до 0,1 мас.%
Согласно типичному варианту осуществления, смешивают от 70 до 80 мас.% частиц и стеклоприпоя и от 20 до 30 мас.% органического наполнителя (этилцеллюлоза и органический растворитель). Полученную в результате пасту стеклоприпоя затем наносят на рассеивающую покрытую стеклянную подложку методом трафаретной печати или экструзионного покрытия. Полученный слой высушивают посредством нагревания при температуре от 120 до 200°C. Органический связующий материал (этилцеллюлоза) выжигается при температуре от 350 до 440°C, и стадия обжига, в результате которой получается конечная эмаль, осуществляется при температуре, составляющей от 510°C до 610°C и предпочтительно от 520°C до 600°C.
Показано, что получаемые в результате эмали имеют поверхностную шероховатость при среднем арифметическом отклонении Ra, составляющем менее чем 3 нм при измерении согласно стандарту ISO 4287 методом атомно-силовой микроскопии (AFM) на площади, имеющей размеры 10 мкм×10 мкм.
Количество имеющего высокий показатель преломления стеклоприпоя, которое наносится на монослой из неорганических частиц, составляет, как правило, от 20 до 200 г/м2, предпочтительно от 25 до 150 г/м2, предпочтительнее от 30 до 100 г/м2 и наиболее предпочтительно от 35 до 70 г/м2.
В имеющем высокий показатель преломления стеклоприпое, который используется согласно настоящему изобретению, и в эмали, которая образуется из него, практически не содержатся твердые рассеивающие частицы, такие как кристаллические частицы SiO2 или TiO2. Такие частицы обычно используются в качестве рассеивающих элементов в имеющих высокий показатель преломления рассеивающих слоях, но, как правило, для этого требуется дополнительный выравнивающий слой, и в результате этого увеличивается суммарная толщина имеющего высокий показатель преломления покрытия.
Второй способ изготовления подложки для органических светодиодов согласно настоящему изобретению далее будет называться термином «способ плавления».
Он отличается от золь-гелевого способа, который описан выше, только способом прикрепления неорганических частиц к стеклянной подложке. Это прикрепление осуществляется не посредством превращения в гель золя предшественников, а посредством плавления стеклоприпоя.
Способ плавления согласно настоящему изобретению включает следующие последовательные стадии:
(1) изготовление прозрачной плоской подложки, состоящей из неорганического стекла, у которого показатель преломления n1 составляет от 1,48 до 1,58;
(2) нанесение на одну сторону вышеупомянутой подложки имеющего низкий показатель преломления стеклоприпоя, у которого показатель преломления составляет от 1,45 до 1,61, в смеси с неорганическими частицами, имеющими показатель преломления n3 и температуру стеклования (Tg) или температуру плавления, которая, по меньшей мере, на 50°C превышает температуру стеклования стеклоприпоя;
(3) нагревание полученного слоя стеклоприпоя до температуры, обеспечивающей плавление стеклоприпоя без плавления неорганических частиц, в результате чего образуется слой, представляющий собой монослой из неорганических частиц, прикрепленных к подложке посредством неорганического связующего материала, имеющего показатель преломления n2;
(4) покрытие монослоя из неорганических частиц слоем имеющего высокий показатель преломления стеклоприпоя, у которого показатель преломления составляет от 1,82 до 2,10;
(5) высушивание и плавление вышеупомянутого имеющего высокий показатель преломления стеклоприпоя таким образом, что получаются имеющая высокий показатель преломления эмаль, у которой показатель преломления n4 составляет от 1,82 до 2,10, и покрывающий монослой из неорганических частиц, причем неорганические частицы выбираются таким образом, чтобы иметь показатель преломления n3, составляющий от n2+0,08 до n4-0,08.
Как и в случае золь-гелевого способа, плоский стеклянные подложки, изготовленные на стадии (1) имеют толщину, составляющую преимущественно от 0,1 до 5 мм и предпочтительно от 0,3 до 1,6 мм.
