RU2620603C2 - Method of plasma ion working source and plasma ion source - Google Patents
Method of plasma ion working source and plasma ion source Download PDFInfo
- Publication number
- RU2620603C2 RU2620603C2 RU2015138373A RU2015138373A RU2620603C2 RU 2620603 C2 RU2620603 C2 RU 2620603C2 RU 2015138373 A RU2015138373 A RU 2015138373A RU 2015138373 A RU2015138373 A RU 2015138373A RU 2620603 C2 RU2620603 C2 RU 2620603C2
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- gas
- anode
- cathode
- discharge chamber
- diffuser
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J3/00—Details of electron-optical or ion-optical arrangements or of ion traps common to two or more basic types of discharge tubes or lamps
Abstract
Description
Изобретение относится к области получения пучков ионов и может быть использовано для решения научных и прикладных задач, в частности использоваться в ускорителях или масс-спектрометрии. Также может найти применение для обработки поверхностей различных изделий в вакууме.The invention relates to the field of obtaining ion beams and can be used to solve scientific and applied problems, in particular used in accelerators or mass spectrometry. It can also find application for surface treatment of various products in a vacuum.
Изобретение может найти применение при обработки поверхности и нанесения покрытий и наноструктур на поверхности различных изделий в вакууме, а также может найти применение в машиностроении для поверхностной термообработки, напыления, резки и сварки.The invention can find application in surface treatment and coating and nanostructures on the surface of various products in vacuum, and can also find application in mechanical engineering for surface heat treatment, spraying, cutting and welding.
Известен способ получения потока заряженных частиц и устройство для его осуществления [1].A known method of obtaining a flow of charged particles and a device for its implementation [1].
Способ включает подачу газа в пространство, ионизацию газа электронами до образования плазмы, наложение на плазму электрического поля, выделение с помощью источников поля потока ионов и нейтрализацию потока ионов электронами, при этом положительно заряженные источники электрического поля размещают внутри плазменного образования, с целью упрощения генерации квазинейтрального потока заряженных частиц, отрицательно заряженные источники поля размещают так, чтобы они охватывали плазменное образование, инжектируют с помощью источников поля электроны вдоль силовых линий поля, регистрируют положение внешней границы поверхности плазменного образования и изменяют площадь поверхности положительно заряженных источников поля пропорционально площади поверхности плазменного образования, причем отношение площадей указанных поверхностей выбирают в диапазоне 10-2 - 10-4.The method includes supplying gas into space, ionizing the gas with electrons to form a plasma, applying an electric field to the plasma, emitting an ion stream using field sources and neutralizing the ion stream with electrons, while positively charged electric field sources are placed inside the plasma formation, in order to simplify the generation of quasi-neutral flow of charged particles, negatively charged field sources are placed so that they cover the plasma formation, injected using sources Proportion electrons along the field lines, recorded position of the outer boundary surface of the plasma formation and alter the surface area of positively charged field sources proportion of the surface area of the plasma formation, and the area ratio of said surfaces is selected in the range of 10 -2 - 10 -4.
Данный способ был реализован с помощью устройства, которое содержит газоразрядную камеру, подключенную к отрицательному выводу источника напряжения, источник электронов, подключенный к источнику тока, систему напуска рабочего газа в камеру, формирующий электрод, выполненный в виде экранирующей сетки, и анод, размещенный внутри камеры и подключенный к положительному полюсу источника напряжения, причем отношение площади анода к площади внутренней поверхности камеры выбрано не более 10-2, с целью упрощения конструкции при генерации квазинейтрального потока заряженных частиц, экранирующая сетка выполнена в виде источника электронов и снабжена двумя изолированными токовыводами, подключенными к источнику тока, при этом один из токовыводов подключен к отрицательному полюсу источника напряжения, а отношение площади анода к площади внутренней поверхности камеры выбрано не менее 10-4.This method was implemented using a device that contains a gas discharge chamber connected to a negative terminal of a voltage source, an electron source connected to a current source, a system for supplying working gas to the chamber, forming an electrode made in the form of a shielding grid, and an anode placed inside the chamber and connected to the positive pole of the voltage source, and the ratio of the area of the anode to the area of the inner surface of the chamber is selected no more than 10 -2 , in order to simplify the design when generating quasi of a neutral flow of charged particles, the screening grid is made in the form of an electron source and is equipped with two isolated current outputs connected to a current source, while one of the current outputs is connected to the negative pole of the voltage source, and the ratio of the anode area to the area of the inner surface of the chamber is selected at least 10 -4 .