На стадии (2) частицы стеклоприпоя и неорганические частицы смешивают и суспендируют, используя традиционный органический наполнитель, включающий органический растворитель и органический полимер. Суспензию затем наносят согласно известным технологиям, таким как трафаретная печать или экструзионное покрытие. Неорганические частицы могут быть аморфными, кристаллическими или полукристаллическими. Они не должны плавиться или размягчаться в существенной степени в течение последующей стадии плавления (4) стеклоприпоя. По этой причине температура плавления кристаллических частиц или температура стеклования аморфной фракции частиц должна значительно превосходить температуру стеклования стеклоприпоя, т. е. составлять более чем температура стеклования стеклоприпоя, по меньшей мере, на 50°C и предпочтительнее, по меньшей мере, на 100°C.
В технике хорошо известны имеющие низкий показатель преломления стеклоприпои, которые можно использовать согласно настоящему изобретению для прикрепления неорганических частиц к стеклянным подложкам.
Предпочтительные имеющие низкий показатель преломления стеклоприпои имеют следующий состав:
SiO2: от 10 до 40 мас.%
Al2O3: от 1 до 7мас.%
B2O3: от 20 до 50 мас.%
Na2O+Li2O+K2O: от 5 до 30 мас.%
ZnO: от 3 до 35 мас.%
На стадии (3) способа плавления покрытая стеклоприпоем и частицами подложка направляется на обжиг при достаточно высокой температуре, чтобы осуществлялось плавление стеклоприпоя. Чтобы осуществить полное плавление стеклоприпоя и получить достаточно низкую вязкость, как правило, оказывается необходимым нагревание подложки до температуры, которая, по меньшей мере, на 100°C превышает температуру стеклования стеклоприпоя, и сохранение этой температуры в течение приблизительно от 2 до 30 минут.
Согласно типичному варианту осуществления, смешивают от 70 до 80 мас.% частиц и стеклоприпоя и от 20 до 30 мас.% органического наполнителя (этилцеллюлоза и органический растворитель). Полученную в результате пасту затем наносят на стеклянную подложку, осуществляя, например, трафаретную печать или экструзионное покрытие. Полученный в результате слой высушивают посредством нагревания при температуре от 120 до 200°C. Органический связующий материал (этилцеллюлоза) выжигается при температуре от 350 до 440°C, и стадия обжига, в результате которой образуется конечный эмаль, осуществляется при температуре, составляющей от 510°C до 610°C и предпочтительно от 520°C до 600°C.
Стадии (4) и (5) способа плавления являются такими же, как стадии (5) и (6) описанного выше золь-гелевого способа.
Рассеивающие подложки, выровненные имеющей высокий показатель преломления эмалью, являются особенно пригодными для использования в качестве подложек для органических светодиодов с направленным вниз излучением. Прозрачный электропроводящий слой должен наноситься на поверхность имеющей высокий показатель преломления эмали перед нанесением друг на друга органических светоизлучающих слоев.
Таким образом, согласно предпочтительному варианту осуществления настоящего изобретения, способ также включает дополнительную стадию покрытия имеющей высокий показатель преломления эмали прозрачным электропроводящим слоем, предпочтительно прозрачным электропроводящим оксидом, таким как ITO. Образование такого прозрачного электропроводящего слоя можно осуществлять, используя традиционные способы, такие как магнетронное напыление.
Фиг. 3 представляет схематическое изображение сечения подложки для органических светодиодов согласно настоящему изобретению. Сфероидальные частицы 3 оксида алюминия, у которого показатель преломления n3 составляет 1,76, прикрепляются посредством имеющего низкий показатель преломления связующего материала 2, у которого показатель преломления n2 составляет 1,54, на стеклянную подложку 1, у которой показатель преломления n1 является таким же, как n2. Частицы 3 не полностью погружаются в связующий материал 2, и их верхние части выступают из него и находятся в контакте с имеющим высокий показатель преломления выравнивающим слоем 4, у которого показатель преломления n4 составляет 1,90. Когда частицы неплотно прилегают друг к другу, между ними образуется пространство, где имеющий высокий показатель преломления слой 4 находится в непосредственном контакте с имеющим низкий показатель преломления связующим материалом 2. За счет монослоя из частиц образуются две рассеивающие поверхности раздела: первая рассеивающая поверхность раздела Di1, где частицы 3 находятся в контакте с имеющим высокий показатель преломления выравнивающим слоем 4, и вторая рассеивающая поверхность раздела Di2, где частицы 3 находятся в контакте с имеющим низкий показатель преломления связующим материалом. Прозрачный электропроводящий слой 5 наносится на имеющий высокий показатель преломления выравнивающий слой 4.
ПРИМЕР 1
Имеющий низкий показатель преломления стеклоприпой (15 мас. ч.) смешивали с частицами Al2O3 (20 мас. ч.), у которых средний эквивалентный диаметр составлял 6 мкм. Полученный в результате порошок диспергировали, используя 70 мас. ч. органической среды и осуществляя измельчение в трехвалковой мельнице.
Используемый имеющий низкий показатель преломления стеклоприпой имел следующий состав: 28,4 мас.% SiO2; 3,6 мас.% Al2O3; 39,5 мас.% B2O3; 15,9 мас.% оксидов щелочных металлов (Na2O, Li2O, K2O); 12,6 мас.% ZnO. Он имел показатель преломления 1,54 и температуру стеклования Tg 484°C.
Полученную в результате суспензию наносили методом трафаретной печати на подложку из натриево-кальциево-силикатного стекла толщиной 0,7 мм при полной поверхностной плотности в сухом состоянии 13 г/м2, а затем осуществляли высушивание при 150°C. Высушенное покрытие обжигали при 600°C в течение 20 минут в инфракрасной печи.
На полученную в результате подложку с обожженным слоем из частиц затем наносили методом трафаретной печати суспензию имеющего высокий показатель преломления стеклоприпоя (n=1,90).
Покрытие затем высушивали при 150°C и обжигали в течение 10 минут при 545°C в инфракрасной печи.
ПРИМЕР 2
С помощью ультразвука диспергировали 20 г порошка оксида алюминия, имеющего средний диаметр частиц 6 мкм, в 150 г 2-метоксипропанола. В полученную дисперсию добавляли 30 г вещества для обработки поверхности Xenios® Surface Perfection (Evonik GmbH).
Полученную в результате дисперсию затем наносили на чистую стеклянную подложку, осуществляя покрытие методом погружения, и высушивали в течение приблизительно одной минуты при 120°C. Высушенную покрытую подложку затем нагревали при скорости 5°C/мин до температуры 500°C и обжигали в течение 5 минут при этой температуре.
На полученный в результате слой затем наносили методом трафаретной печати суспензию имеющего высокий показатель преломления стеклоприпоя (n=1,90). Покрытие высушивали при 150°C и подвергали обжигу в течение 10 минут при 545°C в инфракрасной печи.
Claims (32)
1. Прозрачная рассеивающая подложка для органических светодиодов, включающая следующие последовательные элементы или слои:
(a) прозрачная плоская подложка, состоящая из неорганического стекла, имеющего показатель преломления n1 от 1,48 до 1,58,
(b) монослой из неорганических частиц, прикрепленный к одной стороне подложки посредством имеющего низкий показатель преломления неорганического связующего материала, показатель преломления n2 которого составляет от 1,45 до 1,61, и
(c) имеющий высокий показатель преломления слой, изготовленный из эмали, показатель преломления n4 которой составляет от 1,82 до 2,10, и покрывающий монослой из неорганических частиц,
причем неорганические частицы имеют показатель преломления n3 от n2+0,08 до n4-0,08 и выступают из имеющего низкий показатель преломления неорганического связующего материала таким образом, что они находятся в непосредственном контакте с имеющим высокий показатель преломления слоем, в результате чего образуются первая рассеивающая поверхность раздела (Di1) между неорганическими частицами и имеющим низкий показатель преломления связующим материалом и вторая рассеивающая поверхность раздела (Di2) между неорганическими частицами и имеющим высокий показатель преломления слоем.