Наиболее близким к заявленному техническому решению, прототипом, являются плазменный источник ионов и способ его работы [2].Closest to the claimed technical solution, the prototype is a plasma ion source and method of operation [2].
Плазменный источник ионов содержит катодную камеру с газовводом, полый анод, образующий анодную камеру, сообщенную с катодной камерой через выходное отверстие, выполненное в стенке последней, электростатическую систему извлечения ионов с электроизолированным эмиссионным электродом, установленным в выходном отверстии анодной камеры, и магнитную систему, предназначенную для создания в катодной и анодной камерах магнитного поля с вектором индукции преимущественно осевого направления, содержит поджигной электрод, установленный в катодной камере и электрически соединенный с полым анодом, при этом в выходном отверстии катодной камеры установлен дополнительный электрод, который электрически изолирован от полого анода и катодной камеры, причем в дополнительном электроде выполнено осевое отверстие, диаметр d которого не превышает 0,1D, где D - максимальный внутренний поперечный размер полого анода.The plasma ion source contains a cathode chamber with a gas inlet, a hollow anode forming an anode chamber in communication with the cathode chamber through an outlet made in the wall of the latter, an electrostatic ion extraction system with an electrically insulated emission electrode installed in the outlet of the anode chamber, and a magnetic system designed for creating a magnetic field in the cathode and anode chambers with an induction vector of predominantly axial direction, contains a firing electrode mounted in the cathode a chamber and electrically connected to the hollow anode; in this case, an additional electrode is installed in the outlet of the cathode chamber, which is electrically isolated from the hollow anode and the cathode chamber, and in the additional electrode an axial hole is made, the diameter d of which does not exceed 0.1D, where D is maximum internal transverse dimension of the hollow anode.
Способ работы плазменного источника ионов, при осуществлении которого предварительно вводят рабочее плазмообразующее вещество через газоввод, размещенный в полости катодной камеры плазменного источника ионов, и подают напряжение на подвижной электрод, установленный в полости катодной камеры, на стенки катодной камеры и на полый анод, образующий анодную камеру, которая сообщена с катодной камерой через выходное отверстие последней, зажигают тлеющий разряд, образуют ионы за счет бомбардировки атомов рабочего газа электронами, в полостях катодной и анодной камер создают магнитное поле с вектором индукции преимущественно осевого направления, при этом величины напряжений выбирают достаточными для предварительного зажигания электрического разряда в полости катодной камеры между ее стенками и поджигным электродом и для последующего зажигания электрического разряда между катодной и анодной камерами через отверстие, выполненное в дополнительном электроде, который электроизолирован от полого анода и от катодной камеры и установлен в выходном отверстии последней, причем диаметр d указанного отверстия выбирают не более 0,1D, где D - максимальный внутренний поперечный размер полого анода.The method of operation of the plasma ion source, in the implementation of which the plasma-forming substance is first introduced through the gas inlet located in the cavity of the cathode chamber of the plasma ion source, and voltage is applied to the movable electrode installed in the cavity of the cathode chamber, to the walls of the cathode chamber and to the hollow anode forming the anode the chamber, which is in communication with the cathode chamber through the outlet of the latter, ignites a glow discharge, form ions by bombarding the working gas atoms with electrons, into the cavity x the cathode and anode chambers create a magnetic field with an induction vector of predominantly axial direction, while the voltage values are selected sufficient to pre-ignite an electric discharge in the cavity of the cathode chamber between its walls and the ignition electrode and for subsequent ignition of an electric discharge between the cathode and anode chambers through the hole, made in an additional electrode, which is electrically insulated from the hollow anode and from the cathode chamber and is installed in the outlet of the latter, m diameter d of the specified hole is chosen not more than 0.1D, where D is the maximum internal transverse dimension of the hollow anode.