2. Подложка по п. 1, в которой неорганические частицы имеют средний эквивалентный сферический диаметр, который составляет от 0,3 мкм до 10 мкм, предпочтительно от 0,5 мкм до 8 мкм и предпочтительнее от 0,8 мкм до 7 мкм.
3. Подложка по п. 1, в которой n1 составляет от 1,50 до 1,56 и n2 составляет от 1,47 до 1,59.
4. Подложка по п. 1, в которой в неорганических частицах практически отсутствуют частицы, у которых эквивалентный сферический диаметр составляет более чем 15 мкм.
5. Подложка по п. 1, в которой показатель преломления имеющего высокий показатель преломления слоя составляет от 1,85 до 2,05 и предпочтительно от 1,90 до 2,00.
6. Подложка по п. 1, в которой толщина имеющего высокий показатель преломления слоя составляет от 3 мкм до 20 мкм, предпочтительно от 4 мкм до 15 мкм и предпочтительнее от 5 мкм до 12 мкм.
7. Подложка по п. 1, в которой неорганические частицы представляют собой частицы оксида алюминия.
8. Подложка по п. 1, в которой профиль шероховатости первой и второй рассеивающих поверхностей раздела имеет среднее арифметическое отклонение Ra, составляющее от 0,1 до 5 мкм, предпочтительно от 0,2 до 4 мкм и предпочтительнее от 0,3 до 3 мкм.
9. Подложка по п. 1, в которой объемное отношение неорганических частиц и имеющего низкий показатель преломления неорганического связующего материала составляет от 0,4 до 5, предпочтительно от 0,6 до 4 и предпочтительнее от 0,9 до 3.
10. Подложка по п. 1, дополнительно включающая прозрачный электропроводящий слой, покрывающий имеющий высокий показатель преломления эмалевый слой.
11. Способ изготовления прозрачной рассеивающей подложки для органических светодиодов по любому из предшествующих пунктов, включающий следующие последовательные стадии:
(1) изготовление прозрачной плоской подложки, выполненной из неорганического стекла, показатель преломления n1 которого составляет от 1,48 до 1,58;
(2) диспергирование неорганических частиц, имеющих показатель преломления n3, в золе по меньшей мере одного предшественника неорганического связующего материала, у которого показатель преломления n2 составляет от 1,45 до 1,61;
(3) нанесение полученной в результате дисперсии на одну сторону подложки в таком количестве, при котором образуется монослой из неорганических частиц,
(4) высушивание и обжиг полученного слоя посредством нагревания, в результате чего образуется слой, представляющий собой монослой из неорганических частиц, прикрепленных к подложке посредством неорганического связующего материала, имеющего показатель преломления n2,
(5) покрытие монослоя из неорганических частиц слоем имеющего высокий показатель преломления стеклоприпоя, показатель преломления n4 которого составляет от 1,82 до 2,10,
(6) высушивание и плавление вышеупомянутого стеклоприпоя таким образом, что получается имеющий высокий показатель преломления эмалевый слой, показатель преломления n4 которого составляет от 1,82 до 2,10, покрывающий монослой из неорганических частиц;
причем неорганические частицы выбирают таким образом, чтобы они имели показатель преломления n3, составляющий от n2+0,08 до n4-0,08.
12. Способ по п. 11, в котором по меньшей мере один предшественник неорганического связующего материала выбирается из группы, которую составляют силикаты натрия, калия и лития, тетраалкоксисиланы, алкоксиды титана, алкоксиды алюминия и алкоксиды циркония.
13. Способ по п. 12, в котором высушивание и обжиг на стадии (4) осуществляется посредством нагревания при температуре, составляющей по меньшей мере 100°C, предпочтительно от 100°C до 300°C и предпочтительнее от 110°C до 200°C.
14. Способ изготовления прозрачной рассеивающей подложки для органических светодиодов по любому из пп. 1-10, включающий следующие стадии:
(1) изготовление прозрачной плоской подложки, выполненной из неорганического стекла, показатель преломления n1 которого составляет от 1,48 до 1,58;
(2) нанесение на одну сторону вышеупомянутой подложки имеющего низкий показатель преломления стеклоприпоя, показатель преломления которого составляет от 1,45 до 1,61, в смеси с неорганическими частицами, имеющими показатель преломления n3 и температуру стеклования (Tg) или температуру плавления, превышающую по меньшей мере на 50°C температуру стеклования стеклоприпоя;
(3) нагревание полученного слоя стеклоприпоя до температуры, обеспечивающей плавление стеклоприпоя без плавления неорганических частиц, в результате чего получается слой, представляющий собой монослой из неорганических частиц, прикрепленных к подложке посредством неорганического связующего материала, имеющего показатель преломления n2;
(4) покрытие монослоя из неорганических частиц слоем имеющего высокий показатель преломления стеклоприпоя, показатель преломления которого составляет от 1,82 до 2,10;
(5) высушивание и плавление вышеупомянутого имеющего высокий показатель преломления стеклоприпоя таким образом, что получается имеющая высокий показатель преломления эмаль, имеющая показатель преломления n4, который составляет от 1,82 до 2,10, и покрывающая монослой из неорганических частиц,
причем неорганические частицы выбирают таким образом, чтобы они имели показатель преломления n3, составляющий от n2+0,08 до n4-0,08.
15. Способ по п 11 или 14, в котором массовое отношение неорганических частиц и стеклоприпоя или сухого вещества золя составляет от 0,5 до 8 и предпочтительно от 1 до 5.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP13172085.6A EP2814078B1 (en) | 2013-06-14 | 2013-06-14 | Transparent diffusive oled substrate and method for producing such a substrate |
EP13172085.6 | 2013-06-14 | ||
PCT/EP2014/062452 WO2014198938A1 (en) | 2013-06-14 | 2014-06-13 | Transparent diffusive oled substrate and method for producing such a substrate |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2016100768A RU2016100768A (ru) | 2017-07-20 |
RU2016100768A3 RU2016100768A3 (ru) | 2018-03-01 |
RU2654347C2 true RU2654347C2 (ru) | 2018-05-17 |
Family
ID=48607163
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2016100768A RU2654347C2 (ru) | 2013-06-14 | 2014-06-13 | Прозрачная рассеивающая подложка для органических светодиодов и способ изготовления такой подложки |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9412958B2 (ru) |
EP (1) | EP2814078B1 (ru) |
JP (1) | JP6117995B2 (ru) |
KR (1) | KR20160021109A (ru) |
CN (1) | CN105393378B (ru) |
ES (1) | ES2564141T3 (ru) |
MY (1) | MY184794A (ru) |
RU (1) | RU2654347C2 (ru) |
TW (1) | TWI630116B (ru) |
WO (1) | WO2014198938A1 (ru) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2803644B1 (en) * | 2013-05-17 | 2018-08-08 | Saint-Gobain Glass France | Transparent diffusive oled substrate and method for producing such a substrate |
JP6573160B2 (ja) * | 2014-09-17 | 2019-09-11 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 発光素子 |
EP3428739B1 (fr) | 2017-07-14 | 2020-06-24 | The Swatch Group Research and Development Ltd | Ensemble d'affichage |
KR20190102615A (ko) | 2018-02-26 | 2019-09-04 | 고려대학교 산학협력단 | 고효율 광산란층의 제조방법 |