Недостатком [2] является невозможность получения потока ионов при низких давлениях (от 10-2 Торр и ниже), что снижает чистоту процесса, а также сложность конструкции.The disadvantage of [2] is the inability to obtain an ion flow at low pressures (from 10 -2 Torr and below), which reduces the purity of the process, as well as the complexity of the design.
Технический результат в предлагаемых плазменном источнике ионов и способе его работы заключается в обеспечении получения потока ионов при давлении от 10-2 Торр и ниже, а также в упрощении способа и конструкции устройства.The technical result in the proposed plasma ion source and the method of its operation is to provide an ion flow at a pressure of 10 -2 Torr and below, as well as to simplify the method and design of the device.
Технический результат в способе работы плазменного источника ионов, при осуществлении которого в газоразрядную камеру предварительно вводят рабочий газ через газоввод, создают магнитное поле с вектором индукции преимущественно осевого направления относительно анода и катода, подают напряжение на анод и на полый катод, зажигают тлеющий разряд, образуют ионы за счет бомбардировки атомов рабочего газа электронами, достигается тем, что при зажигании тлеющего разряда устанавливают давление в газоразрядной камере ниже Р=10-2 Торр, создают разные концентрации частиц газа в различных областях межэлектродного пространства, за счет организации сверхзвукового потока рабочего газа в заданной области межэлектродного зазора в поперечном к электрическому полю направлении при скорости потока газа более V=300 м/с.The technical result in the method of operation of a plasma ion source, in which the working gas is preliminarily introduced through the gas inlet into the gas discharge chamber, a magnetic field is created with an induction vector of mainly axial direction relative to the anode and cathode, voltage is applied to the anode and to the hollow cathode, ignite a glow discharge, form ion bombardment due to the working gas atoms by electrons is achieved in that during ignition a glow discharge set the discharge pressure in the chamber below p = 10 -2 Torr create p znye concentration of gas particles in different regions of the interelectrode space, by arranging the supersonic flow of the working gas in a predetermined area of the interelectrode gap in a direction transverse to the electric field direction when a gas flow rate of V = 300 m / s.
Технический результат в устройстве плазменного источника ионов, содержащем откачную вакуумную систему, подключенную к газоразрядной камере, с размещенными в ней газовводом для рабочего газа, полым катодом, анодом, и магнитную систему, предназначенную для создания в разрядной камере магнитного поля с вектором индукции осевого направления, относительно анода и катода, достигается тем, что содержит конфузор, а газоввод выполнен как сверхзвуковое сопло, являющееся диффузором, причем конфузор и диффузор установлены в межэлектродном пространстве в газоразрядной камере соосно против друг друга таким образом, что ось конфузора и диффузора находится в поперечном к оси анода и катода направлении на заданном расстоянии относительно анода и катода.The technical result in a device of a plasma ion source containing a vacuum pump system connected to a gas discharge chamber with a gas inlet for the working gas, a hollow cathode, anode, and a magnetic system designed to create a magnetic field in the discharge chamber with an axial direction induction vector, relative to the anode and cathode, is achieved by the fact that it contains a confuser, and the gas inlet is made as a supersonic nozzle, which is a diffuser, and the confuser and diffuser are installed in the interelectrode space nstve in the discharge chamber coaxially against each other in such a way that the axis of the converging tube and the diffuser is in a direction transverse to the axis of the anode and the cathode direction by a predetermined distance relative to the anode and cathode.