KR102144987B1 (ko) | 2018-08-13 | 2020-08-14 | 고려대학교 산학협력단 | 굴절률 조절이 가능한 나노입자, 이를 포함하는 광산란층, 및 그 제조방법 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005353367A (ja) * | 2004-06-09 | 2005-12-22 | Toshiba Corp | 有機エレクトロルミネッセンス素子およびその製造方法 |
US20070200496A1 (en) * | 2006-02-24 | 2007-08-30 | Eastman Kodak Company | OLED device having improved light output |
US20070267966A1 (en) * | 2004-05-26 | 2007-11-22 | Nissan Chemical Industries Limited | Planar Luminous Body |
US20110284907A1 (en) * | 2007-07-27 | 2011-11-24 | Asahi Glass Company, Limited | Translucent substrate, process for producing the same, organic led element and process for producing the same |
WO2012091415A2 (ko) * | 2010-12-27 | 2012-07-05 | 주식회사 엘지화학 | 유기발광소자용 기판 및 그 제조방법 |
EP2490506A1 (en) * | 2009-10-15 | 2012-08-22 | Asahi Glass Company, Limited | Organic led element, glass frit for diffusion layer for use in organic led element, and method for production of diffusion layer for use in organic led element |
US20120313134A1 (en) * | 2010-01-22 | 2012-12-13 | Saint-Gobain Glass France | Glass substrate coated with a high-index layer under an electrode coating, and organic light-emitting device comprising such a substrate |
RU2012103843A (ru) * | 2009-07-06 | 2013-08-20 | Аркема Инк. | Подложка органического светоизлучающего диода, состоящая из прозрачного проводящего оксида (тсо) и антирадужного промежуточного слоя |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11156951A (ja) * | 1997-12-01 | 1999-06-15 | Sony Corp | 球体配置の画像化方法、測定方法及び装置、並びに、平面型レンズの製造方法及び装置 |
JP3899011B2 (ja) * | 2001-10-25 | 2007-03-28 | 松下電工株式会社 | 面発光体 |
JP2007134339A (ja) * | 2001-10-25 | 2007-05-31 | Matsushita Electric Works Ltd | 面発光体 |
TWI311820B (en) * | 2005-06-07 | 2009-07-01 | Fujikura Ltd | Substrate for mounting light-emitting element, light-emitting element module, iluumination apparatus, display apparatus, and traffic signal device |
US7851995B2 (en) * | 2006-05-05 | 2010-12-14 | Global Oled Technology Llc | Electroluminescent device having improved light output |
JP5536977B2 (ja) * | 2007-03-30 | 2014-07-02 | パナソニック株式会社 | 面発光体 |
US8530916B2 (en) * | 2007-08-27 | 2013-09-10 | Panasonic Corporation | Organic EL device |
US8247959B2 (en) * | 2007-10-17 | 2012-08-21 | General Electric Company | Solid state illumination system with improved color quality |
JP2010074117A (ja) * | 2007-12-07 | 2010-04-02 | Panasonic Electric Works Co Ltd | 発光装置 |
US7957621B2 (en) * | 2008-12-17 | 2011-06-07 | 3M Innovative Properties Company | Light extraction film with nanoparticle coatings |
KR20110108373A (ko) * | 2009-01-26 | 2011-10-05 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 전자 디바이스용 기판의 제조 방법, 전자 디바이스의 제조 방법, 전자 디바이스용 기판 및 전자 디바이스 |
JP5578987B2 (ja) * | 2010-08-23 | 2014-08-27 | ユー・ディー・シー アイルランド リミテッド | 微粒子層転写材料、並びに有機電界発光素子及びその製造方法 |
KR20120024358A (ko) * | 2010-09-06 | 2012-03-14 | 주식회사 엘지화학 | 유기전자소자용 기판 및 그 제조방법 |
JP5887936B2 (ja) * | 2010-09-30 | 2016-03-16 | 三菱レイヨン株式会社 | モールド、面発光体用光取り出し基板、面発光体、太陽電池用保護板および薄膜系太陽電池 |
JP5938757B2 (ja) * | 2011-11-25 | 2016-06-22 | 三星電子株式会社Samsung Electronics Co.,Ltd. | 発光素子基板とその製造方法、面発光素子、照明器具およびバックライト |
CN102621607A (zh) * | 2011-04-02 | 2012-08-01 | 南京第壹有机光电有限公司 | 一种微纳米膜、其制备方法及使用该微纳米膜的器件 |
EP2712851B1 (en) | 2012-09-28 | 2015-09-09 | Saint-Gobain Glass France | Method of producing a transparent diffusive oled substrate |
ES2693105T3 (es) | 2013-05-17 | 2018-12-07 | Saint-Gobain Glass France | Sustrato OLED difusivo transparente y método para producir semejante sustrato |
EP2803644B1 (en) | 2013-05-17 | 2018-08-08 | Saint-Gobain Glass France | Transparent diffusive oled substrate and method for producing such a substrate |
-
2013
- 2013-06-14 EP EP13172085.6A patent/EP2814078B1/en not_active Not-in-force
- 2013-06-14 ES ES13172085.6T patent/ES2564141T3/es active Active
-
2014
- 2014-05-29 TW TW103118799A patent/TWI630116B/zh not_active IP Right Cessation
- 2014-06-13 WO PCT/EP2014/062452 patent/WO2014198938A1/en active Application Filing
- 2014-06-13 JP JP2016518519A patent/JP6117995B2/ja active Active
- 2014-06-13 CN CN201480033523.4A patent/CN105393378B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2014-06-13 MY MYPI2015704519A patent/MY184794A/en unknown
- 2014-06-13 KR KR1020157034953A patent/KR20160021109A/ko active IP Right Grant
- 2014-06-13 US US14/897,781 patent/US9412958B2/en active Active
- 2014-06-13 RU RU2016100768A patent/RU2654347C2/ru active
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20070267966A1 (en) * | 2004-05-26 | 2007-11-22 | Nissan Chemical Industries Limited | Planar Luminous Body |
JP2005353367A (ja) * | 2004-06-09 | 2005-12-22 | Toshiba Corp | 有機エレクトロルミネッセンス素子およびその製造方法 |
US20070200496A1 (en) * | 2006-02-24 | 2007-08-30 | Eastman Kodak Company | OLED device having improved light output |
US20110284907A1 (en) * | 2007-07-27 | 2011-11-24 | Asahi Glass Company, Limited | Translucent substrate, process for producing the same, organic led element and process for producing the same |
RU2012103843A (ru) * | 2009-07-06 | 2013-08-20 | Аркема Инк. | Подложка органического светоизлучающего диода, состоящая из прозрачного проводящего оксида (тсо) и антирадужного промежуточного слоя |
EP2490506A1 (en) * | 2009-10-15 | 2012-08-22 | Asahi Glass Company, Limited | Organic led element, glass frit for diffusion layer for use in organic led element, and method for production of diffusion layer for use in organic led element |
US20120313134A1 (en) * | 2010-01-22 | 2012-12-13 | Saint-Gobain Glass France | Glass substrate coated with a high-index layer under an electrode coating, and organic light-emitting device comprising such a substrate |
WO2012091415A2 (ko) * | 2010-12-27 | 2012-07-05 | 주식회사 엘지화학 | 유기발광소자용 기판 및 그 제조방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201511956A (zh) | 2015-04-01 |
CN105393378B (zh) | 2017-07-28 |
EP2814078B1 (en) | 2016-02-10 |
TWI630116B (zh) | 2018-07-21 |
WO2014198938A1 (en) | 2014-12-18 |
JP2016526754A (ja) | 2016-09-05 |
CN105393378A (zh) | 2016-03-09 |
RU2016100768A (ru) | 2017-07-20 |
JP6117995B2 (ja) | 2017-04-19 |
KR20160021109A (ko) | 2016-02-24 |
RU2016100768A3 (ru) | 2018-03-01 |
EP2814078A1 (en) | 2014-12-17 |
ES2564141T3 (es) | 2016-03-18 |
MY184794A (en) | 2021-04-22 |
US20160126481A1 (en) | 2016-05-05 |
US9412958B2 (en) | 2016-08-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
RU2654347C2 (ru) | Прозрачная рассеивающая подложка для органических светодиодов и способ изготовления такой подложки | |
US10580944B2 (en) | Wavelength conversion member, light-emitting device, and method for manufacturing wavelength conversion member | |
JP5886065B2 (ja) | 光触媒膜を備えたガラス物品 | |
TWI555253B (zh) | 用於發光裝置之層壓板及製備層壓板之程序 | |
RU2656264C2 (ru) | Прозрачная рассеивающая подложка для органических светодиодов и способ изготовления такой подложки | |
RU2656261C2 (ru) | Прозрачная рассеивающая подложка для органических светодиодов и способ изготовления такой подложки | |
CN106488893B (zh) | 透明扩散性oled基板和制造这样的基板的方法 |