На фиг. 1 изображен плазменный источник ионов.In FIG. 1 shows a plasma ion source.
На фиг. 2 изображено устройство плазменного источника ионов в работе, где схематично показаны тлеющий разряд при поперечном потоке газа и поток ионов.In FIG. 2 shows a device of a plasma ion source in work, where a glow discharge with a transverse gas flow and an ion flow are schematically shown.
На фиг. 3 схематично изображено взаимное расположение анода и катода с диффузором и конфузором.In FIG. 3 schematically shows the relative position of the anode and cathode with a diffuser and confuser.
Плазменный источник ионов (фиг. 1, фиг. 2, фиг. 3) содержит газоразрядную камеру 1 с патрубками подачи 2 рабочего газа и откачки 3 рабочего газа и газа из газоразрядной камеры 1 с размещенными в ней электродами - анодом 4 и полым катодом 5, источник питания постоянного тока 6, подключенный к аноду 4 и полому катоду 5, газоразрядная камера 1 имеет диффузор 7, выполненный в виде сверхзвукового сопла, и конфузор 8, причем диффузор 7 и конфузор 8 установлены в газоразрядной камере 1 соосно против друг друга. Электроды - анод 4 и полый катод 5 - размещены в газоразрядной камере 1 на расстоянии L=10÷400 мм друг от друга и более. Газоразрядная камера 1 выполнена любой формы, необходимой для реализации технологического процесса.The plasma ion source (Fig. 1, Fig. 2, Fig. 3) contains a
Патрубок подачи 2 рабочего газа соединен с диффузором 7, например, шлангом в газоразрядной камере 1. Патрубок подачи 2 рабочего газа соединен, например, шлангом вне газоразрядной камеры 1, через систему регулирования подачи и контроля расхода газа 9 с источником рабочего газа 10, например газовым баллоном.The working
Патрубки откачки 3 рабочего газа и газа из газоразрядной камеры 1 соединен с диффузором 8, например, шлангом в газоразрядной камере 1.The nozzles for pumping 3 working gas and gas from the
Патрубки откачки 3 рабочего газа и газа из газоразрядной камеры 1 соединен через каналы 11 с насосной системой 12, каналы 11 могут быть выполнены, например, в виде системы труб.The nozzles for pumping 3 working gas and gas from the
Системой изменения положения 13 изменяется положение диффузора 7 и конфузора 8 относительно межэлектродного пространства анода 4 и полого катода 5. Система изменения положения 13 может представлять собой конструкцию с закрепленными к рейке диффузором 7 и конфузором 8, а рейка, расположенная параллельно оси анода 4 и полого катода 5, перемещается за счет зубчатой передачи с шаговым двигателем.The
Магнитная система 14 установлена соосно, снаружи полого катода 5.The
На оси анода 4 и полого катода 5 вне межэлектродного зазора со стороны полого катода 5 устанавливается объект 15 на расстоянии, необходимом для проведения технологического процесса от полого катода 5.An
Рассмотрим предлагаемый способ осуществления тлеющего разряда с помощью устройства, изображенного на фиг. 1-3.Consider the proposed method for performing a glow discharge using the device shown in FIG. 1-3.
Насосной системой 12 в газоразрядной камере 1 достигается давление от Р=10-2 Торр и ниже. Включают источник питания постоянного тока 6 анода 4 и полого катода 5 в газоразрядной камере 1 для зажигания тлеющего разряда 16.The
В межэлектродный зазор через диффузор 7 подают сверхзвуковой поток рабочего газа 17, например аргон.In the interelectrode gap through the
При подаче сверхзвукового потока рабочего газа 17 концентрация пролетающих нейтральных частиц в межэлектродном пространстве увеличивается и тлеющий разряд 16 зажигается.When applying a supersonic flow of the working
Рабочий газ в диффузор 7 подается из патрубка 2 через систему регулирования подачи и контроля расхода газа 9 и источник рабочего газа 10. Системой регулирования подачи и контроля расхода газа 9 можно обеспечить необходимый расход и скорость сверхзвукового потока рабочего газа 17 после диффузора 7.The working gas in the
Диффузор 7 и конфузор 8 расположены таким образом, чтобы сверхзвуковой потока рабочего газа 17 из диффузора 7 полностью попадал в конфузор 8. Расстояние между диффузором 7 и конфузором 8 ограничено размерами камеры 1. Сверхзвуковой поток рабочего газа 17 из конфузора 8 и газы из камеры 1 откачиваются через каналы 11 насосной системой 12. Системой изменения положения 13 изменяется положение потока относительно межэлектродного пространства.The
Пройдя через ось анода 4 и полого катода 5, сверхзвуковой поток рабочего газа 17 попадает в конфузор 8, где происходит восстановление потока, и далее поток уходит через каналы 11 в насосную систему 12.After passing through the axis of the
Технологический процесс осуществляют при следующих параметрах тлеющего разряда: плотность тока разряда j=100÷500000 мА/м2; расстояние между электродами L=10÷400 мм; где j - плотность тока, мА/м2, L - расстояние между электродами, мм, Р - давление в камере 1. Магнитное поле в осевом направлении с величиной индукции В=0,01÷15 мТл. Например, при давлении Р=0,005 Торр, при j=500 мА/м2, L=50 мм. Через диффузор 7 в межэлектродный зазор подается поток рабочего газа 17, например аргон, при сверхзвуковой скорости, например V=400 м/с. Магнитное поле с величиной индукции поля В=8 мТл.The technological process is carried out at the following glow discharge parameters: discharge current density j = 100 ÷ 500000 mA / m 2 ; distance between electrodes L = 10 ÷ 400 mm; where j is the current density, mA / m 2 , L is the distance between the electrodes, mm, P is the pressure in the
Системой изменения положения 13 изменяется положение сверхзвукового потока рабочего газа 17 относительно межэлектродного пространства и регулируется заданное расстояние относительно анода 4 La и катода 5 Lk (Фиг. 3). La и Lk могут принимать любое положительное значение, удовлетворяющее условиюThe
Изменяя расход, скорость и состав потока рабочего газа 17, можно изменять вольтамперную характеристику тлеющего разряда 16. Также появляется возможность управления распределением внутренних характеристик тлеющего разряда 16.By changing the flow rate, speed and composition of the working
Магнитная система 14, установленная соосно, снаружи полого катода 5, предназначена для создания в разрядной камере 1 магнитного поля с вектором индукции преимущественно осевого направления, относительно оси анода 4 и полого катода 5.The
Магнитная система 14 при необходимости сжимает поток ионов 18 на поверхности объекта 15 вдоль оси анода 4 и полого катода 5 до площади с концентрацией энергии, необходимой для проведения технологического процессаThe
Под технологическим процессом может подразумеваться термообработка, резка, сварка, наплавление, распыление, а также, в частности, использоваться в ускорителях или масс-спектрометрии.Under the technological process may be meant heat treatment, cutting, welding, deposition, spraying, and, in particular, be used in accelerators or mass spectrometry.
Поток ионов 18 образуют в сверхзвуковом потоке рабочего газа 17 в межэлектродном пространстве за счет бомбардировки электронами и затем беспрепятственно направляют к полому катоду 5, ускоряясь в электрическом поле полого катода 5. Пройдя сквозь внутреннюю часть полого катода 5, поток ионов 18 сжимается магнитным полем, образованным магнитной системой 14, и происходит обработка объекта 15.The
Объект 15 может быть перемещен в газоразрядной камере 1 для изменения места контакта потока ионов 18 на объекте 15.The
При подаче газового потока концентрация пролетающих нейтральных частиц в межэлектродном пространстве увеличивается и тлеющий разряд 16 зажигается.When applying a gas stream, the concentration of passing neutral particles in the interelectrode space increases and a
В прикатодной области газоразрядной камеры 1 осуществляются основные процессы, обеспечивающие существование самостоятельного разряда. Под действием сильного электрического поля электроны ускоряются и, пройдя астоново пространство, приобретают энергию, достаточную для интенсивного возбуждения атомов. Здесь ионизация атомов пренебрежимо мала, так как энергия электронов значительно меньше потенциала ионизации (в среднем 10-15 эВ) частиц. Проходя область первого катодного свечения, электроны ускоряются до энергии, достаточной для ионизации атомов газа. Анодная область газоразрядной камеры 1 характеризуется анодным падением напряжения, плотностью тока на электроде и определенной протяженностью.In the near-cathode region of the
Одним из необходимых условий существования тлеющего разряда является наличие всех приэлектродных зон. Известно, что с уменьшением давления длина прикатодных зон увеличивается, так как эти зоны главным образом определяются количеством ионизирующих столкновений электронов с нейтральными частицами. Если в первом приближении принять разряд холодным, то можно найти критическое давление, при котором еще возможен классический тлеющий разряд. При длине разрядного промежутка порядка 10 см и числа свободных пробегов порядка 10 получаем критическое значение длины свободного пробега λ=1 см. Такое значение λ соответствует давлениюOne of the necessary conditions for the existence of a glow discharge is the presence of all near-electrode zones. It is known that with decreasing pressure, the length of the cathode zones increases, since these zones are mainly determined by the number of ionizing collisions of electrons with neutral particles. If, as a first approximation, we take the discharge cold, then we can find the critical pressure at which a classical glow discharge is still possible. With a discharge gap of about 10 cm and a free path of about 10, we obtain a critical mean free path λ = 1 cm. This value of λ corresponds to pressure
Таким образом, при давлениях порядка 10-2 Торр существование тлеющего разряда затрудняется, а при 10-3 Торр вовсе становится невозможным.Thus, at pressures of the order of 10 -2 Torr, the existence of a glow discharge becomes more difficult, and at 10 -3 Torr it becomes completely impossible.
Достижение технического результата возможно только при создании разных концентраций нейтральных атомов в разных областях межэлектродного пространства, при котором в прикатодной области концентрация частиц газа должна быть как в случае с магнетронным устройством [3], а в других зонах тлеющего разряда 16 концентрация частиц газа должна быть достаточной, для того чтобы электрон испытал десятки столкновений.The achievement of the technical result is possible only by creating different concentrations of neutral atoms in different areas of the interelectrode space, in which the concentration of gas particles in the cathode region should be as in the case of the magnetron device [3], and in other zones of the
Такие требования можно удовлетворить в том случае, если в межэлектродном пространстве создать сверхзвуковую, со скоростью выше 300 м/с, прокачку газа в направлении, перпендикулярном электрическому полю, а в остальной области межэлектродного пространства обеспечить давление от Р=10-2 Торр и ниже.Such requirements can be satisfied if a supersonic pumping of gas is created in the interelectrode space at a speed above 300 m / s in a direction perpendicular to the electric field, and pressure from P = 10 -2 Torr and lower is ensured in the rest of the interelectrode space.
Если принять, что длина катодных частей порядка 10λ, то все межэлектродное пространство состоит из прикатодных областей, необходимых для поддержания разряда. Этот разряд относится к нормальному тлеющему разряду с горизонтальной вольтамперной характеристикой.If we assume that the length of the cathode parts is of the order of 10λ, then the entire interelectrode space consists of cathode regions necessary for maintaining the discharge. This discharge refers to a normal glow discharge with a horizontal current-voltage characteristic.
При регулировке системой изменения положения 13 расположение диффузора 7 и конфузора 8 относительно межэлектродного пространства анода 4 и полого катода 5 также изменяются размеры приэлектродных зон. Приближая ось диффузора 7 и конфузора 8 к полому катоду 5, размеры прикатодных зон уменьшаются, а положительного столба тлеющего разряда 16 увеличиваются. Также изменяются распределение внутренних характеристик тлеющего разряда 16, таких как распределение потенциала, приведенная напряженность электрического поля E/N (Е - напряженность электрического поля, N - концентрация частиц), распределение концентраций электронов и ионов, температура газа.When the system adjusts the
Ускоренный в электрическом поле поток ионов 18 производит обработку объекта 15 при давления 10-2 Торр и ниже. При давлениях 10-2 Торр и ниже ионный поток 18 практически не сталкивается с остаточными газами газоразрядной камеры 1, не теряет энергию на столкновения и не изменяет направление и не снижает концентрацию энергии в месте контакта с объектом 15, что говорит о высокой чистоте и повышенной эффективности технологического процесса обработки.The
В предлагаемом плазменном источнике ионов и способе его работы отсутствует электростатическая система извлечения ионов с электроизолированным эмиссионным электродом, что упрощает конструкцию.In the proposed plasma ion source and the method of its operation there is no electrostatic system for extracting ions with an electrically insulated emission electrode, which simplifies the design.
Технический результат в предлагаемых плазменном источнике ионов и способе его работы заключается в обеспечении получения потока ионов при давлении от 10-2 Торр и ниже, а также в упрощении способа и конструкции устройства.The technical result in the proposed plasma ion source and the method of its operation is to provide an ion flow at a pressure of 10 -2 Torr and below, as well as to simplify the method and design of the device.
При осуществлении плазменного источника ионов, при давлении от 10-2 Торр и ниже, возможно распыление объекта или его термообработка в сверхчистой атмосфере, что позволит получать новые особо чистые материалы, наноструктуры и изделия, соединения материалов и покрытия с новыми свойствами.When implementing a plasma ion source, at a pressure of 10 -2 Torr and below, it is possible to spray the object or heat treat it in an ultrapure atmosphere, which will allow to obtain new highly pure materials, nanostructures and products, compounds of materials and coatings with new properties.
Дополнительным преимуществом по сравнению с прототипом являются высокая чистота и повышенная эффективность технологического процесса обработки.An additional advantage compared to the prototype are high purity and increased efficiency of the processing process.
Источники информацииInformation sources
1. Патент RU 1762732, МПК H05H 1/24, опубл. 09.01.1995.1. Patent RU 1762732,
2. Патент RU 2167466, МПК H01J 3/04, H01J 37/08, опубл.20.05.2001.2. Patent RU 2167466,
3. Кузьмичев А.И. Магнетронные распылительные системы. Кн 1. Введение в физику и технику магнетронного распыления. - К.: Аверс, 2008. с. 22.3. Kuzmichev A.I. Magnetron Spray Systems.
Claims (2)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2015138373A RU2620603C2 (en) | 2015-09-08 | 2015-09-08 | Method of plasma ion working source and plasma ion source |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2015138373A RU2620603C2 (en) | 2015-09-08 | 2015-09-08 | Method of plasma ion working source and plasma ion source |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2015138373A RU2015138373A (en) | 2017-03-16 |
| RU2620603C2 true RU2620603C2 (en) | 2017-05-29 |
Family
ID=58454447
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2015138373A RU2620603C2 (en) | 2015-09-08 | 2015-09-08 | Method of plasma ion working source and plasma ion source |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| RU (1) | RU2620603C2 (en) |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2167466C1 (en) * | 2000-05-30 | 2001-05-20 | Бугров Глеб Эльмирович | Plasma ion source and its operating process |
| RU2240627C1 (en) * | 2003-06-02 | 2004-11-20 | Институт электрофизики Уральского отделения Российской академии наук | Cold-cathode ion source |
| US20060023221A1 (en) * | 2004-08-02 | 2006-02-02 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Sample analysis apparatus and analysis method |
| RU2411112C2 (en) * | 2009-03-26 | 2011-02-10 | Юрий Михайлович Агриков | Method of micro plasma welding of metals |
| RU2496913C2 (en) * | 2011-12-28 | 2013-10-27 | Общество с ограниченной ответственностью "Научно-производственное предприятие "Уралавиаспецтехнология" | Unit for ion-ray and plasma processing |
-
2015
- 2015-09-08 RU RU2015138373A patent/RU2620603C2/en not_active IP Right Cessation
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2167466C1 (en) * | 2000-05-30 | 2001-05-20 | Бугров Глеб Эльмирович | Plasma ion source and its operating process |
| RU2240627C1 (en) * | 2003-06-02 | 2004-11-20 | Институт электрофизики Уральского отделения Российской академии наук | Cold-cathode ion source |
| US20060023221A1 (en) * | 2004-08-02 | 2006-02-02 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Sample analysis apparatus and analysis method |
| RU2411112C2 (en) * | 2009-03-26 | 2011-02-10 | Юрий Михайлович Агриков | Method of micro plasma welding of metals |
| RU2496913C2 (en) * | 2011-12-28 | 2013-10-27 | Общество с ограниченной ответственностью "Научно-производственное предприятие "Уралавиаспецтехнология" | Unit for ion-ray and plasma processing |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| RU2015138373A (en) | 2017-03-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2648235B2 (en) | Ion gun | |
| EP1556882B1 (en) | High-power pulsed magnetically enhanced plasma processing | |
| EP1559128B1 (en) | Methods and apparatus for generating high-density plasma | |
| TWI518733B (en) | An ion source, ion implantation system and method of generating multiply charged ions in ion source | |
| US20140339980A1 (en) | Electron beam plasma source with remote radical source | |
| US6246059B1 (en) | Ion-beam source with virtual anode | |
| US2892114A (en) | Continuous plasma generator | |
| Vorobyov et al. | Investigation of the stability of the electron source with a multi-aperture plasma emitter generating a large cross-section electron beam | |
| WO2020139188A1 (en) | Ion thruster and method for providing thrust | |
| RU87065U1 (en) | DEVICE FOR CREATING A HOMOGENEOUS GAS DISCHARGE PLASMA IN LARGE VOLUME TECHNOLOGICAL VACUUM CAMERAS | |
| Yukimura et al. | Carbon ion production using a high-power impulse magnetron sputtering glow plasma | |
| RU2373603C1 (en) | Source of fast neutral atoms | |
| US6870164B1 (en) | Pulsed operation of hall-current ion sources | |
| RU116733U1 (en) | DEVICE FOR CREATING A HOMOGENEOUS DISTRIBUTED GAS DISCHARGE PLASMA IN LARGE VACUUM VOLUMES OF TECHNOLOGICAL INSTALLATIONS | |
| US8575565B2 (en) | Ion source apparatus and methods of using the same | |
| RU2620603C2 (en) | Method of plasma ion working source and plasma ion source | |
| Yukimura et al. | High-power inductively coupled impulse sputtering glow plasma | |
| JP2006253190A (en) | Neutral particle beam processing apparatus and method of neutralizing charge | |
| WO2001093293A1 (en) | Plasma ion source and method | |
| RU2620534C2 (en) | Method of coating and device for its implementation | |
| RU2116707C1 (en) | Device for generation of low-temperature gas- discharge plasma | |
| RU2035789C1 (en) | Process of generation of beam of accelerated particles in technological vacuum chamber | |
| Akhmadeev et al. | Plasma sources based on a low-pressure arc discharge | |
| RU2789534C1 (en) | High-frequency plasma source | |
| RU2621283C2 (en) | Method for carrying out glow discharge and device for its implementation |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20170909 |